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- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 136
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims 107
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 35
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 23
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 5
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims 4
- 239000010408 film Substances 0.000 claims 3
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N Bis(trimethylsilyl)amine Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 claims 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 claims 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 2
- 210000002381 Plasma Anatomy 0.000 claims 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 229960003493 octyltriethoxysilane Drugs 0.000 claims 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 1
- MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N triethoxy(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims 1
Claims (53)
- 基板と、
液晶層と、
前記基板と前記液晶層の間に配される液晶配向層と、
前記液晶配向層と前記液晶層の間に配されるバリア層からなることを特徴とする液晶ディスプレイ装置。 - 前記基板が、反射型ディスプレイのバックプレーンであることを特徴とする請求項1記載の液晶ディスプレイ装置。
- 前記反射型ディスプレイのバックプレーンが、シリコン基板と、
少なくとも1つの集積回路層と、
複数のピクセルミラーからなることを特徴とする請求項2記載の液晶ディスプレイ装置。 - 前記基板が、透明基板であることを特徴とする請求項1記載の液晶ディスプレイ装置。
- 前記透明基板上に形成された透明電極層を更に備えることを特徴とする請求項4記載の液晶ディスプレイ装置。
- 前記バリア層が、前記液晶配向層に直接的に形成されることを特徴とする請求項1記載の液晶ディスプレイ装置。
- 前記液晶層が、前記バリア層に直接的に接触することを特徴とする請求項6記載の液晶ディスプレイ装置。
- 前記液晶ディスプレイ装置が、垂直方向に配向されたネマティック液晶ディスプレイ装置であることを特徴とする請求項1記載の液晶ディスプレイ装置。
- 前記液晶配向層が、薄膜層であることを特徴とする請求項1記載の液晶ディスプレイ装置。
- 前記液晶配向層が、酸化被膜層を備えることを特徴とする請求項1記載の液晶ディスプレイ装置。
- 前記酸化被膜層が、SiO又はSiO2のうち少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項10記載の液晶ディスプレイ装置。
- 前記バリア層が、前記液晶配向層よりも、不純物の吸収或いは吸着のうち少なくとも一方に対して高い抵抗性を備えることを特徴とする請求項1記載の液晶ディスプレイ装置。
- 前記バリア層が、前記液晶配向層の異方特性を前記液晶層に伝達することを特徴とする請求項1記載の液晶ディスプレイ装置。
- 前記バリア層が単分子層であることを特徴とする請求項1記載の液晶ディスプレイ装置。
- 前記バリア層が、シラン又はシラザンのうち一方から形成されることを特徴とする請求項1記載の液晶ディスプレイ装置。
- 前記バリア層が、オクチルエトキシシラン又はヘキサメチルジシラザンのうち一方から形成されることを特徴とする請求項15記載の液晶ディスプレイ装置。
- 前記バリア層が、シランで形成されることを特徴とする請求項15記載の液晶ディスプレイ装置。
- 前記第1の基板が配される側とは反対側の前記液晶層の面上に配される第2の基板と、
該第2の基板と前記液晶層の間に配される第2の液晶配向層と、
前記第2の液晶配向層と前記液晶層の間に配される第2のバリア層を更に備えることを特徴とする請求項1記載の液晶ディスプレイ装置。 - 前記基板が、反射型ディスプレイのバックプレーンであり、
前記第2の基板が透明基板であることを特徴とする請求項18記載の液晶ディスプレイ装置。 - 前記液晶層の周縁部周りに配されるガスケットを備え、
該ガスケットが、前記バリア層と前記第2のバリア層のうち少なくとも一方に隣接することを特徴とする請求項18記載の液層ディスプレイ装置。 - 基板を用意する段階と、
該基板上に液晶配向層を形成する段階と、
該液晶配向層上にバリア層を形成する段階と、
該バリア層上に液晶層を形成する段階からなることを特徴とする液晶ディスプレイ装置の製造方法。 - 前記基板が、反射型ディスプレイのバックプレーンであることを特徴とする請求項21記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
- 前記基板が、透明基板であることを特徴とする請求項21記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
- 前記液晶配向層上に前記バリア層を形成する段階が、前記液晶配向層上に直接的に前記バリア層を形成する段階を含むことを特徴とする請求項21記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
- 前記バリア層上に前記液晶層を形成する段階が、前記バリア層に直接的に接触する液晶層を供給する段階を含むことを特徴とする請求項24記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
