JP2008505662A - 被験者の頭部に対するtmsコイルの近接性を決定するための方法および機器 - Google Patents
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Abstract
【選択図】 図1
Description
図1Aは、本発明に係るTMS治療用のシステム10を例示したものである。例示のとおり、前記システム10に対し、患者はシートを倒した快適な位置に配置される。連接アーム部材12により、作業者は、TMSコイルアセンブリ20が患者頭部に抗して適切な位置(運動閾値位置やTMS治療位置)で静止するよう、TMSコイルアセンブリ20を調整できる。治療中は、前記位置で磁場を生成するため、ケーシング30内のパルス発生機器(図示せず)によりパルスが生成され、TMSコイルアセンブリ20に適用される。以下さらに詳しく説明するとおり、作業者は、ディスプレイ40により、前記パルス発生機器と連動し、前記位置に対する前記TMSコイルアセンブリ20の位置決めを監視することができる。
図2に例示したように、前記TMSコイルアセンブリ20が希望する位置にある時点で患者頭部に隣接するよう前記TMSコイルアセンブリ20の前記コイル治療面22、24上に配置されるセンサ50の柔軟なセンサまたはセンサアレイ70の出力は、適切なフィルタリングなどを提供するため信号処理電子機器80により処理される。前記信号処理電子機器は、使用される特定タイプのセンサ技術に依存するが、通常、アナログ信号前置増幅器、次いで適切なフィルタリングおよびゲイン調整を含む。実装内容が光学的な場合は、一部の処理が光学的に行われる(フィルタリング、分極、波長分離など)。処理された出力は、患者との接触が適切であるかどうかを決定するため、信号処理電子機器80により有効な接触分析回路90へと提供される(例えば信号は閾値と比較される)。適切な接触の確認は、アナログ回路、デジタル回路、またはソフトウェアにより行われる。これらの分析アルゴリズムは、各タイプのセンサに内在するアーチファクトの性質と、前記柔軟な基板60の物理的構成とに依存する。次に、回路90の出力は、例えばディスプレイ装置40で表示するため、利用者へと戻される。利用者へのフィードバック100は、聴覚的インジケータ、画像的(グラフィック)インジケータ、数値的インジケータ、または「実施か中止か」を示すインジケータでありうる。グラフィックフィードバックには、物理的に接触している領域の表示、重要な領域での圧力レベルを示す棒グラフ、圧力マップが含まれうる。前記圧力マップでは、図3Aおよび3Bに例として示したタイプのマップを生成するため前記検出用の基板60上にセンサのアレイ70が必要となるであろう。ここで、図3Aは患者頭皮との接触が非良好であることを示しており、図3Bは患者頭皮との接触が良好であることを示している。例示のとおり、この表示は、頭皮との接触を改善するため、作業者による前記TMSコイルアセンブリ20再位置決めを誘導する上で役立ちうる。作業者への聴覚的なフィードバックも提供しうる。
本発明に係るセンサ技術は、異なるものを多数使用することができる。以下では、現時点で好適な実施形態および考えられる実施態様をより詳しく説明する。これらの実施形態は、包括的であることを意図したものではない。当業者であれば、以下に匹敵する他の市販技術、またこのような検出技術への将来的な改良も利用可能になった段階で使用できることが理解されるであろう。
図4Aおよび4Bに例示したように、2枚の導電フィルムまたは導電膜120、130を平行に取り付け、第3の中間層150で形成される間隙140で前記膜120、130を分離することにより、薄膜スイッチ110が形成される。前記間隙140は、空気、抵抗性流体、ゲル(ジェル)などの誘電体材料で充填される。図4Bに例示したように、この薄膜スイッチ110に圧力がかかると、前記層が互いに近づいて接触する。上記の2枚の導電層120、130が接触し合うと電気接触が起こり、この電気接触は以下説明するように感知される。各センサのサイズおよび厚さは、感度を最適化するよう選択される。
