JP2008530558A5 - - Google Patents

Claims (17)

1. 微小粒子を含むガスを希釈して、その結果生じた希釈ガスを測定器によって測定するための広範囲連続希釈装置であって、
   制御された値で希釈ガスを受け取る希釈ガス吸気口と、
   サンプルガスを受け取るサンプルガス吸気口と、
   前記サンプルガスの流量を測定するフローメータと、
   前記希釈ガス吸気口及び前記サンプルガス吸気口に接続されて、前記希釈ガス及び前記サンプルガスを受け取り、ある希釈率で希釈し、混合気流を制御された値で排気する排気口を有する混合器と、
   前記混合気流から前記測定器へ所定の流れが流入するように設けられた測定流排気口と、
   制御された値で補給ガスが前記混合気流へ流入するように設けられた補給ガス吸気口と、
   前記補給ガスの流量の変化によってサンプルガスの流量を変化させて、それによって、前記希釈率を連続的に変化させる補給ガス流量制御手段とを備える広範囲連続希釈装置。
2. 前記混合気流の流量が、臨界オリフィスによって制御される請求項１記載の広範囲連続希釈装置。
3. 前記混合気流の流量が、マスフローコントローラによって制御される請求項１記載の広範囲連続希釈装置。
4. 前記希釈ガスの流量が、マスフローコントローラによって制御される請求項１記載の広範囲連続希釈装置。
5. 前記サンプルガスの流量を測定するフローメータが、オリフィスフローメータを備える請求項１記載の広範囲連続希釈装置。
6. 前記サンプルガスの流量を測定するフローメータが、複数の異なる大きさのオリフィスフローメータを備え、前記サンプルガスに適用される前記オリフィスフローメータは希釈率によって決まる請求項１記載の広範囲連続希釈装置。
7. 前記希釈率が所望の値に追従するように、前記補給ガスの流量を変化させることによって前記希釈率を制御するフィードバック制御ループをさらに備える請求項１記載の広範囲連続希釈装置。
8. フィードバック制御ループが、比例制御器、積分制御器、微分制御器を備える請求項７記載の広範囲連続希釈装置。
9. フィードバック制御ループが、一定の希釈率に追従するように設定されている請求項７記載の広範囲連続希釈装置。
10. 前記測定器に流入する流量が一定である請求項１記載の広範囲連続希釈装置。
11. 前記測定器に流入する流量が、特定の可変な測定流量である請求項1記載の広範囲連続希釈装置。
12. 前記サンプルガス吸気口をサンプル源に接続している移送ラインにおいて前記サンプルガスが滞留する時間を低減するために、前記フローメータの上流に設けられたバイパス流排気口をさらに備える請求項１記載の広範囲連続希釈装置。
13. 前記補給ガス吸気口の上流にフィルターを備える請求項１記載の広範囲連続希釈装置。
14. 請求項１記載の広範囲連続希釈装置の使用方法であって、
    前記測定器に流入するサンプル流がゼロとなるように前記補給ガスの流量を制御し、前記測定器から測定値を得てゼロチェックを行う使用方法。
15. 請求項１記載の広範囲連続希釈装置の使用方法であって、
    前記サンプリングガスの流量において応答変化を生じさせるように、前記補給ガスの流量を調節する使用方法。
16. 前記希釈率が所望の値に追従するように、前記補給ガスの流量が調節される請求項１５記載の使用方法。
17. 所望の値とは一定の希釈率である請求項１６記載の使用方法。