JP2009003038A - 画像投射光学ユニット及び画像投射装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】大型化を抑えつつ、画像形成素子の非表示部からの余分光を効果的に遮断する。
【解決手段】
画像投射光学ユニットは、光源1aから射出されてリフレクタ1bによって反射された光束を複数に分割する第1のレンズアレイ11と、第1のレンズアレイを構成する複数のレンズセル11aにそれぞれ対応する複数のレンズセル12aを有し、第1のレンズアレイからの複数の光束が入射する第2のレンズアレイ12と、第1のレンズアレイと第2のレンズアレイとの間で光束通過領域を変化させる光束制御手段15と、光束通過領域を通過した光束により照明される画像形成素子7と、該画像形成素子からの光束を投射する光学系3〜10とを有する。光束制御手段が配置される位置は、Z≦L/2の範囲である。Zは第1のレンズアレイから光束制御手段までの光軸方向距離、Lは第1及び第2のレンズアレイ間の光軸方向距離である。
【選択図】図1

Description

本発明は、画像投射装置に用いられる画像投射光学ユニットに関する。
プロジェクタ等の画像投射装置には、投射画像のアスペクト比や解像度の選択に応じて、液晶パネル等の画像形成素子の表示可能領域のサイズを切り替える機能が設けられている場合がある。この場合、画像形成素子における表示可能領域外の領域(非表示部)から射出される余分な光がスクリーン等の被投射面に到達しないようにすることが必要である。
このような余分光を低減する方法としては、特許文献1にて開示されているように、画像形成素子の近傍に遮光部材を設けることが一般的である。
特許文献1にて開示された画像投射装置では、画像形成素子の近傍に、開閉動作可能な遮光板を設け、これを表示可能領域のサイズに応じてモータで駆動することで、非表示部からの余分光が被投射面に投射されることを防止する。
特開2002−365720号公報
特許文献1にて開示された遮光部材を設けると、遮光部材の開閉スペースやこれを駆動するモータ等の機構の配置スペースが必要となる。
しかしながら、画像形成素子の近傍には他の多くの光学素子も含めて部品が密集しており、ここに上記スペースを確保するのはきわめて困難である。上記スペースを作るとしても、装置の大型化につながる。特に、画像形成素子を複数用いる、いわゆる3板式プロジェクタ等の画像投射装置では、遮光部材やこれを駆動する機構が複数必要となり、益々装置の大型化やコスト上昇を招く。
本発明は、大型化を抑えつつ、画像形成素子の非表示部からの余分光を効果的に遮断できるようにした画像投射光学ユニット及び画像投射装置を提供する。
本発明の一側面としての画像投射光学ユニットは、光源から射出されてリフレクタによって反射された光束を複数に分割する第1のレンズアレイと、第1のレンズアレイを構成する複数のレンズセルにそれぞれ対応する複数のレンズセルを有し、第1のレンズアレイからの複数の光束が入射する第2のレンズアレイと、第1のレンズアレイと第2のレンズアレイとの間で光束通過領域を変化させる光束制御手段と、光束通過領域を通過した光束により照明される画像形成素子と、該画像形成素子からの光束を投射する光学系とを有する。そして、光束制御手段が配置される位置は、光束制御手段が配置される位置は、以下の条件を満足することを特徴とする。
Z≦L/2
ただし、Zは第1のレンズアレイにおける第1のレンズセルのレンズ面頂点から光束制御手段までの光軸方向距離、Lは第1のレンズセルのレンズ面頂点と第2のレンズアレイにおける第1のレンズセルに対応する第2のレンズセルのレンズ面頂点との光軸方向距離である。
また、本発明の他の一側面としての画像投射光学ユニットは、光源から射出されてリフレクタによって反射された光束を複数に分割する第1のレンズアレイと、第1のレンズアレイを構成する複数のレンズセルにそれぞれ対応する複数のレンズセルを有し、第1のレンズアレイからの複数の光束が入射する第2のレンズアレイと、リフレクタと第1のレンズアレイとの間で光束通過領域を変化させる光束制御手段と、光束通過領域を通過した光束により照明される画像形成素子と、該画像形成素子からの光束を投射する光学系とを有する。そして、光束制御手段が配置される位置は、以下の条件を満足することを特徴とする。
