JP2008522150A - バイオセンサにおける磁気クロストークを低減する手段及び方法 - Google Patents

バイオセンサにおける磁気クロストークを低減する手段及び方法 Download PDF

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Abstract

磁化されたときに磁化可能な物体SPBにより生成される漏れ磁界SFを検知し、前記検知された漏れ磁界SFに依存する電気物体信号UOBを生成する磁気センサMSであって、前記センサは、前記磁化可能な物体SPBを磁化するための主磁場Hを生成するための磁場発生器WR、WRと、前記主磁場Hと前記漏れ磁界SFとの間の磁気クロストークにより引き起こされる電気物体信号UOB中のクロストーク信号成分の影響を低減させるためのクロストーク低減手段とを有し、前記クロストーク低減手段は、前記クロストーク信号成分と前記電気物体信号UOBの残りの部分との間の信号特性を区別し、電気出力信号Uを生成するように構成されたセンサ。該信号特性は例えば、信号の位相であっても良い。この場合、前記クロストーク低減手段は、前記クロストーク信号成分に対して直交する直交電気信号UORTを生成するための手段PHSFTと、前記電気物体信号UOBにより前記直交電気信号UORTを乗算する乗算器MPとを有しても良く、前記乗算の後の結果の信号UMPは、前記電気出力信号Uのための基準を形成しても良い。前記主磁場H、Hの周波数ωは好ましくは、前記検知された漏れ磁界SFと前記主磁場H、Hとの間のラジアンで表される位相差が、π/2+nπと略等しくとなるように選択され、ここでnは整数である。該信号特性は例えば、信号の振幅であっても良い。この場合、前記主磁場Hは、第1の周波数f、ωを持つ第1の磁気信号Hと、前記第1の周波数f、ωよりもかなり長く且つ前記磁化可能な物体SPBの磁化カットオフ周波数fよりも長い第2の周波数f、ωを持つ第2の磁気信号Hとを有し、前記第1及び第2の磁気信号H、Hは、前記第1の周波数f及び第1の振幅を持つ前記電気物体信号UOBにおける第1の電気信号成分を生成し、また前記第2の周波数f及び第2の振幅を持つ前記電気物体信号における第2の電気信号成分を生成する。前記クロストーク低減手段は、前記第1及び第2の電気信号成分の振幅を測定し、前記測定された振幅を相互に減算する手段G、MP、MP、DFFを有し、前記減算の後の結果の信号が、前記電気出力信号Uのための基準を形成する。どちらの場合においても、前記クロストーク低減手段は、前記減算の後の結果の信号をフィルタリングするためのローパスフィルタLPFを有しても良く、前記ローパスフィルタLPFの後の結果の信号が前記電気出力信号Uであっても良い。

Description

本発明は、磁化されたときに磁化可能な物体により生成される漏れ磁界を検知する方法に関する。
本発明は更に、前記検知を実行する磁気センサ及び例えば分子診断、生体試料分析又は化学的試料分析のためのバイオチップにおける斯かるセンサの使用に関する。
マイクロアレイ又はバイオチップの導入は、DNA(desoxyribonucleic acid)、RNA(ribonucleic acid)、核酸、タンパク質、細胞及び細胞片、組織成分等についての試料の分析に変革を起こしている。その用途は例えば、(例えば病院における又は個々の医師又は看護士による)ヒトの遺伝子型決定、医学的ふるい分け、生物学的及び薬理学的な研究、唾液中の薬物の検出等である。バイオチップの目的は、試料(通常は溶液)中の生体分子の存在を検出及び定量化することである。
バイオチップ(バイオセンサ、バイオセンサチップ、生体マイクロチップ、遺伝子チップ又はDNAチップとも呼ばれる)は、最も単純な形態では、該バイオチップの特定の領域において、大量の種々のプローブ分子が付着した基板から成る。合致する場合には、該基板には、分析対象となる分子又は分子片が結合することができる。
「基板」なる語は、利用され得るいずれの基礎となる物質をも含み、該基板上に、素子、回路又はエピタキシャル層が形成されても良い。「基板」なる語はまた、例えばドープされたシリコン、ガリウムヒ素(GaAs)、ガリウムヒ素リン(GaAsP)、インジウムリン(InP)、ゲルマニウム(Ge)又はシリコンゲルマニウム(SiGe)基板のような半導体基板をも含み得る。「基板」は例えば、半導体基板部分に加えて、SiO又はSi層のような絶縁層を含み得る。かくして「基板」なる語はまた、ガラス、プラスチック、セラミック、シリコン・オン・グラス(silicon-on-glass)、シリコン・オン・サファイア(silicon-on-sapphire)基板を含む。「基板」なる語はかくして、関心のある層又は部分の下にある層のための要素を一般的に定義するために利用される。また「基板」は、例えばガラス又は金属層のような層がその上に形成される、他のいずれの基礎であっても良い。
例えば、DNA分子の断片は、1つのユニークな相補的なDNA(c−DNA)分子片と結合する。結合反応の出現は例えば、分析対象の分子に結合する蛍光マーカを利用することにより検出される。蛍光マーカの代替として、分析対象の分子に結合される磁気マーカとして磁化可能な物体が利用されることができる。本発明が取り扱うものは、後者のタイプのマーカである。バイオチップにおいては、前記磁化可能な物体は通常、所謂超常磁性ビーズにより実装される。このことは、短時間で、同時に多くの異なる分子又は分子片の少量を分析する能力を提供する。1つのバイオチップは、10乃至1000以上の異なる分子片についての分析を実施することができる。ヒトゲノムプロジェクト並びに遺伝子及びタンパク質の機能についての追跡研究のようなプロジェクトの結果、バイオチップの使用により利用可能となり得る情報の有用性は、今後10年間で急速に増大するものと予想される。バイオチップの機能の一般的な説明は、国際特許出願公開WO03/054523A2において既に記載されている。
