JP2008516284A - 多層画像形成性要素 - Google Patents

多層画像形成性要素 Download PDF

Info

Publication number
JP2008516284A
JP2008516284A JP2007535699A JP2007535699A JP2008516284A JP 2008516284 A JP2008516284 A JP 2008516284A JP 2007535699 A JP2007535699 A JP 2007535699A JP 2007535699 A JP2007535699 A JP 2007535699A JP 2008516284 A JP2008516284 A JP 2008516284A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mixture
carbon atoms
units
phenyl
alkyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007535699A
Other languages
English (en)
Inventor
パテル，ジャヤンティ
タオ，ティン
エー． ベックリー，スコット
カラメン，ジョン
Original Assignee
イーストマン コダック カンパニー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by イーストマン コダック カンパニー filed Critical イーストマン コダック カンパニー
Publication of JP2008516284A publication Critical patent/JP2008516284A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
    • C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
    • C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
    • C08F212/06—Hydrocarbons
    • C08F212/08—Styrene
    • C08F212/10—Styrene with nitriles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/42—Nitriles
    • C08F220/44—Acrylonitrile
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D125/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D125/02—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons
    • C09D125/04—Homopolymers or copolymers of styrene
    • C09D125/08—Copolymers of styrene
    • C09D125/14—Copolymers of styrene with unsaturated esters
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/02—Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/06—Developable by an alkaline solution
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/14—Multiple imaging layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • B41C2210/262—Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/04—Polysiloxanes
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106—Binder containing
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106—Binder containing
    • Y10S430/108—Polyolefin or halogen containing
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106—Binder containing
    • Y10S430/111—Polymer of unsaturated acid or ester
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/165—Thermal imaging composition

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

平版印刷版前駆体として有用な、多層、熱現像性要素を開示する。当該画像形成性要素は、基体と、該基体上の下引き層と、該下引き層上の上層とを含んで成る。上層は、アルキレングリコール側鎖、ポリアルキレングリコール側鎖、3つのアルコキシ及び／又はフェニキシ基で置換されたシリル基を有する側鎖、及び／又はトリアルキルアンモニウム側鎖を有する側鎖を含むコポリマーを有する。当該画像形成性要素は印刷室薬剤に対する、優れた耐性を有する。

