JP2009012039A - 粉末成形用金型、該粉末成形用金型を用いて成形した成形体および焼結体 - Google Patents

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Abstract

【課題】金型の互いに摺接するパンチ外周面とダイ型面に形成するコーティング層の摩擦係数を低減して、スムーズに摺接させて、ダイや成形体にクラックを発生させないようにする。
【解決手段】キャビティに粉末が充填されるダイと、該粉末を圧縮するパンチとからなる粉末成形用金型であって、前記パンチが摺接する前記ダイのキャビティを囲む型面あるいは/および前記ダイと摺接する前記パンチの外周面に、ダイヤモンド状炭素(DLC)からなる厚さ10μm以上20μm以下のコーティング層を形成している。
【選択図】図2

Description

本発明は粉末成形用金型、該粉末成形用金型を用いて成形した成形体および焼結体に関し、高圧成形の場合に、圧縮時や成形体抜き出し時の金型や成形体に負荷される摩擦力を低減し、ダイや成形体の破損を防止するものである。
粉末を圧縮成形して成形体を製造する場合、通常、ダイとパンチからなる金型を用い、ダイに充填した粉末をパンチで圧縮して成形している。このように粉末を圧縮成形して成形した成形体は、その後、所要の温度で所要時間加熱して焼結されるが、この焼結後の寸法収縮による寸法のバラツキ低減を図るため焼結を行わない場合がある。また、圧粉磁心のように絶縁性被膜で被覆された鉄系粉末の場合には、焼結により絶縁被覆が消失する恐れがあるため、成形後に焼結は行われない。このように、圧縮成形後に焼結を行わない場合があるため、成形体の密度を飛躍的に向上させることが望まれている。
圧縮成形した成形体の密度を向上させるためには、成形時の成形面圧を高くする必要があるが、成形面圧を高くすると成形体やダイに発生する側圧力も大きくなり、ダイと成形体との間やダイとパンチとの間で発生する摩擦抵抗が大きくなる。そのため、成形後成形体をダイから抜き出す時や圧縮時に、ダイやパンチ、成形体にクラックが発生しやすいことが問題となる。そこで、摩擦抵抗を低下させるため金型表面に表面処理が施されている。
金型の表面処理では、通常、TiNなどの硬質のセラミックをスパッタリング、イオンプレーティング等で成膜して形成し、コーティング層を形成して表面処理を施している場合が多い。
例えば、特公平7−47814号公報(特許文献1)の金型の表面処理では、図5に示すように、金型母材1の表面にイオンプレーティングで純Tiの合金化下地層2を形成した後、合金化下地層2の表面にTiNあるいはTiC等からなる高硬度な皮膜層3を形成し、さらに、最表面にはTi、Al等からなる摩擦係数の低い材料による皮膜層4を形成している。高硬度な皮膜層3と低摩擦の皮膜層4を密着させて皮膜層を形成し、耐摩耗性を向上させている。
特公平7−47814号公報
しかしながら、前記金型の表面処理では、合金化下地層2が高硬度のTiであるため、金型母材1となじみが悪く、高圧成形の場合、合金化下地層2と皮膜層3、4が金型母材1から剥がれてしまい、皮膜層3、4の耐久性が低くなりやすい問題がある。
また、摩擦係数が約0.3〜0.4であるTi、TiN等を皮膜層3、4に用いているため、高圧成形の場合には成形体やダイに発生する側圧力に対して十分有効な摩擦係数とは言えず、圧縮時や成形体の抜き出し時に金型が破損したり成形体にクラックが発生しやすい問題が生じる。
そこで、高圧成形の場合には、表面処理においてさらに金型や成形体へ負荷される摩擦力を低下させることが望まれる。
本発明は、前記問題に鑑みてなされたものであり、金型のパンチとダイの摺接面のいずれか一方または両方に形成するコーティング層の形成材料や厚さを調整することで、コーティング層を剥がれにくくすると共に、コーティング層の摩擦係数を低くし、ダイの抜き出し時や粉末の圧縮時の摩擦力を低減させて、ダイや成形体にクラックを発生させないことを課題としている。
前記課題を解決するために、本発明は、キャビティに粉末が充填されるダイと、該粉末を圧縮するパンチとからなる粉末成形用金型であって、
