JP2008513928A - マルチレベルの仮想接地メモリのための読出方法 - Google Patents
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Abstract
Description
この発明のいくつかの局面の基本的な理解を可能にするために、この発明の簡略化された概要を以下に示す。この概要はこの発明の広範な概略ではない。これは、この発明の主要または重要な要素を特定したり、この発明の範囲を規定したりすることを意図するもの
ではない。むしろ、その主要な目的は、単に、以下に提示されるより詳細な説明の前置きとして簡略化された形でこの発明の1つ以上の概念を提示することにすぎない。
この発明の1つ以上の局面が添付の図面に関連して説明され、添付の図面においては、同様の参照番号が、概して、全体を通じて同様の要素を示すのに用いられ、さまざまな構造は必ずしも縮尺通りには描かれてはいない。以下の記載においては、説明の目的で、多数の特定の詳細が、この発明の1つ以上の局面を完全に理解できるようにするために述べられている。しかしながら、これらの特定の詳細ほどに記載されなくてもこの発明の1つ以上の局面が実施可能であることが当業者には明らかとなるだろう。他の場合には、この発明の1つ以上の局面の説明を容易にするために、周知の構造および装置がブロック図または他の形態で示される。
メモリ300は、半導体基板102上に形成され、互いに対して実質的に平行に延在する複数の埋込まれたビット線304を有し、さらに、互いに対して実質的に平行に延在し、埋込まれたビット線304に対して実質的に直角である複数の形成されたワード線302を含む。ワード線302およびビット線304が、図1に示されるxデコーダ108およびyデコーダ110によって少なくとも一部が示され得るような、プログラミング回路への接点および相互接続(図示せず)を有することが認識されるだろう。
とが認識されるだろう。電荷捕獲誘電層404と、より特定的には電荷捕獲層408とが、たとえば、複数のレベルまたはビット状態を位置420および422に記憶することを可能にし得ることがさらに認識されるだろう。電荷捕獲層408がこのことを可能にするのは、これが非導電性であり、このため、(たとえば、ワード線電圧の印加により)そこに注入されるいずれの電荷も位置420および422に実質的に局在化されたままになるからである。これにより、メモリセル450と、これに対応してこのようなセルのアレイとが、さらに多くのデータを記憶することが可能となる。たとえば、4つの異なる電荷(たとえば、1、2、3および4)が2つのビット位置420、422の各々に蓄積され得る場合、セル450は16個の異なるビット状態(たとえば、1−1、1−2、1−3、1−4、2−1、2−2、2−3、2−4、3−1、3−2、3−3、3−4、4−1、4−2、4−3および4−4)を有し得る。
ースを上回る電位にバイアスがかけられる。ゲートバイアスの結果として、高い電界が電荷捕獲層512にわたって印加される。「ホットエレクトロン注入」として公知の現象のせいで、電子が、作用するソース領域から下方の誘電層518を通過し、位置506または508において電荷捕獲層512に捕獲される。作用するソースおよびドレインを反転させ、バイアスを再び制御ゲート530に印加することによって、第2のビットが代替の位置508または506にプログラム可能であることが認識されるだろう。
ット位置506に関して、たとえば、レベル2は比較的少量の蓄積された電荷540に対応し得るが、レベル3および4は、より一層多くの蓄積された電荷542および544にそれぞれ対応し得る。
−4のプログラム状態にそれぞれ対応する3つの曲線712、714、716を含む。右側のビットがより確実にプログラムされていると、(グループ分け702における曲線712、714、716のすべてにおいて(ブランクの)レベル1に留まる)左側のビットについてのVtの値の範囲が増大することが分かるだろう。曲線712においては、たとえば、第1または左側のビットがレベル1にプログラムされ、第2または右側のビットがレベル2(たとえば、1−2)にプログラムされる場合、左側のビットについてのVtの値は、約3000〜約3500ミリボルトのブランクのVt(ブランクのしきい値Vt)の範囲内に収まる。しかしながら、曲線716においては、右側のビットがレベル4(たとえば、1−4)にプログラムされる場合、左側のビットについてのVt値の範囲が上方にシフトされ、元々のブランクのVtよりも高くなる。左側のビットについてのVtにおけるこのシフトは、(レベル4にプログラムされた)右側のビットのしきい値Vtにおける変化の関数(デルタVt=レベル4についてのプログラムVt−ブランクのVt)であるか、または、Vtブランク+(レベル4である)右側のビットのプログラムデルタVtレベルの関数、に等しくなる。