Description

本発明は平版印刷に関する。具体的には、本発明は、良好な耐溶剤性を有する平版印刷版前駆体として有用な多層画像形成性要素に関する。
コンベンショナルな印刷又は「湿式」平版印刷の場合、画像領域として知られるインク受容領域を親水性表面上に生成させる。表面が水で湿潤され、そしてインクが着けられると、親水性領域は水を保持してインクを弾き、そしてインク受容領域はインクを受容して水を弾く。インクは画像が再現されるべき材料の表面に転写される。典型的には、インクは中間ブランケットに先ず転写され、ブランケットは、画像が再現される材料の表面にインクを転写する。
平版印刷版前駆体として有用な画像形成性要素は、典型的には、基体の親水性表面上に適用された画像形成性層を含む。画像形成性層は、好適なバインダー中に分散することができる1種又は2種以上の輻射線感受性成分を含む。或いは、輻射線感受性成分はバインダー材料であってもよい。画像形成に続いて、画像形成性層の画像形成された領域又は画像未形成領域が、好適な現像剤によって除去され、下側に位置する親水性の基体表面を露出する。画像形成された領域が除去される場合には、前駆体はポジ型である。逆に、画像未形成領域が除去される場合には、前駆体はネガ型である。それぞれの事例において、残される画像形成性層領域(すなわち画像領域)はインク受容性であり、そして、現像プロセスによって露出された親水性表面領域は、水及び水溶液、典型的には湿し水を受容し、そしてインクを弾く。
紫外線及び／又は可視線を用いた画像形成性要素のコンベンショナルな画像形成が、透明領域と不透明領域とを有するマスクを通して行われている。画像形成は、マスクの透明領域の下側に位置する領域内で行われるが、不透明領域の下側に位置する領域内では行われない。その一方で、マスクを通して画像形成する必要性を取り除く直接的なデジタル画像形成が、印刷産業分野においてますます重要になってきている。平版印刷版を調製するための画像形成性要素が、赤外線レーザーを用いる用途のために開発されている。熱画像形成性多層要素は、例えば米国特許第6,294,311号、同第6,352,812号、及び同第6,593,055号の各明細書(Shimazu)、米国特許第6,352,811号明細書(Patel)；米国特許第6,358,669号及び同第6,528,228号の各明細書(Savariar-Hauck)；及び米国特許出願公開第2004/0067432号明細書(Kitson)に開示されている。
使用時に、平版印刷版は湿し水と接触する。加えて、印刷版はしばしば、紫外線硬化性インクを除去するために、攻撃的なブランケット洗剤、例えば「UV洗剤」に曝される。しかしながら、これらの系の多くは、湿し水及び／又は攻撃的なブランケット洗剤に対する耐性が限られている。従って、これらの溶剤に対して耐性を有する、平版印刷版前駆体として有用なポジ型の多層熱画像形成性要素が必要である。
1つの形態において、本発明は、優れた耐薬品性を有する画像形成性要素である。画像形成性要素は：
基体と；
基体上の下引き層と；
下引き層上の上層と
を含んで成り、
該要素は、光熱変換材料を含み；
該上層は、該光熱変換材料を実質的に有しておらず；
該上層は、インク受容性であり；
熱画像形成前は、該上層はアルカリ性現像剤によって除去可能ではなく；
熱画像形成により該上層内に画像形成された領域を形成した後は、該画像形成された領域は該アルカリ性現像剤によって除去可能であり；
該下引き層は、アルカリ性現像剤によって除去可能であり；そして
該上層は、K単位、L単位、及びM単位を含むコポリマーを含み：
該K単位は、-[CH2C(R1)R2]-、-[CH2CR3(CO2R4)]-、-[CH2CR5(CON(R6)(R7))]-、-[C(R8)(COECO)C(R9)]-、及びこれらの混成から成る群から選択され；
該L単位は、-[CH2CH(CN)]-、-[CH2C(CH3)(CN)]-、及びこれらの混成から成る群から選択され；
該M単位は、-[CH2C(R10)(WSi(OR11)3)]-、-[CH2C(R12)(CO2(B)n1T)]-、-[CH2C(R13)(CO2(CH2)n2N+(R14)3)X-)]-、及びこれらの混成から成る群から選択され；
R1、R3、R5、R8、R9、R10、R12、及びR13は、それぞれ独立して水素、メチル又はこれらの混成であり；
R2は、水素、メチル、フェニル、置換型フェニル、ハロゲン、炭素原子数1〜4のアルコキシ、炭素原子数1〜5のアシル、炭素原子数1〜5のアシルオキシ、ビニル、アリル、又はこれらの混成であり；
R4、R6、及びR7は、それぞれ独立して水素、炭素原子数1〜6のアルキル、フェニル、又はこれらの混成であり；
各R11は独立して、フェニル、炭素原子数1〜8のアルキル、又はこれらの混成であり；
各R14は独立して、水素、炭素原子数1〜6のアルキル、又はこれらの混成であり；
Eは、酸素又はNR15であり、R15は、水素、ヒドロキシル、フェニル、置換型フェニル、炭素原子数1〜6のアルキル、ベンジル、又はこれらの混成であり、
Wは、二価連結基、二価連結基の組み合わせ、又は二価連結基の混成であり、
Bは、-[CH2CH(R16)O]-、-[CH2C(R17)(OH)]-、及びこれらの混成から成る群から選択され、各R16及びR17は独立して、水素、炭素原子数1〜6のアルキル、又はこれらの混成であり；
Tは、水素、炭素原子数1〜8のアルキル、フェニル、又はこれらの混成であり；
X-はアニオンであり；
n1は1〜100であり；そして
n2は2〜8である。
別の形態において、本発明は、画像形成性要素に画像形成及び現像を施すことにより画像を形成する方法である。別の形態において、本発明は、画像形成性要素に画像形成及び現像を施すことにより形成された画像である。さらに別の形態において、本発明は、K単位と、L単位と、M単位とから形成されたコポリマーである。
文脈が他のことを示すのでない限り、明細書及び特許請求の範囲において、高分子材料、コポリマー、追加されるポリマー、K単位、L単位、M単位、光熱変換材料、界面活性剤という用語、及び同様の用語は、このような材料の混合物をも含む。特に断りのない限り、全てのパーセンテージは重量パーセントであり、全ての温度は摂氏(℃)である。熱画像形成は、高温体、例えばサーマルヘッド、又は赤外線による画像形成を意味する。
画像形成性要素
本発明は、支持体、上層及び下引き層を含む画像形成性要素である。当該要素はまた光熱変換材料を含む。上層はインク受容性であり、そして光熱変換材料を実質的に有していない。熱画像形成前には、上層は、アルカリ性現像剤によって除去することはできないが、画像形成後には、上層の画像形成された領域は現像剤によって除去することができる。下引き層は、現像剤によって除去することができる。
上層
コポリマー
上層は、K単位、L単位、及びM単位を含むコポリマーを含む。K単位は典型的には、コポリマーの約1重量%〜約78重量%、好ましくは、約10重量%〜約60重量%を占める。L単位はシアノ基を含み、そして典型的には、コポリマーの約20重量%〜約98重量%、好ましくは、約40重量%〜約90重量%を占める。M単位は、アルキレングリコール側鎖、ポリアルキレングリコール側鎖、3つのアルコキシ及び／又はフェニキシ基で置換されたシリル基を有する側鎖、及び／又はトリアルキルアンモニウム側鎖を有する側鎖を含み、そして典型的には、コポリマーの約1重量%〜約30重量%、好ましくは、約5重量%〜約20重量%を占める。少量の他の単位が存在してよいが、しかし必要というわけではない。K単位のwt%、L単位のwt%、及びM単位のwt%の和は、典型的には約100%であるので、コポリマーは、K単位、L単位、及びM単位から本質的に成るか、或いはK単位、L単位、及びM単位から成る。
K単位は、-[CH2C(R1)R2]-、-[CH2CR3(CO2R4)]-、-[CH2CR5(CON(R6)(R7))]-、-[C(R8)(COECO)C(R9)]-、及びこれらの混成から成る群から選択される。K単位は典型的には、-[CH2C(R1)R2]-、-[CH2CR5(CON(R6)(R7))]-、-[CH2CR3(CO2R4)]-、又はこれらの混成である。L単位は、-[CH2CH(CN)]-、-[CH2C(CH3)(CN)]-、及びこれらの混成から成る群から選択される。M単位は、-[CH2C(R10)(WSi(OR11)3)]-、-[CH2C(R12)(CO2(B)n1T)]-、-[CH2C(R13)(CO2(CH2)n2N+(R14)3)X-)]-、及びこれらの混成から成る群から選択される。
R1、R3、R5、R8、R9、R10、R12、及びR13は、それぞれ独立して水素、メチル又はこれらの混成である。
R2は、水素、メチル、フェニル、置換型フェニル、ハロゲン、炭素原子数1〜4のアルコキシ、炭素原子数1〜5のアシル、炭素原子数1〜5のアシルオキシ、ビニル、アリル、又はこれらの混成である。置換型フェニル基は例えば、4-メチルフェニル、3-メチルフェニル、4-メトキシフェニル、4-シアノフェニル、4-クロロフェニル、4-フルオロフェニル、4-アセトキシフェニル、3,5-ジクロロフェニル、及び2,4,6-トリメチルフェニルを含む。ハロゲンは、フルオロ(F)、クロロ(Cl)、及びブロモ(Br)を含む。炭素原子数1〜4のアルコキシ基は、例えばメトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、イソ-プロポキシ、n-ブトキシ、及びt-ブトキシを含む。炭素原子数1〜5のアシルは例えば、H3CO-(アセチル)、CH3CH2CO-、CH3(CH2)2CO-、CH3(CH2)3CO-、及び(CH3)3CCO-を含む。炭素原子数1〜5のアシルオキシは例えば、H3CC(O)O-(アセチルオキシ)、CH3CH2C(O)O-、CH3(CH2)2C(O)O-、CH3(CH2)3C(O)O-、及び(CH3)3CC(O)O-を含む。R2は好ましくはフェニルである。
R4、R6、及びR7は、それぞれ独立して水素、炭素原子数1〜6のアルキル、フェニル、又はこれらの混成である。炭素原子数1〜6のアルキル基は例えば、メチル、エチル、n-プロピル、イソ-プロピル、n-ブチル、sec-ブチル、イソ-ブチル、t-ブチル、n-ペンチル、イソ-ペンチル、ネオ-ペンチル、n-ヘキシル、イソ-ヘキシル、1,1-ジメチル-ブチル、2,2-ジメチル-ブチル、及びシクロアルキル基、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、メチルシクロペンチル、及びシクロヘキシルを含む。R4、R6、及びR7はそれぞれ典型的には、水素、メチル、又はこれらの混成である。
各R11は独立して、フェニル、炭素原子数1〜8のアルキル、又はこれらの混成である。炭素原子数1〜8のアルキル基は例えば、上記炭素原子数1〜6のアルキル基、n-ヘプチル、n-オクチル、2-エチルヘキシル、及び2,2,4-トリメチルペンチル、及びシクロアルキル基、例えばシクロヘプチル、4-メチルシクロヘキシル、シクロオクチル、1-メチルシクロヘプチル、2,6-ジメチルシクロヘキシル、4-メチルシクロヘキシル、及び4-エチルシクロヘキシルを含む。R11は典型的にはメチルである。
-[C(R8)(COECO)C(R9)]-は、環状無水物又は環状イミド構造を表し、例えば無水マレイン酸又はN-フェニルマレイミドのラジカル重合時に生成される構造を表す。すなわち、最初及び最後の炭素原子が、炭素-炭素単結合によって結合される。Eは酸素又はNR15であり、R15は、水素、ヒドロキシル、フェニル、置換型フェニル、炭素原子数1〜6のアルキル、ベンジル、又はこれらの混成である。置換型フェニル基及び炭素原子数1〜6のアルキル基の例は上記の通りである。
各R14は独立して、水素、炭素原子数1〜6のアルキル、例えば上記のもの、又はこれらの混成である。R14は典型的にはメチルである。
