JP2008519222A - 弁 - Google Patents

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Abstract

ピストンつば(5,7,9)を備えたピストン(3)が設けられており、該ピストンが、流入溝(17,19)および流出溝を備えたピストン孔/ピストンガイド(1)と共に制御縁(41)を形成している形式の弁、特に圧力制限弁。

Description

本発明は、弁、特に圧力制限弁(プレッシャリリーフバルブ)であって、複数のピストンつばを備えたピストンが設けられており、該ピストンが、流入溝および流出溝を備えたピストン孔/ピストンガイドと共に制御縁を形成している形式のものに関する。
このような形式の弁は公知である。このような形式の弁は、たとえば1つのピストンつばを有しており、このピストンつばは、一方の側では所定のパイロット圧により負荷され、他方の側では、ハイドロリック式の主システム内に形成される圧力(システム圧)により負荷される。システム圧がその押圧力によってパイロット圧の押圧力を超過すると、ピストンつばが開き始め、制御縁に流れが生じる。この流れは、閉じられた状態であらかじめこの場所に存在していた静的な圧力を部分的に減少させる。このことは、静的な押圧力成分が欠如したことに基づき物理的に生ぜしめられる「流動力」の作用とも呼ばれる。制御縁における通流量が増大するにつれて、引き続き開放方向における押圧力成分が流れによって減じられるので、一定のパイロット圧に抗して弁ピストンを一層開放するためにはシステム圧がさらに増大しなければならない。このことは、このような圧力制限弁では、体積流との関係で示すシステム圧の特性線において体積流が増大するにつれてシステム圧の特性線の上昇をもたらす。このことは、「流動力」による圧力特性線の上昇とも呼ばれる。これにより、圧力特性線の上昇はシステム内での圧力上昇の増大を生ぜしめ、このことは本来望ましくはない。理想的には、体積流増大に関しても弁によって一定のシステム圧が達成されることが望ましい。
したがって、本発明の課題は、特性線の圧力上昇が減じられ、ひいては圧力特性線が改善されるような弁、特に圧力制限弁を提供することである。
この課題は、弁、特に圧力制限弁であって、ピストンつばを備えたピストンが設けられており、該ピストンが、流入溝および流出溝を備えたピストン孔/ピストンガイドと共に制御縁を形成している形式のものにおいて、当該弁が、2つの制御縁と、1つのハイドロリック的な抵抗とを有しており、該抵抗が、前記両制御縁のうちの1つの一方の制御縁と直列に接続されていることを特徴とする弁により解決される。
このことには次のような利点がある。すなわち、通流時の制御縁における増大する静的な圧力損失、つまり「流動力」が、弁ピストンに作用する、抵抗により形成される背圧の増大によって補償され得るようになる。
本発明による弁の有利な構成では、ハイドロリック的な抵抗が、第1の制御縁と直列に接続されている。本発明による弁のさらに有利な構成では、ハイドロリック的な抵抗が、第1の制御縁に流れ方向で見て前置されているか、または後置されている。すなわち、ハイドロリック的な抵抗はこの場合、第1の制御縁の上流側または下流側に配置されている。
本発明による弁の別の有利な構成では、第2の制御縁が、流れ方向で第1の制御縁に対して並列に接続可能である。この場合、さらに有利には、第2の制御縁が、開放運動の方向で、第1の制御縁よりも遅く開くようになっている。
このことには次のような利点がある。すなわち、まず最初に第1の制御縁が開き、そしてこの第1の制御縁で生じる流動力影響(ピストン面における圧力損失)がハイドロリック的な抵抗の背圧(Rueckstaudruck)により補償される。体積流量が引き続き増大し、その後に第2の制御縁の開放が行われると、体積流は第2の制御縁を介して別の圧力損失なしに抵抗によって、相応して低い圧力差を持って行われる。したがって、第2の制御縁を介した圧力損失は低いままとなり、したがって、慣用の圧力制限弁の場合のような特性線の圧力上昇は減じられる。