Z≦L1/2
ただし、Zは第1のレンズアレイにおける第1のレンズセルのレンズ面頂点から光束制御手段までの光軸方向距離、L1はリフレクタの焦点位置から第1のレンズセルのレンズ面頂点との光軸方向距離である。
なお、上記画像投射光学ユニットを備えた画像投射装置及び画像投射装置の画像供給装置を有する画像表示ユニットも本発明の他の側面を構成する。
本発明によれば、第1及び第2のレンズアレイとの間の範囲又はリフレクタと第1のレンズアレイとの間の範囲であって、第1のレンズアレイと画像形成素子との間の光学系に関して画像形成素子と共役な位置の近くに光束制御部材を配置する。このため、従来のように画像形成素子の近傍に遮光部材を配置することなく、画像形成素子の非表示部からの余分光を効果的に遮断することができる。また、上記範囲は、画像形成素子の周辺に比べて光束制御部材を配置するためのスペースが確保し易い。したがって、画像投射光学ユニット及び画像投射装置の大型化を抑えつつ、上記余分光の遮断効果を得ることができる。
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明する。
図1には、本発明の実施例1である画像投射光学ユニットの構成を示している。この画像投射光学ユニットは、プロジェクタ(画像投射装置)の光学ユニットとして用いられる。
図1において、1は画像投射光学ユニットに対して白色光(照明光)を供給する光源ランプである。光源ランプ1は、超高圧水銀放電管等の光源1aと、該光源1aから発せられた光束を反射して、その光束に対して平行化作用を与えるリフレクタ1bとにより構成されている。
ここにいう光束の平行化作用とは、基本的には放物鏡や楕円鏡によって構成されるリフレクタ1bの反射によって、該リフレクタ1bの焦点の位置に配置された光源1aからの拡散光束を平行光束又は該拡散光束よりも平行光束に近い光束に変換する作用である。つまり、平行化作用を受けた光束には、完全に平行な光束だけでなく、光学的に平行とみなせる程度に拡がりを持った光束も含まれる。また、ここではリフレクタで反射した光束を平行光束としているが、その限りでは無く、収束光束としても、発散光束としても構わない。
なお、光源ランプ1は、画像投射光学ユニットに対して交換可能であり、それ自体は画像投射光学ユニットを構成しない。
2は照明光学系であり、その具体的構成については後述する。照明光学系2は、光源ランプ1からの無偏光光を、1つの偏光方向(第1の偏光方向)を有する直線偏光に変換して射出する。
3はダイクロイックミラーであり、照明光学系2からの白色光を第1の色光(例えば、緑色光)と第2及び第3の色光(例えば、赤色光及び青色光)とに分離する。
7、8、9は有効画素領域(有効表示領域)のアスペクト比が4:3である第1〜第3の反射型画像形成素子であり、液晶パネルやDMD(デジタルマイクロミラーデバイス)等が用いられる。
4は第1の偏光ビームスプリッタであり、ダイクロイックミラー3で反射した(分離された)第1の偏光方向を有する(例えば、P偏光としての)第1の色光を透過して第1の画像形成素子7に導く。
ここで、本実施例で用いられている第1〜第3の反射型画像形成素子7〜9は、液晶パネルやDMD(デジタルマイクロミラーデバイス)等が用いられ、有効画素領域(有効表示領域)のアスペクト比は4:3である。
第1〜第3の画像形成素子7〜9は、駆動回路20に接続されている。駆動回路20には、パーソナルコンピュータ、DVDプレーヤ、テレビチューナ等の画像供給装置25が接続されている。画像供給装置25からの画像信号が入力された駆動回路20は、該画像信号に応じて各画像形成素子を駆動し、各色用の原画を形成させる。画像供給装置25とプロジェクタとにより画像表示システムが構成される。
第1の画像形成素子7にて原画に応じて変調及び反射された第1の色光は、第1の偏光方向に直交する第2の偏光方向を有する光(例えば、S偏光)として、第1の偏光ビームスプリッタ4で反射され、合成プリズム(第3の偏光ビームスプリッタ)6に導かれる。