当業者に知られているとおり、抵抗ペーストを使うと力センサを作製できる。同様に、金属膜をパターン化して弾性層の上に抵抗を形成させると、ひずみゲージを作製することができる。この抵抗および層は、接触の圧力によりゆがみ、このゆがみで変化した膜抵抗の抵抗がブリッジ回路に検出される。また、接触を示すため、閾値抵抗が選択される。薄膜スイッチ110の場合と同様、センサおよび検出回路の設計時には、センサに近接したパルス磁場も考慮しなければならない。誘導電流を最小限に抑えるには高インピーダンス設計が好ましく、誘導渦電流を最小限に抑えるには導電性のループを排除するか非常に小断面積に保つ。同様な機能的利点のある上記薄膜スイッチの場合で説明したように、これらの可変抵抗技術は、どちらもセンサアレイ160内に作製しうる。信号処理、検出、信号妥当性確認は前記薄膜スイッチ110の場合と異なるが、この違いを除けば、このシステム構成は図5に示したものと非常に類似している。
抵抗ストリップ
上記の薄膜スイッチ110は、接触位置に応じて変化する出力電圧を提供するよう修正できる。このような場合、前記間隙領域140は、局部的な空隙の代わりに1次元の間隙を形成するよう延在する。次いで外部電圧を前記フィルム120、130の1つに印加した場合、電流は流れないため前記フィルム全体が等電位になる。これらのフィルム120、130がともに押圧されると、接触が起こった点で上方のフィルム120が下方のフィルム130と同じ電位になる。前記上方のフィルム120端部における電圧V1、V2は、接触位置および空間的延在の程度に依存する。これらの電圧は、前記間隙140に沿って圧力がかかった位置の測定値へと変換することができる。このようなストリップの行を並列構成で配置すると、領域センサ290を作製できる。図8Aは、このようなセンサ290が圧縮前の状態にある平面図を示したものであり、図8Bは、このようなストリップセンサ290の圧縮後の断面を示したものである。ここで、V1およびV2は接触領域の変化に応じて変化する。
図9に例示した好適な実施形態において、タッチスクリーン技術は、ストリップセンサ290’の前記電極120、130がセパレータのアレイか、非導電性のドットまたはストリップのアレイ(図示せず)かにより分離されている点を除き、前記ストリップセンサ290(図8Aおよび8B)に類似している。これにより、一定領域にわたる接触が検出可能になる。その位置は、まず水平方向に電圧V1を印加して前記センサフィルム290’の電圧を測定し、次に垂直方向に電圧V2を印加して前記センサフィルム290’の新たな電圧を検出することにより測定される。また、対になった電極120、130間の電流を検出することにより、患者頭蓋骨に接触している領域の大きさも検出しうる(すなわち、電流が大きいほど頭蓋骨と接触している領域も大きい)。このようにして、接触の2次元位置が検出可能になる。接触位置は、次いで前述のとおりディスプレイ40のグラフィック表示にマッピングされる。
図10に例示したように、導電性材料でできた1つまたは複数のループ292は、患者頭部の運動閾値(motor threshold、略称MT)手順用の位置に固定し、さらに/あるいは導電性材料でできた1つまたは複数のループ294は、患者頭部のうつ病治療用の位置に固定しうる。次いで、前記TMSコイルアセンブリ20を適切な位置に配置し、前記TMSコイルアセンブリ20でパルス磁場を適用すると、前記1つまたは複数のループ292または294に電圧が誘導される。TMS処置中に前記TMSコイルアセンブリ20から離れる方向へ患者が動くと、前記1つまたは複数のループ292または294の誘導電圧は下がる。効果的な治療を維持するための閾値は、前記信号処理回路80により決定でき、この閾値より電圧が下がった場合は、残りの治療についても前記TMSコイルアセンブリ20が適切に再位置決めできるよう、可視信号または可聴信号が作業者に提供される。
