CN101035820A - 多层可成像元件 - Google Patents

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T·陶
S·A·贝克利
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Abstract

公开了可用作平版印版前体的多层热可成像元件。该可成像元件包括基材、基材之上的底层、基材之上的底层和底层之上的顶层。顶层含有亚烷基二醇侧链、聚亚烷基二醇侧链、具有用三个烷氧基和/或苯氧基取代的甲硅烷基的侧链和/或具有烷基铵侧链的侧链的共聚物。该可成像元件对印刷车间化学品具有优异的耐受性。

Description

多层可成像元件
技术领域
本发明涉及平版印刷。具体地，本发明涉及具有良好耐溶剂性的可用作平版印版前体的多层可成像元件。
发明背景
在常规或“湿型”平版印刷中，称为图像区域的吸墨区域在亲水性表面上产生。当表面用水润湿以及施涂油墨时，亲水性区域留住水并排斥油墨，而吸墨区域接受油墨并排斥水。油墨被转移到其上将再产生图像的材料表面。通常，油墨首先转移到中间层，其进而将油墨转移到其上将再产生图像的材料表面。
可用作平版印版前体的可成像元件通常包括在基材亲水性表面之上施加的可成像层。可成像层包括一种或多种辐射敏感组分，其可以分散在适合的基料中。两者择一地，辐射敏感组分也可以作为基料材料。成像之后，可成像层的已成像区域或未成像区域由适合的显影剂除去，露出基材的下层亲水性表面。如果除去已成像区域，则前体为正像。相反，如果除去未成像区域，则前体为负像。每种情况下，保留下来的可成像层的区域(即成像区域)是吸墨性的，并且由显影过程揭露的亲水性表面的区域接受水和通常为润湿液的水溶液并排斥油墨。
可成像元件利用紫外线和/或可见光辐射的常规成像通过具有透明和不透明区域的掩模进行。成像在掩模的透明区域下的区域中发生，而不在不透明区域下的区域发生。但是，不需要通过掩模成像的直接数字成像在印刷工业中变得日益重要。已经研发了供红外激光器使用的用于制备平版印版的可成像元件。热可成像的多层元件公开于例如Shimazu的US 6,294,311、US 6,352,812和US 6,593,055；Patel的US 6,352,811；Savariar-Hauck的US 6,358,669和US6,528,228；以及Kitson的2004/0067432 A1。
使用中，平版印版与润版液发生接触。另外，印版经常进行侵蚀性的毛毡洗涤(blanket wash)，例如“UV洗涤”，以除去紫外线可固化油墨。但是，这些系统中的许多对于润版液和/或侵蚀性的覆盖洗涤具有有限的耐受性。因此，需要对这些溶剂具有耐受性，可用作平版印版前体的正像多层热可成像元件。
发明概述
在一个方面，本发明为具有优异耐化学性的可成像元件。该可成像元件包括：
基材；
基材之上的底层；和
底层之上的顶层；
其中：
该元件包括光热转化材料；
顶层基本不含光热转化材料；
顶层是吸墨性的；
热成像之前，顶层不可由碱性显影剂除去；
在顶层中热成像形成成像区域之后，该成像区域可由碱性显影剂除去；
底层可由碱性显影剂除去，以及
顶层包括一种共聚物，该共聚物包括K单元、L单元和M单元；其中：
K单元选自-[CH2C(R1)R2]-、-[CH2CR3(CO2R4)]-、-[CH2CR5(CON(R6)(R7))]-、-[C(R8)(COECO)C(R9)]-及其混合物；
L单元选自-[CH2CH(CN)]-、-[CH2C(CH3)(CN)]-及其混合物；
M单元选自-[CH2C(R10)(WSi(OR11)3)]-、-[CH2C(R12)(CO2(B)n1T)]-、-[(CH2C(R13)(CO2(CH2)n2N+(R14)3)X-)]-及其混合物
R1、R3、R5、R8、R9、R10、R12和R13各自独立地为氢、甲基或其混合物；
R2为氢、甲基、苯基、取代苯基、卤素、一到四个碳原子的烷氧基、一到五个碳原子的酰基、一到五个碳原子的酰氧基、乙烯基、烯丙基或其混合物；
R4、R6和R7各自独立地为氢、一到六个碳原子的烷基或其混合物；
每个R11独立地为苯基、一到八个碳原子的烷基或其混合物；
每个R14独立地为氢、一到六个碳原子的烷基或其混合物；
E为氧或NR15，其中R15为氢、羟基、苯基、取代苯基、一到六个碳原子的烷基、苯甲基或其混合物；
W为二价连接基、二价连接基的组合或二价连接基的混合物；
B选自-[CH2CH(R16)O]-、-[CH2C(R17)(OH)]-及其混合物，其中R16和R17各自独立地为氢、一到六个碳原子的烷基或其混合物；
T为氢、一到八个碳原子的烷基、苯基或其混合物；
X-为阴离子；
n1为1到100；和
n2为2到8。
另一方面，本发明为一种通过使可成像元件成像并显影而形成图像的方法。另一方面，本发明为一种通过使可成像元件成像并显影而形成的图像。另一方面，本发明为由K单元、L单元和M单元构成的共聚物。
发明详述
除非上下文另外表明，在说明书和权利要求中，术语聚合物材料、共聚物、添加的聚合物、K单元、L单元、M单元、光热转化材料、表面活性剂和类似术语还包括此类材料的混合物。除非另有规定，所有百分比为重量百分比，以及所有温度为摄氏度(摄氏温度)。热成像表示用例如热能头的供热体或者用红外辐射成像。可成像元件
本发明为包括载体、顶层和底层的可成像元件。该元件还包括光热转化材料。顶层是吸墨性的并且基本不含光热转化材料。热成像之前，顶层不可由碱性显影剂除去，但是在热成像之后，顶层的成像区域可由显影剂除去。底层可由显影剂除去。
顶层
共聚物
顶层包括一种共聚物，该共聚物包括K单元、L单元和M单元。K单元通常构成约1wt％到约78wt％，优选约10wt％到约60wt％的共聚物。L单元包括氰基，并且通常构成约20wt％到约98wt％，优选约40wt％到约90wt％的共聚物。M单元包括亚烷基二醇侧链、聚亚烷基二醇侧链、具有用三个烷氧基和/或苯氧基取代的甲硅烷基的侧链和/或具有三烷基铵侧链的侧链，并且通常构成约1wt％到约30wt％，优选约5wt％到约20wt％的共聚物。可以存在少量其它单元，但并非必需。K单元wt％、L单元wt％和M单元wt％的总和通常为约100％，使得共聚物基本由或由K单元、L单元和M单元组成。
K单元选自-[CH2C(R1)R2]-、-[CH2CR3(CO2R4)]-、-[CH2CR5(CON(R6)(R7))]-、-[C(R8)(COECO)C(R9)]-及其混合物。K单元通常为-[CH2C(R1)R2]-、-[CH2CR5(CON(R6)(R7))]-、-[CH2CR3(CO2R4)]-或其混合物。L单元选自-[CH2CH(CN)]-、-[CH2C(CH3)(CN)]-及其混合物。M单元选自-[CH2C(R10)(WSi(OR11)3)]-、-[CH2C(R12)(CO2(B)n1T)]-、-[(CH2C(R13)(CO2(CH2)n2N+(R14)3)X-)]-及其混合物。