影響を及ぼし、これにより、データについて確実で見識ある分析を行なうことが難しくなるおそれがある。
いて用いられる基準セルは、820において用いられるものと同じである。次いで、821におけるのと同様に、電流がセルから読出され、823において平均化されて、増分されたvgate1のために、増分されたレベル2、レベル3、およびレベル4の基準電流が得られる。
得られたドレイン電流との差を見出すことによって決定される。
Claims (10)
- コアメモリセルのビットのプログラムされたレベルを決定する方法(800)であって、
前記セルのそれぞれのビットについてのコア電流スロープと、前記ビットの可能なレベルに対応する複数の基準電流スロープとのスロープ比較を行なうステップ(842)と、
前記スロープ比較に基づいて前記ビットのレベルを決定するステップとを含む、方法。 - 前記スロープ比較は、前記コア電流スロープから前記複数の基準電流スロープを減ずるステップ(842)を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記ビットのレベルを決定するステップは、前記コア電流スロープから減じられた前記基準電流スロープについてのそれぞれの値のうち最小のものを見出すステップ(842)を含む、請求項2に記載の方法。
- 前記セルのビットについてのコア電流とブランクの基準電流との非プログラム比較を行なうステップ(834)と、
前記コア電流が前記ブランクの基準電流よりも大きいかまたは前記ブランクの基準電流に等しい場合、前記ビットがブランクであると決定するステップ(836)とをさらに含む、請求項3に記載の方法。 - 第1のゲート電圧(vgate1)を前記セルに印加し、前記ビットについて結果として得られる電流を読出すステップ(832)と、
第2のゲート電圧(vgate2)を前記セルに印加し、前記ビットについて結果として得られる電流を読出すステップ(838)と、
vgate1におけるコア電流を、vgate2におけるコア電流から減ずるステップ(840)とによって、前記コア電流スロープを決定するステップをさらに含む、請求項4に記載の方法。 - 前記ビットの異なるレベルについての対応する増分された基準電流からそれぞれの基準電流を減ずるステップ(824)によって、前記基準電流スロープを決定するステップをさらに含む、請求項5に記載の方法。
- 複数のセルにおける複数の基準ビットに対し、前記ビットが前記セルにおいて同じレベルにプログラムされる場合、vgate1を印加するステップ(820)と、
前記それぞれのセルにおける前記ビットについての電流を読出すステップ(821)と、
前記同じレベルにプログラムされる前記ビットについての電流を平均化するステップ(821)とによって、前記それぞれの基準電流を決定するステップをさらに含む、請求項6に記載の方法。 - 複数のセルにおける複数の基準ビットに対し、前記ビットが前記セルにおいて同じレベルにプログラムされる場合、増分されたvgate1を印加するステップ(822)と、
前記それぞれのセルにおける前記ビットについての電流を読出すステップ(823)と、
前記同じレベルにプログラムされる前記ビットについての電流を平均化するステップ(823)とによって、前記それぞれの増分された基準電流を決定するステップをさらに含む、請求項7に記載の方法。 - vgate1は、vgate1ターゲット基準レベルにプログラムされた1つ以上のビットを有する
デュアルビット基準セルにおいて約1〜5マイクロアンプの平均電流を生成する電圧である、請求項8に記載の方法。 - vgate1によって生成される電流が基準vgate1電流と称され、前記方法はさらに、
デュアルビット基準セルのブランクであるかまたはプログラムされていないビットに対し、他のビットがより高いレベルにプログラムされる場合、vgate1を印加するステップ(816)と、
前記ブランクの基準ビットからの、結果として得られるブランクの電流を読出すステップ(816)と、
前記基準vgate1電流と前記基準ビットの前記ブランクの電流との合計の半分をとるステップ(818)とによって、前記ブランクの基準電流を決定するステップをさらに含む、請求項9に記載の方法。
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