本発明による弁のさらに別の有利な構成では、ハイドロリック的な抵抗が、オリフィス(Blende)として形成されている。このことには次のような利点がある。すなわち、ハイドロリック媒体に与えられる、媒体の粘度変化として作用する温度影響が、オリフィスで発生した圧力降下に著しい影響を与えなくなる。
本発明による弁のさらに別の有利な構成では、ハイドロリック的な抵抗が、チョークもしくは絞り(Drossel)として形成されている。これにより、制御ストラテジのために望まれる場合には、温度影響や粘度影響を、特定の効果のために有利に利用することができる。
さらに、スプール弁として形成されている弁が有利になる。
また、前制御圧、つまりパイロット圧によって前制御可能もしくはパイロット制御可能である弁も有利になる。さらに、ピストンつばが、互いに異なる大きさの受圧面を有しているような弁が有利になる。このことには、低いパイロット圧を用いて、たとえば高いシステム圧を制御することができるという利点がある。
以下に、本発明の実施例を図面につき詳しく説明する。
図1は、本発明による圧力制限弁の第1実施例を示す概略図である。
図2は、弁ピストンに対する静的な押圧力および動的な押圧力の互いに異なる作用を説明するための概略図である。
図3は、図1に示した圧力制限弁を、両制御縁が開放された状態で示す概略図である。
図4は、本発明による圧力制限弁の第2実施例を示す概略図である。
図5は、図4に示した制御縁を、流動力の作用を受けた状態で示す拡大図である。
図6は、慣用の圧力制限弁と、最適化された圧力制限弁と、理想的な圧力制限弁との間での圧力制限弁特性線の比較のための線図である。
図1には、本発明による圧力制限弁の第1実施例が図示されている。ピストン孔1内には、第1第2第3の3つのピストンつば5,7,9を備えたピストン3が案内されている。ピストン孔1は大小異なる直径の範囲11,13を有しており、この場合、範囲11は範囲13よりも大径に形成されている。3つのピストンつば5,7,9も大小異なる直径を有しており、この場合、第1のピストンつば5は第2第3のピストンつば7,9よりも大径に形成されている。流入管路15が設けられており、この流入管路15は弁ハウジング(直接には図示しない)の内部で、環状溝の形の第1の流入部17および第2の流入部19に分かれている。第2の流入部19に所定のシステム圧が形成されると、このシステム圧は第2のピストンつば7においては受圧面21に作用し、第3のピストンつば9においては受圧面23に作用するので、このシステム圧の力は互いに相殺される。第2のピストンつば7の小さな受圧面25と第1のピストンつば5の大きな受圧面27とに作用する、第1の流入部17内のシステム圧は、開放方向における圧力差力を発生させる。この開放力は、供給部31を介して大径の第1のピストンつば5の全体受圧面29に作用するパイロット圧により補償されるので、大きな受圧面29は供給部31の範囲における低いパイロット圧によって、より高いシステム圧により負荷された第1のピストンつば5の受圧面27と第2のピストンつば7の受圧面25との間の小さな差面に抗して補償される。弁の2つの流出接続部33,35は再び1つの共通の流出部37に合流されており、この場合、第1の流出接続部33の背後には、つまり第2の流出接続部33の下流側には、たとえばオリフィスの形のハイドロリック的な抵抗39が配置されている。この抵抗39は第1のピストンつば5に設けられた制御縁41の開放時に、ひいては抵抗39の通流時に、通流する体積流量に相応して第1の流出接続部33に所定の背圧(Rueckstaudruck)を発生させる。制御縁41と抵抗39との間のこのような配置の作用については、図2a〜図2cにつき説明する。