超常磁性ビーズの検出に基づくセンサ(例えば100個)の配列から成るバイオチップは、試料液(例えば血液や唾液のような溶液)中の多くの異なる分子(例えばタンパク質、DNA、濫用薬物、ホルモン)の濃度を同時に測定するために利用され得る。試料液は、目標分子種又は抗原を有する。磁気ラベル(マーカ)を持ち得るいずれの生体分子もが、利用可能性を持つ。測定は、常磁性ビーズを目標に付着させ、該ビーズを印加される磁場を用いて磁化し、(例えば)巨大磁気抵抗(GMR)センサを利用して磁化されたビーズの漏れ磁界(stray field)を検出することにより、実現され得る。
本願においては、超常磁性ナノ粒子の励起に基づくバイオチップに焦点が当てられる。しかしながら、異方性磁気抵抗(AMR)及びトンネル磁気抵抗(TMR)のような他の磁気抵抗センサにおける利用も、本発明の一部である。磁場発生器は、磁場を生成する線を流れる電流を有しても良く、それにより超常磁性ビーズを磁化しても良い。超常磁性ビーズからの漏れ磁界は、GMRにおける面内磁化成分を発生させ、抵抗の変化に帰着する。
本発明の背景の更なる説明のため、図1及び2が参照される。
図2は、基板SBSTR上の磁気センサMSの例を示す。単一の又は複数の斯かるセンサが、同一の基板SBSTR上に一体化され、図1において模式的に示されるようなバイオチップBCPを形成しても良い。磁気センサMSは、本例においては例えば第1の導電線WRにより基板SBSTRに一体化された、磁場発生器を有する。該磁気センサはまた、第2の(又はそれ以上の)導電線WRを有しても良い。磁場Hを発生するため、導電線の代わりに他の手段が利用されても良い。磁場発生器はまた、基板SBSTRの外部(外部励起)に配置されても良い。各磁気センサMSにおいて、例えば巨大磁気抵抗GMRのような磁気抵抗素子が基板SBSTRに一体化され、これによりバイオチップBCPにより収集された情報を読み出し、かくして磁化可能な物体を介して目標分子TRの存在又は不在を読み出し、それにより目標分子TRの面密度を決定又は推定する。磁化可能な物体は好ましくは、所謂超常磁性ビーズSPBにより実現される。目標TRを選択的に結合することが可能な結合サイトBSが、プローブ素子PE上に取り付けられる。プローブ素子PEは、基板SBSTRの上端に取り付けられる。
磁気センサMS又はより一般にはバイオチップBCPの機能は、以下のとおりである。各プローブ素子PEは、特定のタイプの結合サイトBSを備えられる。目標試料TRがプローブ素子PEに提示され又はプローブ素子PE上を通過し、結合サイトBSと目標試料TRとが合致する場合、これらは互いと結合する。超常磁性ビーズSPBは、目標試料TRと直接又は間接的に結合する。超常磁性ビーズSPBは、バイオチップBCPにより収集された情報を読み出すことを可能とする。超常磁性粒子は、磁化測定の時間スケールにおいて頻繁な、熱的に誘導された磁気モーメント反転のために、印加される磁場がゼロの状態で時間平均化された磁化がゼロである、(高分子)結合子又は基質中に懸濁する。平均反転頻度は、
ν=νexp(−KV/kT)
により与えられる。ここでKV(Kは磁気異方性エネルギー密度、Vは粒子体積)は克服される必要があるエネルギー障壁、νは反転試行頻度(典型的な値は10−1)、kはボルツマン定数、Tは絶対温度(ケルビン)である。
磁場Hは超常磁性ビーズSPBを磁化し、超常磁性ビーズSPBは応答として、GMRにより検出されることができる漏れ磁界SFを発生する。必須ではないが、GMRは好ましくは、GMRを通過する磁場Hの一部がGMRの層の敏感な方向に垂直となるように配置されるべきである。GMRが敏感である全体の外部(即ちGMR内部ではない)磁界は、図2においてHextにより示されている。
バイオチップBCPが水平に(従って重力に対して垂直に)配置されていると仮定すると、GMRは、水平成分を持つ磁場にのみ又は水平成分を持つ磁場に主に敏感となるように配置される。このことは、磁場Hに対するGMRの感度を最小化し、従って磁場HとGMRとの間の磁気クロストークを最小化する。磁場HがGMRと完全に垂直にGMRを通過するとすると、該磁場Hは水平成分を持たない。反対に漏れ磁界SFが水平成分を持ち、GMRの抵抗値に差をもたらす。これにより、(例えば図1には示されていないDC電圧によりバイアスを掛けられた場合にGMRを通過する電流変化により生成される)電気出力信号がセンサMSにより出力されることができ、目標TRの量の尺度となる。しかしながら実際には、GMRは(垂直方向に)無限小に作成されることはできない。それ故、磁場Hの水平成分は常に利用可能である(例えば統合された電流により生成される円形対象磁場のような、印加される磁力線が完全に均一でない場合)。更に、GMRは、1つの方向にのみ完全に敏感とはならない。更に、磁場HのGMRとの整合は完全とはならず、何らかの機構的な位置的理由により望ましくないものとさえなり得る。これらの不完全さは全て、磁場とGMRとの間の一定のクロストークへと導き、即ち検知される出力信号は漏れ磁界SFのみに依存するものではなく、磁場Hにも直接に依存するものとなる。該クロストークは、図2においてHとして示される。クロストークは、大量の異なる生体分子の密度の測定の精度を低減させる。特に漏れ磁界SFが非常に弱く(又は磁気クロストーク場が安定でない)、従って非常に高い磁気センサMSの感度が必要される場合には、測定の精度はあまりにも悪くなり得る。非常に敏感な測定については、磁気クロストークが、漏れ磁界SFの10倍高くなることさえ起こり得る。このことは勿論、測定を無益にする。それ故、磁気クロストークを減少させる又は磁気クロストークの影響を低減させる高いニーズがある。