R1、R3、R5、R8、R9、R10、R12和R13各自独立地为氢、甲基或其混合物。
R2为氢、甲基、苯基、取代苯基、卤素、一到四个碳原子的烷氧基、一到五个碳原子的酰基、一到五个碳原子的酰氧基、乙烯基、烯丙基或其混合物。取代苯基包括例如4-甲基苯基、3-甲基苯基、4-甲氧基苯基、4-氰基苯基、4-氯苯基、4-氟苯基、4-乙酰氧基苯基、3，5-二氯苯基和2，4，6-三甲基苯基。卤素包括氟(F)、氯(Cl)和溴(Br)。烷氧基包括例如甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基和叔丁氧基。一到五个碳原子的酰基包括例如H3CO-(乙酰基)、CH3CH2CO-、CH3(CH2)2CO-、CH3(CH2)3CO-和(CH3)3CCO-。一到五个碳原子的酰氧基包括例如H3CC(O)O-(乙酰氧基)、CH3CH2C(O)O-、CH3(CH2)2C(O)O-、CH3(CH2)3C(O)O-和(CH3)3CC(O)O-。R2优选为苯基。
R4、R6和R7各自独立地为氢、一到六个碳原子的烷基、苯基或其混合物。一到六个碳原子的烷基包括例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、新戊基、正己基、异己基、1，1-二甲基-丁基、2，2-二甲基-丁基，以及环烷基，例如环丙基、环丁基、环戊基、甲基环戊基和环己基。R4、R6和R7各自通常为氢、甲基或其混合物。
每个R11独立地为苯基、一到八个碳原子的烷基或其混合物。一到八个碳原子的烷基包括例如上列一到六个碳原子的烷基、正庚基、正辛基、2-乙基己基和2，2，4-三甲基戊基，以及环烷基，例如环庚基、4-甲基环己基、环辛基、1-甲基环庚基、2，6-二甲基环己基、4-甲基环己基和4-乙基环己基。R11通常为甲基。
-[C(R8)(COECO)C(R9)]-表示环酐或环酰亚胺结构，例如基于马来酸酐或N-苯基马来酰亚胺的自由基聚合产生的。也即，首位和末位碳原子通过碳-碳单键键合。E为氧或NR15，其中R15为氢、羟基、苯基、取代苯基、一到六个碳原子的烷基、苯甲基或其混合物。取代苯基和一到六个碳原子的烷基的实例如上所列。
每个R14独立地为氢、如上所列的一到六个碳原子的烷基或其混合物。R14通常为甲基。
W为二价连接基、二价连接基的组合或二价连接基的混合物。二价连接基包括例如碳-硅单键(即M单元具有结构：-[CH2C(R10)Si(OR11)3]-)；氧(-O-)；羰基(-C(O)-)；羧基(-CO2-)；含有1到8个碳原子的亚烷基(-(CH2)m-)(m为1到8)；和亚苯基(-(C6H4)-)，例如邻-、间-和对-亚苯基。也可以使用这些基团的组合。优选的二价连接基包括碳-硅单键、亚苯基、含有2到6个碳原子的亚烷基(即M单元具有结构-[CH2C(R10)(CH2)mSi(OR11)3]-，其中m为2到6)；和羧基烷基(结构式-CO2(CH2)m-的羧基和亚烷基的组合，其中m为2到6(即M单元具有结构-[CH2C(R10)CO2(CH2)mSi(OR11)3]-)。
B选自-[CH2CH(R16)O]-、-[CH2C(R17)(OH)]-及其混合物，其中R16和R17各自独立地为氢、如上所列的一到六个碳原子的烷基或其混合物。R16和R17各自通常为氢或甲基，更通常为氢。B通常为-[CH2CH(R16)O]-，更通常为-[CH2CH2O]-。
T为氢、如上所列的一到八个碳原子的烷基、苯基或其混合物。一到八个碳原子的烷基的实例如上所列。
X-为阴离子。代表性阴离子包括例如卤化物，如氯化物和溴化物；醋酸盐、硝酸盐；硼酸盐，如四氟硼酸盐和四苯基硼酸盐；硫酸盐，如甲基硫酸盐、乙基硫酸盐和三氟甲基硫酸盐；六氟磷酸盐；和磺酸盐，如氟甲基磺酸盐、五氟乙基磺酸盐和甲基磺酸盐。也可以使用多价阴离子，例如硫酸盐。
n1为1到100，通常为10到50。n2为2到8。
制备共聚物
共聚物可以通过自由基聚合制备。在一种典型制备中，三种单体的混合物发生共聚合，其中一种单体为K单元的前体，一种单体为L单元的前体，以及一种单体为M单元的前体。自由基聚合是本领域技术人员公知的，并且记载于例如Macromolecules，卷2，第二版，20和21章，H.G.Elias，Plenum，纽约，1984年。可用的自由基引发剂为过氧化物，例如过氧化苯甲酰，氢过氧化物，例如枯基过氧化氢，以及偶氮化合物，例如2，2′-偶氮二(异丁腈)(AIBN)。链转移剂，例如月桂基硫醇，可以用来控制化合物的分子量。自由基聚合的适合溶剂包括对反应物惰性并且不会另外不利地影响反应的液体，例如水；酯类，例如乙酸乙酯和乙酸丁酯；酮类，例如甲基乙基酮、甲基异丁基酮、甲基丙基酮和丙酮；醇类，例如甲醇、乙醇、异丙醇、正丙醇、1-甲氧基乙醇(Methyl CELLOSOLVE)、正丁醇；醚类，例如二氧杂环己烷和四氢呋喃；酰胺，例如N，N-二甲基甲酰胺和N，N-二甲基乙酰胺及其混合物。
K单元的前体包括例如苯乙烯；取代苯乙烯，例如3-甲基苯乙烯、4-甲基苯乙烯、4-甲氧基苯乙烯、4-乙酰氧基苯乙烯和α-甲基苯乙烯；丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸正己酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸正戊酯、甲基丙烯酸新戊酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸正己酯、甲基丙烯酸2-乙氧基乙基酯和甲基丙烯酸烯丙酯；乙烯基酯，例如醋酸乙烯酯和丁酸乙烯酯；乙烯基酮，例如甲基乙烯基酮和丁基乙烯基酮；氯乙烯；乙烯基溴；马来酰亚胺，例如马来酰亚胺、N-苯基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺、N-苯甲基马来酰亚胺和N-羟基马来酰亚胺；丙烯酰胺，例如丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N，N-二甲基丙烯酰胺和N，N-二甲基甲基丙烯酰胺及其混合物。K单元的优选前体包括苯乙烯、甲基丙烯酸甲酯、N-苯基马来酰亚胺和甲基丙烯酰胺。如果例如苯乙烯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯的混合物用作K单元的前体，在得到的共聚物中，K单元为-[CH2C(R1)R2]-单元和-[CH2CR3(CO2R4)]-单元的混合物，其中R1为氢，R2为苯基，R3为氢和甲基的混合物，以及R4为甲基和乙基的混合物。