図2aには、図1に示した弁ピストンの第1のピストンつば5が、閉じられた状態で図示されている。第1のピストンつば5の制御縁41はハウジング45に設けられた制御縁43とある程度重なり合っており、これにより第1のピストンつば5の制御縁41は閉じられている。第2のピストンつば7のピストン受圧面25と第1のピストンつば5のピストン受圧面27との間の、図1につき説明したような差面積作用に基づき、有効な静的な圧力分布47が生ぜしめられる。この圧力分布47はシステム圧によってピストンの開放方向の力を生ぜしめる。この開放力は、図1につき説明したように、ピストン受圧面29に作用するパイロット圧の押圧力によってバランスされ、平衡が保持される。次いで弁の流入部においてシステム圧がさらに増大して、圧力分布47を有する有効押圧力がパイロット圧の押圧力を克服し得ると、ピストンの制御縁41はハウジング45の制御縁43に対して開放される(図2b参照)。これにより、両制御縁41,43の間には、矢印51で示したような流れが生ぜしめられる。この流れの影響を受けて、先ほどまで有効であった静的な圧力47はこの流れ範囲において崩壊され、そして有効な残留圧分布49が生ぜしめられる。この流れ範囲では静的な押圧力が減じられるので、ピストンがその開放位置を維持するか、またはそれどころか拡大させ得るようにするためには、ピストン内側の非流れ範囲において静的な圧力、ひいてはシステム圧が、より高くならなければならない。このことは、体積流量との関係で云うと「不本意な圧力増大」を招く。このような圧力増大は圧力制限弁特性線の形で測定技術的に表示され得る。本発明によれば、図2cに示したように、図1に示したオリフィス39の機能が働く。抵抗39は通流量が増大するにつれて範囲33に背圧を発生させ、この背圧は図2bに示した先の残留圧分布49に対して付加的な圧力分布53の形で加算され、ひいては図2aの状態に対して図2bに示した通流時に発生する開放圧損失を補償する。このことは、本発明によれば弁ピストンの開放を可能にするためにシステム圧がこれ以上増大しなくても済むことを意味する。なぜならば、弁ピストンの開放がオリフィス39の付加的な背圧により実現されるからである。制御縁43,41の開放度、ひいては抵抗39の手前の背圧が望ましくない程大きくなると、ようやく弁の第2の制御縁が開放される(図3参照)。
図3に示した状態は、第2のピストンつば7においてこの第2のピストンつば7の制御縁55とハウジングの制御縁57との間に開口が形成されている点で図1に示した状態とは異なっている。この開口は第1の流入部17を経由する体積流に対して平行に第2の流入部19を経由する別の体積流を可能にする。その他の全ての機能は図1につき説明した機能に相当しているので、繰り返しを避けるためにこれらの機能を再度説明することは省略する。第2の流入部19と制御縁55,57とを介して第2の流出接続部35に流入する付加的な体積流は、抵抗を通らず、これによって著しい付加的な圧力増大を生ぜしめない。したがって、図1において挙げた体積流に対する、抵抗の少ない平行体積流が生じる。
図4には、本発明による圧力制限弁の第2の実施例が図示されている。ピストン孔62内には、外径の一定な弁ピストン60が案内されている。この弁ピストン60はさらにガイドピン64を有しており、このガイドピン64は内側の軸方向のピストン孔66内に案内されている。流入部68を介してハイドロリック媒体がシステム圧下に範囲70に流入し、そして開口72を介して弁ピストン60のピストン孔66内に流入する。次いで、このピストン孔66からハイドロリック媒体は抵抗として作用する狭い孔74を通って、ピストンに設けられた制御縁76へ案内される。この制御縁76はハウジングに設けられた制御縁78と協働する。次いで、この制御縁76,78の範囲からハイドロリック媒体は流出範囲80に流入し、ひいては流出部82に流入する。弁ピストンの開放運動が引き続きさらに行われると、ハウジングの制御縁78に対して第2の制御縁84が開放され、これによって範囲70から範囲80へ第2の体積流を流れさせる。それに対して、弁ピストンの制御縁範囲76はこの場合、完全に開放されており、これにより制御縁範囲76において抵抗74の通流時にもはや変化が行われなくなる。したがって、このような弁構造においても、第1の制御縁開口76(この場合には前置接続された抵抗74を有している)およびこの第1の制御縁開口76に対して並列に、引き続き開放運動が行われた場合に第2の制御縁範囲84が使用される。このことは図1に示した弁構造の場合と同様の効果をもたらす。弁ピストン60の全直径もしくはピストンガイド62の全直径に相当する大きな弁ピストン面88に作用する、範囲86内のパイロット圧は、弁ピストンのための開放力を発生させる受圧面90に作用する内側のピストン孔66内のシステム圧によって補償される。ガイドピン64の受圧面92に作用する同じ圧力は、弁ハウジングで有効となり、弁ピストン60の開放力には影響を及ぼさない。
