JP2008292564A - 微小光学素子の洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】光学面の清浄を良好に行うことが可能な微小光学素子の洗浄方法を提供する。
【解決手段】まず、両表面に紫外線硬化型樹脂を含む粘着剤2が形成された両面接着テープ1を用意し(a)、その一面を、洗浄用基板3の表面に貼付する(b)。そして、両面接着テープ1の他の面の粘着剤2に、微小光学素子4をピンセット等でつまんで押しつける。これにより、微小光学素子4は、洗浄用基板3の上に固定される。このようにして、必要な数の微小光学素子4を、洗浄用基板3の上に固定する(c)。次に、この状態で、微小光学素子4の側から紫外線照射を行い、粘着剤2中の紫外線硬化樹脂を硬化させて、粘着剤硬化部分8を形成する(d)。そして、この状態で微小光学素子4の光学面7に紫外線を照射して紫外線処理による洗浄を行う(e)。
【選択図】 図1
【解決手段】まず、両表面に紫外線硬化型樹脂を含む粘着剤2が形成された両面接着テープ1を用意し(a)、その一面を、洗浄用基板3の表面に貼付する(b)。そして、両面接着テープ1の他の面の粘着剤2に、微小光学素子4をピンセット等でつまんで押しつける。これにより、微小光学素子4は、洗浄用基板3の上に固定される。このようにして、必要な数の微小光学素子4を、洗浄用基板3の上に固定する(c)。次に、この状態で、微小光学素子4の側から紫外線照射を行い、粘着剤2中の紫外線硬化樹脂を硬化させて、粘着剤硬化部分8を形成する(d)。そして、この状態で微小光学素子4の光学面7に紫外線を照射して紫外線処理による洗浄を行う(e)。
【選択図】 図1
Description
本発明は、微小光学素子の製造方法に関するものである。
基板の上に多層膜を成膜して形成されたフィルタや、マイクロレンズ等の微小光学素子は、多数が1つの基板上に形成された後、ダイシング加工等により一つ一つに裁断されて製品として出荷される。その際、次工程において、他の光学部品との接着を良好に行うため、光学面(光学的特性を与える側の面)が清浄な状態にすることを求められる場合がある。このような要求に応えるため、完成した微小光学素子の光学面に、プラズマ処理による洗浄や、紫外線照射処理による洗浄を施すことが行われている。
従来、このような洗浄処理を施す際には、表面に両面接着テープを貼り付けた基板の上に、完成した微小光学素子の光学面と反対の面を貼付することにより、微小光学素子を基板の上に多数貼り付け、一度に多数の微小光学素子に対して洗浄処理を行うことが行われていた。
しかしながら、上述した従来の方法には、以下のような問題点があった。すなわち、基板上に貼り付けられた両面接着テープには、微小光学素子が貼付されていない面が存在することになる。洗浄処理に際しては、これらの部分の接着剤もプラズマ処理や紫外線照射処理を受けて、その一部が分解し、洗浄機中に漂って、微小光学素子の光学面に付着する。これにより、光学面の洗浄が十分に行われず、微小光学素子の性能を劣化させる。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、光学面の清浄を良好に行うことが可能な微小光学素子の洗浄方法を提供することを課題とする。
前記課題を解決するための第1の手段は、以下の工程を有することを特徴とする微小光学素子の洗浄方法である。
(1)紫外線硬化型樹脂を含む粘着剤が形成された両面接着テープの一面を、洗浄用基板に貼付する工程
(2)紫外線を透過させない微小光学素子の光学面と反対の面を、前記両面接着テープの前記一面とは反対の面に貼付する工程
(3)前記(2)の工程を必要な回数繰り返し、複数の前記微小光学素子を前記基板に貼付する工程
(4)前記微小光学素子を貼付した基板に紫外線を照射し、前記両面接着テープの前記微小光学素子が貼付されていない部分の前記紫外線硬化型樹脂を硬化させる工程
(5)前記基板に貼付された前記微小光学素子の光学面を洗浄する工程
前記課題を解決するための第2の手段は、以下の工程を有することを特徴とする微小光学素子の洗浄方法である。
(2)紫外線を透過させない微小光学素子の光学面と反対の面を、前記両面接着テープの前記一面とは反対の面に貼付する工程
(3)前記(2)の工程を必要な回数繰り返し、複数の前記微小光学素子を前記基板に貼付する工程
(4)前記微小光学素子を貼付した基板に紫外線を照射し、前記両面接着テープの前記微小光学素子が貼付されていない部分の前記紫外線硬化型樹脂を硬化させる工程
(5)前記基板に貼付された前記微小光学素子の光学面を洗浄する工程
前記課題を解決するための第2の手段は、以下の工程を有することを特徴とする微小光学素子の洗浄方法である。
(1)紫外線硬化型樹脂を含む粘着剤が形成された洗浄用基板を用意する工程
(2)紫外線を透過させない微小光学素子の光学面と反対の面を、前記粘着剤に貼付する工程