L单元的前体为丙烯腈、甲基丙烯腈及其混合物。
M单元的前体包括例如：
乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基甲硅烷、乙烯基三丁氧基硅烷、烯丙基三甲氧基硅烷、烯丙基三乙氧基甲硅烷、4-(三甲氧基甲硅烷基)-1-丁烯、2-(三甲氧基甲硅烷基)丙烯酸乙酯、2-(三甲氧基甲硅烷基)甲基丙烯酸乙酯、3-(三甲氧基甲硅烷基)丙烯酸丙酯、3-(三甲氧基甲硅烷基)甲基丙烯酸丙酯、3-(三乙氧基甲硅烷基)丙烯酸丙酯、3-(三甲氧基甲硅烷基)甲基丙烯酸丙酯、3-(三丙氧基甲硅烷基)丙烯酸丙酯、3-(三丙氧基甲硅烷基)甲基丙烯酸丙酯、3-(三丁氧基甲硅烷基)丙烯酸丙酯、3-(三丁氧基甲硅烷基)甲基丙烯酸丙酯、4-(三甲氧基甲硅烷基)丙烯酸丁酯、4-(三甲氧基甲硅烷基)甲基丙烯酸丁酯、5-(三甲氧基甲硅烷基)丙烯酸戊酯、5-(三甲氧基甲硅烷基)甲基丙烯酸戊酯、6-(三甲氧基甲硅烷基)丙烯酸己酯、6-(三甲氧基甲硅烷基)甲基丙烯酸己酯，
乙二醇单丙烯酸酯(丙烯酸2-羟乙酯)、乙二醇单甲基丙烯酸酯(甲基丙烯酸2-羟乙酯)、聚乙二醇单甲基丙烯酸酯、聚丙二醇甲基醚甲基丙烯酸酯、聚乙二醇乙基醚甲基丙烯酸酯、聚乙二醇丁基醚甲基丙烯酸酯、聚丙二醇二己基醚甲基丙烯酸酯、聚丙二醇辛基醚甲基丙烯酸酯、聚乙二醇甲基醚丙烯酸酯、聚乙二醇乙基醚丙烯酸酯、聚乙二醇苯基醚丙烯酸酯、聚丙二醇单丙烯酸酯、聚丙二醇单甲基丙烯酸酯、聚丙二醇甲基醚甲基丙烯酸酯、聚丙二醇乙基醚甲基丙烯酸酯、聚丙二醇丁基醚甲基丙烯酸酯、聚(乙二醇/丙二醇)甲基醚甲基丙烯酸酯、聚乙烯醇单甲基丙烯酸酯、聚乙烯醇单丙烯酸酯，
氯化2-[(丙烯酰氧基)乙基]三甲基铵、甲基硫酸2-[(丙烯酰氧基)乙基]三甲基铵、氯化2-[(丙烯酰氧基)乙基]三甲基铵、氯化2-[(甲基丙烯酰氧基)乙基]三甲基铵、氯化3-[(甲基丙烯酰氧基)丙基]三甲基铵、氯化3-[(丙烯酰氧基)丙基]三甲基铵、氯化4-[(甲基丙烯酰氧基)丁基]三甲基铵、氯化4-[(丙烯酰氧基)丁基]三甲基铵、氯化5-[(甲基丙烯酰氧基)戊基]三甲基铵、氯化5-[(丙烯酰氧基)戊基]三甲基铵；
及其混合物。
M单元的优选前体包括：以下结构的乙烯基三甲氧基硅烷单体：CH2＝C(R10)(CO2(CH2)mSi(OCH3)3)，其中R10为氢或甲基，m为2到6，例如2-(三甲氧基甲硅烷基)丙烯酸乙酯、2-(三甲氧基甲硅烷基)甲基丙烯酸乙酯、3-(三甲氧基甲硅烷基)丙烯酸丙酯、3-(三甲氧基甲硅烷基)甲基丙烯酸丙酯、4-(三甲氧基甲硅烷基)丙烯酸丁酯、4-(三甲氧基甲硅烷基)甲基丙烯酸丁酯、5-(三甲氧基甲硅烷基)丙烯酸戊酯、5-(三甲氧基甲硅烷基)甲基丙烯酸戊酯、6-(三甲氧基甲硅烷基)丙烯酸己酯和6-(三甲氧基甲硅烷基)甲基丙烯酸己酯；聚乙二醇甲基醚甲基丙烯酸酯、聚乙二醇丙烯酸酯和聚丙二醇甲基醚甲基丙烯酸酯；氯化2-[(甲基丙烯酰氧基)乙基]三甲基铵和氯化3-[(甲基丙烯酰氧基)丙基]三甲基铵；及其混合物。M单元的可商购前体包括例如甲基丙烯酸2-羟乙酯(CAS#868-77-9)、聚乙二醇丙烯酸酯(CAS#9051-31-4)、聚乙二醇甲基醚甲基丙烯酸酯(CAS#26915-72-0)、乙烯基三甲氧基硅烷(CAS#754-05-2)、3-(三甲氧基甲硅烷基)甲基丙烯酸丙酯(CAS#2530-85-0)；和氯化2-[(甲基丙烯酰氧基)乙基]三甲基铵(CAS#5039-78-1)。
虽然已经根据可用于形成共聚物的单体描述了共聚物的制备，但是这一点并非将共聚物限制到由指明的单体聚合形成的那些共聚物。该共聚物可以由对于本领域技术人员显而易见的其它路线形成，例如通过改性前体聚合物形成。例如，可以通过向合适的前体聚合物中加入-Si(OR11)3基团或-WSi(OR11)3基团，形成共聚物。附加的聚合物
一种或多种其它附加的聚合物也可以存在于顶层中。当存在时，附加的聚合物构成约0.1wt％到约50wt％，优选约1wt％到约20wt％的顶层。附加的聚合物通常为酚醛树脂，例如酚醛清漆树脂、甲阶酚醛树脂或聚乙烯基苯酚。当存在时，优选的附加的聚合物为酚醛清漆树脂。
酚醛清漆树脂是可商购的和本领域普通技术人员公知的。它们通常通过酚类，例如苯酚、间甲酚、邻甲酚、对甲酚等，与醛类，例如甲醛、仲甲醛、乙醛等，或酮类，例如丙酮，在酸催化剂存在下进行缩合反应制备。重均分子量通常为约1,000到15,000。代表性的酚醛清漆树脂包括例如酚醛树脂、甲酚-甲醛树脂、苯酚-甲酚-甲醛树脂、对叔丁基苯酚-甲醛树脂和连苯三酚-丙酮树脂。重均分子量为至少10,000的溶剂可溶性酚醛清漆树脂；包括至少10mol％的对甲酚并且重均分子量为至少8,000的溶剂可溶性间甲酚/对甲酚酚醛清漆树脂及其混合物可能是特别有用的。
顶层也可以包括属于可成像元件的常规成分的其它成分，例如染料和表面活性剂。可以存在表面活性剂，例如氟化表面活性剂或聚乙氧基化二甲聚硅氧烷共聚物，或者表面活性剂混合物，以帮助其它成分分散在涂布溶剂中，和/或起涂布助剂的作用。可以存在染料以帮助目测检查成像和/或显影的元件。印出染料将处理过程中成像的区域与未成像区域区分开。对比染料将显影的可成像元件，即得到的平版印版中未成像区域与已成像区域区分开。
底层
底层位于顶层和基材之间。其在基材上方，并且通常在基材上。底层包括可由显影剂除去并且优选可溶于显影剂的聚合物材料。另外，该聚合物材料优选不可溶于用于涂布顶层的溶剂，使得顶层可以涂布在底层之上，而不溶解底层。其它成分、附加的聚合物、光热转化材料和表面活性剂也可以存在于底层中。可用的聚合物材料包括羧基官能丙烯酸、醋酸乙烯酯/丁烯酸酯/新癸酸乙烯酯共聚物、苯乙烯马来酸酐共聚物、酚醛树脂、马来酸化的木松香及其组合。对于润版液和侵蚀性洗涤提供抗性的底层公开于Shimazu的US6,294,311。
特别可用的聚合物材料为聚乙烯醇缩乙醛和包括N-取代的马来酰亚胺，特别是N-苯基马来酰亚胺的共聚物；甲基丙烯酰胺，特别是甲基丙烯酰胺；以及丙烯酸和/或甲基丙烯酸，特别是甲基丙烯酸。优选的此类聚合物材料为N-苯基马来酰亚胺、甲基丙烯酰胺和甲基丙烯酸的共聚物，更优选含有约25到约75mol％，优选约35到约60mol％的N-苯基马来酰亚胺；约10到约50mol％，优选约15到约40mol％的甲基丙烯酰胺；和约5到约30mol％，优选约10到约30mol％的甲基丙烯酸的那些共聚物。可以使用其它亲水单体，例如甲基丙烯酸羟乙酯代替一部分或全部甲基丙烯酰胺。可以使用其它碱可溶性单体，例如丙烯酸代替一部分或全部甲基丙烯酸。这些聚合物材料可溶于可以用作底层的涂布溶剂的乳酸甲酯/甲醇/二氧戊环(15∶42.5∶42.5wt％)混合物。但是，它们难溶于可以用作将顶层涂布在底层之上而不溶解底层的溶剂，例如丙酮和甲苯。也可以使用在此引用的2003年8月14日提交的美国专利申请10/641,888；2004年4月8日提交的美国专利申请10/820,546；和2003年10月8日提交的美国专利申请10/681,701中公开的可烘底层。