流動力の作用、つまり弁ピストンの制御縁76とハウジングの制御縁78とにおける通流時の静的な押圧力損失の作用は、図5に拡大されて図示されている。弁ピストン60の制御縁76はハウジング94に設けられた制御縁78に対して開放されているので、ハイドロリック流体は弁ピストン60のピストン孔66から抵抗74を通って制御縁範囲76,78へ流出する。これらの制御縁がまだ閉鎖されていたときに、制御縁面96に作用する圧力と、制御縁面98に作用する圧力とは互いに補償されており、ひいては付加的なピストン力を形成していなかった。いまや開放された状態では、制御縁76において縁部における通流時に静的な圧力が減じられるので、圧力分布100が形成される。この圧力分布100は圧力分布102に比べて静的な押圧力を損失しており、これによって本来であれば損失分がシステム圧の過剰増大により補償されなければならない。しかし、体積流はあらかじめ抵抗74を通って流れており、これによって静的な圧力は著しく減じられていたので、制御縁面96,98には、より少ない通流時の場合のようにそれほど高い静的な圧力はもはや生ぜしめられず、これによって相応する流動力の実際の高さも決定的に低くなる。すなわち、この場合、抵抗74の、前もって形成された圧力損失により、制御縁76における有効な流動力が本発明により減じられる。
図6には、慣用の圧力制限弁の相応する特性線、最適化された圧力制限弁の相応する特性線および理想的な圧力制限弁の理論的な特性線が描かれている。この場合、相応するシステム圧112と体積流量との関係が描かれる。理想的な圧力制限弁では、体積流量が増大しても特性線114が常に等しい圧力を保持する、つまり体積流に関連して上昇しないことが望まれる。しかし、このことは前で説明した通り、流動力の形の静的な圧力損失に基づき不可能である。それゆえに、慣用の圧力制限弁の場合、特性線116が示すように、前で説明した流動力が増大し、ひいては特性線116が体積流量に関連して上昇する。本発明による圧力制限弁の場合には、抵抗39;74を通る体積流がオリフィス特性線118の形で作用する。すなわち、体積流量110が増大するにつれて、図1に示した抵抗39もしくは図5に示した抵抗74ではシステム圧112が相応して増大し、このことは、流動力影響を減少させ、ひいては特性線を範囲120において再び降下させる背圧を生ぜしめる。オリフィス特性線118が圧力特性線範囲120に交差する交点122では、第2の制御縁が使用されるので、本発明による圧力制限弁では、慣用の圧力制限弁の特性線116に対してほぼ平行に延びる別の特性線範囲124が生ぜしめられる。しかし、この線図からよく判るように、本発明による圧力制限弁の特性線範囲124は調節された圧力高さにおいて、慣用の圧力制限弁の特性線、つまり特性線116よりもはるか下に延びている。したがって、本発明によれば、慣用の圧力制限弁に比べて作動圧が通流量によりあまり変えられないような圧力制限弁が提供される。すなわち、第1の制御縁41,76は、弁の作動圧がオリフィス39またはオリフィス74のよどみ圧もしくは背圧の範囲となるまで開いている。これによって、システム圧、つまり流入部圧は、完全にオリフィス39,74のところで低下し、第1の制御縁41,76は完全に開放されている。この範囲では、弁の誤差も最小となる。すなわち、圧力制限弁を通過する体積流にもかかわらず、開放された弁の作動圧は閉鎖された弁の、図2aに示した作動圧に相当する。
本発明による圧力制限弁の第1実施例を示す概略図である。 図1に示した弁ピストンの第1のピストンつばが閉鎖された状態で生じる圧力分布示す概略図である。 図2aに示した第1のピストンつばが開放された状態で、本発明によるオリフィス機能なしの場合に生じる圧力分布を示す概略図である。 本発明によるオリフィスの機能を使用した場合に生じる圧力分布を示す、図2bに相当する概略図である。 図1に示した圧力制限弁を、第1第2の両制御縁が開放された状態で示す概略図である。 本発明による圧力制限弁の第2実施例を示す概略図である。 図4に示した制御縁を、流動力の作用を受けた状態で示す拡大図である。 慣用の圧力制限弁と、最適化された圧力制限弁と、理想的な圧力制限弁との間での圧力制限弁特性線の比較のための、システム圧と体積流量との関係を示す線図である。