Wは、二価連結基、二価連結基の組み合わせ、又は二価連結基の混成である。二価連結基は、例えば炭素-ケイ素単結合(すなわちM単位は構造：-[CH2C(R10)Si(OR11)3]-を有する)；酸素(-O-)；カルボニル(-C(O)-)；カルボキシ(-CO2-)；炭素原子数1〜8のアルキレン基(-(CH2)m-)(mは1〜8)；及びフェニレン(-(C6H4)-)基、例えばo-、m-及びp-フェニレン基を含む。これらの基の組み合わせを使用することもできる。好ましい二価連結基は、炭素-ケイ素単結合、フェニレン基、炭素原子数2〜6のアルキレン基(すなわち、M単位は構造：-[CH2C(R10)(CH2)mSi(OR11)3]-を有し、mは2〜6である)；及び式-CO2(CH2)m-(mは2〜6である)のカルボキシアルキル基(カルボキシ基とアルキレン基との組み合わせ)(すなわちM単位は構造-[CH2C(R10)CO2(CH2)mSi(OR11)3]-を有する)を含む。
Bは、-[CH2CH(R16)O]-、-[CH2C(R17)(OH)]-、及びこれらの混成から成る群から選択され、各R16及びR17は独立して、水素、炭素原子数1〜6のアルキル、例えば上記のもの、又はこれらの混成である。R16及びR17はそれぞれ典型的には、水素又はメチルであり、より典型的には水素である。Bは典型的には、-[CH2CH(R16)O]-、より典型的には-[CH2CH2O]-である。
Tは、水素、炭素原子数1〜8のアルキル、例えば上記のもの、フェニル、又はこれらの混成である。炭素原子数1〜8のアルキルの例は上記の通りである。
X-はアニオンである。典型的なアニオンは例えば、ハロゲン化物、例えば塩化物及び臭化物；酢酸塩、硝酸塩；ホウ酸塩、例えばテトラフルオロホウ酸塩及びテトラフェニルホウ酸塩；硫酸塩、例えば硫酸メチル、硫酸エチル、及び硫酸トリフルオロメチル；ヘキサフルオロリン酸塩；及びスルホン酸塩、例えばスルホン酸フルオロメチル、スルホン酸ペンタフルオロエチル、及びスルホン酸メチルを含む。多価アニオン、例えば硫酸塩を使用することもできる。
n1は1〜100であり、典型的には10〜50である。n2は2〜8である。
コポリマーの調製
コポリマーは、ラジカル重合によって調製することができる。典型的な調製の場合、3つのモノマー、すなわちK単位の前駆体であるモノマーと、L単位の前駆体であるモノマーと、M単位の前駆体であるモノマーとの混合物が共重合される。ラジカル重合は当業者によく知られており、例えば、Macromolecules(マクロ分子)第2巻、第2版、H.G. Elias編、Plenum, New York, 1984の第20章及び21章に記載されている。有用なフリーラジカル開始剤は、過酸化物、例えば過酸化ベンゾイル、ヒドロペルオキシド、例えばクミルヒドロペルオキシド、及びアゾ化合物、例えば2,2'-アゾビス(イソブチロニトリル)(AIBN)である。連鎖移動剤、例えばドデシルメルカプタンを使用して、化合物の分子量を制御することができる。ラジカル重合に適した溶剤は、反応物質に対して不活性でありそして反応に特に不都合な影響を及ぼすことがない液体、例えば水；エステル、例えばエチルアセテート及びブチルアセテート；ケトン、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルプロピルケトン、及びアセトン；アルコール、例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n-プロパノール、1-メトキシエタノール(メチルCELLOSOLVE(商標))、及びn-ブタノール；エーテル、例えばジオキサン及びテトラヒドロフラン；アミド、例えばN,N-ジメチルホルムアミド及びN,N-ジメチルアセトアミド、及びこれらの混合物を含む。
K単位の前駆体は、例えばスチレン；置換型スチレン、例えば3-メチルスチレン、4-メチルスチレン、4-メトキシスチレン、4-アセトキシスチレン、及びアルファ-メチルスチレン；アクリル酸及びメタクリル酸エステル、例えばメチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、n-ヘキシルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n-プロピルメタクリレート、n-ブチルメタクリレート、n-ペンチルメタクリレート、ネオ-ペンチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、n-ヘキシルメタクリレート、2-エトキシエチルメタクリレート、及びアリルメタクリレート；ビニルエステル、例えば、ビニルアセテート、及びビニルブチレート；ビニルケトン、例えばメチルビニルケトン、及びブチルビニルケトン；塩化ビニル；臭化ビニル；マレイミド、例えばマレイミド、N-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、N-ベンジルマレイミド、及びN-ヒドロキシマレイミド；アクリルアミド、例えばアクリルアミド、メタクリルアミド、N,N-ジメチルアクリルアミド、及びN,N-ジメチル-メタクリルアミド、及びこれらの混合物を含む。K単位の好ましい前駆体は、スチレン、メチルメタクリレート、N-フェニルマレイミド、及びメタクリルアミドを含む。例えばスチレン、エチルアクリレート、及びメチルメタクリレートの混合物がK単位の前駆体として使用される場合、結果として生じるコポリマー中、K単位は、-[CH2C(R1)R2]-単位と-[CH2CR3(CO3R4)]-単位との混成であり、式中、R1は水素であり、R2はフェニルであり、そしてR3は水素とメチルとの混成であり、そしてR4はメチルとエチルとの混成である。
L単位の前駆体は、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、及びこれらの混合物である。
M単位の前駆体は、例えば：
ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリブトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、4-(トリメトキシシリル)-1-ブテン、2-(トリメトキシシリル)エチルアクリレート、2-(トリメトキシシリル)エチルメタクリレート、3-(トリメトキシシリル)プロピルアクリレート、3-(トリメトキシシリル)プロピルメタクリレート、3-(トリエトキシシリル)プロピルアクリレート、3-(トリメトキシシリル)プロピルメタクリレート、3-(トリプロポキシシリル)プロピルアクリレート、3-(トリプロポキシシリル)プロピルメタクリレート、3-(トリブトキシシリル)プロピルアクリレート、3-(トリブトキシシリル)プロピルメタクリレート、4-(トリメトキシシリル)ブチルアクリレート、4-(トリメトキシシリル)ブチルメタクリレート、5-(トリメトキシシリル)ペンチルアクリレート、5-(トリメトキシシリル)ペンチルメタクリレート、6-(トリメトキシシリル)ヘキシルアクリレート、6-(トリメトキシシリル)ヘキシルメタクリレート、
エチレングリコールモノアクリレート(2-ヒドロキシエチルアクリレート)、エチレングリコールモノメタクリレート(2-ヒドロキシエチルメタクリレート)、ポリエチレングリコールモノメタクリレート、ポリプロピレングリコールメチルエーテルメタクリレート、ポリエチレングリコールエチルエーテルメタクリレート、ポリエチレングリコールブチルエーテルメタクリレート、ポリプロピレングリコールヘキシルエーテルメタクリレート、ポリプロピレングリコールオクチルエーテルメタクリレート、ポリエチレングリコールメチルエーテルアクリレート、ポリエチレングリコールエチルエーテルアクリレート、ポリエチレングリコールフェニルエーテルアクリレート、ポリプロピレングリコールモノアクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタクリレート、ポリプロピレングリコールメチルエーテルメタクリレート、ポリプロピレングリコールエチルエーテルメタクリレート、ポリプロピレングリコールブチルエーテルメタクリレート、ポリ(エチレングリコール／プロピレングリコール)メチルエーテルメタクリレート、ポリ(ビニルアルコール)モノメタクリレート、ポリ(ビニルアルコール)モノアクリレート、
2-[(アクリロイルオキシ)エチル]-トリメチルアンモニウムクロリド、2-[(アクリロイルオキシ)エチル]-トリメチルアンモニウムメチルスルフェート、2-[(アクリロイルオキシ)エチル]-トリメチルアンモニウムクロリド、2-[(メタクリロイルオキシ)エチル]-トリメチルアンモニウムクロリド、3-[(メタクリロイルオキシ)プロピル]-トリメチルアンモニウムクロリド、3-[(アクリロイルオキシ)プロピル]-トリメチルアンモニウムクロリド、4-[(メタクリロイルオキシ)ブチル]-トリメチルアンモニウムクロリド、4-[(アクリロイルオキシ)ブチル]-トリメチルアンモニウムクロリド、5-[(メタクリロイルオキシ)ペンチル]-トリメチルアンモニウムクロリド、5-[(アクリロイルオキシ)ペンチル]-トリメチルアンモニウムクロリド；及びこれらの混合物を含む。
M単位の好ましい前駆体は：ビニルトリメトキシシラン、構造：CH2=C(R10)(CO2(CH2)mSi(OCH3)3)のモノマー(R10は水素又はメチルであり、mは2〜6である)、例えば、2-(トリメトキシシリル)エチルアクリレート、2-(トリメトキシシリル)エチルメタクリレート、3-(トリメトキシシリル)プロピルアクリレート、3-(トリメトキシシリル)プロピルメタクリレート、4-(トリメトキシシリル)ブチルアクリレート、4-(トリメトキシシリル)ブチルメタクリレート、5-(トリメトキシシリル)ペンチルアクリレート、5-(トリメトキシシリル)ペンチルメタクリレート、6-(トリメトキシシリル)ヘキシルアクリレート、及び6-(トリメトキシシリル)ヘキシルメタクリレート；ポリ(エチレングリコール)メチルエーテルメタクリレート、ポリ(エチレングリコール)アクリレート、及びポリ(プロピレングリコール)メチルエーテルメタクリレート；2-[(メタクリロイルオキシ)エチル]-トリメチルアンモニウムクロリド、及び3-[(メタクリロイルオキシ)プロピル]-トリメチルアンモニウムクロリド；及びこれらの混合物を含む。M単位の商業的に入手可能な前駆体は例えば、2-ヒドロキシエチルメタクリレート(CAS# 868-77-9)、ポリ(エチレングリコール)アクリレート(CAS# 9051-31-4)、ポリ(エチレングリコール)メチルエーテルメタクリレート(CAS# 26915-72-0)、ビニルトリメトキシシラン(CAS# 754-05-2)、3-(トリメトキシシリル)プロピルメタクリレート(CAS# 2530-85-0)；及び2-[(メタクリロイルオキシ)エチル]トリメチルアンモニウムクロリド(CAS# 5039-78-1)を含む。
コポリマーを形成するのに使用することができるモノマーの観点からコポリマーの調製について説明してきたが、コポリマーは、上記モノマーの重合によって形成されるものに限定されることはない。コポリマーは、前駆体ポリマーの改質のような、当業者に明らかな他の経路によって形成することもできる。例えば、コポリマーは、好適な前駆体ポリマーに-Si(OR11)3基、又はWSi(OR11)3基を付加することにより形成することもできる。
追加されるポリマー
上層内に、1種又は2種以上の他の追加のポリマーが存在してもよい。追加されるポリマーは、これが存在する場合、上層の約0.1重量%〜約50重量%、好ましくは約1重量%〜約20重量%を占める。追加されるポリマーは、典型的にはフェノール樹脂、例えばノボラック樹脂、レゾール樹脂、又はポリビニルフェノールである。追加される好ましい樹脂は、存在するのであれば、ノボラック樹脂である。
ノボラック樹脂は商業的に入手可能であり、そして当業者によく知られている。これらの樹脂は典型的には、フェノール、例えばフェノール、m-クレゾール、o-クレゾール、p-クレゾールなどと、アルデヒド、例えばホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒドなど、又はケトン、例えばアセトンとを酸触媒の存在において縮合反応させることにより調製される。重量平均分子量は典型的には、約1,000〜15,000である。典型的なノボラック樹脂は例えば、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール-ホルムアルデヒド樹脂、フェノール-クレゾール-ホルムアルデヒド樹脂、p-t-ブチルフェノール-ホルムアルデヒド樹脂、及びピロガロール-アセトン樹脂を含む。重量平均分子量10,000以上の溶剤可溶性ノボラック樹脂；10モル%以上のp-クレゾールを含む、重量平均分子量8,000以上の溶剤可溶性m-クレゾール／p-クレゾール・ノボラック樹脂；及びこれらの混合物が特に有用であり得る。