底层也可以包括一种或多种其它聚合物材料，条件是添加的这些聚合物材料不会不利地影响底层的耐化学性和可溶性。当存在时，优选的其它聚合物材料为酚醛清漆树脂，可以加入酚醛清漆树脂，通过后显影烘烤工艺来改善印刷部件的寿命。
光热转化材料
要用红外辐射成像的可成像元件通常包括被称为光热转化材料的红外吸收剂。光热转化材料吸收辐射并将其转变为热。光热转化材料可以存在于底层中和/或顶层和底层之间的分离的吸收层中。虽然光热转化材料并非必须用供热体成像，但是包含光热转化材料的可成像元件也可以用例如热能头或一排热能头的供热体成像。
光热转化材料可以为能够吸收辐射并将其转变为热的任何材料。适合的材料包括染料和颜料。典型的颜料包括例如炭黑、酞菁绿、尼格色基、氧化铁(III)、氧化锰、普鲁士蓝和巴黎蓝。颜料颗粒的尺寸不应大于包含该颜料的层的厚度。优选，颗粒尺寸将是该层厚度的一半或更小。
光热转化材料可以为具有适当吸收光谱和溶解度的染料。染料，特别是具有750nm到1200nm高吸光系数的染料是优选的。适合的染料的实例包括以下种类的染料：次甲基、聚次甲基、芳基次甲基、花青、半花青、链花青、方酸(squarylium)、吡喃、氧杂菁、萘醌、蒽醌、卟啉、偶氮、克酮酸盐(croconium)、三芳基胺、噻唑、吲哚(indolium)、唑(oxazolium)、吲哚花青(indocyanine)、吲哚三羰花青(indotricarbocyanine)、三羰花青、酞菁、硫菁、硫三羰花青(thiatricarbocyanine)、部花青、隐花青、萘菁、聚苯胺、聚吡咯、聚噻吩、硫代吡喃并亚芳(chalcogenopyryloarylidene)和二(硫代吡喃并)聚次甲基(bis(chalcogenopyrylo)polymethine)、氧化吲嗪(oxyindolizine)、吡唑啉偶氮和嗪类。吸收染料公开于很多出版物中，例如Nagasaka的EP 0,823,327；DeBoer的US 4,973,572；Jandrue的US 5,244,771；Patel的US 5,208,135；和Chapman的US 5,401,618。可用的吸收染料的其它实例包括：ADS-830A和ADS-1064(AmericanDye Source，Montreal，Canada)，EC2117(FEW，Wolfen，Germany)，Cyasorb IR 99和Cyasorb IR 165(Glendale Protective Technology)，Epolite IV-62B和Epolite III-178(Epoline)，SpectraIR 830A和SpectraIR 840A(Spectra Colors)，以及结构如下所示的IR染料，和结构在实施例中示出的IR染料A和IR染料B。
Figure A20058003403200181
                      IR染料A
Figure A20058003403200182
                      IR染料B
水溶性光热转化材料包括例如具有一个或多个硫酸盐和/或磺酸盐基团的花青染料。包含两个到四个磺酸盐基团的其它吸收红外的花青阴离子例如公开于West的US 5,107,063；Pearce的US5,972,838；Chapman的6,187,502；Fabricius的US 5,330,884；和日本申请公开63-033477。具有聚磺酸盐阴离子的花青染料的制备例如公开于2003年11月25日提交的美国专利申请序列号10/722,257中，在此引入作为参考。N-烷基硫酸盐花青化合物的制备例如公开于2003年12月15日提交的美国专利申请序列号10/736,364中，在此引入作为参考。
存在于元件中的光热转化的量通常在成像波长下足以提供至少0.05的光密度，优选约0.5到至少约2到3的光密度。作为本领域技术人员公知的，在特定波长下产生特定光密度所需的化合物量可以使用Beer定律确定。虽然存在量将取决于所选一种或多种化合物，但是当光热转化材料仅存在于底层中时，其通常构成约0.2wt％到约8wt％，更通常约0.5wt％到约4wt％的底层。
其它层
光热转化材料可以存在于分离的吸收层中。当存在吸收层时，其位于顶层和底层之间。吸收层优选基本由光热转化材料和任选的表面活性剂组成。如果光热转化材料存在于分离的吸收层中，可能的是使用较少的光热转化材料。吸收层优选具有足以吸收至少90％，优选至少99％成像辐射的厚度。通常，吸收层的涂布量为约0.02g/m2到约2g/m2，优选为约0.05g/m2到约1.5g/m2。包括吸收层的元件公开于Shimazu的US 6,593,055。
为了使可成像元件制造和储存过程中光热转化材料从底层到顶层的迁移达到最小，该元件可以在底层和顶层之间包括阻隔层。阻隔层包括可溶于显影剂的聚合物材料。如果这种聚合物材料不同于底层中的聚合物材料，其优选可溶于底层中的聚合物材料在其中不可溶的至少一种有机溶剂。阻隔层的优选聚合物材料为聚乙烯醇。当阻隔层中的聚合物材料不同于底层中的聚合物材料时，阻隔层应小于底层厚度的五分之一，优选小于底层厚度的十分之一。包括阻隔层的可成像元件公开于Patel的US 6,723,490。
基材
基材包括载体，其可以为通常用于制备可用作平版印版的可成像元件的任何材料。载体优选为坚固、稳定和柔性的。其应能在使用条件下耐受尺寸变化，使得彩色记录将套准全色图像。通常，其可以为任何自支撑材料，包括例如聚合物薄膜，例如聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜，陶瓷，金属，或硬质纸张，或任何这些材料的层压材料。金属载体包括铝、锌、钛及其合金。
通常，聚合物薄膜在一个或两个表面上包含底层，以改善与后续各层的粘合性。这一个或多个层的性质取决于基材以及后续一个或多个层的组成。底层材料的实施例为增粘材料，例如烷氧基硅烷、氨基丙基三乙氧基硅烷、环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷和环氧官能聚合物，以及在感光胶片中的聚酯基底上使用的常规底层材料。
