JP2008530433A5

JP2008530433A5 -

Info

Publication number: JP2008530433A5
Application number: JP2007555121A
Authority: JP
Filing date: 2006-01-27
Publication date: 2009-03-05

Claims

軸の周りに回転するように駆動シャフトに結合されたロータディスクと、
前記ロータディスクの周囲に配置されて、接線流チャネルと、前記接線流チャネルへの入口と、前記接線流チャネルからの出口とを規定しているステータと、
前記出口に近接した前記接線流チャネル内に設けられた固定バッフルであって、当該バッフルと前記ロータディスクとの間には空隙が形成されており、前記ロータディスクに面した当該バッフルの表面には、当該バッフルと前記ロータディスクとの間の前記空隙を通るガス乱流を生じさせ、それによって、前記バッフルと前記ロータディスクとの間の前記空隙を介した、前記出口から前記入口への周方向のガスの流れを制限するように構成されたキャビティが設けられている、固定バッフルとを含む、分子ドラッグコンプレッサ。
前記バッフルに設けられた前記キャビティは、断面が正方形、長方形、三角形、半円形または半楕円形である、請求項１に記載の分子ドラッグコンプレッサ。
前記バッフルに設けられた前記キャビティは、前記キャビティの横方向の大きさに等しいかそれよりも大きい深さを有している、請求項１に記載の分子ドラッグコンプレッサ。
前記バッフルに設けられた前記キャビティは、ディスクの回転方向に大略的に直角の２列以上のキャビティの列として構成されている、請求項１に記載の分子ドラッグコンプレッサ。
前記キャビティの列は、前記ディスクの回転方向に直角に互い違いに配置されている、請求項４に記載の分子ドラッグコンプレッサ。
前記キャビティは、前記ロータディスクに面している前記バッフルの前記表面の３０〜７０パーセントに及んでいる、請求項１に記載の分子ドラッグコンプレッサ。
前記バッフルに設けられた前記キャビティは、前記バッフルと前記ロータディスクとの間の空隙の１〜１０倍の大きさを有する、請求項１に記載の分子ドラッグコンプレッサ。
軸を有するポンプハウジングと、
前記ハウジング内に配置され、かつモータ駆動シャフトに結合されている軸流ターボ分子コンプレッサと、
前記ハウジング内に配置され、かつ前記モータ駆動シャフトに結合されている分子ドラッグコンプレッサであって、少なくとも１つの分子ドラッグポンピングステージを含む分子ドラッグコンプレッサとを含み、
前記少なくとも１つの分子ドラッグポンピングステージが、
軸の周りに回転するように前記モータ駆動シャフトに結合されたロータディスクと、
前記ロータディスクの周囲に配置されて、接線流チャネルと、前記接線流チャネルへの入口と、前記接線流チャネルからの出口とを規定しているステータと、
前記出口に近接した前記接線流チャネル内に設けられた固定バッフルであって、当該バッフルと前記ロータディスクとの間には空隙が形成されており、前記ロータディスクに面した当該バッフルの表面には、当該バッフルと前記ロータディスクとの間の前記空隙を通るガス乱流を生じさせ、それによって、前記バッフルと前記ロータディスクとの間の前記空隙を介した、前記出口から前記入口への周方向のガスの流れを制限するように構成されたキャビティが設けられている、固定バッフルとを含む、一体型高真空ポンプ。
前記バッフルに設けられた前記キャビティは、断面が正方形、長方形、三角形、半円形または半楕円形である、請求項８に記載の一体型高真空ポンプ。
前記バッフルに設けられた前記キャビティは、前記キャビティの横方向の大きさに等しいかそれよりも大きい深さを有している、請求項８に記載の一体型高真空ポンプ。
前記バッフルに設けられた前記キャビティは、ディスクの回転方向に大略的に直角の２列以上のキャビティの列として構成されている、請求項８に記載の一体型高真空ポンプ。
前記キャビティの列は、前記ディスクの回転方向に直角に互い違いに配置されている、請求項１１に記載の一体型高真空ポンプ。
前記キャビティは、前記ロータディスクに面している前記バッフルの前記表面の３０〜７０パーセントに及んでいる、請求項８に記載の一体型高真空ポンプ。
前記バッフルに設けられた前記キャビティは、前記バッフルと前記ロータディスクとの間の空隙の１〜１０倍の大きさを有する、請求項８に記載の一体型高真空ポンプ。
駆動シャフトに結合されたロータディスクと、前記ロータディスクの周囲に配置されて、接線流チャネルと、前記接線流チャネルへの入口と、前記接線流チャネルからの出口とを規定しているステータと、前記出口に近接した前記接線流チャネル内に設けられた固定バッフルであって、当該バッフルと前記ロータディスクとの間に空隙が形成されている固定バッフルとを含む、分子ドラッグコンプレッサの作動方法であって、
前記バッフルと前記ロータディスクとの間の前記空隙を通るガス乱流を生じさせ、それによって、前記バッフルと前記ロータディスクとの間の前記空隙を介した、前記出口から前記入口への周方向のガスの流れを制限するステップを含む、分子ドラッグコンプレッサの作動方法。
ガス乱流を生じさせることは、前記ロータディスクに面した前記バッフルの表面にキャビティを形成することを含む、請求項１５に記載の方法。
キャビティの形成は、断面が正方形、長方形、半円形または半楕円形であるキャビティを前記バッフルに形成することを含む、請求項１６に記載の方法。