JP2009001912A5 - - Google Patents

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5442367B2 (ja) * 2009-09-11 2014-03-12 株式会社アルバック 薄膜形成方法及び薄膜形成装置
US20150187549A1 (en) * 2012-05-31 2015-07-02 Tokyo Electron Limited Magnetron sputtering apparatus
JP6299575B2 (ja) * 2014-12-05 2018-03-28 信越化学工業株式会社 スパッタリング装置及びスパッタリング方法
JP7384735B2 (ja) * 2020-04-07 2023-11-21 株式会社アルバック スパッタリング装置
JP7698373B1 (ja) * 2024-10-23 2025-06-25 株式会社シンクロン スパッタリング装置及びこれに用いられる支援プログラム

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01270321A (ja) * 1988-04-22 1989-10-27 Anelva Corp スパッタリング装置
JPH02111878A (ja) * 1988-10-20 1990-04-24 Fuji Photo Film Co Ltd スパッタリング装置
JPH04224674A (ja) * 1990-12-26 1992-08-13 Hitachi Metals Ltd セラミックスのメタライズ装置

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