また、ダイクロイックミラー3を透過した第1の偏光方向を有する第2の色光は、色選択性位相板30によってその偏光方向を上記第2の偏光方向に回転させられ、第2の偏光ビームスプリッタ5に入射する。また、ダイクロイックミラー3を透過した第1の偏光方向を有する第3の色光は、色選択性位相板30をそのまま透過して、第2の偏光ビームスプリッタ5に入射する。
第2の偏光ビームスプリッタ5は、第2の偏光方向を有する第2の色光を反射して第2の画像形成素子8に導く。第2の画像形成素子8にて原画に応じて変調及び反射された第2の色光は、第1の偏光方向を有し、第2の偏光ビームスプリッタ5を透過し、さらに色選択性位相板31をそのまま透過して合成プリズム6に入射する。
また、第2の偏光ビームスプリッタ5は、第1の偏光方向を有する第3の色光を透過して第3の画像形成素子9に導く。第3の画像形成素子9にて原画に応じて変調及び反射された第3の色光は、第2の偏光方向を有し、第2の偏光ビームスプリッタ5で反射される。該第3の色光は、色選択性位相板31でその偏光方向を第1の偏光方向に回転させられ、合成プリズム6に導かれる。
合成プリズム6は、第2の偏光方向を有する第1の色光を反射し、第1の偏光方向を有する第2及び第3の色光を透過して、それぞれ投射レンズ10に導く。
投射レンズ10は、これら第1〜第3の色光を不図示のスクリーン等の被投射面に投射する。
第1及び第2の偏光ビームスプリッタ4,5から投射レンズ10により、画像形成素子7〜9からの光束を被投射面に投射する光学系が構成される。
次に、照明光学系2について説明する。照明光学系2は、光源側から順に、第1のフライアイレンズ(第1のレンズアレイ)11と、光束制御手段としての遮光マスク15と、第2のフライアイレンズ(第2のレンズアレイ)12とを有する。第1のフライアイレンズ11は、複数の小レンズ(以下、レンズセルという)をマトリクス状に配置されて構成され、光源ランプ1からの光束を複数に分割する。第2のフライアイレンズ12は、第1のフライアイレンズ11における複数のレンズセルのそれぞれに対応する複数のレンズセルを有する。第1のフライアイレンズ11は、第1のフライアイレンズ11と画像形成素子7〜8との間の光学系に関して画像形成素子7〜9と共役な位置又はその近傍に配置されている。
13は偏光変換素子であり、第2のフライアイレンズ12からの無偏光光である複数の光束を、第1の偏光方向の直線偏光に変換する。こうして、照明光学系2から第1の偏光方向の直線偏光が、コンデンサーレンズ14を介して複数の光束として射出される。コンデンサーレンズ14は、第2のフライアイレンズ12からの複数の光束を、3つの画像形成素子7、8、9上にて重ね合わせる役割を有する。
遮光マスク15は、第1のフライアレンズ(第1のレンズアレイ)11の各レンズセルから射出した複数の光束が通過する領域(光束通過領域)を変化させるための部材である。この光束通過領域は、実際に光束が通過するか否かがでは無く、光束が通過することが可能な領域を意味している。言い換えると、本実施例では、遮光マスク15によって光束非通過領域(光束通過不可能領域)の大きさを変化させることにより、この光束通過領域(光束通過可能領域)を変化させている(光束制御を行っている)。該遮光マスク15は、マスク駆動機構16によって、第1のフライアレンズ11と第2のフライアイレンズ12との間の光路に対して出し入れされる。
マスク駆動機構16は、不図示のアクチュエータを含み、駆動回路(電気回路)20からの制御信号に基づいて動作する。駆動回路20は、画像供給装置25から入力された画像信号からアスペクト比(又は表示解像度)を検出し、該検出結果に応じて、後述する「4:3投影モード」や「16:9投射モード」に切り替えるためにマスク駆動機構16に制御信号を出力する。
本実施例のプロジェクタは、一般的なプレゼンテーション等で使用される、画像形成素子7〜9の表示可能領域のアスペクト比と同じ4:3のアスペクト比で画像を投射する「4:3投射モード」を有する。この場合、画像形成素子7〜9の表示可能領域の全体に原画が形成される。また、ハイビジョン画像等の鑑賞に使用される「16:9投射モード」も有する。この「16:9投射モード」では、画像形成素子7〜9の表示可能領域の一部である16:9の領域に原画を形成することで、16:9のアスペクト比を有する画像が投射される。