流体変位センサは、図11Aに例示したように、柔軟な使い捨て基板300(ポリエステルなど)上に作製できる。示したように、流体を充填した袋310は、当該流体を充填した袋310の一方または双方が圧縮されると前記流体変位センサ330で圧力変化が生じ、その圧力変化がコネクタ340に検出され、当該コネクタ340を通じて前記処理電子機器80に提供されるよう、非圧縮性の多岐管320により連結されている。図11Bに例示したように、前記流体変位センサは、静電遮蔽装置として同じ物理的基板350上に作製することもできる。これら流体を充填した膜袋310は、示したようにコイル360の前記コイル磁極治療面22、24の上部に直接配置され、流体圧力をアナログ電圧に変換するため圧力トランスデューサ330に連結され、この圧力トランスデューサ330は、アーチファクトを排除し閾値超過の有無を検出することにより前記コイル360両面での適切な接触を示すため、電気コネクタ340を介して信号処理回路80に接続される。前記流体は高インピーダンスで流れる電流も最小限であることから実質的に非導電性であり、したがって(パルス磁場により)誘導される渦電流による加熱または場のゆがみも生じない。静電遮蔽コネクタ370は、物理的に離れたパルス発生器から静電遮蔽コイルを駆動する機構をもたらす。
光センサは、前記コイル磁極治療面22、24上部で光ファイバー380が重要な接触領域と交差するよう、前記光ファイバー380を前記柔軟な基板300に固定することにより作製しうる。特定位置を単離するには、複数の光ファイバーが使用可能である。図12Aに例示したように、遠隔光源390からの光は、光ファイバー380に入射され、ファイバーブラッグ格子400へ向かって方向付けられる。この光が前記ファイバーブラッグ格子400と接触すると、図12Bに断面で示したこのファイバーブラッグ格子400のファイバーが図12Cに例示したとおり偏向し、光透過効率に影響を及ぼす。例えば、反射ピークは図12Dに示したようにより長い波長へシフトする可能性があり、それが光検出器(フォトダイオードなど)に検出される(図12A)。そのため、前記ファイバーブラッグ格子400は、このファイバーブラッグ格子400から反射される光の量がたわみにより変化するよう、前記柔軟な基板300に取り付けられる。光は、磁気パルスが適用されると振動するよう、前記柔軟な基板300から反射される。この光の変調が測定され、振動が最小限の場合は、接触が良好である。液体を充填した薄型の袋(図11Aの袋310など)は、前記柔軟な基板300に適用して、前記コイル磁極治療面22、24の重要な領域での接触により前記コイル360の両側面で前記袋310が圧縮され、液体が光検出器410へ移動(変位)し、そこでその変位が検出されるよう配置しうる。本発明によれば、前記光検出器410は、フォトダイオードやフォトトランジスタなどを含みうる。
音響センサは、パルス適用時に音を生じるよう、図11Bの実施形態のように静電遮蔽上に取り付けうる。当該センサが頭部に抗して圧縮されると、この音は小さくなり周波数もシフトする。前記音響センサは、音レベルの変化を検出する。処理回路80(図2)または信号処理ソフトウェアでは、いかなる変化も決定される。
電磁誘導センサを実装するには、図16Aに示したように基板60に調整済みコイル530を取り付ける。調整済み周波数は、図16Bに例示したように、前記の基板60およびTMSコイルアセンブリ20が患者頭部と物理的に接触するとシフトする。この事前調整する回路は、パルス磁場と適合するよう設計する必要がある。各静電遮蔽コイルには、コイル負荷の変化(とそれに対応するインダクタンスの変化)に対し感度がある周波数でそれぞれ独立にTMS補正パルスが適用される。前記コイルの電流波形の変化は、前記静電遮蔽が患者頭部に抗して配置されているかどうかについて検出および区別される。前記基板上には圧縮性の調整済みコイル530が取り付けられ、この調整済みコイル530は、患者頭部に抗して圧縮されると形状(特にTMS場に対する断面積)が変形するよう設計される。すなわち、前記圧縮性の調整済みコイル530が、非圧縮状態と比べて圧縮された状態にある場合、周波数カウンタにより異なる誘導電流が生成される。この誘導電流は、次に、信号処理電子機器80内の信号処理電子機器に検出される。