それ故本発明の目的は、実質的に検知される漏れ磁界にのみ依存する出力信号を生成する、磁化されたときに磁化可能な物体により生成される漏れ磁界を検知するための磁気センサを提供することにある。
本目的を達成するため、本発明は、磁化されたときに磁化可能な物体により生成される漏れ磁界を検知し、前記検知された漏れ磁界に依存する電気物体信号を生成する磁気センサであって、前記センサは、前記磁化可能な物体を磁化するための主磁場を生成するための磁場発生器と、前記主磁場と前記漏れ磁界との間の磁気クロストークにより引き起こされる前記電気物体信号中のクロストーク信号成分の影響を低減させるためのクロストーク低減手段とを有し、前記クロストーク低減手段は、前記クロストーク信号成分と前記電気物体信号の残りの部分との間で信号特性を区別し、電気出力信号を生成するように構成されたセンサを提供する。
クロストーク信号成分と電気物体信号の残りの部分との間で信号特性を区別することにより、クロストークは物体信号から分離されることができ、従ってクロストークのない出力信号が生成されることができる。
前記信号特性は、例えば信号の位相であっても良い。磁気クロストーク(即ち磁場発生器から直接来る磁場)と漏れ磁界(即ち常磁性ビーズを介して磁場発生器から来る磁場)との間の区別は、漏れ磁界が、(直接の)磁場と比べて時間的に遅延するという事実により可能である。前記クロストーク低減手段は、前記クロストーク信号成分に対して直交する直交電気信号を生成するための手段と、前記電気物体信号により前記直交電気信号を乗算する乗算器とを有しても良く、前記乗算の後の結果の信号は、前記電気出力信号のための基準を形成しても良い。結果の信号は、電気出力信号として直接利用されても良い。しかしながら好ましくは、前記クロストーク低減手段は、前記乗算の後の前記結果の信号をフィルタリングするローパスフィルタを有する。このときローパスフィルタが電気出力信号を生成する。前記主磁場の周波数は、前記検知された漏れ磁界と前記主磁場との間のラジアンで表される位相差が、π/2+nπと略等しくとなるように選択されても良く、ここでnは整数である。このようにして、センサのゲインが最大化される。
他の信号特性は、例えば信号の振幅であっても良い。このことは例えば、前記主磁場が、第1の周波数を持つ第1の磁気信号と、前記第1の周波数よりもかなり長く且つ前記磁化可能な物体の磁化カットオフ周波数よりも長い第2の周波数を持つ第2の磁気信号とを有する場合に適用され得る。磁化カットオフ周波数より高い周波数については、生成される漏れ磁界の強度は、周波数の増大により減少する。前記第1及び第2の磁気信号は、前記第1の周波数及び第1の振幅を持つ前記電気物体信号における第1の電気信号成分を生成し、且つ前記第2の周波数及び第2の振幅を持つ前記電気物体信号における第2の電気信号成分を生成する。前記クロストーク低減手段は、前記第1及び第2の電気信号成分の振幅を測定し、前記測定された振幅を相互に減算する手段を有し、前記減算の後の結果の信号が、前記電気出力信号のための基準を形成する。結果の信号は、電気出力信号として直接利用されても良い。しかしながら好ましくは、前記クロストーク低減手段は、前記減算の後の結果の信号をフィルタリングするためのローパスフィルタを有する。このときローパスフィルタが電気出力信号を生成する。好ましくは、前記第1の周波数は前記磁化カットオフ周波数よりも低く、前記第2の周波数は前記磁化カットオフ周波数よりもかなり高い。このようにして、第1の周波数においては磁気クロストーク及び漏れ磁界が共にGMRにおいて殆ど弱められず、一方で第2の周波数においては磁気クロストークが殆ど弱められず且つ漏れ磁界が劇的に弱められる。このことは、クロストークの相殺を非常に容易にする。なぜならこのとき、それぞれ第1及び第2の周波数を持つ双方の結果の物体信号は相互に減算させられる必要があるのみであり、物体信号のうち少なくとも一方の振幅を適応させる必要がないからである。
本発明の上述の実施例において、磁気クロストークの影響が低減される。しかしながら、より直接的に磁気クロストークを消去することも可能である。それ故本発明はまた、磁化されたときに磁化可能な物体により生成される漏れ磁界を検知し、前記検知された漏れ磁界に依存する電気物体信号を生成する磁気センサであって、前記センサは、前記磁化可能な物体を磁化するための第1の主磁場を生成するための第1の外部磁場発生器と、前記第1の外部主磁場と前記漏れ磁界との間の磁気クロストークにより引き起こされる前記電気物体信号中のクロストーク信号成分の影響を低減させるためのクロストーク低減手段とを有し、前記クロストーク低減手段は、前記第1の外部主磁場と前記漏れ磁界との間の磁気クロストークを補償するための第2の主磁場を生成するための第2の外部磁場発生器を有するセンサを提供する。第2の主磁場の振幅及び位相に適切な値を選択することにより、磁気クロストークが消去される。前記第1及び第2の外部磁場発生器は例えば、それぞれ第1及び第2の交流電流が流れる第1及び第2のコイルを有しても良く、ここで前記第1及び第2の交流電流は同一の周波数を持ち、前記磁気センサの動作中に流れる。前記クロストーク低減手段は、前記磁気クロストークを最小化するために、前記第1の交流電流の振幅と第2の交流電流の振幅との比を適応させる手段を有しても良い。前記クロストーク低減手段は更に、前記磁気クロストークを更に低減させるために、前記第1の交流電流の位相と第2の交流電流の位相との差を適応させる手段を有しても良い。このことは、第1及び第2の磁場の相互強度及び相互位相を適応させる簡単な方法である。なぜなら、機構的な適応が必要とされないからである。ことによると、例えば一般に知られたフィードバック技術を適用することにより、該適応は自動的に実行されることができる。