なお、本実施例では、遮光マスク15を第1及び第2のフライアレンズ11,12の間の光路に対して出し入れされる場合について説明する。ただし、遮光マスク15の配置位置は、リフレクタ1bの焦点と第2のフライアイレンズ12との間のうち後述する条件を満足する位置であれば、任意でよい。
次に、遮光マスク15が光路中に出し入れされた場合の効果について説明する。図2には、遮光マスク15の構成とその駆動方法を示す。遮光マスク15は、マスク駆動機構16によって照明光学系2の光軸であるz軸の方向に対して直交するy軸方向にスライド(平行移動)されて光路に対して出入りする。
駆動回路20にアスペクト比4:3の画像信号が入力された場合は、遮光マスク15は光路外(図中に点線17で示す退避位置)に退避し、アスペクト比16:9の画像信号が入力された場合は、遮光マスク15は光路内(図中に実線で示す挿入位置)に挿入される。
図3には、遮光マスク15が退避位置に配置された状態を、第1のフライアイレンズ11側(z方向)から見た様子を示す。第1のフライアイレンズ11のレンズセル11aは、横4個×縦5個の計20個である。また、各レンズセル11aのレンズ面のアスペクト比は4:3である。
図4には、遮光マスク15の形状を示す。遮光マスク15は、上下方向(y軸方向)に、それぞれx軸方向に延びる6つの遮光部15aと5つの光束通過開口15bとが交互に形成された形状を有する。
図5には、遮光マスク15が挿入位置に配置された状態での遮光マスク15と第1のフライアイレンズ11との関係をz軸方向から見て示す。この挿入位置では、6つの遮光部15aによって第1のフライアイレンズ11の各レンズセル11aの4:3のレンズ面のうち上下部分からの光束が遮断される。これにより、各レンズセル11aのレンズ面のうちアスペクト比16:9に対応する領域からの光束のみが開口部15bを通過して第2のフライアイレンズ12に向かう。このため、画像形成素子7〜9の4:3の表示可能領域のうち16:9の領域(表示部)のみが照明光学系2からの光によって照明され、該16:9の領域外の領域である上下の非表示部には光は照射されない。したがって、被投射面でも、非表示部に対応する投射領域は、漏れ光がほとんど存在しない黒領域となる。
一方、退避位置(図4参照)では、各レンズセル11aの4:3のレンズ面全体からの光束が第2のフライアイレンズ12に向かう。このため、画像形成素子7〜9の4:3の表示可能領域の全体が照明光学系2からの光によって照明され、被投射面にも4:3の画像が投射される。
このように、遮光マスク15は、投射モードに応じて挿入位置と退避位置とに移動し、第1のフライアイレンズ11の各レンズセル11aからの光束が通過する領域(光束通過領域)を変化させる。
次に、光軸方向(z軸方向)における遮光マスク15が挿入される位置と被投射面における表示部と非表示部に対応する領域の境界での照度変化のシャープさ(鮮鋭度、急峻度)との関係について説明する。
遮光マスク15が第1のフライアイレンズ11の近傍に挿入される場合には、各レンズセル11aの開口像が形成される位置は、画像形成素子7〜9とほぼ一致する。このため、画像形成素子7〜9の非表示部に向かう余分光のほとんど全てを遮断することができ、被投射面における上記境界での照度変化もシャープになる。
これに対して、遮光マスク15が第1のフライアイレンズ11からz軸方向に離れた位置に挿入されると、画像形成素子7〜9の非表示部にもある程度の余分光が入射し、被投射面における上記境界での照度変化のシャープさが低下する。
図6には、第1のフライアイレンズ11と遮光マスク15間の距離と、被投射面上での表示部と非表示部の境界の照度変化との関係の計算(シミュレーション)結果を示す。
ここでは、第1のフライアイレンズ11と第2のフライアイレンズ12との間の距離をLと定義する。ここにいう「距離」は、図2に示すように、第1のフライアイレンズ11の代表レンズセル(第1のレンズセル)11aのレンズ面頂点と第2のフライアイレンズ12の代表レンズセル(第2のレンズセル)12aのレンズ面頂点との間の光軸方向距離を意味する。代表レンズセルは、例えば、そのフライアイレンズのうち照明光学系2の光軸に最も近いレンズセルであり、第2のフライアイレンズ12の代表レンズセル12aは、第1のフライアイレンズ11の代表レンズセル11aに対応するレンズセルである。