図17に例示したように、前記TMS磁気パルスにより頭皮内で誘導された電流を検出するには、EEGタイプのリードおよび電極540、またはそれらの均等物を使用しうる。前記TMSコイルアセンブリ20が頭皮から移動して離れると、その電流はシフトし、振幅は小さくなる。この変化は、前記EEGタイプのリード540からの信号を適切な信号処理電子機器で処理することにより検出される。EEGタイプのリードは最低2つ必要である。当業者であれば、患者の動きによるアーチファクト、またはTMS場との連結を回避するため、これらEEGタイプの電極540を注意深く配置し、検出された信号を前記信号処理電子機器で適切にフィルタリングすることが重要であると理解されるであろう。
図18に例示したように、(サーミスタや熱電対などの)温度センサ550は、前記基板60上にある上記の2つの重要な接触領域22、24付近に適用でき、その出力は、コネクタ155を通じて処理回路(信号処理電子機器80など)に提供される。通常、その両面の温度は互いに連動するが、前記温度センサ550のうち1若しくはそれ以上が患者の頭蓋骨に接触している場合、前記センサ550の頭蓋骨との接触に変化があったことを示す予期しない急激な温度変化が起こりうる。すなわち、2つの温度の差分または比に予期しない有意な変化があった場合(その変化が所定の閾値を超えた場合)、これは一方の面が患者頭部に接触していないことに起因する可能性が高い。他方、1若しくはそれ以上の温度センサ550で検出された温度が予期せず急激に変化した場合、これ自体は、前記温度センサ550がもはや頭蓋骨に接触していないことを示しうる。この方法は、応答が比較的遅い(数秒)という難点がある。ただし、このアプローチには、安全な温度レベルを超えることなく作業者がTMSプロトコルパラメータを最適化できるという独特の付加的な利点もある。また、患者に接触する表面温度が必要以上に上昇する危険性のあるTMSシステムにおいて障害を検出する安全機能としても使用できる。
Claims (69)
- 経頭蓋磁気刺激(transcranial magnetic stimulation、略称TMS)治療を患者に提供するためのTMSシステムであって、
TMSコイルと、
患者のTMS治療中、前記TMSコイルにパルスを適用するパルス発生装置と、
前記TMSコイルとパルスが適用される位置との間に設けられたセンサであって、前記位置に対する前記TMSコイルの近接性を検出するものである、前記センサと、
前記TMSコイルへのパルス適用中、前記センサの出力を処理して、前記TMSコイルが前記位置に対し適切に配置されているかどうかの指標を提供する信号処理回路と
を有するTMSシステム。 - 請求項1記載のTMSシステムにおいて、前記TMSコイルは少なくとも1つの治療面を有し、前記信号処理回路は、前記センサの前記出力から前記少なくとも1つの治療面が前記位置に配置されているかどうかを決定するものである。
- 請求項2記載のTMSシステムにおいて、前記TMSコイルは、前記TMSコイルの各磁極面に対応した第1の治療面および第2の治療面を有し、前記信号処理回路は前記センサの前記出力から、前記第1の治療面および第2の治療面が前記位置に配置されているかどうかを決定するものである。
- 請求項1記載のTMSシステムにおいて、前記信号処理回路は、前記センサの前記出力を処理して、前記TMSコイルが前記位置で患者に有効に接触しているかを決定するものである。
- 請求項1記載のTMSシステムにおいて、前記指標は、前記TMSコイルが前記位置に適切に配置されているかどうかを前記TMSシステムの作業者に示すディスプレイ装置に提供されるものである。
- 請求項5記載のTMSシステムにおいて、前記ディスプレイ装置は、前記TMSコイルが前記位置にない場合、前記TMSコイルを前記位置へと移動させるべき方向の指標をさらに提供するものである。
- 請求項5記載のTMSシステムにおいて、前記ディスプレイ装置は、前記TMSコイルが前記位置で適切に接触している場所と、前記TMSコイルが前記位置で適切に接触していない場所とを示す圧力マップを提示するものである。
- 請求項1記載のTMSシステムにおいて、前記指標は、前記TMSコイルが前記位置に適切に配置されているかどうかを前記TMSシステムの作業者に示すための音を発生させる音源に提供されるものである。