符号の説明
1 ピストン孔
3 ピストン
5 第1のピストンつば
7 第2のピストンつば
9 第3のピストンつば
11 ピストン孔の大径の範囲
13 ピストン孔の小径の範囲
15 流入管路
17 第1の流入部
19 第2の流入部
21 ピストンつば7に設けられた受圧面
23 ピストンつば9に設けられた受圧面
25 ピストンつば7に設けられた小さな受圧面
27 ピストンつば5に設けられた大きな受圧面
29 ピストンつば5に設けられた全体受圧面
31 供給部 パイロット圧
33 第1の流出接続部
35 第2の流出接続部
37 共通の流出部
39 ハイドロリック的な抵抗
41 ピストンつば5の制御縁
43 ハウジング45の制御縁
45 ハウジング
47 有効な静的な圧力分布
49 通流時の有効な残留圧分布
51 流れ矢印
53 背圧による付加的な圧力分布
55 ピストンつば7の制御縁
57 ハウジングの制御縁
60 弁ピストン
62 ピストン孔
64 ガイドピン
66 内側の軸方向のピストン孔
68 流入部
70 流入範囲
72 流入開口
66 ピストン60の内側の範囲
74 抵抗孔
76 ピストンの制御縁
78 ハウジングの制御縁
80 流出範囲
82 流出部
84 ピストンの第2の制御縁
86 パイロット圧の範囲
88 大きな弁ピストン面
90 内側のピストン孔66の受圧面
92 ガイドピン64の受圧面
94 ハウジング
96 制御縁面
98 制御縁面
100 圧力分布
102 圧力分布
110 体積流量軸
112 システム圧軸
114 理想的な圧力制限弁の特性線
116 慣用の圧力制限弁の特性線
118 オリフィス特性線
120 圧力特性線範囲
122 オリフィス特性線118と圧力特性線120との間の交点
124 最適化された圧力制限弁の別の特性線範囲

Claims (10)

  1. 弁、特に圧力制限弁であって、ピストンつば(5,7,9)を備えたピストン(3,60)が設けられており、該ピストンが、流入溝(17,19)および流出溝(80)を備えたピストン孔/ピストンガイド(1,62)と共に制御縁(41,55,76,84)を形成している形式のものにおいて、当該弁が、2つの制御縁(41,55,76,84)と、1つのハイドロリック的な抵抗(39,74)とを有しており、該抵抗(39,74)が、前記両制御縁のうちの1つの一方の制御縁(41,76)と直列に接続されていることを特徴とする弁。
  2. ハイドロリック的な抵抗(39,74)が、第1の制御縁(41,76)と直列に接続されている、請求項1記載の弁。
  3. ハイドロリック的な抵抗(39,74)が、第1の制御縁(41,76)に流れ方向で見て前置されているか、または後置されている、請求項2記載の弁。
  4. 第2の制御縁(55,84)が、流れ方向で第1の制御縁(41,76)に対して並列に接続可能である、請求項1から3までのいずれか1項記載の弁。
  5. 第2の制御縁(55,84)が、開放運動の方向で、第1の制御縁(41,76)よりも遅く開くようになっている、請求項4記載の弁。
  6. ハイドロリック的な抵抗が、オリフィス(39,74)として形成されている、請求項1から5までのいずれか1項記載の弁。
  7. ハイドロリック的な抵抗(39,74)が、絞りとして形成されている、請求項1から6までのいずれか1項記載の弁。
  8. 当該弁がスプール弁として形成されている、請求項1から7までのいずれか1項記載の弁。
  9. 当該弁が、パイロット圧によって制御可能である、請求項1から8でのいずれか1項記載の弁。
  10. ピストンつば(5,7,9)が、互いに異なる大きさの受圧面を有している、請求項1から9までのいずれか1項記載の弁。
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