本発明は更に、磁化されたときに磁化可能な物体により生成される漏れ磁界を検知するための方法であって、
第1の主ステップにおいて、
磁化可能な物体が存在しない状態で主磁場を生成するステップと、
磁化可能な物体が存在するとした場合に該磁化可能な物体から生成された漏れ磁界であるかのように前記磁場を検知するステップと、
前記検知された磁場から電気物体信号を生成するステップと、
前記電気物体信号の振幅を測定するステップと、
前記電気物体信号の振幅をメモリに保存するステップと
を実行するステップと、
第2の主ステップにおいて、
前記磁化可能な物体を磁化するための主磁場を生成するステップと、
前記磁化可能な物体から生成される漏れ磁界を検知するステップと、
前記検知された漏れ磁界から更なる電気物体信号を生成するステップと、
前記更なる電気物体信号の振幅を測定するステップと、
前記保存された前記電気物体信号の振幅を取得するステップと、
前記保存された振幅と前記更なる電気物体信号の振幅とを相互に減算し、それにより電気出力信号を生成するステップと、
を実行するステップと、
を有する方法を提供する。
磁気クロストーク(の影響)を低減する上述した方法に対する本方法の利点は、センサにおいて機能的な変更が必要とされないという事実である。従って、本方法は、本明細書において開示される本発明のバイオチップにのみではなく、先行技術のバイオチップにもうまく利用されることができる。
本発明は、添付図面を参照しながら更に説明される。
図は単に模式的なものであって、限定的なものではない。図において、幾つかの要素のサイズは誇張され定縮尺で描かれておらず、単に説明の目的のためのものである。図面に対する説明は単に本発明の原理を説明するためのものであり、本発明を該説明及び/又は図面に限定するものと解釈されるべきではない。
図3は、磁場成分Hextの関数として、GMRの抵抗を示す。GMRの感度sGMR=dRGMR/dHextは一定ではなくHextに依存するものであることに留意されたい。
図2に示されたようなセンサMSにおいては、巨大磁気抵抗GMRの代わりに、トンネル磁気抵抗(TMR)又は異方性磁気抵抗(AMR)といった特定のタイプの抵抗のような、磁場に依存する特性(パラメータ)を持つ他のいずれの手段が利用されても良い。AMR、GMR又はTMR物質においては、磁場の印加の結果として1以上の層の磁化方向が変化するとき、電気抵抗が変化する。GMRは、所謂スイッチング磁気層の間に導電中間層を持つ層構造のための磁気抵抗であり、TMRは、磁性金属電極層及び誘電体中間層を有する層構造のための磁気抵抗である。
GMR技術においては、2つの非常に薄い磁性膜が非常に接近した構造が開発されてきた。第1の磁性膜は、通常交換バイアス層に該第1の磁性膜を近接して保持することにより固定され、このことは該第1の磁性膜の帯磁方向が固定されることを意味する。交換バイアス層は、第1の磁性膜の帯磁方向を固定する反強磁性物質の層である。第2の磁性層即ち自由層は、自由な可変の帯磁方向を持つ。本例においては超常磁性粒子SPBの磁化の変化に起因する磁場の変化が、自由磁性層の帯磁方向の回転を引き起こし、次いでGMR構造の抵抗の増大又は減少を引き起こす。低い抵抗は一般に、センサと固定された層とが同一の方向に磁気的に配向させられたときに生じる。高い抵抗は、センサと固定された層(膜)との磁気的な配向が互いに反対となるときに生じる。
TMRは、隔離(トンネル)障壁により離隔された2つの強磁性電極層から成る。該障壁は非常に薄い必要があり、即ち1nmのオーダーのものである必要がある。その場合にのみ、電子が該障壁をトンネル通過することができる。このことは量子力学的な輸送工程である。交換バイアス層を利用することにより、一方の層の磁気的な配列は、他方に影響を与えることなく変化させられることができる。本例においては超常磁性粒子SPBの磁化の変化に起因する磁場の変化が、センサ膜の帯磁方向の回転を引き起こし、次いでTMR構造の抵抗の増大又は減少を引き起こす。
AMRにおいては、強磁性物質の抵抗が、電流が磁化の方向となす角に依存する。この現象は、強磁性物質の電子散乱断面における非対称性によるものである。