- 請求項1記載のTMSシステムにおいて、前記センサは、TMS治療中に前記TMSコイルが前記位置に対し適切に配置されているかを決定するため、前記TMSコイルおよび前記位置の間に配置された柔軟な基板内または当該基板上に設けられた少なくとも1つのセンサを有するものである。
- 請求項9記載のTMSシステムにおいて、前記少なくとも1つのセンサは、押し込まれると状態が変化する薄膜スイッチを有し、この薄膜スイッチのそれぞれは誘電体層により分離されたそれぞれの導電膜を有するものである。
- 請求項10記載のTMSシステムにおいて、前記導電膜は、渦電流を低減するよう十分な抵抗を有するものである。
- 請求項10記載のTMSシステムにおいて、前記信号処理回路は、デバウンス回路およびアーチファクト検出除去回路を有するものである。
- 請求項10記載のTMSシステムにおいて、このTMSシステムは、さらに、
前記薄膜スイッチの圧縮を増幅するよう前記柔軟な基板に適用される非導電性のマイクロスライドを有するものである。 - 請求項10記載のTMSシステムにおいて、前記薄膜スイッチは、前記薄膜スイッチ上の接触位置に応じて変化する出力電圧を提供する抵抗ストリップを有するものである。
- 請求項14記載のTMSシステムにおいて、前記薄膜スイッチは、タッチスクリーンを形成するよう、前記導電膜間にセパレータのアレイを有するものである。
- 請求項9記載のTMSシステムにおいて、前記少なくとも1つのセンサは、与えられた接触圧力に比例した出力信号を提供し、それにより所定の閾値(しきい値)を越えた抵抗の変化が接触の指標として特定される可変抵抗センサを有するものである。
- 請求項16記載のTMSシステムにおいて、前記可変抵抗センサは、誘導電流を最小限に抑えるよう高いインピーダンスを有するものである。
- 請求項9記載のTMSシステムにおいて、前記少なくとも1つのセンサは、少なくとも1つの流体変位センサと、袋が圧縮されると前記少なくとも1つの流体変位センサで圧力変化が生じるよう、非圧縮性の多岐管で前記少なくとも1つの流体変位センサに連結された、流体を充填した袋とを有するものである。
- 請求項18記載のTMSシステムにおいて、前記少なくとも1つの流体変位センサと、前記流体を充填した袋と、前記非圧縮性の多岐管とは、前記位置と前記TMSコイルの間に設けられた電気遮蔽装置上に設けられるものである。
- 請求項18記載のTMSシステムにおいて、前記流体を充填した袋は、前記TMSコイルの各磁極面上部に直接配置されるものである。
- 請求項20記載のTMSシステムにおいて、前記信号処理回路は、アーチファクト除去回路と、前記位置に対する前記TMSコイルの適切な接触を示すよう、前記TMSコイルの対応する磁極面により前記流体を充填した袋のうち少なくとも1つに所定の力がかけられたかどうかを示す閾値検出装置とを有するものである。
- 請求項18記載のTMSシステムにおいて、前記流体を充填した袋内の流体は、実質的に非導電性の流体を含有するものである。
- 請求項9記載のTMSシステムにおいて、前記少なくとも1つのセンサは、前記位置を交差する光ファイバーと、前記基板上に設けられた光格子とを有し、それにより、前記TMSコイルが前記位置に接触した場合、前記光ファイバーを通過する光は偏向されて、前記光格子に反射され光検出器に検出される光の量が変化するものである。
- 請求項23記載のTMSシステムにおいて、前記光検出器は、フォトダイオードおよびフォトトランジスタのうち一方を有するものである。
- 請求項9記載のTMSシステムにおいて、前記少なくとも1つのセンサは音響センサを有し、前記パルス発生装置が前記TMSコイルにパルスを適用した時点で生じる音波を検出し、検出された信号が前記TMSコイルが患者に押し付けられていることを示しているかを決定するため、前記検出された信号を前記信号処理回路に提供するものである。
- 請求項9記載のTMSシステムにおいて、このTMSシステムは、さらに、