(3)前記(2)の工程を必要な回数繰り返し、複数の前記微小光学素子を前記基板に貼付する工程
(4)前記微小光学素子を貼付した基板に紫外線を照射し、前記洗浄用基板の前記微小光学素子が貼付されていない部分の前記紫外線硬化型樹脂を硬化させる工程
(5)前記基板に貼付された前記微小光学素子の光学面を洗浄する工程
前記課題を解決するための第3の手段は、前記第1の手段又は第2の手段であって、前記粘着剤を構成する樹脂が、シリコン樹脂であることを特徴とするものである。
(2)紫外線を透過させない微小光学素子の光学面と反対の面を、前記粘着剤に貼付する工程
(3)前記(2)の工程を必要な回数繰り返し、複数の前記微小光学素子を前記基板に貼付する工程
(4)前記微小光学素子を貼付した基板に紫外線を照射し、前記洗浄用基板の前記微小光学素子が貼付されていない部分の前記紫外線硬化型樹脂を硬化させる工程
(5)前記基板に貼付された前記微小光学素子の光学面を洗浄する工程
前記課題を解決するための第3の手段は、前記第1の手段又は第2の手段であって、前記粘着剤を構成する樹脂が、シリコン樹脂であることを特徴とするものである。
本発明によれば、光学面の清浄を良好に行うことが可能な微小光学素子の洗浄方法を提供することができる。
以下、本発明の実施の形態の例を、図を用いて説明する。図1は、本発明の実施の形態の1例である微小光学素子の洗浄方法を説明するための図である。まず、両表面に紫外線硬化型樹脂を含む粘着剤2が形成された両面接着テープ1を用意し(a)、その一面を、洗浄用基板3の表面に貼付する(b)。
そして、両面接着テープ1の他の面の粘着剤2に、微小光学素子4をピンセット等でつまんで押しつける。これにより、微小光学素子4は、洗浄用基板3の上に固定される。このようにして、必要な数の微小光学素子4を、洗浄用基板3の上に固定する(c)。この例においては、微小光学素子4は、基板5の上に多層膜6が形成されたフィルタ素子であり、多層膜6の表面が光学面7である。そして、この微小光学素子4は紫外線を通さないものである。粘着剤2に押しつけられる面は、光学面7とは反対の面である。微小光学素子4の大きさは、例えば、厚さ0.5mm、幅×長さが2mm×4mmのものである。
次に、この状態で、微小光学素子4の側から紫外線照射を行い、粘着剤2中の紫外線硬化樹脂を硬化させて、粘着剤硬化部分8を形成する。粘着剤硬化部分8では粘着性が失われるが、微小光学素子4が粘着されている部分は、微小光学素子4が紫外線を通さないので粘着剤2中の紫外線硬化樹脂は硬化せず、粘着性は失われない(d)。
そして、この状態で微小光学素子4の光学面7に紫外線を照射して紫外線処理による洗浄を行う(e)。このとき、両面接着テープ1の両面の粘着剤2のうち、微小光学素子4が粘着されていない部分は硬化しているので、洗浄を行っても、その一部が分解し、洗浄機中に漂って、微小光学素子の光学面に付着することを防止することができる。
紫外線処理による洗浄の代わりに、プラズマ処理による洗浄を行ってもよい。なお、紫外線処理による洗浄の場合は、(d)と(e)の工程は連続して行ってもよい。洗浄が終了した微小光学素子4は、基板3の上に保持したまま、又はゲルパックに移して保持した状態で次工程に搬送される。
なお、粘着剤2は、微小光学素子4を貼着可能なものあればよいが、シリコン樹脂を使用すると、化学的に安定なため、プラズマ処理又は紫外線照射処理により分解することが少なく、特に好ましい。
図2は、本発明の実施の形態の他の例である微小光学素子の洗浄方法を説明するための図である。図2において、図1に示された構成要素と同じ構成要素には、同じ符号を付してその説明を省略することがある。
まず、洗浄用基板3の表面に、紫外線硬化型樹脂を含む粘着剤2の層を、例えば厚さ20μm程度に、塗布等により形成する(a)。
洗浄用基板3の表面の粘着剤2に、微小光学素子4をピンセット等でつまんで押しつける。これにより、微小光学素子4は、洗浄用基板3の上に固定される。このようにして、必要な数の微小光学素子4を、洗浄用基板3の上に固定する(b)。この例においては、微小光学素子4は、基板5の上に多層膜6が形成されたフィルタ素子であり、多層膜6の表面が光学面7である。そして、この微小光学素子4は紫外線を通さないものである。粘着剤2に押しつけられる面は、光学面7とは反対の面である。微小光学素子4の大きさは、例えば、厚さ0.5mm、幅×長さが2mm×4mmのものである。
次に、この状態で、微小光学素子4の側から紫外線照射を行い(例えば高圧水銀灯を用い、500mJ/cm2程度の照射を行う)、粘着剤2中の紫外線硬化樹脂を硬化させて、粘着剤硬化部分8を形成する(c)。粘着剤硬化部分8では粘着性が失われるが、微小光学素子4が粘着されている部分は、微小光学素子4が紫外線を通さないので粘着剤2中の紫外線硬化樹脂は硬化せず、粘着性は失われない。