上層はその他の成分、例えば、画像形成性要素のコンベンショナルな成分である色素（又は染料、dye）及び界面活性剤を含むこともできる。界面活性剤、例えばフッ素化界面活性剤、又はポリエトキシル化ジメチルポリシロキサン・コポリマー、又は界面活性剤の混合物が、塗布用溶剤中に他の成分を分散させるのを助けるように、且つ／又は塗布助剤として作用するように、存在することができる。画像形成された、そして／又は現像された要素の目視検査を補助するように、色素が存在してよい。プリントアウト色素は、処理中に未露光領域から露光された領域を区別する。コントラスト色素は、現像された画像形成性要素、すなわち、結果として生じた平版印刷版における画像形成された領域から画像未形成領域を区別する。
下引き層
下引き層は、上層と基体との間にある。下引き層は、基体の上方にあり、典型的には基体上に直接に位置している。下引き層は、現像剤によって除去可能な高分子材料を含み、そして好ましくは現像剤に可溶性である。加えて、高分子材料は好ましくは、上層を塗布するために使用される溶剤には不溶性であるので、下引き層を溶解させることなしに、上層を下引き層上に塗布することができる。他の成分、追加のポリマー、光熱変換材料、及び界面活性剤が下引き層内に存在していてもよい。有用な高分子材料は、カルボキシ官能性アクリル、ビニルアセテート／クロトネート／ビニルネオデカノエート・コポリマー、スチレン無水マレイン酸コポリマー、フェノール樹脂、マレイン酸処理ウッド・ロジン、及びこれらの組み合わせを含む。湿し水及び攻撃的な洗剤の両方に対する耐性を提供する下引き層が、米国特許第6,294,311号明細書(Shimazu)に開示されている。
特に有用な高分子材料は、ポリビニルアセタール、及び、N置換型マレイミド、特にN-フェニルマレイミド；メタクリルアミド、特にメタクリルアミドと、アクリル酸及び／又はメタクリル酸、特にメタクリル酸とを含むコポリマーである。このタイプの好ましい高分子材料は、N-フェニルマレイミド、メタクリルアミド及びメタクリル酸から成るコポリマーであり、より好ましくは、約25〜約75モル%、好ましくは約35〜約60モル%のN-フェニルマレイミド；約10〜約50モル%、好ましくは約15〜約40モル%のメタクリルアミド；及び約5〜約30モル%、好ましくは約10〜約30モル%のメタクリル酸を含有するコポリマーである。メタクリルアミドのうちのいくらか又は全ての代わりに、他の親水性モノマー、例えばヒドロキシエチルメタクリレートを使用することができる。メタクリルアミドのうちのいくらか又は全ての代わりに、他のアルカリ可溶性モノマー、例えばアクリル酸を使用することもできる。これらの高分子材料は、下引き層のための塗布用溶剤として使用することができる乳酸メチル／メタノール／ジオキソラン(15:42.5:42.5重量%)混合物中に可溶性である。しかし、これらの高分子材料は、アセトン及びトルエンのような溶剤中には溶けにくい。アセトン及びトルエンは、下引き層を溶解させることなしに、下引き層上に上層を塗布するための溶剤として使用することができる。2003年8月14日付けで出願された米国特許出願第10/641,888号明細書；2004年8月8日付けで出願された米国特許出願第10/820,546号明細書；及び2003年10月8日付けで出願された米国特許出願第10/681,701号明細書(本明細書中に引用する)に開示された、ベーキング可能な下引き層を使用することもできる。
下引き層は、1種又は2種以上の他の高分子材料を含むこともできる。ただし、これらの高分子材料の添加が、下引き層の耐薬品性及び溶解特性に不都合な影響を与えないことを条件とする。存在する場合、好ましい他の高分子材料はノボラック樹脂である。ノボラック樹脂を添加すると、現像後のベーキング・プロセスにより印刷部材の連続運転時間を改善することができる。
光熱変換材料
赤外線で画像形成されるべき画像形成性層は、典型的には、光熱変換材料として知られる赤外線吸収剤を含む。光熱変換材料は輻射線を吸収し、そしてこれを熱に変換する。光熱変換材料は下引き層内、及び／又は上層と下引き層との間の別個の吸収体層内に存在してよい。光熱変換材料は高温体で画像形成するのに必要というわけではないが、光熱変換材料を含有する画像形成性要素を、高温体、例えばサーマルヘッド又はサーマルヘッド・アレイで画像形成することもできる。
光熱変換材料は、輻射線を吸収し、そしてこれを熱に変換することができる任意の材料であってよい。好適な材料は色素及び顔料を含む。好適な顔料は例えば、カーボンブラック、ヘリオゲン・グリーン、ニグロシン・ベース、酸化鉄(III)、酸化マンガン、プリシアン・ブルー、及びパリス・ブルーを含む。顔料粒子のサイズは、顔料を含有する層の厚さを上回るべきではない。好ましくは、粒子のサイズは、層の厚さの半分以下になる。
光熱変換材料は、適切な吸収スペクトル及び溶解度を有する色素であってよい。色素、特に750 nm〜1200 nmの高い吸光係数を有する色素が好ましい。好適な色素の例は、以下のクラス：メチン、ポリメチン、アリールメチン、シアニン、ヘミシアニン、ストレプトシアニン、スクアリリウム、ピリリウム、オキソノール、ナフトキノン、アントラキノン、ポルフィリン、アゾ、クロコニウム、トリアリールアミン、チアゾリウム、インドリウム、オキサゾリウム、インドシアニン、インドトリカルボシアニン、オキサトリカルボシアニン、フタロシアニン、チオシアニン、チアトリカルボシアニン、メロシアニン、クリプトシアニン、ナフタロシアニン、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、カルコゲノピリロアリーリデン、及びビス(カルコゲノピリロ)ポリメチン、オキシインドリジン、ピラゾリンアゾ、及びオキサジンのクラス、の色素を含む。吸収色素は、数多くの刊行物、例えば欧州特許第0 823 327号明細書(Nagasaka)；米国特許第4,973,572号明細書(DeBoer)；同第5,244,771号明細書(Jandrue)；同第5,208,135号明細書(Patel他)；及び同第5,401,618号明細書(Chapman)に開示されている。有用な吸収色素の他の例は、ADS-830A及びADS-1064(American Dye Source, カナダ国Montreal)、EC2117(FEW, ドイツ国Wolfen)、Cyasorb IR 99及びCyasorb IR 165(Glendale Protective Technology)、Epolite IV-62B及びEpolite III-178(Epoline)、SpectraIR 830A及びSpectraIR 840A(Spectra Colors)、並びに下に示される構造を有するIR色素、及び下に示される構造を有するIR色素A及びIR色素Bを含む。
Figure 2008516284
水溶性光熱変換材料は、例えば1つ又は2つ以上のスルフェート及び／又はスルホネート基を有するシアニン色素を含む。2〜4つのスルホネート基を含有する他の赤外線吸収性シアニン・アニオンが、例えば米国特許第5,107,063号明細書(West)；同第5,972,838号明細書(Pearce)；同第6,187,502号明細書(Chapman)；同第5,330,884号明細書(Fabricius)；及び特開昭63-033477号公報に開示されている。ポリスルホネート・アニオンを用いたシアニン色素の調製が、例えば2003年11月25日付けで出願された米国特許出願第10/722,257号明細書に開示されている。N-アルキルスルフェートシアニンの調製が、例えば2003年12月15日付けで出願された米国特許出願第10/736,364号明細書に開示されている。
要素中に存在する光熱変換材料の量は、一般には、画像形成波長において光学濃度0.05以上、好ましくは光学濃度約0.5から約2以上〜3を提供するのに十分である。当業者によく知られているように、特定の波長において特定の光学濃度を生成するのに必要な化合物の量は、Beerの法則を用いて決定することができる。存在する量は、選択された化合物に依存するが、光熱変換材料が下引き層内だけに存在する場合には、光熱変換材料は典型的には、下引き層の約0.2重量%〜約8重量%、より典型的には約0.5重量%〜約4重量%を占める。
他の層
光熱変換材料は別個の吸収体層内に存在してよい。吸収体層が存在する場合、この層は上層と下引き層との間に位置する。吸収体層は好ましくは、光熱変換材料と、任意選択の界面活性剤とから本質的に成る。光熱変換材料が別個の吸収体層内に存在する場合には、光熱変換材料の使用量を少なくすることが可能である。吸収体層は好ましくは、画像形成用輻射線の90%以上、好ましくは99%以上を吸収するのに十分な厚さを有する。典型的には、吸収体層の塗布重量は、約0.02 g/m2〜約2 g/m2、好ましくは約0.05 g/m2〜約1.5 g/m2である。吸収体層を含む要素は、米国特許第6,593,055号明細書(Shimazu)に開示されている。
画像形成性要素の製造中及び貯蔵中に、下引き層から上層への光熱変換材料の移動を最小限に抑えるために、要素は下引き層と上層との間にバリヤ層を含んでよい。バリヤ層は、現像剤中に可溶性の高分子材料を含む。この高分子材料が下引き層内の高分子材料とは異なる場合、この材料は、下引き層内の高分子材料が不溶性である1種以上の有機溶剤中に可溶性であることが好ましい。バリヤ層のための好ましい高分子材料はポリビニルアルコールである。バリヤ層内の高分子材料が下引き層内の高分子材料と異なる場合、バリヤ層の厚さは、下引き層の厚さの約5分の1未満、好ましくは下引き層の厚さの約10分の1未満であるべきである。バリヤ層を含む画像形成性要素は、米国特許第6,723,490号明細書(Patel)に開示されている。
基体
基体は支持体を含む。支持体は、平版印刷版として有用な画像形成性要素を調製するために従来使用されている任意の材料であってよい。支持体は、強力であり、安定であり、そして可撓性であることが好ましい。支持体は、色記録がフルカラー画像で表されるような使用条件下では、寸法の変化に抵抗すべきである。典型的には、支持体はいかなる自立型材料であってもよく、例えば、高分子フィルム、例えばポリエチレンテレフタレート・フィルム、セラミック、金属、又は剛性紙、又はこれらの材料のうちのいずれかのラミネーションを含む。金属材料は、アルミニウム、亜鉛、チタン及びこれらの合金を含む。
典型的には、高分子フィルムは、後続の層との付着性を改善するために、一方又は両方の表面上に下塗り層を含有する。この層又はこれらの層の性質は、基体及び後続の層の組成に依存する。下塗り層材料の例は、付着促進材料、例えばアルコキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシラン、グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、及びエポキシ官能性ポリマー、並びに、写真フィルム内のポリエステル・ベース上に使用されるコンベンショナルな下塗り材料である。
基体は、これがアルミニウム又はアルミニウム合金から成るシートを含む場合、印刷から生じる摩耗に耐えるのに十分な厚さを有し、また印刷プレス内で胴に巻き付けるのに十分に薄くあるべきであり、その厚さは典型的には約100 μm〜約600 μmである。支持体は典型的には、当業者に知られた種々の方法によって清浄化され、粗面化され、そして陽極酸化される。最初に、界面活性剤、有機溶剤、又はアルカリ性水溶液を用いた脱脂処理を典型的に施すことにより、シート表面から油脂を除去する。次いで、よく知られた技術、例えば機械的粗面化(例えばボール研磨、ブラシ研磨、ブラスト研磨、及びバフ研磨)、化学的粗面化(表面を選択的に溶解することにより表面を粗面化する)、又は電気化学的粗面化、又はこのような化学的、機械的、及び／又は電気化学的処理の組み合わせ(マルチ・グレイニング)によって、表面を粗面化することができる。高温の酸性溶液(例えば硫酸又はリン酸)又はアルカリ性溶液(水酸化ナトリウム、又は水酸化ナトリウムと混合されたリン酸三ナトリウム)を使用して、基体のエッチングが行われる。陽極酸化を行うことにより、表面の酸化アルミニウム親水性層、典型的には0.3 g/m2以上の重量の酸化アルミニウム層を形成することができる。陽極酸化は、電解質、例えば硫酸、リン酸、クロム酸、ホウ酸、クエン酸、シュウ酸、又はこれらの混合物を含む電解溶液中の陽極として支持体を使用して、電流を通すことにより実施される。陽極酸化は、例えば米国特許第3,280,734号明細書(Fromson)、及び同第5,152,158号明細書(Chu)に開示されている。