- 前記液晶層を形成する段階が、ネマティック液晶層を形成する段階を含み、
前記液晶配向層を形成する段階が、垂直に配向した液晶ディスプレイ装置に使用するのに好適な配向層を形成する段階を含むことを特徴とする請求項21記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。 - 前記液晶配向層を形成する段階が、薄膜状の配向層を形成する段階を含むことを特徴とする請求項21記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
- 前記液晶配向層を形成する段階が、酸化被膜を形成する段階を含むことを特徴とする請求項21記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
- 前記酸化被膜層が、SiO又はSiO2のうち少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項28記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
- 前記バリア層を形成する段階が、前記液晶配向層よりも、不純物の吸収或いは吸着のうち少なくとも一方に対して高い抵抗性を備える層を形成する段階を含むことを特徴とする請求項21記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
- 前記バリア層を形成する段階が、前記液晶配向層の異方特性を前記液晶層に伝達する層を形成する段階を含むことを特徴とする請求項21記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
- 前記バリア層を形成する段階が、前記液晶配向層上に単分子層を形成する段階を含むことを特徴とする請求項21記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
- 前記バリア層を形成する段階が、シラン又はシラザンのうち少なくとも一方を用いて前記バリア層を形成する段階を含むことを特徴とする請求項21記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
- 前記バリア層を形成する段階が、オクチルトリエトキシシラン又はヘキサメチルジシラザンのうち少なくとも一方を用いる段階を備えることを特徴とする請求項33記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
- 前記バリア層を形成する段階が、シランを用いて前記バリア層を形成する段階を含むことを特徴とする請求項33記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
- 第2の基板を用意する段階と、
該第2の基板上に第2の液晶配向層を形成する段階と、
前記液晶配向層上に第2のバリア層を形成する段階と、
前記第2のバリア層を備える第2の基板を、搭載する段階を備え、
前記第2のバリア層が、前記液晶層を備えるバリア層に対向し、
前記液晶層が、前記第2のバリア層と前記バリア層の間に配されることを特徴とする請求項21記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。 - 前記基板が、反射型ディスプレイのバックプレーンであり、
前記第2の基板が透明基板であることを特徴とする請求項36記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。 - 前記基板と前記第2の基板の間に、液晶保持用ガスケットを配する段階を更に備え、
前記ガスケットの一部が、前記バリア層に隣接し、前記ガスケットの他の部分が前記第2のバリア層に隣接することを特徴とする請求項36記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。 - 前記バリア層を形成する前に、前記配向層に対するプラズマ洗浄工程を実行する段階をさらに備えることを特徴とする請求項21記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
- 基板と、
液晶層と、
前記基板と前記液晶層の間に配される液晶配向層と、
前記液晶配向層が、汚染物質を吸収すること及び吸着することのうち少なくとも一方を防ぐ手段を備えることを特徴とする液晶ディスプレイ装置。 - 前記バリア層及び前記第2のバリア層の化学構成が化学成分を含み、
前記化学成分が前記バリア層及び前記第2のバリア層の表面特性を用途に応じたものとすることを特徴とする請求項20に記載の液晶ディスプレイ装置。 - 前記バリア層及び前記第2のバリア層の化学構成が−NH 2 成分を含み、
前記−NH 2 成分が前記ガスケット及び前記バリア層との間と、前記ガスケット及び前記第2のバリア層との間の接着性を改善することを特徴とする請求項41に記載の液晶ディスプレイ装置。 - 前記バリア層の化学構成が化学成分を含み、
前記化学成分が前記バリア層の表面特性を用途に応じたものとすることを特徴とする請求項1に記載の液晶ディスプレイ装置。 - 前記バリア層の化学構成が−NH 2 成分を含み、
前記−NH 2 成分が前記バリア層に隣接するガスケット及び前記バリア層との間の接着性を改善することを特徴とする請求項43に記載の液晶ディスプレイ装置。 - 前記バリア層を形成する前記段階が化学成分を含む化合物を有する前記バリア層を形成する段階を含み、
前記第2のバリア層を形成する前記段階が前記化学成分を含む前記化合物を有する前記第2のバリア層を形成する段階を含み、
前記化学成分が前記バリア層及び前記第2のバリア層の表面特性を用途に応じたものとすることを特徴とする請求項38に記載の液晶ディスプレイ装置を製造する方法。 - 前記化合物が−NH 2 成分を含み、
前記−NH 2 成分が前記ガスケット及び前記バリア層との間と、前記ガスケット及び前記第2のバリア層との間の接着性を改善することを特徴とする請求項45に記載の液晶ディスプレイ装置を製造する方法。 - 前記バリア層を形成する前記段階が化学成分を含む化合物を有する前記バリア層を形成する段階を含み、
前記化学成分が前記バリア層の表面特性を用途に応じたものとすることを特徴とする請求項21に記載の液晶ディスプレイ装置を製造する方法。 - 前記バリア層に隣接するガスケットを形成する段階をさらに備え、
前記化合物が−NH 2 成分を含み、
前記−NH 2 成分が前記ガスケット及び前記バリア層との間の接着性を改善することを特徴とする請求項47に記載の液晶ディスプレイ装置を製造する方法。 - 前記バリア層が蒸着層であることを特徴とする請求項1に記載の液晶ディスプレイ装置。