図4は、物体信号UOBにおけるクロストーク信号成分と物体信号の残りとを区別するために、クロストーク信号と検知された漏れ磁界SFとの位相差が利用される、本発明の実施例を示す。磁気センサMSは、角振動数ωを持つAC(交流)電圧/電流を発生するための発生器Gを有する。該発生器は、線WRを流れるAC電流を発生し、それに応じて主磁場Hを生成する(図2を参照)。主磁場Hは超常磁性ビーズSPBを磁化させ、それに応じて漏れ磁界SFを生成する(また図2を参照)。図1及び2を参照しながらさきに説明したように、漏れ磁界SFは該GMRの敏感な(x)方向に大きな成分を有するため、GMRは漏れ磁界SFを検知することができる(図2におけるx方向参照)。さきに説明したように、主磁場Hに直接起因する(即ち常磁性ビーズSPBを介することのない)、GMRにおいて検知される磁場の水平方向の幾分かの成分が常に存在する。この所謂磁気クロストークは、図4においてHXTとして示されている。GMRは、DC電流源IBIASにより出力される電流iによりバイアスを掛けられる。電流iは、GMRにおける内部磁場を生成する。それ故、電流iの適切な値を選択することにより、図3に示される曲線は水平方向に「移動」させられることができ、GMRの適切な感度が選択されることができる。殆どの場合、可能な限り最も高い感度(図3における「最も高い」負の傾き)が選択されるであろう。磁気センサMSは更に、増幅器AMP、移相器PHSFT、乗算器MP及び周波数ローパスフィルタLPFを有する。増幅器AMPの入力部は、漏れ磁界SFにより引き起こされる電圧変化を受信するため、GMRに結合される。該電圧変化はバッファリングされ、好ましくは増幅器AMPにより増幅される。増幅器AMPは、該増幅器AMPの出力部において、物体信号UOBを出力する。移相器PHSFTの入力部は、線WRを流れるAC電流と位相が揃った、及び従って主磁場Hとクロストーク場HXTとも位相が揃ったAC信号を受信するように結合される。移相器PHSFTは、該移相器PHSFTの入力部におけるAC信号に対して90度位相が遅延された直交電気信号UORTを出力する。磁気クロストークHXTは、以下の式[1]により表される:
XT=Hcosωt [1]
磁気センサMSによって観測される、磁化された常磁性ビーズSPBの磁界成分は、クロストーク場HXTよりも位相の量φだけ遅延している。従って、漏れ磁界SFは、以下の式[2]により表される:
SF=Hcos(ωt−φ) [2]
はビーズの数に依存する。
該遅延の効果は、磁化及び緩和時間定数によりモデル化される。緩和時間定数τneelは、励起場がゼロまで減少した場合の緩和時間を表す(R. Koetizらによる「Neel relaxation」(「Journal of Magnetism and Magnetic Materials」、194 (1999年)、62頁)を参照)。常磁性ビーズSPBを磁化するために掛かる時間のため、常磁性ビーズSPBの漏れ磁界SFは、印加される主磁場Hよりも遅延している。このことは、主磁場Hの位相と略同一の位相を持つクロストーク場HXTと対照的である。角振動数ω<<1/τneelにおいては、位相の遅延φは小さい。しかしながら、本質的に印加される主磁場Hの成分であるクロストーク場HXTの位相は、変化しない。このことは、磁気センサMSにおいて、磁気クロストーク場HXTと常磁性ビーズSPBからの漏れ磁界SFとの間の位相差に、依然として帰着する。増幅器AMPによる増幅の後、物体信号UOBは、直交電気信号UORT=sinωtを用いて復調される。該復調は、直交電気信号UORTにより物体信号UOBを乗算する乗算器MPにより実行され、これにより、乗算器MPの出力部において、目標粒子TR(図2を参照)の量の尺度となる電気出力信号Uのための基準を形成する、クロストークのない信号UMPを出力する。物体信号UOBは、以下の式[3]により表される:
OB∝Hcos(ωt−φ)・sinωt=1/2・H{sinφ+sin(2ωt−φ)} [3]
ローパスフィルタLPFの後、出力信号Uは、以下の式[4]により表される:
=1/2・Hsinφ [4]
式[4]から、出力信号Uは、磁気センサMSの近くの常磁性ビーズSPBの数を表し、磁気クロストークHXTを表さないことが明らかである。なぜなら、式[4]には振幅H(式[2]を参照)のみが存在し、振幅H(式[1]を参照)が存在しないからである。式[4]から、磁気センサMSにおける最大のゲインに到達するためには、位相遅延の正弦(=sinφ)が1に等しいべきであり、従って主磁場Hの振動数ωは好ましくは、角振動数で表される位相遅延φが略π/2+nπ(nは整数)に等しくなるように選択されるべきであることが明らかである。明らかに、PHSFTにおける位相シフトは、遅延即ち増幅器における位相シフトに対して補正される。
図6は、物体信号UOBにおけるクロストーク信号成分と物体信号の残りとを区別するために、クロストーク信号HXTと検知された漏れ磁界SFとの振幅差が利用される、本発明の実施例を示す。上述の実施例と同様に、磁気センサMSは、AC発生器G(本例ではAC発生器は第1の周波数f及び第2の周波数fを生成する)、線WR、GMR、DC電流源IBIAS、増幅器AMP及び周波数ローパスフィルタLPFを有する。磁気センサMSは更に、加算手段SM、利得適応器G、第1の乗算器MP、第2の乗算器MP及び減算器DFFを有する。乗算器MPの第1の入力部及び乗算器MPの第1の入力部は、増幅器AMPの出力部に結合される。第1の乗算器MPの第2の入力部は、第1の周波数fを持つAC信号を受信するように、利得適応器Gを介して結合される。第2の乗算器MPの第2の入力部は、第2の周波数fを持つAC信号を受信するように結合される。減算器DFFは、とりわけ第1のDC信号DCを受信するため、第1の入力部により第1の乗算器MPの出力部と結合され、またとりわけ第2のDC信号DCを受信するため、第2の入力部により第2の乗算器MPの出力部と結合される。減算器DFFの出力部は、減算の後の結果の信号を出力するため、ローパスフィルタLPFの入力部に結合される。ローパスフィルタLPFの出力部は、出力信号Uを出力する。加算手段SMは、発生器Gからの2つのAC信号を加算し、第1及び第2の周波数f及びfの両方を持つ(等しい振幅を持つ)、線WRを流れるAC電流を供給する。