当基材包括铝或铝合金片时，其应足够厚以承受印刷时的磨损，并且应足够薄以包裹印刷机中的滚筒，通常为约100μm到约600μm。通常通过本领域中已知的各种方法对其进行清洗、粗糙化处理和阳极化处理。开始，使用表面活性剂、有机溶剂或碱性水溶液的脱脂处理通常有助于从片材表面除去油类和油脂。然后可以通过公知的技术使表面粗糙化，例如机械粗糙化，如球抛光、刷抛光、喷砂抛光和振颤抛光；化学粗糙化，其中通过有选择地溶解表面使表面粗糙化；或电化学粗糙化，或者这种化学、机械和/或电化学处理的组合(多重磨版)。使用热酸性(例如硫酸或磷酸)溶液或者碱性溶液(例如氢氧化钠或与氢氧化钠混合的磷酸三钠)蚀刻基材。可以进行阳极氧化形成表面氧化铝的亲水性层，通常氧化铝层重量最少为0.3g/m2。在包括电解质的电解溶液中使用载体作为阳极，通过通电进行阳极氧化，该电解质例如硫酸、磷酸、铬酸、硼酸、柠檬酸、草酸或其混合物。阳极氧化公开于例如Fromson的US 3,280,734和Chu的US 5,152,158中。
然后，该清洗过的、粗糙化的和阳极化处理的载体可以使用碱金属硅酸盐，例如含水硅酸钾、硅酸锂或者通常为硅酸钠进行亲水化。亲水化记载于例如Jewett的US 2,714,066和Fromson的US 3,181,461中。载体在碱金属硅酸盐的水溶液中浸渍或电解。
通常，基材包括在铝载体和一个或多个覆盖层之间的中间层。中间层可以通过用例如硅酸盐、糊精、六氟硅酸、磷酸盐/氟化物、聚乙烯基膦酸(PVPA)、乙烯基膦酸共聚物或水溶性重氮树脂处理铝载体形成。可用作中间层材料的包括(1)膦酸基和/或磷酸基，和(2)酸基和/或包括亚烷基二醇或聚亚烷基二醇侧链的基团的共聚物还公开在2004年8月20日提交的美国专利申请10/922,782中。可用作中间层材料的包括(1)酸基和/或膦酸基，和(2)用三个烷氧基和/或苯氧基取代的甲硅烷基的共聚物还公开在2004年8月27日提交的美国专利申请10/928,339中。
载体的背面(即可成像层对面的侧面)可以涂有抗静电剂和/或滑动层或粗糙层，以改善可成像元件的处理和“手感”。
制备可成像元件
术语“溶剂”和“涂布溶剂”包括溶剂混合物。使用这些术语，但是一些或全部材料可以悬浮或分散在溶剂中，而非形成溶液。涂布溶剂的选择取决于各层中存在的组分的性质。可以通过使用传统方法顺序地在基材的亲水性表面之上施加底层；在底层之上施加吸收层或如果存在，施加阻隔层；以及然后施加顶层，制备可成像元件。
底层可以通过任何常规方法，例如涂布或层压进行施加。通常，各成分分散或溶于适合的涂布溶剂，以及通过常规方法，例如旋涂、棒涂、凹版涂布、口模涂布或辊涂涂布得到的混合物。底层可以例如由甲基乙基酮、1-甲氧基-2-丙醇、γ-丁内酯和水的混合物；由二乙基甲酮、水、乳酸甲酯和γ-丁内酯的混合物；以及由二乙基甲酮、水和乳酸甲酯的混合物施加。
包括阻隔层的可成像元件的制备公开于Patel的US 6,723,490。包括吸收层的可成像元件的制备公开于Shimazu的US 6,593,055。当既没有阻隔层也没有吸收层时，顶层涂布在底层上。为防止底层免于与顶层溶解和混合，顶层应由底层基本不可溶于其中的溶剂涂布。因此，顶层的涂布溶剂应为其中顶层的各组分充分可溶，可以形成顶层，并且其中任何底层基本不可溶的溶剂。通常，用于涂布底层的溶剂极性比用于涂布顶层的溶剂更大。顶层可以例如由二乙基甲酮，或由二乙基甲酮和醋酸1-甲氧基-2-丙酯的混合物施加。中间干燥步骤，即在将顶层涂布在底层上之前干燥底层除去涂布溶剂的步骤，还可以用于防止各层混合。
可选地，底层、顶层或两个层可以由层组分的熔融混合物通过常规挤出涂布的方法施加。通常，这种熔融混合物不包含挥发性有机溶剂。
成像和加工
可成像元件可以使用发射处于被可成像元件吸收的波长范围内的调谐近红外或红外辐射的激光或一排激光热成像。通常使用红外辐射，特别是约800nm到约1200nm的红外辐射进行成像。使用以约830nm、约1056nm或约1064nm发射的激光方便地进行成像。适合的可商购成像设备包括成像调节器，例如CREOTrendsetter(Creo，Burnaby，British Columbia，Canada)、ScreenPlateRite 4300型、8600型和8800型(Screen，Rolling Meadows，Chicago，Illinois，USA)，以及Gerber Crescent 42T(Gerber)。
两者择一地，可成像元件可以使用供热体，例如包含热敏打印头的常规设备进行热成像。适合的设备包括至少一个热能头，但通常将包括一个热能头组，例如用于热敏传真机和升华打印机的TDK型号LV5416，GS618-400热绘图器(Oyo Instruments，Houston，TX，USA)，或VP-3500型热敏打印机(Seikosha America，Mahwah，NJ，USA)。
成像产生包括已成像(曝光)区域的潜像和互补的未成像区域的像元。成像元件形成印版或印刷格式的显影通过除去成像区域，露出下层基材的亲水性表面，将潜像转换为图像。
显影剂可以为能够穿透和除去顶层的成像区域，如果存在，吸收层或阻隔层的下层区域，以及底层的下层区域，而基本上不影响未成像区域的任何液体或溶液。显影足够长的时间，以在显影剂中除去顶层的成像区域，如果存在，吸收层或阻隔层的下层区域，和底层的下层区域，但是长到不足以除去顶层的未成像区域。因此，成像区域被称为在显影剂中是“可溶的”或“可除去的”，因为与未成像区域相比，它们在显影剂中除去，以及溶解和/或分散的更加快速。通常，底层溶于显影剂，吸收层溶于或分散在显影剂中，以及顶层分散在显影剂中。
可用的显影剂为具有约7或更高pH的水溶液和溶剂基碱性显影剂。常用的显影剂组分为表面活性剂；螯合剂，例如乙二胺四乙酸的盐；有机溶剂，例如苯甲醇和苯氧乙醇；和碱性组分，例如无机偏硅酸盐、有机偏硅酸盐、氢氧化物或碳酸氢盐。代表性的水性碱性显影剂为pH在约8到约13.5之间，通常为至少约11，优选为至少约12的那些。
显影剂也可以包括表面活性剂或表面活性剂的混合物。优选的表面活性剂包括：烷基磺酸萘的碱金属盐；通常具有六到九个碳原子的脂族醇的硫酸单酯的碱金属盐；和通常具有六到九个碳原子的碱金属磺酸盐。优选的碱金属为钠。表面活性剂或表面活性剂的混合物通常构成约0.5wt％到约15wt％的显影剂重量，优选约3wt％到约8wt％的显影剂重量。作为本领域技术人员公知的，许多表面活性剂以表面活性剂水溶液的形式提供。这些百分比基于显影剂中表面活性剂的量(即表面活性剂溶液中活性成分或者不包括水和其它非活性材料的成分的量)。