- 前記バリア層を形成する前記段階が蒸着工程によって前記液晶配向層の上に前記バリア層を形成する段階を含むことを特徴とする請求項21に記載の方法。
- 第2基板と、
前記第2基板と前記液晶層との間の第2液晶配向層と、
前記第2の液晶配向層と前記液晶層との間の第2バリア層をさらに備え、
前記バリア層及び前記第2バリア層が同じ材料から形成され、
前記液晶層が前記基板と前記第2基板との間に配されることを特徴とする請求項1に記載の液晶ディスプレイ装置。 - 前記第2バリア層が前記バリア層と同じ材料から形成されることを特徴とする請求項36に記載の液晶ディスプレイ装置を製造する方法。
- 前記基板として前記液晶層の反対側に配された第2基板と、
前記第2基板と前記液晶層との間の第2液晶配向層と、
汚染物質を吸収すること及び吸着することのうちの少なくとも一方から前記第2の液晶配向層を保護するための手段を備え、
前記第2の液晶配向層を保護する手段が前記液晶配向層を保護するための前記手段と同じであることを特徴とする請求項40に記載の液晶ディスプレイ装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/125,838 US20060256267A1 (en) | 2005-05-10 | 2005-05-10 | Method for manufacturing liquid crystal display devices and devices manufactured thereby |
PCT/US2006/017649 WO2006121988A2 (en) | 2005-05-10 | 2006-05-09 | Method for manufacturing liquid crystal display devices and devices manufactured thereby |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008541172A JP2008541172A (ja) | 2008-11-20 |
JP2008541172A5 true JP2008541172A5 (ja) | 2009-06-25 |
Family
ID=37397183
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008511220A Pending JP2008541172A (ja) | 2005-05-10 | 2006-05-09 | 液晶ディスプレイ装置の製造方法及び該方法により製造された装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20060256267A1 (ja) |
JP (1) | JP2008541172A (ja) |
CN (1) | CN101198896A (ja) |
TW (1) | TW200643574A (ja) |
WO (1) | WO2006121988A2 (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20060256267A1 (en) * | 2005-05-10 | 2006-11-16 | Bone Matthew F | Method for manufacturing liquid crystal display devices and devices manufactured thereby |
KR101167313B1 (ko) * | 2005-06-29 | 2012-07-19 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치용 어레이 기판 및 그 제조 방법 |
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JP2014059498A (ja) | 2012-09-19 | 2014-04-03 | Seiko Epson Corp | 液晶装置、液晶装置の製造方法及びプロジェクター |
KR102276994B1 (ko) | 2014-11-20 | 2021-07-13 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 |
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CN110596929A (zh) * | 2019-08-29 | 2019-12-20 | 深圳市科创数字显示技术有限公司 | 硅基液晶器件及其制作方法与波长选择开关 |
CN113741074B (zh) * | 2020-05-28 | 2023-10-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | 液晶调光玻璃模组、液晶调光玻璃及制备方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP3132193B2 (ja) | 1991-11-08 | 2001-02-05 | 日本ビクター株式会社 | 液晶表示デバイス及び液晶表示デバイスの製造方法 |
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-
2005
- 2005-05-10 US US11/125,838 patent/US20060256267A1/en not_active Abandoned
-
2006
- 2006-05-03 TW TW095115718A patent/TW200643574A/zh unknown
- 2006-05-09 JP JP2008511220A patent/JP2008541172A/ja active Pending
- 2006-05-09 CN CNA2006800215882A patent/CN101198896A/zh active Pending
- 2006-05-09 WO PCT/US2006/017649 patent/WO2006121988A2/en active Application Filing
-
2007
- 2007-04-16 US US11/787,427 patent/US8164723B2/en active Active
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