また、以下の説明において、フライアイレンズとの間の距離とは、そのフライアイレンズの代表レンズセルのレンズ面頂点との間の光軸方向距離を意味する。また、遮光マスク15との間の距離は、該遮光マスク15の光軸方向の厚み中心との間の光軸方向距離を意味する。ただし、遮光マスク15は実際には非常に薄い部材であるので、遮光マスク15の光軸方向の端面(第1又は第2のフライアイレンズ側の端面)までの距離としても実質的には問題ない。
図6において、遮光マスク15の挿入位置と第1のフライアイレンズ11からの距離X(図2参照)が0である場合の照明強度曲線をOとする。また、該距離がL/2の場合の照明強度曲線をL/2とし、該距離がLの場合の照明強度曲線をLとする。
照度変化は、被投射面のうち画像形成素子7〜9の表示部に対応する画像投射領域(図には、照明エリアと記す)の上下方向の幅をAとし、明から暗への照度低下が生ずる領域(以下、照度低下領域という)の幅をBとして、B/Aで表す。図6中で各曲線O、L/2、Lの照度低下領域の幅Bをそれぞれ、O’、L/2’、L’として示す。
図6から分かるように、O→L/2→Lへと遮光マスク15が第1のフライアイレンズ11から遠ざかるにつれて、照度低下領域の幅Bが増加する。画像投射領域(照明エリア)の幅Aに対する幅Bの割合はそれぞれ、O’→5%、L/2’→19%、L’→43%となる。このことから、第1のフライアイレンズ11と遮光マスク15との間の距離が、L/2以内であると、照度低下領域の幅Bの幅Aに対する割合が20%以下と少なくなり、画像投射領域外に到達する余分光をシャープにカットすることができると言える。
つまり、遮光マスク15の配置位置(挿入位置)は、以下の条件を満足するとよい。
Z≦L/2 …(1)
この範囲は、上述した画像形成素子7〜9と共役な位置の近くの範囲であると言うことができる。にこれにより、「16:9投射モード」において画像形成素子7〜9の非表示部に向かう余分光を効果的に遮断することができる。この結果、非表示部から被投射面に向かう余分な漏れ光をほとんど無くすることができる。したがって、投射画像の品質を向上させることができる。
なお、さらに余分光を低減させるためには、以下の条件を満足することが好ましい。
Z≦L/5 …(2)
これにより、照度低下領域の幅Bの幅Aに対する割合が(1)式を満足する場合に比べてさらに少なくなり、画像投射領域外に到達する余分光をよりシャープにカットすることができる。
また、図1からも分かるように、画像形成素子7〜9の近傍には偏光ビームスプリッタ4,5や合成プリズム6、色選択性位相板30,31等、多数の部品が互いに近接して配置されており、スペース的な余裕がほとんどない。これに対し、照明光学系2内における第1のフライアイレンズ11の周辺は、スペース的な余裕が大きい。このため、照明光学系2内に遮光マスク15を設けることで、画像投射光学ユニット及びこれを搭載しているプロジェクタの大型化を回避することができる。
しかも、本実施例のような3板式プロジェクタにおいて、光源ランプ1から3つの画像形成素子7〜9を通る3つの光路の共通部分である照明光学系2内に遮光マスク15を配置することで、該3つの画像形成素子に対して遮光マスク15を1つ設ければよい。したがって、1つの遮光マスク15と1つのマスク駆動機構16とを設けるだけの安価な構成で余分光の低減を可能にする。
また、本実施例の遮光マスク(遮光部材)15の遮光部15aは、第1及び第2のフライアイレンズを構成するレンズセルの端部同士を結んだ直線上に配置される。すなわち、遮光部15aは、第1フライアイレンズから出射する光束のうち、第1フライアイレンズの各レンズセルの周辺部から出射する光束を遮光する機能を持つ。尚、後述する第2実施例においては、遮光部15aは、第1フライアイレンズに入射する光束のうち、第1フライアイレンズの各レンズセルの周辺部に入射する光束を遮光する機能を持つ。
