JP2008533732A - ナノ構造pn接合を含む発光ダイオードの製造方法及び当該方法によって得られるダイオード - Google Patents
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Abstract
Description
−基板を覆う誘電性薄層の表面上への第1ドーパントと逆型の第2ドーパントがドープされた半導体材料によって形成されたアモルファス薄膜の堆積ステップと、
−誘電性薄層内及びアモルファス薄膜から、第2ドーパントがドープされた半導体材料から作られたナノメータサイズであり且つ基板とエピタキシャル関係にある複数のドットを形成し、ナノメータサイズの複数のpn接合を形成するようにされた熱処理ステップと、
−誘電性薄層内に設けられたドットからエピタキシャル成長による誘電性薄層の表面上への追加の薄層の形成ステップと、を連続的に含むという事実によって達成される。
−第1ドーパントがドープされ且つ誘電性薄層によって覆われた半導体基板と、
−各ドットが基板及び誘電性薄層を覆う追加の薄層とエピタキシャル関係にあるような第1ドーパントの逆型の第2ドーパントがドープされた半導体材料から作られ且つ誘電性薄層内に設けられたナノメータサイズの複数のドットを少なくとも含むという事実によって達成される。
Claims (14)
- 第1ドーパントがドープされた半導体基板(1,13)を含むナノ構造pn接合発光ダイオードの製造方法であって、少なくとも、
前記基板(1,13)を覆う誘電性薄層(2)の表面上への前記第1ドーパントと逆型の第2ドーパントがドープされた半導体材料によって形成されたアモルファス薄膜(3)の堆積ステップと、
前記誘電性薄層(2)内及び前記アモルファス薄膜(3)から、前記第2ドーパントがドープされた半導体材料から作られたナノメータサイズであり且つ前記基板(1,13)とエピタキシャル関係にある複数のドット(5)を形成し、ナノメータサイズの複数のpn接合を形成するようにされた熱処理ステップと、
前記誘電性薄層(2)内に設けられた前記ドット(5)からエピタキシャル成長による前記誘電性薄層(2)の表面上への追加の薄層(6)の形成ステップと、を連続して含むことを特徴とする方法。 - 前記アモルファス薄膜(3)の堆積は、分子線エピタキシャル成長法によって行われることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記追加の薄層(6)は、前記基板(1,13)とエピタキシャル関係にある前記複数のドット(5)を構成する前記半導体材料によって形成されることを特徴とする請求項1又は2に記載の方法。
- 前記追加の薄層(6)は、前記第2ドーパントがドープされることを特徴とする請求項3に記載の方法。
- 前記熱処理ステップは、前記誘電性薄層(2)上及び前記アモルファス薄膜(3)から、ナノメータサイズの複数の多結晶クラスタを形成するようにされた第1段階と、続いて、前記複数の多結晶クラスタを前記誘電性薄層(2)内に設けられ且つ前記基板(1,13)とエピタキシャル関係にある前記複数のドット(5)に変形するようにされた第2段階と、を含むことを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の方法。
- 前記熱処理ステップの第1段階は、約350℃の第1温度閾値までの温度増加に続いて、所定の第1時間が経過するまで前記第1温度閾値で温度を維持することによって行われることを特徴とする請求項5に記載の方法。
- 前記熱処理ステップの第2段階は、前記第1温度閾値よりも高い第2温度閾値までの漸進的温度増加に続いて、所定の第2期間が経過するまで前記第2温度閾値で温度を維持することによって行われることを特徴とする請求項6に記載の方法。
- 前記第2温度閾値は、720℃〜750℃に含まれることを特徴とする請求項7に記載の方法。
- 前記誘電性薄層(2)は、720℃〜750℃に含まれる温度の効果によって分解可能な化合物によって形成される請求項8に記載の方法。
- 前記分解可能な化合物は、シリコン酸化膜及びシリコン窒化膜から選択されることを特徴とする請求項9に記載の方法。
- 前記半導体材料は、シリコン及びゲルマニウムから選択されることを特徴とする請求項1乃至10の何れか1項に記載の方法。
- 前記半導体基板(1,13)は、シリコン、ゲルマニウム、シリコン・オン・インシュレータ及びゲルマニウム・オン・インシュレータから選択される請求項1乃至11の何れか1項に記載の方法。
- 前記誘電性薄層(2)及び少なくとも1導波路を形成する前記基板(1,13)の一部の前記追加の薄層(6)のパターニングステップと、
前記導波路の表面の絶縁層(8)の堆積ステップと、が前記追加の薄層(6)の形成ステップに続くことを特徴とする請求項1乃至12の何れか1項に記載の方法。 - 第1ドーパントがドープされ且つ誘電性薄層(2)によって覆われた半導体基板(1,13)と、
各ドット(5)が前記基板(1,13)及び前記誘電性薄層(2)を覆う追加の薄層(6)とエピタキシャル関係にあるような前記第1ドーパントの逆型の第2ドーパントがドープされた半導体材料から作られ且つ前記誘電性薄層(2)内に設けられたナノメータサイズの複数のドット(5)を少なくとも含むことを特徴とする請求項1乃至13の何れか1項に記載の製造方法によって得られるナノ構造pn接合発光ダイオード。
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