显影剂也可以包括缓冲剂体系，以将pH相对恒定地保持在通常约5.0到约12.0之间，优选在约6.0到约11.0之间，更优选在约8.0到约10.0之间。很多缓冲剂体系是本领域技术人员已知的。通常，缓冲剂体系包括例如：水溶性胺，例如单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺或三异丙基胺，与磺酸，例如苯磺酸或4-甲苯磺酸的组合物；乙二胺四乙酸(EDTA)的四钠盐和EDTA的混合物；磷酸盐的混合物，例如单碱金属磷酸盐与三碱金属磷酸盐的混合物；以及碱金属硼酸盐和硼酸的混合物。水通常构成显影剂的余量。可用的可商购水性碱性显影剂包括3000显影剂和9000显影剂(Kodak PolychromeGraphics，Norwalk，CT，USA)。
通常用于负像可成像元件的溶剂基碱性显影剂为用于本发明的正像多层热可成像元件的优良显影剂。溶剂基显影剂包括有机溶剂或有机溶剂的混合物。该显影剂为单相。因此，有机溶剂必须可与水混溶，或至少可溶于显影剂，达到加入显影剂的程度，以便不发生相分离。以下溶剂和这些溶剂的混合物适合用于显影剂：苯酚与环氧乙烷和环氧丙烷的反应产物，例如乙二醇苯基醚(苯氧乙醇)；苯甲醇；乙二醇和丙二醇与具有六个或更少碳原子的酸的酯，以及乙二醇、二甘醇的醚，以及具有六个或更少碳原子的烷基的丙二醇的醚，例如2-乙基乙醇和2-丁氧基乙醇。可以使用单一有机溶剂或有机溶剂的混合物。有机溶剂通常以约0.5wt％到约15wt％，优选约3wt％到约5wt％的浓度存在于显影剂中，基于显影剂的重量。可用的可商购溶剂基显影剂包括956显影剂和955显影剂(KodakPolychrome Graphics，Norwalk，CT，USA)。
显影剂通常通过用足够的力量喷涂元件除去曝光区域施加于前体。两者择一地，显影可以在装有浸没型显色浴、水洗部、胶接部、干燥部和传导率测量单元的处理器中进行，或者成像的前体可以用显影剂刷涂。印版在每种情况下产生。显影可以方便地在可商购喷涂处理器，例如85 NS(Kodak Polychrome Graphics)中进行。
显影之后，用水漂洗印版并干燥。干燥可以通过红外辐射器或热空气方便地进行。干燥之后，印版可以用胶接溶液处理。胶接溶液包括一种或多种水溶性聚合物，例如纤维素、聚乙烯醇、聚甲基丙烯酸、聚甲基丙烯酰胺、聚乙烯基甲基醚、聚甲基丙烯酸羟乙酯、明胶和多糖，例如葡聚糖、支链淀粉、阿拉伯树胶和藻酸。优选材料为阿拉伯树胶。
也可以烘烤显影的和胶接的印版，以提高印版的行程工作期限。烘烤可以例如在约220℃到约240℃进行约7分钟到10分钟，或者在120℃进行30分钟。
工业实用性
本发明的可成像元件对印刷车间化学品具有优异的耐受性。它们可以热成像并用水性碱性显影剂显影形成平版印版。一旦可成像元件已经成像并显影形成平版印刷板，那么可以通过向其表面上的图像施涂润版液和随后的平版油墨进行印刷。润版液由通过成像和显影工艺露出的亲水性基材的表面吸收，以及油墨由未通过显影工艺除去的各层的区域吸收。然后使用胶版印刷垫层将油墨直接或间接输送到适合的接收材料(例如织物、纸张、金属、玻璃或塑料)，在其上提供所需的图像印记。
参考以下实施例可以观察到本发明的优越性能，该实施例为说明性的，而非限制本发明。
实施例
术语表
956显影剂    溶剂基(苯氧乙醇)碱性负像显影剂(KodakPolychrome Graphics，Norwalk，CT，USA)
AIBN         2，2′-偶氮二异丁腈(DuPont，Wilmington，Delaware，USA)
BYK-307      聚乙氧基化的二甲聚硅氧烷共聚物(BYKChemie，Wallingford，CT，USA)
CREOTrendsetter 3244x可商购版调节器，使用Procom Plus软件并具有在830nm发射的激光二极管阵列(Creo Products，Burnaby，BC，Canada)
乙基紫       C.I.42600；CAS 2390-59-2(lambdamax＝596nm)[(p-(CH3CH2)2NC6H4)3C+Cl-](Aldrich，Milwaukee，Wl，USA)
IR染料A      红外吸收染料(lambdamax＝830nm)(EastmanKodak，Rochester，NY，USA)(参见以上结构)
METMAC    氯化[2-甲基丙烯酰氧基]乙基]三甲基铵，水中75wt％(Aldrich，Milwaukee，Wl，USA)
N-13      酚醛清漆树脂；100％间甲酚；Mw 13,000(EastmanKodak Rochester，NY，USA)
PEGMA     聚乙二醇甲基醚甲基丙烯酸酯，Mw 2,080，50％水溶液(Aldrich，Milwaukee，Wl，USA)
聚合物1   N-苯基马来酰亚胺、甲基丙烯酰胺和甲基丙烯酸(45∶35∶20mol％)的共聚物
TMSPMA    3-(三甲氧基甲硅烷基)甲基丙烯酸丙酯(Aldrich，Milwaukee，Wl，USA)
基材A     0.3mm规格，已经电磨版、阳极化并用聚乙烯基膦酸溶液处理的铝片
评价方法
滴液试验：将1-丁氧基乙醇(Butyl CELLOSOLVE)(水中80％)或二丙酮醇(水中80％)的液滴置于顶层表面上。观察顶层发生损坏的时间。
对比例1
本实施例举例说明顶层的对比共聚物的合成。将AIBN(0.4g)、20g苯乙烯、20g丙烯腈、80g 3-戊酮和80g甲苯置于装有磁力搅拌、温度控制器和氮气进口的250ml 3颈烧瓶中。在氮气下将混合物加热到60℃并搅拌6小时。添加AIBN(0.2g)，加热并于60℃继续搅拌另外8小时。得到含有13.7wt％非挥发物的197.5g聚合物溶液。不分离该聚合物。聚合物溶液用于制备涂料溶液。
对比例2
由以下步骤制备可成像元件。
底层：将聚合物1(2.541g)溶于4.69gγ-丁内酯、7.03g 1-甲氧基-2-丙醇、30.49g 2-丁酮和4.69g水的溶剂混合物。然后向该溶液中添加IR染料A(0.45g)，随后添加0.089g BYK-307(1-甲氧基-2-丙醇中的10％溶液)。将得到的涂料溶液涂布在基材A上。基材A装配在热滚筒上，然后与由泵输送到基材的涂料溶液接触。在65℃通过在基材之上吹送热空气干燥该涂布的基材约2分钟。底层的涂布量：1.5g/m2。
顶层：按照用于制备底层的相同步骤，在底层之上涂布来自对比例1的含有98.5g苯乙烯/丙烯腈共聚物溶液(13.5g共聚物)的涂料溶液、1.2g乙基紫、0.3g 10％BYK 307、50g 3-戊酮和50g甲苯。顶层的涂布量：0.5g/m2。
滴液测试中，直到5分钟，在与1-丁氧基乙醇(水中80％)接触的顶层区域内未观察到顶层损坏。
可成像元件在CREOTrendsetter 3244上用80mJ/cm2到140mJ/cm2的成像能量热成像，以及用956显影剂使得到的成像的可成像元件显影。除去成像区域露出基材。在成像区域中看到薄膜剥落，也即在透过显影剂之后，成像区域显露出顶层部分。