音響装置を有し、この音響装置は、前記パルス発生装置が前記TMSコイルにパルスを適用した時点で音を発生させ、前記TMSコイルにより前記位置に抗して圧縮されるに伴い前記音の振幅を低減し、前記少なくとも1つのセンサは、前記音を検出し、振幅が変化したかどうかを決定するため前記信号処理回路に振幅信号を提供する少なくとも1つの音響センサを有ものである。 - 請求項9記載のTMSシステムにおいて、前記少なくとも1つのセンサは、柔軟な基板により境界を成す空洞内に配置された導電性ディスクを有し、この導電性ディスクは、前記パルス発生装置により前記TMSコイルにパルスが適用されると、前記柔軟な基板が圧縮されていない場合前記空洞内で移動して可聴音を生じるものである。
- 請求項27記載のTMSシステムにおいて、前記位置に抗した前記柔軟な基板が圧縮されると、前記導電性ディスクが実質的に固定されて、前記可聴音は低減または排除されるものである。
- 請求項9記載のTMSシステムにおいて、前記少なくとも1つのセンサは、前記基板上に取り付けられた少なくとも1つの調整済みコイルを有する電磁誘導センサを有し、前記少なくとも1つの調整済みコイルの調整済み周波数は、前記TMSコイルが物理的に前記位置に接触している場合シフトするものである。
- 請求項29記載のTMSシステムにおいて、前記調整済みコイルの形状は、前記TMSコイルにより前記位置に抗して圧縮されると変形し、その結果前記調整済みコイルに生じた誘導電流が前記信号処理回路により検出されて、前記TMSコイルへのパルス適用中、前記TMSコイルが前記位置に対し適切に配置されているかどうかの前記指標が提供されるものである。
- 請求項9記載のTMSシステムにおいて、前記少なくとも1つのセンサは、前記TMSコイルからのTMSパルスにより前記位置に誘導された電流を感知するEEGリードを有するものである。
- 請求項31記載のTMSシステムにおいて、前記信号処理回路は、前記TMSコイルへのパルス適用中、感知された電流の振幅を、前記TMSコイルが前記位置に対し適切に配置されているかどうかの前記指標としての閾値と比較するものである。
- 請求項9記載のTMSシステムにおいて、前記少なくとも1つのセンサは、少なくとも1つの温度センサを有するものである。
- 請求項33記載のTMSシステムにおいて、前記信号処理回路は、前記温度センサの出力を処理して、各温度センサ間の温度差が所定の閾値より大きいか決定するものである。
- 経頭蓋磁気刺激(transcranial magnetic stimulation、略称TMS)治療を患者に提供するためのTMSシステムであって、
TMSコイルと、
患者のTMS治療中、前記TMSコイルにパルスを適用するパルス発生装置と、
前記TMSコイルにパルスが適用される位置に配置された導電性材料のループであって、前記TMSコイルが当該導電性材料のループに近接している場合、前記パルス発生装置が前記TMSコイルにパルスを適用すると内部に誘導電圧を有する導電性材料のループと、
信号処理回路であって、前記TMSコイルへのパルス適用中、前記TMSコイルが前記位置に対し適切に配置されているかどうかの指標として、前記誘導電圧が所定の閾値を超えているかを決定するするものである、前記信号処理回路と
を有するTMSシステム。 - 経頭蓋磁気刺激(transcranial magnetic stimulation、略称TMS)コイルと患者の位置との近接性を、TMS治療中に検出する装置であって、
前記TMSコイルと前記位置の間に設けられた柔軟な基板と、
前記TMSコイルと前記位置との近接性を検出するよう、前記基板上に設けられた少なくとも1つのセンサと
を有する装置。 - 請求項36記載の装置において、前記少なくとも1つのセンサは、押し込まれると状態が変化する薄膜スイッチを有し、この薄膜スイッチのそれぞれは誘電体層により分離されたそれぞれの導電膜を有する薄膜スイッチを有するものである。
- 請求項37記載の装置において、前記導電膜は、渦電流を低減するよう十分な抵抗を有するものである。
- 請求項37記載の装置において、このTMSシステムは、さらに、
前記薄膜スイッチの圧縮を増幅するよう前記柔軟な基板に適用される非導電性のマイクロスライドを有するものである。 - 請求項37記載の装置において、前記薄膜スイッチは、前記薄膜スイッチ上の接触位置に応じて変化する出力電圧を提供する抵抗ストリップを有するものである。