利得適応器Gは、代替として、発生器Gと第2の乗算器MPの第2の入力部との間に配置されても良い。利得適応器Gの他の代替の位置は、増幅器AMPの出力部と第1の乗算器MPの第1の入力部との間、増幅器AMPの出力部と第2の乗算器MPの第1の入力部との間、第1の乗算器MPの出力部と減算器DFFの第1の入力部との間、及び第2の乗算器MPの出力部と減算器DFFの第2の入力部との間である。
図5は、図6に示された本発明の実施例を更に説明するためのボード線図を示す。
本実施例の機能は、以下のとおりである。印加される主磁場H(図2を参照)は、比較的低い周波数fと比較的高い周波数fとの2つの周波数から成る。磁気クロストークHXTは周波数に依存しないため、結果のクロストーク信号の振幅は、両方の周波数に対して等しい。従って、クロストーク信号HXTは、以下の式[5]によって表される:
XT=Hcosωt+Hcosωt [5]
しかしながら、常磁性ビーズSPBからの信号は周波数に依存する。印加される磁場Hの周波数fが、該ビーズの磁化カットオフ周波数(ω=1/τNeel)よりもかなり高い場合には、常磁性ビーズSPBは磁化されにくく、即ち常磁性ビーズSPBは印加される主磁場Hに追従するには「遅く」なり過ぎ、検出される信号はかなり小さくなる。
<f且つf>>fであるような極端且つ好適な場合においては、fにおける信号の振幅は、クロストークと常磁性ビーズSPBからの信号との両方を含み、一方でfにおける信号の振幅はクロストークのみである。なぜなら、図5のボード線図から推論され得るように、漏れ磁界SFはfにおいて事実上ゼロに減少させられているからである。後者の場合には、漏れ磁界SFは式[2]により表される。
一方は第1の周波数fによる第1の乗算器MPを用いた、もう一方は第2の周波数fによる第2の乗算器MPを用いた、物質信号UOBの平行復調は、数あるなかでも、それぞれ第1のDC信号DC及び第2のDC信号DCに帰着する。基本的に、第1のDC信号DCは、以下の式[6]により表される:
DC=H+H [6]
第2のDC信号DCは、以下の式[7]により表される:
DC=H [7]
=Hと仮定すると、減算器DFFにより出力される結果の信号中の結果のDC成分は、値Hのみを有する。好ましくは、該結果の信号はローパスフィルタLPFによりフィルタリングされ、値Hを持つ純粋なDC信号Uを出力する。理想的には、適応器Gは必須ではない(換言すれば、1に等しい利得値を持っても良い)。しかしながら、値Hが値Hと等しくない場合には、利得適応器Gが存在し適切な利得補正因子を出力する場合、信号Uは依然として値Hのみにより決定される。これにより、例えば第2の周波数fがf>>fではなく単にf>fである場合にも可能である。好適ではないが、本発明は、第1及び第2の周波数f及びfが共に所謂カットオフ周波数よりも高い場合にさえも、依然として動作する。いずれにしても、f>fである。
図7は、磁気クロストーク場を補償するために付加的な磁場が生成される、本発明の実施例を示す。本発明の上述した実施例において、磁気クロストークの影響は低減される。しかしながら、磁気クロストークをより直接的に消去することも可能である。それ故、磁化可能な物体SPBを磁化するための第1の主磁場Hを生成する第1のコイルLにより実装される第1の外部磁場発生器と、第1の外部磁場Hと漏れ磁界SF(図7には図示されていないが、図2を参照されたい)との間の磁気クロストークにより引き起こされる電気物体信号におけるクロストーク信号成分を低減させるためのクロストーク低減手段とが備えられる。クロストーク低減手段は、第1の外部主磁場Hと漏れ磁界SFとの間の磁気クロストークを補償するための第2の主磁場Hを生成する第2のコイルLにより実装される第2の外部磁場発生器を有する。
x方向の成分を相殺するために同一の位相及び周波数を持つ干渉場H及びHを用いる本方法は、常磁性ビーズSPBを磁化するために(上述の実施例と同様に)内部的に印加される磁場を利用するセンサのために、又は図7に示されるように常磁性ビーズSPBを磁化するために外部的に印加される磁場を利用するセンサのために利用されることができる。後者の場合、第2のコイルLは、印加される完全に均一ではない第1の主磁場Hに対する第1のコイルLの僅かな不整合に起因する磁気クロストーク、又は例えば本発明の他の実施例を用いて上述した理由のためにクロストークを引き起こすような他のいずれかの理由に起因する磁気クロストークを相殺するために利用される。例えば図7においては、常磁性ビーズSPBを磁化するために利用される第1のコイルLは、該コイルが発生する磁場Hがx方向に小さな成分を持つよう不整合にされている。図7においては、該不整合は、ゼロに等しくない角αにより示される。磁気センサMSの動作の間、同一の周波数を持つ第1及び第2のAC電流はそれぞれ、第1及び第2のコイルL及びLを流れる。x成分の同一の振幅を持ち且つ逆方向の第2の主磁場Hを生成するために第2のコイルLを利用することにより、(クロストークである)x成分が相殺されることができる。結果の磁場Hresは従ってx成分を持たず、即ち磁気クロストークが相殺され、GMRにおいてx方向には漏れ磁界SFにより引き起こされた水平方向の(外部的に引き起こされた)磁場のみが存在する。ことによると、例えば一般に知られたフィードバック手法を利用することにより、クロストーク相殺は自動的に実行されても良い。
図8は、実際の(生体)測定の前に、常磁性ビーズSPBが未だ存在しないときに、物体信号UOBの振幅が測定及び保存され、実際の測定の間、常磁性ビーズが存在するときに、現在の物体信号UOFの振幅から前記保存された振幅が減算され、それによりクロストークのない出力信号を出力する、本発明の方法を示す。