对比例3
重复对比例2的步骤，除了顶层含有98.5g来自对比例1的共聚物溶液(13.5g共聚物)，20g N-13酚醛清漆树脂，1.2g乙基紫，0.3g10％BYK 307，50g 3-戊酮和50g甲苯。顶层的涂布量：0.5g/m2。
滴液测试中，直到5分钟，在由1-丁氧基乙醇(水中80％)接触的顶层区域内未观察到顶层损坏。接着如对比例2中热成像和显影，除去成像的区域露出基材。在成像的区域中看到轻微的薄膜剥落。
实施例1
将AIBN(0.2g)、9.5g苯乙烯、9.5g丙烯腈、1.0g TMSPMA、40g 3-戊酮和40g甲苯置于装有磁力搅拌、温度控制器和氮气进口的250ml 3颈烧瓶中。在氮气下将混合物加热到60℃并搅拌6小时。添加AIBN(0.2g)，加热并于60℃继续搅拌另外8小时。产量为96g，具有16.3wt％的非挥发物。不分离该聚合物。聚合物溶液用于制备涂料溶液。
实施例2
将AIBN(0.4g)、17g苯乙烯、17g丙烯腈、4g甲基丙烯酸2-羟乙酯、2g PEGMA(MW＝1,000)、80g 3-戊酮和80g甲苯置于装有磁力搅拌、温度控制器和氮气进口的250ml 3颈烧瓶中。在氮气下将混合物加热到60℃并搅拌6小时。添加AIBN(0.2g)，于60℃继续反应另外8小时。产量为199g，具有16.4wt％的非挥发物。不分离该聚合物。聚合物溶液用于制备涂料溶液。
实施例3
重复对比例2的步骤，除了顶层含有98.5g来自实施例1的共聚物溶液(16.1g共聚物)，1.2g乙基紫，0.3g 10％BYK 307，50g 3-戊酮和50g甲苯。顶层的涂布量：0.5g/m2。
滴液测试中，直到5分钟，在由1-丁氧基乙醇(水中80％)接触的顶层区域内未观察到顶层损坏。接着如对比例2中热成像和显影，除去成像的区域露出基材。在成像的区域中看到薄膜剥落。
实施例4
重复对比例2的步骤，除了顶层含有98.5g来自实施例1的共聚物溶液(16.1g共聚物)，20g N-13酚醛清漆树脂，1.2g乙基紫，0.3g10％BYK 307，50g 3-戊酮和50g甲苯。顶层的涂布量：0.5g/m2。
滴液测试中，直到5分钟，在由1-丁氧基乙醇(水中80％)接触的顶层区域内未观察到顶层损坏。接着如对比例2中热成像和显影，除去成像的区域露出基材。在成像的区域中看到轻微的薄膜剥落。
实施例5
重复对比例2的步骤，除了顶层含有98.5g来自实施例2的共聚物溶液(16.2g共聚物)，20g N-13酚醛清漆树脂，1.2g乙基紫，0.3g10％BYK 307，50g 3-戊酮和50g甲苯。顶层的涂布量：0.5g/m2。
滴液测试中，直到5分钟，在由1-丁氧基乙醇(水中80％)接触的顶层区域内未观察到顶层损坏。接着如对比例2中热成像和显影，除去成像的区域露出基材。在成像的区域中没有看到显著的薄膜剥落。
实施例6
将AIBN(0.4g)、17g苯乙烯、17g丙烯腈、4g METMAC、2gPEGMA(MW＝1,000)、80g 3-戊酮和80g甲苯置于装有磁力搅拌、温度控制器和氮气进口的250ml 3颈烧瓶中。在氮气下将混合物加热到60℃并搅拌6小时。添加0.2g AIBN，并于60℃继续反应另外8小时。产量为196g，具有15.0wt％的非挥发物。不分离该聚合物。聚合物溶液用于制备涂料溶液。
实施例7
重复对比例2的步骤，除了顶层含有98.5g来自实施例6的共聚物溶液，0.3g乙基紫，0.3g 10％BYK 307，50g 3-戊酮和50g甲苯。顶层的涂布量：0.5g/m2。
滴液测试中，直到5分钟，在由二丙酮醇(水中80％)接触的顶层区域内未观察到顶层损坏。直到20分钟，在由1-丁氧基乙醇(水中80％)接触的顶层区域内未观察到顶层损坏。接着如对比例2中热成像和显影，除去成像的区域露出基材。在成像的区域中没有看到显著的薄膜剥落。

Claims (24)

1.一种可成像元件，包括：
基材；
基材之上的底层；和
底层之上的顶层；
其中：
该元件包括光热转化材料；
顶层基本不含光热转化材料；
顶层是吸墨性的；
热成像之前，顶层不可由碱性显影剂除去；
在顶层中热成像形成成像区域之后，该成像区域可由碱性显影剂除去；
底层可由碱性显影剂除去，以及
顶层包括一种共聚物，该共聚物包括K单元、L单元和M单元；
其中：
K单元选自-[CH2C(R1)R2]-、-[CH2CR3(CO2R4)]-、-[CH2CR5(CON(R6)(R7))]-、-[C(R8)(COECO)C(R9)]-及其混合物；
L单元选自-[CH2CH(CN)]-、-[CH2C(CH3)(CN)]-及其混合物；
M单元选自-[CH2C(R10)(WSi(OR11)3)]-、-[CH2C(R12)(CO2(B)n1T)]-、-[(CH2C(R13)(CO2(CH2)n2N+(R14)3)X-)]-及其混合物
R1、R3、R5、R8、R9、R10、R12和R13各自独立地为氢、甲基或其混合物；
R2为氢、甲基、苯基、取代苯基、卤素、一到四个碳原子的烷氧基、一到五个碳原子的酰基、一到五个碳原子的酰氧基、乙烯基、烯丙基或其混合物；
R4、R6和R7各自独立地为氢、一到六个碳原子的烷基、苯基或其混合物；
每个R11独立地为苯基、一到八个碳原子的烷基或其混合物；
每个R14独立地为氢、一到六个碳原子的烷基或其混合物；
E为氧或NR15，其中R15为氢、羟基、苯基、取代苯基、一到六个碳原子的烷基、苯甲基或其混合物；
W为二价连接基、二价连接基的组合或二价连接基的混合物；
B选自-[CH2CH(R16)O]-、-[CH2C(R17)(OH)]-及其混合物，其中R16和R17各自独立地为氢、一到六个碳原子的烷基或其混合物；
T为氢、一到八个碳原子的烷基、苯基或其混合物；
X-为阴离子；
n1为1到100；和
n2为2到8。
2.权利要求1的元件，其中M单元为-[CH2C(R10)(WSi(OR11)3)]-。
3.权利要求1的元件，其中M单元为-[CH2C(R12)(CO2BnT)]-。
4.权利要求1的元件，其中M单元为-[(CH2C(R13)(CO2(CH2)n2N+(R14)3)X-)]-。
5.权利要求1的元件，其中顶层另外包括选自酚醛清漆树脂、甲阶酚醛树脂和聚乙烯基苯酚的酚醛树脂。
6.权利要求1的元件，其中：
K单元选自-[CH2C(R1)R2]-、-[CH2CR3(CO2R4)]-、-[CH2CR5(CON(R6)(R7))]-及其混合物；
R2为苯基；
R6和R7各自独立地为氢、甲基或其混合物；
R4和R11各自为甲基；
W为碳-硅单键、亚苯基、含2到6个碳原子的亚烷基、羧基、其组合或其混合物；