前記パンチが摺接する前記ダイのキャビティを囲む型面あるいは/および前記ダイと摺接する前記パンチの外周面に、ダイヤモンド状炭素(DLC)からなる厚さ10μm以上20μm以下のコーティング層が形成されていることを特徴とする粉末成形用金型を提供している。
本発明の粉末成形用金型では、摺接面に形成するコーティング層はTiNではなく、ダイヤモンド状炭素(DLC)を用いてコーティング層を形成している。
ダイヤモンド状炭素(DLC:Diamond Like Carbon)とは、ダイヤモンドに類似した炭素薄膜材料のことで、炭素を主成分としたアモルファス構造であり、硬度が高く摩擦係数が低いという特徴がある。ダイヤモンド状炭素(DLC)の摩擦係数は約0.1であり、TiNの摩擦係数(約0.4)と比較して小さい。よって、金型表面のコーティング層にTiNに代えてダイヤモンド状炭素(DLC)を用いることで、圧縮時におけるダイとパンチとの摩擦力を低減することができると共に、成形体抜き出し時の成形体とダイとの摩擦力を低減して金型から成形体をスムーズに抜き出すことができ、金型の破損や成形体に発生するクラックを防止することができる。
このため、本発明の粉末成形用金型は、成形面圧の高い金型に好適に用いられ、具体的には成形圧が800MPa以上の粉末成形に適しており、例えば、絶縁被覆した粉末を用いる場合の焼結を行わない圧縮成形が挙げられる。
本発明の粉末成形用金型では、通常は1〜5μmであるコーティング層の厚さを、10μm以上20μm以下として厚膜化している。
前記厚さとしているのは、コーティング層の厚さが10μm以上20μm以下であると、高圧成形の場合にパンチの側圧力によってコーティング層が剥がれる恐れがないと共に、成膜工程にもコストがかからないことに因る。
前記コーティング層は、ダイヤモンド状炭素(DLC)をスパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着等で金型を成膜して形成している。
前記ダイは高圧用である場合、超硬合金で形成していることが好まく、なお、パンチは、超硬合金、鉄、または鉄合金から形成するのが好ましい。
前記コーティング層は、硬度の異なる表面層と下地層との少なくとも2層を積層して有し、前記表面層の硬度は下地層の硬度よりも高硬度としていることが好ましい。
ダイヤモンド状炭素(DLC)のコーティング膜はアモルファス炭素膜であり、硬度を変えることが可能である。前述したように、下地層の硬度を低くすることで、ダイやパンチの表面と下地層とをなじみやすくして密着性を良くすることで、コーティング層の耐久性を高めることができる。一方、表面層の硬度を高くすると、表面層の摩擦係数をさらに低下させることができ、圧縮時や成形体の抜き出し時の金型の破損や成形体に発生するクラックを防止することができ、かつ、表面層の摩耗量を低減できる。
コーティング層が3層以上の場合は最表面層の硬度を最も高くしているのが好ましい。
前記下地層の硬度はHv500〜2000とするのが好ましく、表面層の硬度はHv2000〜3000とするのが好ましい。また、前記下地層の厚さは5〜10μmが好ましく、表面層の厚さは10〜20μmが好ましい。
なお、コーティング層の各層の硬度を同じとしてもよいが、前記のように表面層の硬度を高くすることが好ましい。
また、本発明は、粉末成形用金型を用いて成形した成形体および該成形体が熱処理された焼結体を提供している。
前記成形体あるいは焼結体は、密度を95%以上としているのが好ましい。このように、圧粉磁心のような焼結しない成形体である焼結体を作成することができると共に、成形後に焼結する成形体の場合でも寸法収縮によるバラツキを小さくすることができるため寸法精度を向上させることができる。
成形体あるいは焼結体は、モータあるいはトランス等に適用できる。
前述したように、本発明によれば、互いに摺接するダイの型面とパンチの外周面のいずれか一方または両方に設けるコーティング層を、低摩擦係数であるダイヤモンド状炭素(DLC)を用いて形成しているため、圧縮時や成形体抜き出し時の摩擦力を低減することができ、金型の破損や成形体に発生するクラックを防止することができる。
以下、本発明の実施形態を図面を参照して説明する。
図1乃至図3に本発明の第1実施形態を示す。
第1実施形態の粉末成形用金型10は、図1に示すように、キャビティ11aに粉末Pを充填するダイ11と、該粉末Pを圧縮する上下パンチ12、13とを備えている。