第1の主ステップの間、磁気センサMSは、磁化可能な物体が存在しない状態で、例えば常磁性ビーズが存在しない状態で、主磁場Hを生成する。次いで、常磁性ビーズが存在し該磁場が常磁性ビーズに起因するものであるかのように、磁場Hが検知される。かくして、常磁性ビーズが存在しない状態で、電気物体信号UOBが生成される。このことは、物体信号UOBが基本的に100%磁気クロストークであることを意味する。電気物体信号UOBは、周波数ローパスLPFによりフィルタリングされる。結果の出力信号Uは、純粋なDC信号である。該信号は、メモリMMに保存される。
第2の主ステップの間、磁気センサMSは、常磁性ビーズSPBが存在する間に、主磁場Hを生成する。次いで、磁場Hが検知され、更なる電気物体信号UFOBが生成される。ここでは常磁性ビーズSPBが存在しているという事実のため、更なる電気物体信号UFOBは、検知される漏れ磁界SF(従って目標TR(図2を参照)の量に関する情報を含む)と磁気クロストークとの両方により決定される。更なる電気物体信号UOBもまた、周波数ローパスLPFによりフィルタリングされる。結果の更なる出力信号U0Fもまた、純粋なDC信号である。次いで減算器SBTRにより、前記第1の主ステップの間に保存されたDC信号が、ここで生成されたDC信号から減算され、これにより目標TRの数を表すクロストークのないDC信号である、DC出力電圧信号UOUTを生成する。このことは、信号U及びUOFの両方におけるクロストーク成分が等しいことによる。勿論、前記減算は反転されられても良い。更に、信号U0Fをも保存して、次いで後に信号U及びU0Fの両方を取得し、これらの信号を相互に減算して、DC出力電圧UOUTを生成することも可能である。
上述の実施例は本発明を限定するものではなく説明するものであって、当業者は添付する請求項により定義される本発明の範囲から逸脱することなく多くの代替実施例を設計することが可能であろうことは留意されるべきである。請求項において、括弧に挟まれたいずれの参照記号も、請求の範囲を限定するものとして解釈されるべきではない。「有する(comprising、comprises等)」なる語は、請求項又は明細書全体に記載されたもの以外の要素又はステップの存在を除外するものではない。要素の単数形の参照は、複数のかような要素の存在を除外するものではない。特定の手段が相互に異なる従属請求項に列挙されているという単なる事実は、これら手段の組み合わせが利用されることができないことを示すものではない。説明及び請求項における上端(top)、底部(bottom)、上(over)、下(under)等のようないずれの語も、説明的な目的のために利用されるものであり、必ずしも相対的な位置を示すものではない。このように利用される語は、適切な環境においては相互に交換可能であり、ここで記載される本発明の実施例は、図によって記載され又は説明されるものとは異なる方向における動作が可能であることは理解されるべきである。
基板及び複数の磁気センサを有するバイオチップを示す。 一体化された磁場励起を用いた磁気センサの例を示す。 GMRの層が磁場に敏感な方向における磁場成分の関数として、GMRの抵抗を示す。 物体信号におけるクロストーク信号成分と物体信号の残りとを区別するために、クロストーク信号と検知された漏れ磁界との位相差が利用される、本発明の実施例を示す。 図6に示された本発明の実施例を更に説明するためのボード線図を示す。 物体信号におけるクロストーク信号成分と物体信号の残りとを区別するために、クロストーク信号と検知された漏れ磁界との振幅差が利用される、本発明の実施例を示す。 磁気クロストーク場を補償するために付加的な磁場が生成される、本発明の実施例を示す。 実際の(生体)測定の前に、常磁性ビーズが未だ存在しないときに、物体信号の振幅が測定及び保存され、実際の測定の間、常磁性ビーズが存在するときに、現在の物体信号の振幅から前記保存された振幅が減算され、それによりクロストークのない出力信号を出力する、本発明の方法を示す。

Claims (17)

  1. 磁化されたときに磁化可能な物体により生成される漏れ磁界を検知し、前記検知された漏れ磁界に依存する電気物体信号を生成する磁気センサであって、前記センサは、前記磁化可能な物体を磁化するための主磁場を生成するための磁場発生器と、前記主磁場と前記漏れ磁界との間の磁気クロストークにより引き起こされる前記電気物体信号中のクロストーク信号成分の影響を低減させるためのクロストーク低減手段とを有し、前記クロストーク低減手段は、前記クロストーク信号成分と前記電気物体信号の残りの部分との間で信号特性を区別し、電気出力信号を生成するように構成されたセンサ。
  2. 前記信号特性は信号の位相であることを特徴とする、請求項1に記載のセンサ。
  3. 前記クロストーク低減手段は、前記クロストーク信号成分に対して直交する直交電気信号を生成するための手段と、前記電気物体信号により前記直交電気信号を乗算する乗算器とを有し、前記乗算の後の結果の信号は、前記電気出力信号のための基準を形成することを特徴とする、請求項2に記載のセンサ。
  4. 前記クロストーク低減手段は、前記乗算の後の前記結果の信号をフィルタリングするローパスフィルタを有し、前記ローパスフィルタの後の結果の信号が前記電気出力信号であることを特徴とする、請求項3に記載のセンサ。
  5. 前記主磁場の周波数は、前記検知された漏れ磁界と前記主磁場との間のラジアンで表される位相差が、π/2+nπと略等しくとなるように選択され、ここでnは整数であることを特徴とする、請求項3又は4に記載のセンサ。