B为-[CH2CH2O]-；和
n1为10到50。
7.权利要求6的元件，其中共聚物基本由约1wt％到约78wt％K单元，约20wt％到约98wt％L单元和约1wt％到约30wt％M单元组成。
8.权利要求7的元件，其中M单元为-[CH2C(R10)(WSi(OR11)3)]-。
9.权利要求7的元件，其中M单元为-[CH2C(R12)(CO2BnT)]-。
10.权利要求7的元件，其中M单元为-[(CH2C(R13)(CO2(CH2)n2N+(R14)3)X-)]-。
11.一种形成图像的方法，该方法包括以下步骤：
a)热成像一种可成像元件，该元件包括：基材；基材之上的底层；和底层之上的项层；以及形成在顶层中包括成像和互补的未成像区域的成像的可成像元件；
其中：
该元件包括光热转化材料；
顶层基本不含光热转化材料；
顶层是吸墨性的；
热成像之前，顶层不可由碱性显影剂除去；
在顶层中热成像形成成像区域之后，该成像区域可由碱性显影剂除去；
底层可由碱性显影剂除去，以及
顶层包括一种共聚物，该共聚物包括K单元、L单元和M单元；
K单元选自-[CH2C(R1)R2]-、-[CH2CR3(CO2R4)]-、-[CH2CR5(CON(R6)(R7))]-、-[C(R8)(COECO)C(R9)]-及其混合物；
L单元选自-[CH2CH(CN)]-、-[CH2C(CH3)(CN)]-及其混合物；
M单元选自-[CH2C(R10)(WSi(OR11)3)]-、-[CH2C(R12)(CO2(B)n1T)]-、-[(CH2C(R13)(CO2(CH2)n2N+(R14)3)X-)]-及其混合物
R1、R3、R5、R8、R9、R10、R12和R13各自独立地为氢、甲基或其混合物；
R2为氢、甲基、苯基、取代苯基、卤素、一到四个碳原子的烷氧基、一到五个碳原子的酰基、一到五个碳原子的酰氧基、乙烯基、烯丙基或其混合物；
R4、R6和R7各自独立地为氢、一到六个碳原子的烷基或其混合物；
每个R11独立地为苯基、一到八个碳原子的烷基或其混合物；
每个R14独立地为氢、一到六个碳原子的烷基或其混合物；
E为氧或NR15，其中R15为氢、羟基、苯基、取代苯基、一到六个碳原子的烷基、苯甲基或其混合物；
W为二价连接基、二价连接基的组合或二价连接基的混合物；
B选自-[CH2CH(R16)O]-、-[CH2C(R17)(OH)]-及其混合物，其中R16和R17各自独立地为氢、一到六个碳原子的烷基或其混合物；
T为氢、一到八个碳原子的烷基、苯基或其混合物；
X-为阴离子；
n1为1到100；和
n2为2到8，和
b)用碱性显影剂显影成像的可成像元件，以及除去成像的区域。
12.权利要求11的方法，其中M单元为-[CH2C(R10)(WSi(OR11)3)]-。
13.权利要求11的方法，其中M单元为-[CH2C(R12)(CO2BnT)]-。
14.权利要求11的方法，其中M单元为-[(CH2C(R13)(CO2(CH2)n2N+(R14)3)X-)]-。
15.权利要求11的方法，其中顶层另外包括选自酚醛清漆树脂、甲阶酚醛树脂和聚乙烯基苯酚的酚醛树脂。
16.权利要求11的方法，其中：
K单元选自-[CH2C(R1)R2]-、-[CH2CR3(CO2R4)]-、-[CH2CR5(CON(R6)(R7))]-及其混合物；
R2为苯基；
R6和R7各自独立地为氢、甲基或其混合物；
R4和R11各自为甲基；
W为碳-硅单键、亚苯基、含2到6个碳原子的亚烷基、羧基、其组合或其混合物；
B为-[CH2CH2O]-；和
n1为10到50。
17.权利要求16的方法，其中共聚物基本由约1wt％到约78wt％K单元，约20wt％到约98wt％L单元和约1wt％到约30wt％M单元组成。
18.权利要求17的方法，其中M单元为-[CH2C(R10)(WSi(OR11)3)]-。
19.权利要求17的方法，其中M单元为-[CH2C(R12)(CO2BnT)]-。
20.权利要求17的方法，其中M单元为-[(CH2C(R13)(CO2(CH2)n2N+(R14)3)X-)]-。
21.一种共聚物，基本由约1wt％到约78wt％K单元，约20wt％到约98wt％L单元和约1wt％到约30wt％M单元组成；其中：
K单元选自-[CH2C(R1)R2]-、-[CH2CR3(CO2R4)]-、-[CH2CR5(CON(R6)(R7))]-、-[C(R8)(COECO)C(R9)]-及其混合物；
L单元选自-[CH2CH(CN)]-、-[CH2C(CH3)(CN)]-及其混合物；
M单元选自-[CH2C(R10)(WSi(OR11)3)]-、-[CH2C(R12)(CO2(B)n1T)]-、-[(CH2C(R13)(CO2(CH2)n2N+(R14)3)X-)]-及其混合物
R1、R3、R5、R8、R9、R10、R12和R13各自独立地为氢、甲基或其混合物；
R2为氢、甲基、苯基、取代苯基、卤素、一到四个碳原子的烷氧基、一到五个碳原子的酰基、一到五个碳原子的酰氧基、乙烯基、烯丙基或其混合物；
R4、R6和R7各自独立地为氢、一到六个碳原子的烷基、苯基或其混合物；
每个R11独立地为苯基、一到八个碳原子的烷基或其混合物；
每个R14独立地为氢、一到六个碳原子的烷基或其混合物；
E为氧或NR15，其中R15为氢、羟基、苯基、取代苯基、一到六个碳原子的烷基、苯甲基或其混合物；
W为二价连接基、二价连接基的组合或二价连接基的混合物；
B选自-[CH2CH(R16)O]-、-[CH2C(R17)(OH)]-及其混合物，其中R16和R17各自独立地为氢、一到六个碳原子的烷基或其混合物；
T为氢、一到八个碳原子的烷基、苯基或其混合物；
X-为阴离子；
n1为1到100；和
n2为2到8。
22.权利要求21的共聚物，其中K单元为共聚物的约10wt％到约60wt％；L单元为约共聚物的约40wt％到约90wt％，和M单元为共聚物的约5wt％到约20wt％。
23.权利要求21的共聚物，其中：
K单元选自-[CH2C(R1)R2]-、-[CH2CR3(CO2R4)]-、-[CH2CR5(CON(R6)(R7))]-及其混合物；
R2为苯基；
R6和R7各自独立地为氢、甲基或其混合物；
R4和R11各自为甲基；
W为碳-硅单键、亚苯基、含2到6个碳原子的亚烷基、羧基、其组合或其混合物；
B为-[CH2CH2O]-；和
n1为10到50。
24.权利要求23的共聚物，其中K单元为共聚物的约10wt％到约60wt％；L单元为约共聚物的约40wt％到约90wt％，和M单元为共聚物的约5wt％到约20wt％。
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