- 請求項40記載の装置において、前記薄膜スイッチは、タッチスクリーンを形成するよう、前記導電膜間にセパレータのアレイを有するものである。
- 請求項36記載の装置において、前記少なくとも1つのセンサは、与えられた接触圧力に比例した出力信号を提供し、それにより所定の閾値を越えた抵抗の変化が接触の指標として特定される可変抵抗センサを有するものである。
- 請求項42記載の装置において、前記可変抵抗センサは、誘導電流を最小限に抑えるよう高いインピーダンスを有するものである。
- 請求項36記載の装置において、前記少なくとも1つのセンサは、少なくとも1つの流体変位センサと、袋が圧縮されると前記少なくとも1つの流体変位センサで圧力変化が生じるよう、非圧縮性の多岐管で前記少なくとも1つの流体変位センサに連結された流体を充填した袋とを有するものである。
- 請求項44記載の装置において、前記少なくとも1つの流体変位センサと、前記流体を充填した袋と、前記非圧縮性の多岐管とは、前記柔軟な基板を共有する電気遮蔽装置上に設けられるものである。
- 請求項44記載の装置において、前記流体を充填した袋は、TMS治療中、前記TMSコイルの各磁極面上部に直接配置されるものである。
- 請求項44記載の装置において、前記流体を充填した袋内の流体は、実質的に非導電性の流体を含有するものである。
- 請求項36記載の装置において、前記少なくとも1つのセンサは、前記位置と交差する光ファイバーと、前記基板上に設けられた光格子とを有し、それにより、前記TMSコイルが前記位置に接触した場合、前記光ファイバーを通過する光は偏向されて、前記光格子に反射され光検出器に検出される光の量が変化するものである。
- 請求項48記載の装置において、前記光検出器は、フォトダイオードおよびフォトトランジスタのうち一方を有するものである。
- 請求項36記載の装置において、前記少なくとも1つのセンサは音響センサを有し、この音響センサはパルス発生装置が前記TMSコイルにパルスを適用した時点で生じる音波を検出し、検出された信号が前記TMSコイルが患者に押し付けられていることを示しているか決定するため、前記検出された信号を信号処理回路に提供するものである。
- 請求項36記載の装置において、この装置は、さらに、
音響装置を有し、この音響装置はパルス発生装置が前記TMSコイルにパルスを適用した時点で音を発生させ、前記TMSコイルにより前記位置に抗して圧縮されるに伴い前記音の振幅を低減し、前記少なくとも1つのセンサは、前記音を検出し、振幅が変化したかどうかを決定するため信号処理回路に振幅信号を提供する少なくとも1つの音響センサを有するものである。 - 請求項36記載の装置において、前記少なくとも1つのセンサは柔軟な基板により境界を成す空洞内に配置された導電性ディスクを有し、この導電性ディスクは、パルス発生装置により前記TMSコイルにパルスが適用されると、前記柔軟な基板が圧縮されていない場合前記空洞内で移動して可聴音を生じるものである。
- 請求項52記載の装置において、前記位置に抗した前記柔軟な基板が圧縮されると、前記導電性ディスクは実質的に固定されて、前記可聴音が低減または排除されるものである。
- 請求項36記載の装置において、前記少なくとも1つのセンサは、前記基板上に取り付けられた少なくとも1つの調整済みコイルを有する電磁誘導センサを有し、前記少なくとも1つの調整済みコイルの調整済み周波数は、前記TMSコイルが物理的に前記位置に接触している場合シフトするものである。
- 請求項54記載の装置において、前記調整済みコイルの形状は、前記TMSコイルにより前記位置に抗して圧縮されると変形し、その結果前記調整済みコイルに生じた誘導電流は前記TMSコイルが前記位置に対し適切に配置されているかどうかの指標として出力されるものである。
- 請求項36記載の装置において、前記少なくとも1つのセンサは、前記TMSコイルからのTMSパルスにより前記位置に誘導された電流を感知するEEGリードを有するものである。