次いで、清浄化され、粗面化され、そして陽極酸化された支持体は、アルカリ金属ケイ酸塩、例えば水性ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウム、又は典型的にはケイ酸ナトリウムで親水性処理することができる。親水性処理は、例えば米国特許第2,714,066号明細書(Jewett)、及び同第3,181,461号明細書(Fromson)に記載されている。支持体は、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液中で浸漬されるか、又は電気分解される。
典型的には、基体は、アルミニウム支持体と上に位置する層との間に、中間層を含む。中間層は、例えばケイ酸塩、デキストリン、ヘキサフルオロケイ酸、リン酸塩／フッ化物、ポリビニルホスホン酸(PVPA)、ビニルホスホン酸コポリマー、又は水溶性ジアゾ樹脂でアルミニウム支持体を処理することにより、形成することができる。(1)ホスホン酸基及び／又はホスフェート基、及び(2)アルキレングリコール又はポリアルキレングリコール側鎖を含む酸基を含む、中間層材料として有用なコポリマーも、2004年8月20日付けで出願された米国特許出願第10/922,782号明細書に開示されている。(1)酸基及び／又はホスホン酸基、及び(2)3つのアルコキシ及び／又はフェノキシ基で置換されたシリル基を含む、中間層材料として有用なコポリマーが、2004年8月27日付けで出願された米国特許出願第10/928,339号明細書に開示されている。
支持体の裏側(すなわち、上層及び下引き層とは反対側)には、静電防止剤及び／又はスリップ層又は艶消し層を塗布することにより、画像形成性要素の取り扱い及び「感触」を改善することができる。
画像形成性要素の調製
「溶剤」及び「塗布用溶剤」という用語は、溶剤の混合物を含む。これらの用語は、材料のうちのいくらか又は全てを溶液中にではなく、溶剤中に懸濁又は分散することができる場合にも使用される。塗布用溶剤は、種々の層内に存在する成分の性質に応じて選択される。画像形成性要素は、順次、基体の親水性表面上に下引き層を適用し；下引き層上に、もし存在するならば吸収体層又はバリヤ層を適用し；次いで、コンベンショナルな技術を用いて上層を適用することにより、調製することができる。
下引き層は、任意のコンベンショナルな方法、例えば塗布又はラミネーションによって適用することができる。典型的には、成分は好適な塗布用溶剤中に分散又は溶解され、そして結果として生じた混合物は、コンベンショナルな方法、例えばスピン塗布、バー塗布、グラビア塗布、ダイ塗布、スロット塗布、又はローラ塗布によって塗布される。下引き層は、例えばメチルエチルケトンと、1-メトキシプロパン-2-オルと、γ-ブチロラクトンと、水との混合物；ジエチルケトンと、水と、乳酸メチルと、γ-ブチロラクトンとの混合物；ジエチルケトンと、水と、乳酸メチルとの混合物から適用することができる。
バリヤ層を含む画像形成性要素の調製は、米国特許第6,723,490号明細書(Patel)に開示されている。吸収体層を含む画像形成性要素の調製は、米国特許第6,593,055号明細書(Shimazu)に開示されている。バリヤ層も吸収体層も存在しない場合には、上層は下引き層上に直接に塗布される。下引き層が溶けて上層と混ざり合うのを防止するために、上層は、下引き層が本質的に不溶性となる溶剤から塗布されるのがよい。このように、上層のための塗布用溶剤は、上層を形成できるほど十分に上層の成分が可溶性であり、そしていかなる下引き層も本質的に不溶性となるような溶剤が好ましい。典型的には、下引き層を塗布するために使用される溶剤は、塗布層を塗布するために使用される溶剤よりも極性が大きい。上層は、例えばジエチルケトンから、又はジエチルケトンと1-メトキシ-2-プロピルアセテートとの混合物から適用することができる。中間乾燥工程、すなわち下引き層上への上層の塗布前に下引き層を乾燥させて塗布用溶剤を除去する工程を利用して、層の混合を防止することもできる。
或いは、下引き層、上層、又は両方の層は、層成分の溶融混合物から、コンベンショナルな押出塗布法によって適用することもできる。典型的には、このような溶融混合物は揮発性有機溶剤を含有しない。
画像形成及び処理
本発明の画像形成性要素は、画像形成性要素によって吸収される波長領域内で、変調された近赤外線又は赤外線を発光するレーザー又はレーザー・アレイを用いて熱画像形成することができる。赤外線、特に約800 nm〜約1200 nmの赤外線が、画像形成のために典型的に使用される。画像形成は従来、約830 nm、約1056 nm、又は約1064 nmで発光するレーザーを用いて行われる。商業的に入手可能な好適な画像形成装置は、画像セッター、例えばCREO(商標) Trendsetter (Creo,カナダ国British Columbia, Burnaby)、Screen PlateRiteモデル4300、モデル8600及びモデル8800(Screen,米国Illinois, Chicago, Rolling Meadows)、及びGeber Crescent 42T (Gerber)を含む。
或いは、画像形成性要素は、高温体、例えばサーマル印刷ヘッドを含有するコンベンショナルな装置を使用して熱画像形成することもできる。好適な装置は少なくとも1つのサーマルヘッドを含むが、普通はサーマルヘッド・アレイを含み、例えばサーマル・ファクス機及び昇華プリンター内で使用されるTDKモデルNo. LV5416、GS618-400サーマル・プロッター(Oyo Instruments,米国TX, Houston)、又はModel VP-3500 サーマル・プリンター(Seikosha America,米国NJ, Mahwah)である。
画像形成により、画像形成された(露光された)領域と、相補的な画像未形成(未露光)領域との潜像を含む画像形成された要素が生成される。印刷版又は印刷フォームを形成するために画像形成された要素を現像すると、画像形成された領域が除去され、下側の基体の親水性表面が露出されることにより、潜像が画像に変換される。
現像剤は、相補的な画像未形成領域に実質的な影響を及ぼすことなしに、上層の画像形成された領域、存在する場合は、下側に位置する吸収体層又はバリヤ層の領域、及び下側に位置する下引き層領域に浸透してこれらの領域を除去することができるいかなる液体又は溶液であってもよい。現像は、上層の画像形成された領域、もし存在するならば下側に位置する吸収体層又はバリヤ層の領域、及び下側に位置する下引き層領域を現像剤中で除去するのに十分に長い時間にわたって行われるが、しかし、上層の画像未形成領域を除去するほど長くは行われない。従って、画像形成された領域は、現像剤中で「可溶性」又は「除去可能」として記述される。なぜならば、これらは現像剤中で、画像未形成領域よりも迅速に除去され、そして溶解及び／又は分散されるからである。典型的には、下引き層は現像剤中で溶解され、吸収体層は、現像剤中で溶解又は分散され、そして上層は現像剤中で分散される。
有用な現像剤は、pHが約7以上の水溶液及び溶剤系アルカリ性現像剤である。現像剤の共通の成分は、界面活性剤；キレート剤、例えばエチレンジアミン四酢酸の塩；有機溶剤、例えばベンジルアルコール及びフェノキシエタノール；及びアルカリ成分、例えば無機メタシリケート、有機メタシリケート、水酸化物及び重炭酸塩である。典型的な水性アルカリ性現像剤のpHは、約8〜約13.5、典型的には約11以上、好ましくは約12以上である。
現像剤は、界面活性剤又は界面活性剤の混合物を含んでもよい。好ましい界面活性剤は、アルキルナフタレンスルホネートのアルカリ金属塩；典型的には炭素原子数6〜9の脂肪族アルコールの硫酸モノエステルのアルカリ金属塩；及び典型的には炭素原子数6〜9のアルカリ金属スルホネートを含む。好ましいアルカリ金属はナトリウムである。界面活性剤又は界面活性剤の混合物は典型的には、現像剤の重量を基準として約0.5重量%〜約15重量%、好ましくは現像剤の重量を基準として約3重量%〜約8重量%を占める。当業者によく知られているように、多くの界面活性剤が界面活性剤水溶液として供給される。これらのパーセンテージは、現像剤中の界面活性剤の量(すなわち、界面活性剤溶液中の水及び他の不活性材料を除いた活性成分の量)に基づいている。
現像剤は、pHを比較的一定に、典型的には約5.0〜約12.0、好ましくは約6.0〜約11.0、より好ましくは約8.0〜約10.0に維持するために、緩衝剤系を含んでよい。数多くの緩衝剤系が当業者に知られている。典型的には緩衝剤系は、例えば、水溶性アミン、例えばモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、又はトリ-i-プロピルアミンと、スルホン酸、例えばベンゼンスルホン酸又は4-トルエンスルホン酸との組み合わせ；エチレンジアミン四酢酸(EDTA)の四ナトリウム塩とEDTAとの混合物；リン酸塩の混合物、例えばモノ-アルカリリン酸塩とトリ-アルカリリン酸塩との混合物；及びアルカリホウ酸塩とホウ酸との混合物を含む。水が典型的には、現像剤の残余を構成する。有用な商業的に入手可能な水性アルカリ性現像剤は、3000 現像剤及び9000 現像剤(Kodak Polychrome Graphics 米国CT Norwalk)を含む。
典型的にはネガ型の画像形成性要素とともに使用される溶剤系アルカリ性現像剤は、本発明のポジ型の多層熱画像形成性要素とともに使用するための優れた現像剤である。溶剤系現像剤は有機溶剤又は有機溶剤の混合物を含む。現像剤は単一相である。従って、相分離が生じないように、有機溶剤は水と混和性であるか、或いは、少なくとも、現像剤に添加される範囲で現像剤中に可溶性でなければならない。下記溶剤及びこれらの溶剤の混合物は、現像剤中の使用に適している：フェノールと、エチレンオキシド及びプロピレンオキシドとの反応生成物、例えばエチレングリコールフェニルエーテル(フェノキシエタノール)；ベンジルアルコール；エチレングリコール及びプロピレングリコールと、炭素原子数6以下の酸とのエステル；及びエチレングリコール、ジエチレングリコール、及びプロピレングリコールと、炭素原子数6以下のアルキル基とのエーテル、例えば2-エチルエタノール及び2-ブトキシエタノール。単一の有機溶剤又は有機溶剤の混合物を使用することができる。有機溶剤は典型的には、現像剤の重量を基準として約0.5重量%〜約15重量%、好ましくは現像剤の重量を基準として約3重量%〜約5重量%の濃度で、現像剤中に存在する。商業的に入手可能な有用な溶剤系現像剤は、956 現像剤及び955 現像剤(Kodak Polychrome Graphics 米国CT Norwalk)を含む。
現像剤は典型的には、露光された領域を除去するのに十分な力で要素に噴霧することにより、前駆体に適用される。或いは、浸漬型現像浴、水ですすぐためのセクション、ガミング処理セクション、乾燥セクション、及び導電性測定単位を備えた処理装置内で現像を行うこともでき、或いは、画像形成された前駆体を現像剤でブラシ処理することができる。それぞれの事例において、印刷版が生成される。現像は、商業的に入手可能な噴霧処理装置、例えば85 NS(Kodak Polychrome Graphics)内で好都合に行うことができる。