  6. 前記信号特性は信号の振幅であることを特徴とする、請求項1に記載のセンサ。
  7. 前記主磁場は、第1の周波数を持つ第1の磁気信号と、前記第1の周波数よりもかなり長く且つ前記磁化可能な物体の磁化カットオフ周波数よりも長い第2の周波数を持つ第2の磁気信号とを有し、前記第1及び第2の磁気信号は、前記第1の周波数及び第1の振幅を持つ前記電気物体信号における第1の電気信号成分を生成し、且つ前記第2の周波数及び第2の振幅を持つ前記電気物体信号における第2の電気信号成分を生成し、前記クロストーク低減手段は、前記第1及び第2の電気信号成分の振幅を測定し、前記測定された振幅を相互に減算する手段を有し、前記減算の後の結果の信号が、前記電気出力信号のための基準を形成することを特徴とする、請求項6に記載のセンサ。
  8. 前記クロストーク低減手段は、前記減算の後の結果の信号をフィルタリングするためのローパスフィルタを有し、前記ローパスフィルタの後の結果の信号が前記電気出力信号であることを特徴とする、請求項7に記載のセンサ。
  9. 前記第1の周波数は前記磁化カットオフ周波数よりも低く、前記第2の周波数は前記磁化カットオフ周波数よりもかなり高いことを特徴とする、請求項7又は8に記載のセンサ。
  10. 磁化されたときに磁化可能な物体により生成される漏れ磁界を検知し、前記検知された漏れ磁界に依存する電気物体信号を生成する磁気センサであって、前記センサは、前記磁化可能な物体を磁化するための第1の主磁場を生成するための第1の外部磁場発生器と、前記第1の外部主磁場と前記漏れ磁界との間の磁気クロストークにより引き起こされる前記電気物体信号中のクロストーク信号成分の影響を低減させるためのクロストーク低減手段とを有し、前記クロストーク低減手段は、前記第1の外部主磁場と前記漏れ磁界との間の磁気クロストークを補償するための第2の主磁場を生成するための第2の外部磁場発生器を有するセンサ。
  11. 前記第1及び第2の外部磁場発生器は、それぞれ第1及び第2の交流電流が流れる第1及び第2のコイルを有し、前記第1及び第2の交流電流は同一の周波数を持ち、前記磁気センサの動作中に流れることを特徴とする、請求項10に記載の磁気センサ。
  12. 前記クロストーク低減手段は、前記磁気クロストークを最小化するために、前記第1の交流電流の振幅と第2の交流電流の振幅との比を適応させる手段を有することを特徴とする、請求項11に記載の磁気センサ。
  13. 前記クロストーク低減手段は、前記磁気クロストークを最小化するために、前記第1の交流電流の位相と第2の交流電流の位相との差を適応させる手段を有することを特徴とする、請求項11又は12に記載の磁気センサ。
  14. 請求項1乃至13のいずれか一項に記載の磁気センサを有するバイオチップ。
  15. 磁化されたときに磁化可能な物体により生成される漏れ磁界を検知するための方法であって、
    前記磁化可能な物体を磁化するための主磁場を生成するステップと、
    前記磁化可能な物体から生成される漏れ磁界を検知するステップと、
    前記検知された漏れ磁界から電気物体信号を生成するステップと、
    前記主磁場と前記検知された漏れ磁界との間の磁気クロストークにより引き起こされる前記電気物体信号におけるクロストーク信号と、前記電気物体信号の残りの部分との間で信号特性を区別するステップと、
    前記区別された信号特性を電気出力信号を生成するために利用するステップと、
    を有する方法。
  16. 磁化されたときに磁化可能な物体により生成される漏れ磁界を検知するための方法であって、
    前記磁化可能な物体を磁化するための第1の主磁場を生成するステップと、
    前記磁化可能な物体から生成される漏れ磁界を検知するステップと、
    前記検知された漏れ磁界から電気物体信号を生成するステップと、
    前記第1の主磁場と前記検知された漏れ磁界との間の磁気クロストークにより引き起こされる前記電気物体信号におけるクロストーク信号を補償するための第2の主磁場を生成するステップと、
    電気出力信号を生成するステップと、
    を有する方法。
  17. 磁化されたときに磁化可能な物体により生成される漏れ磁界を検知するための方法であって、
    第1の主ステップにおいて、
    磁化可能な物体が存在しない状態で主磁場を生成するステップと、
    磁化可能な物体が存在するとした場合に該磁化可能な物体から生成された漏れ磁界であるかのように前記磁場を検知するステップと、
    前記検知された磁場から電気物体信号を生成するステップと、
    前記電気物体信号の振幅を測定するステップと、
    前記電気物体信号の振幅をメモリに保存するステップと
    を実行するステップと、
    第2の主ステップにおいて、
    前記磁化可能な物体を磁化するための主磁場を生成するステップと、
    前記磁化可能な物体から生成される漏れ磁界を検知するステップと、
    前記検知された漏れ磁界から更なる電気物体信号を生成するステップと、
    前記更なる電気物体信号の振幅を測定するステップと、
    前記保存された前記電気物体信号の振幅を取得するステップと、
    前記保存された振幅と前記更なる電気物体信号の振幅とを相互に減算し、それにより電気出力信号を生成するステップと、
    を実行するステップと、
    を有する方法。
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