次に、本発明の実施例2の画像投射光学ユニットについて説明する。遮光マスクを除く画像投射光学ユニットの構成は、実施例1と同じであり、共通する構成要素には実施例1と同符号を付す。
実施例1では、図4に示した遮光マスク15が挿入される位置を、第1のフライアイレンズ11と第2のフライアイレンズ12との間とした。これに対し、本実施例では、同様の構成の遮光マスク15を、図2中に点線18で示すように、光源ランプ1のリフレクタ1bと第1のフライアイレンズ11との間に挿入する。
この場合における遮光マスク15の第1のフライアイレンズ11からの距離と被投射面上での表示部と非表示部の境界の照度変化との関係は、実施例1にて図6を用いて説明したものと同様である。
このため、遮光マスク15の配置位置(挿入位置)は、以下の条件を満足するとよい。
Z≦L1/2 …(3)
ただし、L1はリフレクタ1bの焦点位置1cと第1のフライアイレンズ11の代表レンズセル11aのレンズ面頂点との間の光軸方向距離である。この範囲は、実施例1で説明した画像形成素子7〜9と共役な位置の近くの範囲であると言うことができる。
これにより、実施例1と同様に、「16:9投射モード」において画像形成素子7〜9の非表示部に向かう余分光を効果的に遮断することができる。この結果、非表示部から被投射面に向かう余分な漏れ光をほとんど無くすることができる。したがって、投射画像の品質を向上させることができる。
なお、さらに余分光を低減させるためには、以下の条件を満足することが好ましい。
Z≦L1/5 …(4)
これにより、画像投射領域外に到達する余分光をよりシャープにカットすることができる。
以上説明した遮光マスク15の配置位置の条件(1)〜(4)は、後述する他の実施例でも同様に適用される。
なお、実施例1,2では、遮光マスク15が出入りする方向はy軸方向としたが、x軸方向でもよい。
また、第1及び第2のフライアイレンズ11,12のレンズセル数は実施例1で述べた20個に限られず、任意でよい。また、上述した投射画像のアスペクト比は、画像形成素子のアスペクト比に合わせて任意に設定することができ、余裕照明領域を考えて画像形成素子のアスペクト比と異なる投射画像のアスペクト比を設定してもよい。
図7には、本発明の実施例3である画像投射光学ユニットにおいて用いられる遮光マスクを示している。遮光マスクを除く画像投射光学ユニットの構成は、実施例1と同じであり、共通する構成要素には実施例1と同符号を付す。このことは後述する他の実施例でも同じである。
本実施例の遮光マスク115は、第1のフライアイレンズ11のうち周辺部のレンズセル11aからの光束のみを遮断するように、上下の遮光部115aとこれらの間に形成された光束通過開口115bとを有する。
一般に、画像形成素子は、画像形成面に、これに垂直な光軸方向に対して角度の大きい光が入射した場合に、角度の小さい光が入射した場合と比べて黒表示時の漏れ光が多くなり、コントラストが低下する特性を有する。
また、偏光ビームスプリッタ4,5の偏光分離膜も、膜設計上の入射角度からの角度のずれが大きい光が入射すると、偏光分離膜の特性によって漏れ光が大きくなり、コントラストが低下する特性を有する。
第1のフライアイレンズ11の周辺部のレンズセル11aを透過してくる光は、画像形成素子に対し、光軸方向に対する角度が大きい光として入射し、また、偏光ビームスプリッタ4,5に対しても、膜設計上の入射角度から大きくずれた角度で入射する。したがって、漏れ光が大きくなる。
そこで、本実施例では、図7に示すように、第1のフライアイレンズ11の周辺部のレンズセル11aを透過してくる光のみを遮断する、すなわち周辺部の遮光率を中央部に対して上げるように遮光マスク115を形成している。これにより、黒表示時の漏れ光及びこれによるコントラストの低下を効果的に低減することができる。
本実施例において、投射モード(16:9や、4:3等の投射モード)に応じて、遮光マスク115を光路に対して出し入れすることができる。このように構成することによって、複数の投射モードを持つ画像投射光学ユニットにおいて、両方の投射モード(特に16:9の投射モード)においてコントラストを向上させることができる。
また、マスクの出し入れなしでも16:9表示時の非表示部の漏れ光を低減させる事ができる。