現像に続いて、印刷版は水ですすがれ、乾燥させられる。乾燥は赤外線ラジエーターによって、又は温風で好都合に行うことができる。乾燥後には、印刷版はガミング溶液で処理することができる。ガミング溶液は、1種又は2種以上の水溶性ポリマー、例えばセルロース、ポリビニルアルコール、ポリメタクリル酸、ポリメタクリルアミド、ポリビニルメチルエーテル、ポリヒドロキシエチルメタクリレート、ゼラチン、及び多糖、例えばデキストラン、プルラン、アラビアゴム、及びアルギン酸を含む。好ましい材料は、アラビアゴムである。
現像され・ガミング処理された版はベーキング処理することにより、版の連続運転時間を長くすることもできる。ベーキング処理は、例えば約220℃〜約240℃で約7分〜10分にわたって、又は約120℃の温度で約30分にわたって行うこともできる。
産業上の利用可能性
本発明の画像形成性要素は、印刷室の薬品に対する優れた耐性を有する。これらの要素は、水性アルカリ性現像剤で熱画像形成し、そして現像することにより、平版印刷版を形成することができる。画像形成性要素を画像形成し、そして現像することにより、平版印刷版を形成したら、湿し水、次いで平版用インクをその表面上の画像に着けることにより、印刷を行うことができる。湿し水は、画像形成及び現像プロセスによって露出された親水性基体の表面によって取り込まれ、そしてインクは、現像プロセスによって除去されていない層領域によって取り込まれる。次いでインクを好適な受容材料(例えば布地、紙、金属、ガラス、又はプラスチック)に、直接的に又はオフセット印刷ブランケットを使用して間接的に転写することにより、受容材料上に画像の所望の刷りを提供する。
本発明の有利な特性は、下記例を参照することにより観察することができるが、これらの例は本発明を限定するものではない。
用語解説
956現像剤：溶剤系(フェノキシエタノール)アルカリ性ネガ型現像剤(Kodak Polychrome Graphics, 米国CT Norwalk)
AIBN：2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(DuPont, 米国Delaware, Wilmington)
BYK 307：ポリエトキシル化ジメチルポリシロキサン・コポリマー(BYK Chemie, 米国CT Wallingford)
CREO(商標) Trendsetter 3244x：Procom Plusソフトウェアを使用し、830 nmで発光するレーザー・ダイオード・アレイを有する商業的に入手可能なプレート・セッター(Creo Products, カナダ国BC, Burnaby)
エチル・バイオレット：C.I. 42600; CAS 2390-59-2(ラムダmax=596 nm)
[(p-(CH3CH2)2NC6H4)3C+CI-](Aldrich, 米国WI, Milwaukee)
IR色素A：赤外線吸収色素(Eastman Kodak, 米国NY Rochester)(ラムダmax=830 nm) (上記構造参照)
METMAC：[2-メタクリロイルオキシエチル]トリメチルアンモニウムクロリド、水中75 wt% (Aldrich, 米国WI, Milwaukee)
N-13：ノボラック樹脂；100% m-クレゾール；MW 13,000(Eastman Kodak, 米国NY Rochester)
PEGMA：ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート、MW 2,080、水中50 % (Aldrich, 米国WI, Milwaukee)
ポリマー1：N-フェニルマレイミド、メタクリルアミド及びメタクリル酸(45:35:20モル%)のコポリマー
TMSPMA：3-(トリメトキシシリル)プロピルメタクリレート(Aldrich, 米国WI, Milwaukee)
基体A：電気グレイニング、陽極酸化、及びポリビニルホスホン酸の溶液による処理を施された、0.3 mmゲージのアルミニウム・シート
評価手順
液滴試験：1-ブトキシエタノール(ブチルCELLOSOLVE(商標))(水中80%)又はジアセトンアルコール(水中80%)の液滴を上層の表面上に置いた。上層に対する損傷が発生する時間を観察した。
比較例1
この例は、上層のための比較コポリマーの合成を示す。磁石攪拌機、温度調節器、及び窒素入口を備えた250-mlの3口フラスコ内に、AIBN(0.4 g)、20 gのスチレン、20 gのアクリロニトリル、80 gの3-ペンタノン及び80 gのトルエンを入れた。混合物を60℃まで加熱し、そして6時間にわたって窒素下で撹拌した。AIBN(0.2 g)を添加し、そして加熱及び撹拌をさらに8時間にわたって60℃で続けた。不揮発分13.7重量%を含有する197.5 gのポリマー溶液を得た。ポリマーは単離されなかった。ポリマー溶液を使用することにより、塗布用溶液を調製した。
比較例2
下記手順により、画像形成性要素を調製した。
下引き層：4.69 gのγ-ブチロラクトンと、7.03 gの1-メトキシ-2-プロパノールと、30.49 gの2-ブタノンと、4.69 gの水との溶剤混合物中に、ポリマー1(2.541 g)を溶解した。次いでこの溶液に、IR色素A(0.45 g)を添加し、続いて0.089 gのBYK-307(1-メトキシ-2-プロパノール中の10%溶液)を添加した。その結果生じた塗布用溶液を基体A上に塗布した。基体Aを高温回転ドラム上に載置し、次いで塗布用溶液と接触させた。塗布用溶液はポンプによって基体に供給した。基体上に65℃の温風を約2分間にわたって吹き付けることにより、塗布された基体を乾燥させた。下引き層の塗布重量：1.5 g/m2。
上層：同じ手順を用いて下引き層を調製するのに続いて、比較例1から得られた98.5 gのスチレン／アクリロニトリル・コポリマー溶液(13.5 gのコポリマー)と、1.2 gのエチル・バイオレットと、0.3 gの10% BYK-307と、50 gの3-ペンタノンと、50 gのトルエンとを含有する塗布用溶液を、下引き層上に塗布し、そして結果として得られた画像形成性要素を乾燥させた。上層の塗布重量：0.5 g/m2。
液滴試験において、最大5分間にわたって、1-ブトキシエタノール(水中80%)と接触させられた上層領域内には、上層に対する損傷は観察されなかった。
画像形成性要素を、画像形成エネルギー80 mJ/cm2〜140 mJ/cm2で、CREO(商標) Trendsetter 3244上で熱画像形成し、そしてその結果として得られた、画像形成された画像形成性要素を956現像剤で現像した。画像形成された領域を除去することにより、基体を露出した。画像形成された領域内にフィルムの剥離が見られた。すなわち画像形成された領域は、現像剤に通された後、上層の断片を示した。
比較例3
比較例2の手順を繰り返した。ただしここでは、上層は、比較例1から得られた98.5 gのコポリマー溶液(13.5 gのコポリマー)と、20 gのN-13ノボラック樹脂と、1.2 gのエチル・バイオレットと、0.3 gの10% BYK-307と、50 gの3-ペンタノンと、50 gのトルエンとを含有した。上層の塗布重量：0.5 g/m2。
液滴試験において、最大5分間にわたって、1-ブトキシエタノール(水中80%)と接触させられた上層領域内には、上層に対する損傷は観察されなかった。比較例2におけるような熱画像形成及び現像に続いて、画像形成された領域を除去することにより、基体を露出した。画像形成された領域内に僅かなフィルム剥離が見られた。
例1
磁石攪拌機、温度調節器、及び窒素入口を備えた250-mlの3口フラスコ内に、AIBN(0.2 g)、9.5 gのスチレン、9.5 gのアクリロニトリル、1.0 gのTMSPMA、40gの3-ペンタノン及び40 gのトルエンを入れた。混合物を60℃まで加熱し、そして6時間にわたって窒素下で撹拌した。AIBN(0.2 g)を添加し、そして加熱及び撹拌をさらに8時間にわたって60℃で続けた。収量は96 gであり、不揮発分は16.3重量%であった。ポリマーは単離されなかった。ポリマー溶液を使用することにより、塗布用溶液を調製した。
例2
磁石攪拌機、温度調節器、及び窒素入口を備えた250-mlの3口フラスコ内に、AIBN(0.4 g)、17 gのスチレン、17 gのアクリロニトリル、4 gの2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2 gのPEGMA (MW=1,000)、80gの3-ペンタノン及び80 gのトルエンを入れた。混合物を60℃まで加熱し、そして6時間にわたって窒素下で撹拌した。AIBN(0.2 g)を添加し、そしてさらに8時間にわたって60℃で反応を続けた。収量は199 gであり、不揮発分は16.4重量%であった。ポリマーは単離されなかった。ポリマー溶液を使用することにより、塗布用溶液を調製した。
例3
比較例2の手順を繰り返した。ただしここでは、上層は、例1から得られた98.5 gのコポリマー溶液(16.1 gのコポリマー)と、1.2 gのエチル・バイオレットと、0.3 gの10% BYK-307と、50 gの3-ペンタノンと、50 gのトルエンとを含有した。上層の塗布重量：0.5 g/m2。
液滴試験において、最大5分間にわたって、1-ブトキシエタノール(水中80%)と接触させられた上層領域内には、上層に対する損傷は観察されなかった。比較例2におけるような熱画像形成及び現像に続いて、画像形成された領域を除去することにより、基体を露出した。画像形成された領域内にフィルム剥離が見られた。
例4
比較例2の手順を繰り返した。ただしここでは、上層は、例1から得られた98.5 gのコポリマー溶液(16.1 gのコポリマー)と、20 gのN-13ノボラック樹脂と、1.2 gのエチル・バイオレットと、0.3 gの10% BYK-307と、50 gの3-ペンタノンと、50 gのトルエンとを含有した。上層の塗布重量：0.5 g/m2。
液滴試験において、最大5分間にわたって、1-ブトキシエタノール(水中80%)と接触させられた上層領域内には、上層に対する損傷は観察されなかった。比較例2におけるような熱画像形成及び現像に続いて、画像形成された領域を除去することにより、基体を露出した。画像形成された領域内に僅かなフィルム剥離が見られた。
例5
比較例2の手順を繰り返した。ただしここでは、上層は、例2から得られた98.5 gのコポリマー溶液(16.2 gのコポリマー)と、20 gのN-13ノボラック樹脂と、1.2 gのエチル・バイオレットと、0.3 gの10% BYK-307と、50 gの3-ペンタノンと、50 gのトルエンとを含有した。上層の塗布重量：0.5 g/m2。
液滴試験において、最大5分間にわたって、1-ブトキシエタノール(水中80%)と接触させられた上層領域内には、上層に対する損傷は観察されなかった。比較例2におけるような熱画像形成及び現像に続いて、画像形成された領域を除去することにより、基体を露出した。画像形成された領域内に顕著なフィルム剥離は見られなかった。
例6
磁石攪拌機、温度調節器、及び窒素入口を備えた250-mlの3口フラスコ内に、AIBN(0.4 g)、17 gのスチレン、17 gのアクリロニトリル、4 gのMETMAC、2 gのPEGMA (MW=1,000)、80gの3-ペンタノン及び80 gのトルエンを入れた。混合物を60℃まで加熱し、そして6時間にわたって窒素下で撹拌した。0.2 gのAIBNを添加し、そしてさらに8時間にわたって60℃で反応を続けた。収量は196 gであり、不揮発分は15.0重量%であった。ポリマーは単離されなかった。ポリマー溶液を使用することにより、塗布用溶液を調製した。
例7
比較例2の手順を繰り返した。ただしここでは、上層は、例6から得られた98.5 gのコポリマー溶液と、0.3 gのエチル・バイオレットと、0.3 gの10% BYK-307と、50 gの3-ペンタノンと、50 gのトルエンとを含有した。上層の塗布重量：0.5 g/m2。
液滴試験において、最大5分間にわたって、ジアセトンアルコール(水中80%)と接触させられた上層領域内には、上層に対する損傷は観察されなかった。最大20分間にわたって、1-ブトキシエタノール(水中80%)と接触させられた上層領域内には、上層に対する損傷は観察されなかった。比較例2におけるような熱画像形成及び現像に続いて、画像形成された領域を除去することにより、基体を露出した。画像形成された領域内に顕著なフィルム剥離は見られなかった。

