JP2008505491A - プラズマ点火圧の低減 - Google Patents
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Abstract
Description
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- プラズマ加工チャンバと、バイアス補償回路に結合された静電チャックとを有したプラズマ加工システムにおいて利用する、半導体基板の加工法であって、
前記バイアス補償回路によって前記静電チャックに提供される第1バイアス補償電圧が実質ゼロであり、前記プラズマ加工チャンバ内の第1チャンバ圧が略90mトル以下であるとき実施されるプラズマ点火ステップと、
前記プラズマの点火後、前記バイアス補償回路で提供される前記第1補償電圧よりも高い第2バイアス補償電圧と、前記第1チャンバ圧と実質同圧の第2チャンバ圧とを利用する基板加工ステップと、
を含んでいることを特徴とする半導体基板加工法。 - 第1バイアス補償電圧は基板加工ステップのためのプラズマの準備に必要な時間のみ利用されることを特徴とする請求項1記載の加工法。
- プラズマ点火ステップの工程時間は略10秒以下であることを特徴とする請求項2記載の加工法。
- プラズマ点火ステップの工程時間は略5秒以下であることを特徴とする請求項2記載の加工法。
- プラズマの点火は第1バイアス補償電圧がゼロであるときに実施されることを特徴とする請求項1記載の加工法。
- プラズマの点火は第1チャンバ圧が略40mトルから略90mトルであるときに実施されることを特徴とする請求項1記載の加工法。
- プラズマの点火は第1チャンバ圧が略50mトルから略80mトルであるときに実施されることを特徴とする請求項1記載の加工法。
- プラズマの点火は第1チャンバ圧が略60mトルから略70mトルであるときに実施されることを特徴とする請求項1記載の加工法。
- プラズマの点火は第1チャンバ圧が略60mトル以下であるときに実施されることを特徴とする請求項1記載の加工法。
- プラズマの点火は第1チャンバ圧が略50mトル以下であるときに実施されることを特徴とする請求項1記載の加工法。
- プラズマ加工システムは誘導結合プラズマ加工システムであることを特徴とする請求項1記載の加工法。
- プラズマ加工システムは容量結合プラズマ加工システムであることを特徴とする請求項1記載の加工法。
- プラズマ加工システムはECRプラズマ加工システムであることを特徴とする請求項1記載の加工法。
- 静電チャックは多極静電チャックであることを特徴とする請求項1記載の加工法。
- 静電チャックは双極静電チャックであることを特徴とする請求項1記載の加工法。
- 静電チャックは単極静電チャックであることを特徴とする請求項1記載の加工法。
- 基板加工ステップはエッチング加工であることを特徴とする請求項1記載の加工法。
- 基板は集積回路製造用の半導体ウェハーであることを特徴とする請求項1記載の加工法。
- 基板は少なくとも1体のフラットパネル表示製品製造用のフラットパネル基板であることを特徴とする請求項1記載の加工法。
- 基板はナノマシン製造用のナノマシン基板であることを特徴とする請求項1記載の加工法。
- プラズマ加工チャンバと、バイアス補償回路に結合された静電チャックとを有したプラズマ加工システムにおいて利用する、半導体基板の加工法であって、
前記バイアス補償回路によって前記静電チャックに提供される第1バイアス補償電圧が実質ゼロであるとき実施されるプラズマ点火ステップと、
前記プラズマの点火後、前記第1補償電圧よりも高い第2バイアス補償電圧を利用する基板加工ステップと、
を含んでいることを特徴とする半導体基板加工法。 - 第1バイアス補償電圧はプラズマの点火に必要な時間のみ利用されることを特徴とする請求項21記載の加工法。
- プラズマの点火は第1バイアス補償電圧がゼロであるときに実施されることを特徴とする請求項21記載の加工法。
- プラズマの点火はプラズマ加工チャンバ内のチャンバ圧が略40mトルから略90mトルであるときに実施されることを特徴とする請求項21記載の加工法。
- プラズマの点火はプラズマ加工チャンバ内のチャンバ圧が略50mトルから略80mトルであるときに実施されることを特徴とする請求項21記載の加工法。
- プラズマの点火はプラズマ加工チャンバ内のチャンバ圧が略60mトルから略70mトルであるときに実施されることを特徴とする請求項21記載の加工法。
- プラズマの点火はプラズマ加工チャンバ内のチャンバ圧が略60mトル以下であるときに実施されることを特徴とする請求項21記載の加工法。
- プラズマの点火はプラズマ加工チャンバ内のチャンバ圧が略50mトル以下であるときに実施されることを特徴とする請求項21記載の加工法。
- 基板の加工はプラズマ点火時に存在するチャンバ圧と実質同一圧で実施されることを特徴とする請求項21記載の加工法。
- プラズマ加工システムは誘導結合プラズマ加工システムであることを特徴とする請求項21記載の加工法。
- プラズマ加工システムは容量結合プラズマ加工システムであることを特徴とする請求項21記載の加工法。
- プラズマ加工システムはECRプラズマ加工システムであることを特徴とする請求項21記載の加工法。
- 静電チャックは多極静電チャックであることを特徴とする請求項21記載の加工法。
- 静電チャックは双極静電チャックであることを特徴とする請求項21記載の加工法。
- 静電チャックは単極静電チャックであることを特徴とする請求項21記載の加工法。
- 基板加工ステップはエッチング加工であることを特徴とする請求項21記載の加工法。
- 基板は集積回路製造用の半導体ウェハーであることを特徴とする請求項21記載の加工法。
- 基板は少なくとも1体のフラットパネル表示製品製造用のフラットパネル基板であることを特徴とする請求項21記載の加工法。
- 基板はナノマシン製造用のナノマシン基板であることを特徴とする請求項21記載の加工法。
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