図8には、本発明の実施例4である画像投射光学ユニットにおいて用いられる遮光マスクを示している。
実施例1,2では、遮光マスク15を光軸方向(z軸方向)に対して直交する方向にスライドさせることで光路に対する出し入れを行った。これに対し、本実施例では、図8に示すように、x軸方向に延びる軸214を中心として遮光マスク15が回動することで、光路に対して出し入れされる。なお、本実施例の遮光マスク215は、実施例1で説明したものと同じものでもよいし、実施例3で説明したものでもよい。
216は遮光マスク15を軸214を中心として90度回動させるマスク駆動機構であり、実施例1で説明した駆動回路20からの制御信号に応じて動作する。
本実施例では、第1及び第2のフライレンズ11,12間の比較的大きなスペースを活用して遮光マスク215の光路に対する出し入れを行う。したがって、実施例1,2に比べて画像投射ユニット及びプロジェクタのより小型化を図ることができる。
図9には、本発明の実施例5である画像投射光学ユニットにおいて用いられる遮光マスクを示している。
本実施例では、第1のフライアイレンズ11におけるレンズセル11aのx軸方向の列ごとに、x軸方向の軸315a回りで上下方向(y軸方向)に開閉する、すなわち光路に対して出入りする2枚1組の遮光マスク315を設けている。遮光マスク315を開閉駆動する駆動機構は、図示を省略している。
また、変形例として、図10に示すように、レンズセル11aのx軸方向の1列とその上側又は下側の1列との間に、x軸方向の軸415a回りで回動する、すなわち光路に対して出入りする1枚の遮光マスク415を設けてもよい。
これら図9及び図10に示す構成では、遮光マスクの小型化が可能であることに加えて、遮光マスクの開閉又は回転角度を調整することにより、レンズセル11aの列ごとに遮光する領域(逆に言えば光束通過領域)を変化させることができる。このため、複数の異なるアスペクト比を持つ画像信号が入力される場合等において、余分光をカットする領域をアスペクト比の変化に対応して変更することができる。
なお、実施例3にて説明した角度の大きい光を遮光するために、第1のフライアイレンズ11のレンズセル11aのうち周辺部に配置されたレンズセルに対してのみ本実施例と同様な構成の遮光マスクを設けてもよい。
図11には、本発明の実施例6である画像投射光学ユニットにおいて用いられる遮光マスクを示している。
515は実施例1にて説明した遮光マスク15と同様な構成を有する遮光マスクである。ただし、実施例3で説明した遮光マスク115を用いてもよい。
本実施例では、遮光マスク515を、マスク駆動機構516によって、光軸方向(z軸方向)に移動させることで、第1のフライアイレンズ11における各レンズセル11aからの光束に対する光束通過領域を変化させる。
図中に実線で示す位置では、各レンズセル11aからの光束の上下の部分が遮光マスク515によって遮断される。この位置から遮光マスク515を第1のフライアイレンズ11から離すように移動させることで、各レンズセル11aからの光束に対する遮光率を変更することができる。
一方、515′で示す第2のフライアイレンズ12の近くの位置まで遮光マスク515を移動させると、各レンズセル11aからの光束は遮光マスク515によって遮断されずに第2のフライアイレンズ12に入射する。このように、遮光マスク515の光軸方向への移動によっても、第1及び第2のフライアイレンズ11,12間の光路に対する遮光マスク515の実質的な出し入れが可能である。
本実施例では、遮光マスク515を光軸方向にスライドさせるだけの簡易なマスク駆動機構516を用いることができる。また、もともとの第1のフライアイレンズ11と第2のフライアイレンズ12との間に形成されているスペースを利用するので、実施例1,2に比べて画像投射光学ユニット及びプロジェクタの小型化が可能である。
以上説明した各実施例は代表的な例にすぎず、本発明の実施に際しては、各実施例に対して種々の変形や変更が可能である。