Claims (24)

  1. 基体と；
    該基体上の下引き層と；
    該下引き層上の上層と
    を含んで成る画像形成性要素であって：
    該要素は、光熱変換材料を含み；
    該上層は、該光熱変換材料を実質的に有しておらず；
    該上層は、インク受容性であり；
    熱画像形成前は、該上層はアルカリ性現像剤によって除去可能ではなく；
    熱画像形成により該上層内に画像形成された領域を形成した後は、該画像形成された領域は該アルカリ性現像剤によって除去可能であり；
    該下引き層は、アルカリ性現像剤によって除去可能であり；そして
    該上層は、K単位、L単位、及びM単位を含むコポリマーを含み：
    該K単位は、-[CH2C(R1)R2]-、-[CH2CR3(CO2R4)]-、-[CH2CR5(CON(R6)(R7))]-、-[C(R8)(COECO)C(R9)]-、及びこれらの混成から成る群から選択され；
    該L単位は、-[CH2CH(CN)]-、-[CH2C(CH3)(CN)]-、及びこれらの混成から成る群から選択され；
    該M単位は、-[CH2C(R10)(WSi(OR11)3)]-、-[CH2C(R12)(CO2(B)n1T)]-、-[CH2C(R13)(CO2(CH2)n2N+(R14)3)X-)]-、及びこれらの混成から成る群から選択され；
    R1、R3、R5、R8、R9、R10、R12、及びR13は、それぞれ独立して水素、メチル又はこれらの混成であり；
    R2は、水素、メチル、フェニル、置換型フェニル、ハロゲン、炭素原子数1〜4のアルコキシ、炭素原子数1〜5のアシル、炭素原子数1〜5のアシルオキシ、ビニル、アリル、又はこれらの混成であり；
    R4、R6、及びR7は、それぞれ独立して水素、炭素原子数1〜6のアルキル、フェニル、又はこれらの混成であり；
    各R11は独立して、フェニル、炭素原子数1〜8のアルキル、又はこれらの混成であり；
    各R14は独立して、水素、炭素原子数1〜6のアルキル、又はこれらの混成であり；
    Eは、酸素又はNR15であり、R15は、水素、ヒドロキシル、フェニル、置換型フェニル、炭素原子数1〜6のアルキル、ベンジル、又はこれらの混成であり、
    Wは、二価連結基、二価連結基の組み合わせ、又は二価連結基の混成であり、
    Bは、-[CH2CH(R16)O]-、-[CH2C(R17)(OH)]-、及びこれらの混成から成る群から選択され、各R16及びR17は独立して、水素、炭素原子数1〜6のアルキル、又はこれらの混成であり；
    Tは、水素、炭素原子数1〜8のアルキル、フェニル、又はこれらの混成であり；
    X-はアニオンであり；
    n1は1〜100であり；そして
    n2は2〜8である。
  2. 該M単位が、-[CH2C(R10)(WSi(OR11)3)]-である請求項1に記載の要素。
  3. 該M単位が、-[CH2C(R12)(CO2BnT)]-である請求項1に記載の要素。
  4. 該M単位が、-[CH2C(R13)(CO2(CH2)n2N+(R14)3)X-)]-である請求項1に記載の要素。
  5. 該上層が、ノボラック樹脂、レゾール樹脂及びポリビニルフェノールから成る群から選択されたフェノール樹脂をさらに含む請求項1に記載の要素。
  6. 該K単位が、-[CH2C(R1)R2]-、-[CH2CR3(CO2R4)]-、-[CH2CR5(CON(R6)(R7))]-、及びこれらの混成から成る群から選択され；
    R2が、フェニルであり；
    R6及びR7が、それぞれ独立して水素、メチル、又はこれらの混成であり；
    R4及びR11が、それぞれメチルであり；
    Wが、炭素-ケイ素単結合、フェニレン基、炭素原子数2〜6のアルキレン基、カルボキシ基、これらの組み合わせ、又はこれらの混成であり、
    Bが、-[CH2CH2O]-であり；そして
    n1は10〜50である、
    請求項1に記載の要素。
  7. 該コポリマーが、約1重量%〜約78重量%の該K単位、約20重量%〜約98重量%の該L単位、及び約1重量%〜約30重量%の該M単位から本質的に成る請求項6に記載の要素。
  8. 該M単位が、-[CH2C(R10)(WSi(OR11)3)]-である請求項7に記載の要素。
  9. 該M単位が、-[CH2C(R12)(CO2BnT)]-である請求項7に記載の要素。
  10. 該M単位が、-[CH2C(R13)(CO2(CH2)n2N+(R14)3)X-)]-である請求項7に記載の要素。
  11. 画像を形成する方法であって、該方法は：
    a) 基体と；該基体上の下引き層と；該下引き層上の上層とを含んで成る画像形成性要素を熱画像形成し；そして、画像形成された領域と、相補的な画像未形成領域とを上層内に含む画像形成された画像形成性要素を形成する工程、
    ここで、該要素は、光熱変換材料を含み；
    該上層は、該光熱変換材料を実質的に有しておらず；
    該上層は、インク受容性であり；
    熱画像形成前は、該上層はアルカリ性現像剤によって除去可能ではなく；
    熱画像形成により該上層内に画像形成された領域を形成した後は、該画像形成された領域は該アルカリ性現像剤によって除去可能であり；
    該下引き層は、アルカリ性現像剤によって除去可能であり；そして
    該上層は、K単位、L単位、及びM単位を含むコポリマーを含み：
    該K単位は、-[CH2C(R1)R2]-、-[CH2CR3(CO2R4)]-、-[CH2CR5(CON(R6)(R7))]-、-[C(R8)(COECO)C(R9)]-、及びこれらの混成から成る群から選択され；
    該L単位は、-[CH2CH(CN)]-、-[CH2C(CH3)(CN)]-、及びこれらの混成から成る群から選択され；
    該M単位は、-[CH2C(R10)(WSi(OR11)3)]-、-[CH2C(R12)(CO2(B)n1T)]-、-[CH2C(R13)(CO2(CH2)n2N+(R14)3)X-)]-、及びこれらの混成から成る群から選択され；
    R1、R3、R5、R8、R9、R10、R12、及びR13は、それぞれ独立して水素、メチル又はこれらの混成であり；
    R2は、水素、メチル、フェニル、置換型フェニル、ハロゲン、炭素原子数1〜4のアルコキシ、炭素原子数1〜5のアシル、炭素原子数1〜5のアシルオキシ、ビニル、アリル、又はこれらの混成であり；
    R4、R6、及びR7は、それぞれ独立して水素、炭素原子数1〜6のアルキル、フェニル、又はこれらの混成であり；
    各R11は独立して、フェニル、炭素原子数1〜8のアルキル、又はこれらの混成であり；
    各R14は独立して、水素、炭素原子数1〜6のアルキル、又はこれらの混成であり；
    Eは、酸素又はNR15であり、R15は、水素、ヒドロキシル、フェニル、置換型フェニル、炭素原子数1〜6のアルキル、ベンジル、又はこれらの混成であり、
    Wは、二価連結基、二価連結基の組み合わせ、又は二価連結基の混成であり、
    Bは、-[CH2CH(R16)O]-、-[CH2C(R17)(OH)]-、及びこれらの混成から成る群から選択され、各R16及びR17は独立して、水素、炭素原子数1〜6のアルキル、又はこれらの混成であり；
    Tは、水素、炭素原子数1〜8のアルキル、フェニル、又はこれらの混成であり；
    X-はアニオンであり；
    n1は1〜100であり；そして
    n2は2〜8である；及び
    b) 該画像形成された画像形成性要素を、該アルカリ性現像剤で現像し、そして画像形成された領域を除去する工程
    の各工程を含んで成る。
  12. 該M単位が、-[CH2C(R10)(WSi(OR11)3)]-である請求項11に記載の方法。
  13. 該M単位が、-[CH2C(R12)(CO2BnT)]-である請求項11に記載の方法。
  14. 該M単位が、-[CH2C(R13)(CO2(CH2)n2N+(R14)3)X-)]-である請求項11に記載の方法。
  15. 該上層が、ノボラック樹脂、レゾール樹脂及びポリビニルフェノールから成る群から選択されたフェノール樹脂をさらに含む請求項11に記載の方法。
  16. 該K単位が、-[CH2C(R1)R2]-、-[CH2CR3(CO2R4)]-、-[CH2CR5(CON(R6)(R7))]-、及びこれらの混成から成る群から選択され；
    R2が、フェニルであり；
    R6及びR7が、それぞれ独立して水素、メチル、又はこれらの混成であり；
    R4及びR11が、それぞれメチルであり；
    Wが、炭素-ケイ素単結合、フェニレン基、炭素原子数2〜6のアルキレン基、カルボキシ基、これらの組み合わせ、又はこれらの混成であり、
    Bが、-[CH2CH2O]-であり；そして
    n1が、10〜50である、
    請求項11に記載の方法。
  17. 該コポリマーが、約1重量%〜約78重量%の該K単位、約20重量%〜約98重量%の該L単位、及び約1重量%〜約30重量%の該M単位から本質的に成る請求項16に記載の方法。
  18. 該M単位が、-[CH2C(R10)(WSi(OR11)3)]-である請求項17に記載の方法。
  19. 該M単位が、-[CH2C(R12)(CO2BnT)]-である請求項17に記載の方法。
  20. 該M単位が、-[CH2C(R13)(CO2(CH2)n2N+(R14)3)X-)]-である請求項17に記載の方法。
  21. 約1重量%〜約78重量%のK単位、約20重量%〜約98重量%のL単位、及び約1重量%〜約30重量%のM単位から本質的に成るコポリマーであって：
    該K単位は、-[CH2C(R1)R2]-、-[CH2CR3(CO2R4)]-、-[CH2CR5(CON(R6)(R7))]-、-[C(R8)(COECO)C(R9)]-、及びこれらの混成から成る群から選択され；
    該L単位は、-[CH2CH(CN)]-、-[CH2C(CH3)(CN)]-、及びこれらの混成から成る群から選択され；
    該M単位は、-[CH2C(R10)(WSi(OR11)3)]-、-[CH2C(R12)(CO2(B)n1T)]-、-[CH2C(R13)(CO2(CH2)n2N+(R14)3)X-)]-、及びこれらの混成から成る群から選択され；
    R1、R3、R5、R8、R9、R10、R12、及びR13は、それぞれ独立して水素、メチル又はこれらの混成であり；
    R2は、水素、メチル、フェニル、置換型フェニル、ハロゲン、炭素原子数1〜4のアルコキシ、炭素原子数1〜5のアシル、炭素原子数1〜5のアシルオキシ、ビニル、アリル、又はこれらの混成であり；
    R4、R6、及びR7は、それぞれ独立して水素、炭素原子数1〜6のアルキル、フェニル、又はこれらの混成であり；
    各R11は、独立して、フェニル、炭素原子数1〜8のアルキル、又はこれらの混成であり；
    各R14は、独立して、水素、炭素原子数1〜6のアルキル、又はこれらの混成であり；
    Eは、酸素又はNR15であり、R15は、水素、ヒドロキシル、フェニル、置換型フェニル、炭素原子数1〜6のアルキル、ベンジル、又はこれらの混成であり、
    Wは、二価連結基、二価連結基の組み合わせ、又は二価連結基の混成であり、
    Bは、-[CH2CH(R16)O]-、-[CH2C(R17)(OH)]-、及びこれらの混成から成る群から選択され、各R16及びR17は独立して、水素、炭素原子数1〜6のアルキル、又はこれらの混成であり；
    Tは、水素、炭素原子数1〜8のアルキル、フェニル、又はこれらの混成であり；
    X-は、アニオンであり；
    n1は、1〜100であり；そして
    n2は、2〜8である。
  22. 該K単位が、該コポリマーの約10重量%〜約60重量%であり；該L単位が、該コポリマーの約40重量%〜約90重量%であり；そして該M単位が、該コポリマーの約5重量%〜約20重量%である請求項21に記載のコポリマー。
  23. 該K単位が、-[CH2C(R1)R2]-、-[CH2CR3(CO2R4)]-、-[CH2CR5(CON(R6)(R7))]-、及びこれらの混成から成る群から選択され；
    R2が、フェニルであり；
    R6及びR7が、それぞれ独立して水素、メチル、又はこれらの混成であり；
    R4及びR11が、それぞれメチルであり；
    Wが、炭素-ケイ素単結合、フェニレン基、炭素原子数2〜6のアルキレン基、カルボキシ基、これらの組み合わせ、又はこれらの混成であり、
    Bが、-[CH2CH2O]-であり；そして
    n1が、10〜50である、
    請求項21に記載のコポリマー。
  24. 該K単位が、該コポリマーの約10重量%〜約60重量%であり；該L単位が、該コポリマーの約40重量%〜約90重量%であり；そして該M単位が、該コポリマーの約5重量%〜約20重量%である請求項23に記載のコポリマー。
JP2007535699A 2004-10-05 2005-09-21 多層画像形成性要素 Pending JP2008516284A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/958,957 US7014983B1 (en) 2004-10-05 2004-10-05 Multilayer imageable element
PCT/US2005/033916 WO2006041640A2 (en) 2004-10-05 2005-09-21 Multilayer imageable element