該粉末成形用金型10は、キャビティ11aを形成するダイ11の内周面を摺接面11gとし、該摺接面11gに上下パンチ12、13を摺接させてキャビティ11aに充填した粉末Pを圧縮成形している。ダイ11は超硬合金で形成し、上下パンチ12、13はハイス鋼で形成している。
本実施形態では、粉末Pを圧縮して直方体形状の成形体60を成形しており、粉末Pは、鉄成分99.8%以上の純鉄系の粉末に、リン酸処理を施して絶縁皮膜を設けた粉末からなる。前記粉末成形用金型10での成形圧は800MPaの高圧としている。
上下パンチ12、13は、直方体形状としており、下パンチ13はダイ11の下端を閉鎖するように固定している一方、上パンチ12を昇降させてダイ11のキャビティ11aに充填した粉末Pを圧縮成形する構成としている。
上パンチ12の外周面12bには、ダイヤモンド状炭素(DLC)からなる厚さ20μmのコーティング層14を形成している。
前記コーティング層14は、図2に示すように、低硬度の下地層14cと高硬度の表面層14dとを積層した構成としている。下地層14cは上パンチ12の外周面12bに固着して形成し、該下地層14cの外面に表面層14dを積層固着し、該表面層14dの表面14aは後述するダイ11の摺接面11gとの摺接面としている。
前記低硬度の下地層14cの硬度はHv1000、高硬度の表面層14dの硬度はHv2500としている。また、下地層14cの厚さは10μm、表面層14dの厚さは10μmとしている。
前記コーティング層14は、スパッタリングで形成している。該スパッタリングは、真空中に不活性ガスを封入し、母材となる上パンチ12とターゲット物質のダイヤモンド状炭素(DLC)間に高電圧を負荷し、イオン化した不活性ガスをターゲットのDLCに衝突させ、はじき飛ばされたDLCをパンチ12の外周面12bに堆積させて成膜している。 本実施形態では、まず、前記下地層14cをスパッタリング形成し、続いて、硬度の相違するDLCを用いてスパッタリングして表面層14dを形成している。
前記のように、上パンチ12の外周面12bには前記コーティング層14を設けているが、下面12aはダイ11と摺接せず、成形体60の上面60aを成形する面であるため、コーティング層は形成していない。
一方、下パンチ13は本実施例ではダイ11に対して摺接せずに定置しており、その上面13aは成形体60の下面60bを成形する面であるため、下パンチ13の外周面および上面にはコーティング層を形成していない。
ダイ11は、図1(B)に示すように、外形を円筒形状としており、上パンチ12の摺動方向に断面矩形状のキャビティ11aを貫通して設け、該キャビティ11aを形成するダイ11の内周面を型面11bとしている。
前記型面11bには、粉末樹脂剤を塗布して潤滑層11cを形成し、該潤滑層11cの内周面を摺接面11gとしている。該潤滑層11cは粉末潤滑剤で形成し、本実施形態ではステアリン酸亜鉛からなる微粒子金属石鹸を用い、粒子の平均粒子径を0.8μmとしている。
図3に示すように、粉末の圧縮成形時に、下降する上パンチ12のコーティング層14の表面層14dの最表面をダイ11の摺接面11gとの摺接面14aとしている。
次に、前記粉末成形用金型10を用いた成形体の成形方法について説明する。
まず、金型の下パンチ13を、図1に示すように、予めダイ11のキャビティ11aの底面に固定する。
ついで、下パンチ13で底面を塞いだダイ11のキャビティ11a内に粉末Pを充填する。
粉末Pの充填後に、上パンチ12を下降し、粉末Pを充填しているキャビティ11a内にゆっくりと押し込んでいき、粉末Pを成形体60の形状に整える。
その後、図3に示すように、上パンチ12を下降させてショットすることにより粉末Pを、上パンチ下面12a、下パンチ上面13aとの間で発生する圧縮圧Nにより、キャビティ11aに充填した粉末Pを圧縮し、上パンチ下面12a、下パンチ上面13aおよびダイ11の型面11bの形状に沿った外面を有する成形体60を成形する。
前記粉末Pの圧縮成形時にはダイ11を80〜150℃に加熱し、粉末Pを温間で圧縮成形し、上パンチ12の速度は20m/s、成形圧は800MPaとしている。
なお、粉末Pを加熱せずに成形する場合もある。