- 請求項36記載の装置において、前記少なくとも1つのセンサは、温度センサを有するものである。
- 請求項36記載の装置において、前記少なくとも1つのセンサは、前記TMSコイルの下に配置された導電性材料のループを有し、前記TMSコイルが該導電性材料のループに近接している場合、前記TMSコイルにパルスが適用されると内部に誘導電圧を有するものである。
- 経頭蓋磁気刺激(transcranial magnetic stimulation、略称TMS)治療を患者に提供する方法であって、
患者のTMS治療中、前記TMSコイルにパルスが適用される位置に対し、TMSコイルの近接性を検出する工程と、
前記TMSコイルへのパルス適用中、前記TMSコイルが前記位置に対し適切に配置されているかどうかの指標を提供する工程と
を有する方法。 - 請求項59記載の方法において、前記近接性を検出する工程は、前記TMSコイルと前記位置の間にセンサを配置する工程と、患者のTMS治療中前記TMSコイルにパルスを適用する工程と、前記センサを使って前記TMSコイルと前記位置との近接性を検出する工程とを有するものである。
- 請求項60記載の方法において、前記TMSコイルは少なくとも1つの治療面を有し、前記近接性を検出する工程は前記センサの前記出力から、前記少なくとも1つの治療面が前記位置に配置されているかどうかを決定する工程を有するものである。
- 請求項61記載の方法において、前記TMSコイルは、前記TMSコイルの各磁極面に対応した第1の治療面および第2の治療面を有し、前記近接性を検出する工程は前記センサの前記出力から、前記第1の治療面および第2の治療面が前記位置に配置されているかどうかを決定する工程を有するものである。
- 請求項60記載の方法において、前記近接性を検出する工程は、前記センサの前記出力を処理して、前記TMSコイルが前記位置で患者に有効に接触しているかを決定する工程を有するものである。
- 請求項59記載の方法において、この方法は、前記TMSコイルが前記位置に適切に配置されているかどうかを作業者に視覚的に示すディスプレイ装置に、前記指標を提供する工程をさらに有するものである。
- 請求項64記載の方法において、この方法は、さらに、
前記TMSコイルが前記位置にない場合、前記TMSコイルを前記位置へと移動させるべき方向の視覚的な指標を、前記ディスプレイ装置に提示する工程を有するものである。 - 請求項64記載の方法において、この方法は、さらに、
前記TMSコイルが前記位置で適切に接触している場所と、前記TMSコイルが前記位置で適切に接触していない場所とを示す圧力マップを前記ディスプレイ装置に提示する工程を有するものである。 - 請求項59記載の方法において、この方法は、さらに、
前記TMSコイルが前記位置に適切に配置されているかどうかを作業者に示すための音を発生させる音源に前記指標を提供する工程を有するものである。 - 請求項60記載の方法において、前記センサを配置する工程は、柔軟な基板内または当該基板上に複数のセンサを設置する工程と、前記TMSコイルと前記位置の間に前記柔軟な基板を設置して、TMS治療中に前記TMSコイルが前記位置に対し適切に位置付けられているかを決定するものである設置する工程とを有するものである。
- 経頭蓋磁気刺激(transcranial magnetic stimulation、略称TMS)治療を患者に提供する方法であって、
患者のTMS治療中、TMSコイルにパルスが適用される位置に導電性材料のループを配置する工程であって、前記導電性材料のループは、前記TMSコイルが当該導電性材料のループに近接している場合、前記TMSコイルにパルスが適用されると内部に誘導電圧を有するものである、前記導電性材料のループを配置する工程と、
患者のTMS治療中、前記TMSコイルにパルスを適用する工程と、
前記誘導電圧を測定する工程と、
前記TMSコイルへのパルス適用中前記TMSコイルが前記位置に対し適切に配置されているかどうかの指標として、前記誘導電圧が所定の閾値を超えているかを決定する工程と
を有する方法。
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