本発明の実施例1である画像投射光学ユニットの構成を示す図。 実施例1で用いられる遮光マスクを含む照明光学系の側面図。 実施例1における第1のフライアイレンズの光軸方向視図。 実施例1における遮光マスクの光軸方向視図。 実施例1における遮光マスクを光路内に挿入した状態での第1のフライアイレンズの光軸方向視図。 実施例1(及び実施例2)における遮光マスクの第1のフライアイレンズからの距離と被投射面上での表示部と非表示部の境界の照度変化との関係を示す図。 本発明の実施例3にて用いられる遮光マスクの光軸方向視図。 本発明の実施例4にて用いられる遮光マスクの側面図。 本発明の実施例5にて用いられる遮光マスクの側面図。 実施例5の変形例である遮光マスクの側面図。 本発明の実施例6にて用いられる遮光マスクの側面図。
符号の説明
1 光源ランプ
1a 光源
1b リフレクタ
1c リフレクタの焦点位置
2 照明光学系
3 ダイクロイックミラー
4,5 偏光ビームスプリッタ
6 合成プリズム
7,8,9 画像形成素子
10 投射レンズ
11 第1のフライアイレンズ
11a レンズセル
12 第2のフライアイレンズ
12a レンズセル
13 偏光変換素子
14 コンデンサーレンズ
15,115,215,315,415,515 遮光マスク
16,216,516 マスク駆動機構

Claims (6)

  1. 光源から射出されてリフレクタによって反射された光束を複数に分割する第1のレンズアレイと、
    前記第1のレンズアレイを構成する複数のレンズセルにそれぞれ対応する複数のレンズセルを有し、前記第1のレンズアレイからの複数の光束が入射する第2のレンズアレイと、
    前記第1のレンズアレイと前記第2のレンズアレイとの間の光束通過領域を変化させる光束制御手段と、
    前記光束通過領域を通過した光束により照明される画像形成素子と、
    該画像形成素子からの光束を投射する光学系とを有し、
    前記光束制御手段が配置される位置は、以下の条件を満足することを特徴とする画像投射光学ユニット。
    Z≦L/2
    ただし、Zは前記第1のレンズアレイにおける第1のレンズセルのレンズ面頂点から前記光束制御手段までの光軸方向距離、Lは前記第1のレンズセルのレンズ面頂点と前記第2のレンズアレイにおける前記第1のレンズセルに対応する第2のレンズセルのレンズ面頂点との光軸方向距離である。
  2. 光源から射出されてリフレクタによって反射された光束を複数に分割する第1のレンズアレイと、
    前記第1のレンズアレイを構成する複数のレンズセルにそれぞれ対応する複数のレンズセルを有し、前記第1のレンズアレイからの複数の光束が入射する第2のレンズアレイと、
    前記リフレクタと前記第1のレンズアレイとの間で光束通過領域を変化させる光束制御手段と、
    前記光束通過領域を通過した光束により照明される画像形成素子と、
    該画像形成素子からの光束を投射する光学系とを有し、
    前記光束制御手段が配置される位置は、以下の条件を満足することを特徴とする画像投射光学ユニット。
    Z≦L1/2
    ただし、Zは前記第1のレンズアレイにおける第1のレンズセルのレンズ面頂点から前記光束制御手段までの光軸方向距離、L1は前記リフレクタの焦点位置から前記第1のレンズセルのレンズ面頂点との光軸方向距離である。
  3. 前記光束制御手段を動作させて前記光束通過領域を変化させる駆動機構を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の画像投射光学ユニット。
  4. 前記第1のレンズアレイ、前記第2のレンズアレイ及び前記光束制御手段を含む照明光学系と、
    該照明光学系からの光束を複数の色光に分離して複数の前記画像形成素子に導き、該複数の画像形成素子からの複数の色光を投射する光学系とを有することを特徴とする請求項1から3のいずれか1つに記載の画像投射装置。
  5. 請求項1から4のいずれか1つに記載の画像投射光学ユニットと、
    入力された信号に応じて前記光束制御手段を動作させる電気回路とを有することを特徴とする画像投射装置。
  6. 請求項5に記載の画像投射装置と、
    前記画像投射装置に画像信号を供給する画像供給装置とを有することを特徴とする画像表示システム。
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