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008516284A true JP2008516284A (ja) 2008-05-15

Family

ID=35614689

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007535699A Pending JP2008516284A (ja) 2004-10-05 2005-09-21 多層画像形成性要素

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7014983B1 (ja)
EP (1) EP1846463A2 (ja)
JP (1) JP2008516284A (ja)
CN (1) CN101035820A (ja)
WO (1) WO2006041640A2 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070065737A1 (en) * 2004-12-06 2007-03-22 Eastman Kodak Company Multilayer imageable elements having good solvent resistance
US20060210917A1 (en) * 2005-03-18 2006-09-21 Kodak Polychrome Graphics Llc Positive-working, thermally sensitive imageable element
JP4709104B2 (ja) * 2006-09-06 2011-06-22 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版原版
WO2008066522A1 (en) * 2006-11-28 2008-06-05 Eastman Kodak Company Multilayer imageable elements having good solvent resistance
US20090186299A1 (en) * 2008-01-17 2009-07-23 Ting Tao Methods for imaging and processing negative-working imageable elements
CN102540709B (zh) * 2010-12-30 2014-05-07 乐凯华光印刷科技有限公司 红外线敏感的免化学处理感光组成物和用其制作的平印版
WO2018061708A1 (ja) * 2016-09-29 2018-04-05 富士フイルム株式会社 ポジ型平版印刷版原版及びその製造方法、並びに、平版印刷版の作製方法

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6064358A (ja) * 1983-09-19 1985-04-12 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真感光体
EP0864420B2 (en) * 1997-03-11 2005-11-16 Agfa-Gevaert Heat-sensitive imaging element for making positive working printing plates
US6165689A (en) * 1997-10-08 2000-12-26 Agfa-Gevaert, N.V. Method for making positive working printing plates from a light sensitive imaging element
US6235451B1 (en) * 1997-10-08 2001-05-22 Agfa-Gevaert Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element
US6004728A (en) * 1997-10-08 1999-12-21 Agfa-Gevaert, N.V. Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element
US6342336B2 (en) * 1998-03-06 2002-01-29 Agfa-Gevaert Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
US6192799B1 (en) * 1998-04-15 2001-02-27 Agfa-Gevaert, N.V. Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
US6152036A (en) * 1998-05-28 2000-11-28 Agfa-Gevaert, N.V. Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
US6534238B1 (en) * 1998-06-23 2003-03-18 Kodak Polychrome Graphics, Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6352812B1 (en) * 1998-06-23 2002-03-05 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6358669B1 (en) * 1998-06-23 2002-03-19 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6352811B1 (en) * 1998-06-23 2002-03-05 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6472119B1 (en) * 1999-01-26 2002-10-29 Agfa-Gavaert Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
JP2001042509A (ja) 1999-07-28 2001-02-16 Fuji Photo Film Co Ltd 感光感熱記録材料
JP2001042510A (ja) 1999-07-28 2001-02-16 Fuji Photo Film Co Ltd 感光感熱記録材料
US6294311B1 (en) * 1999-12-22 2001-09-25 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing plate having high chemical resistance
US6451505B1 (en) * 2000-08-04 2002-09-17 Kodak Polychrome Graphics Llc Imageable element and method of preparation thereof
US6593055B2 (en) * 2001-09-05 2003-07-15 Kodak Polychrome Graphics Llc Multi-layer thermally imageable element
US6723490B2 (en) * 2001-11-15 2004-04-20 Kodak Polychrome Graphics Llc Minimization of ablation in thermally imageable elements
US6830862B2 (en) * 2002-02-28 2004-12-14 Kodak Polychrome Graphics, Llc Multi-layer imageable element with a crosslinked top layer
US6645689B2 (en) * 2002-03-13 2003-11-11 Kodak Polychrome Graphics Llc Solvent resistant polymers with improved bakeability features

Also Published As

Publication number Publication date
EP1846463A2 (en) 2007-10-24
US7014983B1 (en) 2006-03-21
US20060073415A1 (en) 2006-04-06
CN101035820A (zh) 2007-09-12
WO2006041640A2 (en) 2006-04-20
WO2006041640A3 (en) 2006-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7291440B2 (en) Bakeable multi-layer imageable element
US7060415B2 (en) Printing plate precursor comprising solvent-resistant copolymer
US7186482B2 (en) Multilayer imageable elements
JP4634462B2 (ja) 耐溶剤性画像形成性要素
JP2011510355A (ja) 平版印刷版の形成方法
JP2010134476A (ja) 平版印刷版の製造方法
JP2011516919A (ja) 水なし印刷に有用な画像形成性要素
JP2008509245A (ja) ベタイン含有コポリマーを含む、熱切換え可能な画像形成性要素
JP2008516284A (ja) 多層画像形成性要素
US7049045B2 (en) Multilayer imageable elements
US20070065737A1 (en) Multilayer imageable elements having good solvent resistance
JP2003241399A (ja) 平版印刷版の製版方法
WO2006068852A1 (en) Solvent resistant imageable element
EP1654119B1 (en) Multilayer imageable elements
JP2010538319A (ja) 改善された耐摩耗性を有する画像形成性要素
WO2004051373A2 (en) Developing mixture, and preparation of lithographic printing plates with this developer
JP5038434B2 (ja) 良好な耐溶剤性を有する多層画像形成性要素
US20060210917A1 (en) Positive-working, thermally sensitive imageable element