前記金型10で粉末Pを圧縮成形後に、成形体60を金型10より取り出している。
取り出した成形体60は必要に応じて焼結炉で焼結して、焼結体としてもよい。
前記実施形態では、ダイ11の摺接面11gと摺接する上パンチ12の外周面12bに摩擦係数の低いダイヤモンド状炭素(DLC)で形成したコーティング層14を設けているため、該コーティング層14の表面の摺接面14aとダイ11の摺接面11gとの摩擦力を低減できる。よって、粉末の圧縮成形時に上パンチ12をスムーズに摺接面11gに摺接させて下降できると共に、粉末の圧縮成形後に上パンチ12をダイ11からスムーズに抜き出すことができ、ダイ11とパンチ12に破損が発生するのを防止でき、かつ、成形体にクラックが生じるのを防止することができる。
特に、上パンチ12のコーティング層14は積層構造とし、下地層14cを低硬度としているため、上パンチ外周面12bと下地層14cがなじみやすくなり、上パンチ外周面12bとの密着性を高めることができる。
一方、表面層14dは高硬度としているため、ダイ11の摺接面11gとの摩擦係数をより低下でき、圧縮時の側圧力による上パンチ12やダイ11の破損を防止することができると共に表面層14dの摩耗量を低減できる。
図4に本発明の第2実施形態を示す。
第2実施形態の粉末成形用金型10は、ダイ11に潤滑剤11cを塗布する代わりに、ダイ11の型面11bの表面にダイヤモンド状炭素(DLC)からなるコーティング層24を設け、この点で第1実施形態と相違させている。
上パンチ外周面12bにも、第1実施形態と同様に、DLCからなるコーティング層14を設けている。
前記ダイ11のコーティング層24は、上パンチ外周面12bに形成したコーティング層14と同様にDLCをスパッタリングして形成しており、図4(B)に示すように、ダイ型面11bに固着する低硬度の下地層24cを設けると共に、該下地層24cの表面に高硬度の表面層24dを設けた二層の積層構成としている。
前記コーティング層24の高硬度の表面層24dは、上パンチ12のコーティング層14の表面層14dの表面の摺接面14aおよび成形体60の側周面60cとの摺接面となる。
前記構成とすると、ダイ11の型面11bにもDLCのコーティング層24を形成しているため、成形体60を抜き出し時に、成形体60の側周面60cとダイ11の型面11b側との間の摩擦抵抗が低減し、高圧成形で成形体60への圧縮力Nが高くなっても、ダイ11から成形体60をスムーズに抜き出すことができ、金型からの成形体60の抜き出し時に成形体60にクラックが発生するのを確実に防止できる。
他の構成および作用効果は第1実施形態と同様のため、同一の符号を付して説明を省略する。
なお、本発明は、前記実施形態は限定されず、本発明の特許請求の範囲内の種々の形態が含まれるものである。
(A)は本発明の第1実施形態の粉末成形用金型を示す断面図、(B)は(A)のA−A線断面図である。 コーティング層の断面図である。 上パンチで粉末を圧縮している工程を示す断面図である。 (A)は第2実施形態の粉末成形用金型を示す断面図、(B)はコーティング層の断面図である。 従来例を示す図である。
符号の説明
10 粉末成形用金型
11 ダイ
11a キャビティ
11b 型面
12 上パンチ
13 下パンチ
14 コーティング層
14a 摺接面
14c 低硬度の下地層
14d 高硬度の表面層
60 成形体
P 粉末

Claims (4)

  1. キャビティに粉末が充填されるダイと、該粉末を圧縮するパンチとからなる粉末成形用金型であって、
    前記パンチが摺接する前記ダイのキャビティを囲む型面あるいは/および前記ダイと摺接する前記パンチの外周面に、ダイヤモンド状炭素(DLC)からなる厚さ10μm以上20μm以下のコーティング層が形成されていることを特徴とする粉末成形用金型。
  2. 前記コーティング層は、硬度の異なる表面層と下地層との少なくとも2層を積層して有し、前記表面層の硬度は下地層の硬度よりも高硬度としている請求項1に記載の粉末成形用金型。
  3. 請求項1または請求項2に記載の粉末成形用金型を用いて成形された成形体。
  4. 請求項3に記載の成形体が熱処理された焼結体。
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