そして、この状態で微小光学素子4の光学面7に紫外線を照射して紫外線処理による洗浄を行う(d)。このとき、粘着剤2のうち、微小光学素子4が粘着されていない部分は硬化しているので、洗浄を行っても、その一部が分解し、洗浄機中に漂って、微小光学素子の光学面に付着することを防止することができる。
紫外線処理による洗浄の代わりに、プラズマ処理による洗浄を行ってもよい。なお、紫外線処理による洗浄の場合は、(c)と(d)の工程は連続して行ってもよい。洗浄が終了した微小光学素子4は、基板3の上に保持したまま、又はゲルパックに移して保持した状態で次工程に搬送される。
なお、粘着剤2は、微小光学素子4を貼着可能なものであればよいが、シリコン樹脂を使用すると、化学的に安定なため、プラズマ処理又は紫外線照射処理により分解することが少なく、特に好ましい。
1…両面接着テープ、2…粘着剤、3…洗浄用基板、4…微小光学素子、5…基板、6…多層膜、7…光学面、8…粘着剤硬化部分
Claims (3)
- 以下の工程を有することを特徴とする微小光学素子の洗浄方法。
(1)紫外線硬化型樹脂を含む粘着剤が形成された両面接着テープの一面を、洗浄用基板に貼付する工程
(2)紫外線を透過させない微小光学素子の光学面と反対の面を、前記両面接着テープの前記一面とは反対の面に貼付する工程
(3)前記(2)の工程を必要な回数繰り返し、複数の前記微小光学素子を前記基板に貼付する工程
(4)前記微小光学素子を貼付した基板に紫外線を照射し、前記両面接着テープの前記微小光学素子が貼付されていない部分の前記紫外線硬化型樹脂を硬化させる工程
(5)前記基板に貼付された前記微小光学素子の光学面を洗浄する工程 - 以下の工程を有することを特徴とする微小光学素子の洗浄方法。
(1)紫外線硬化型樹脂を含む粘着剤が形成された洗浄用基板を用意する工程
(2)紫外線を透過させない微小光学素子の光学面と反対の面を、前記粘着剤に貼付する工程
(3)前記(2)の工程を必要な回数繰り返し、複数の前記微小光学素子を前記基板に貼付する工程
(4)前記微小光学素子を貼付した基板に紫外線を照射し、前記洗浄用基板の前記微小光学素子が貼付されていない部分の前記紫外線硬化型樹脂を硬化させる工程
(5)前記基板に貼付された前記微小光学素子の光学面を洗浄する工程 - 前記粘着剤を構成する樹脂が、シリコン樹脂であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の微小光学素子の洗浄方法。
Priority Applications (1)
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JP2007135440A JP2008292564A (ja) | 2007-05-22 | 2007-05-22 | 微小光学素子の洗浄方法 |
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Publications (1)
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Family
ID=40167372
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20110159440A1 (en) * | 2009-12-25 | 2011-06-30 | Yumi Nakajima | Cleaning reticle, method for cleaning reticle stage, and method for manufacturing semiconductor device |
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2007
- 2007-05-22 JP JP2007135440A patent/JP2008292564A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US20110159440A1 (en) * | 2009-12-25 | 2011-06-30 | Yumi Nakajima | Cleaning reticle, method for cleaning reticle stage, and method for manufacturing semiconductor device |
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KR101220564B1 (ko) * | 2009-12-25 | 2013-01-11 | 가부시끼가이샤 도시바 | 세정용 레티클, 레티클 스테이지의 세정 방법 및 반도체 장치의 제조 방법 |
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