JP2008291637A - 陰イオン発生素材製造方法、陰イオン発生素材、液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法、液状ナノ化陰イオン発生溶剤、建物内部仕上げ材製造方法、建物内部施工方法及びまな板 - Google Patents

Abstract

【課題】高炉水滓スラグをより環境親和性のある用途に用いることが可能な陰イオン発生素材、その製造方法及び当該陰イオン発生素材を用いた製品を提供すること。
【解決手段】本発明の陰イオン発生素材製造方法は、高炉水滓スラグを常温で低速粉碎する第１ステップと、前記粉砕された粉末を微弱電流が流れる水に沈澱させる第２ステップと、前記沈澱された高炉水滓スラグを所定の第１の時間経過後に超音波ゾーンへ移送する第３ステップと、前記超音波ゾーンへ移送された高炉水滓スラグに所定の第２の時間超音波を照射する第４ステップと、前記超音波を照射された高炉水滓スラグをアルミナセラミックス焼成炉で酸素イオン及びラドンイオンを入れ込みながら所定温度で段階的に乾燥する第５ステップと、前記乾燥された高炉水滓スラグに対してプラズマチャンバ内でイオンを注入する第６ステップとを具備する。
【選択図】図１

Description

本発明は、高炉水滓スラグを利用した陰イオン発生素材製造方法、陰イオン発生素材、液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法、液状ナノ化陰イオン発生溶剤、建物内部仕上げ材製造方法、建物内部施工方法及びまな板に関する。

溶鉱炉で鉄鉱石から鉄を製造する場合には、鉄鉱石中のケイ素、アルミニウム、カルシウムなどは還元されずに酸化物のまま残り溶融する。下部に溶けた鉄がたまり、上部にこれらの溶融酸化物が残る。この溶融した酸化物が高炉スラグである。そしてこの高炉スラグを高圧の冷却水で急速冷却させることで生成されるのが高炉水滓スラグであり、高炉スラグを加熱及び冷却して生成されるのが塊滓スラグである。

上記高炉水滓スラグはケイ素成分を多く含むため、急冷時に壊れて粉末状態となり、他の鉱物と結合力（反応力）を有さない。そのため、この高炉水滓スラグは、従来から天然石膏等と混合して主にセメント原料などに利用されたり、地盤改良剤等として利用されたりしている（例えば、特許文献１参照）。

特開２００２−８７８５４号公報

しかしながら、近年においては、あらゆる製品において環境親和性が重要視されるようになり、主にセメント原料として利用される高炉水滓スラグは、そのセメントの毒性により環境親和性製品となることができずに、使用量が激減している。したがって、この高炉水滓スラグの新たな利用法が求められている。

以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、高炉水滓スラグをより環境親和性のある用途に用いることが可能な陰イオン発生素材及びその製造方法を提供することにある。

また、本発明の別の目的は、上記陰イオン発生素材を用いて、建築用資材として適用することが可能な、液状化及びナノ化した液状ナノ化陰イオン発生溶剤及びその製造方法を提供することにある。

また、本発明のまた別の目的は、上記陰イオン発生素材を用いて、建物内部のコンクリート等の表面に生じる白化現象及びかび菌の発生を防ぐことが可能な建物内部仕上げ材、その製造方法及び当該建物内部仕上げ材を用いた建物内部施工方法を提供することにある。

さらに、本発明のまた別の目的は、上記素材を含有した、抗菌効果、防カビ効果及び消臭効果を有するまな板を提供することにある。

上述の課題を解決するため、本発明の主たる観点に係る陰イオン発生素材製造方法は、高炉水滓スラグを常温で低速粉碎する第１ステップと、前記粉砕された粉末を微弱電流が流れる水に沈澱させる第２ステップと、前記沈澱された高炉水滓スラグを所定の第１の時間経過後に超音波ゾーンへ移送する第３ステップと、前記超音波ゾーンへ移送された高炉水滓スラグに所定の第２の時間超音波を照射する第４ステップと、前記超音波を照射された高炉水滓スラグをアルミナセラミックス焼成炉で酸素イオン及びラドンイオンを入れ込みながら所定温度で段階的に乾燥する第５ステップと、前記乾燥された高炉水滓スラグに対してプラズマチャンバ内でイオンを注入する第６ステップとを具備する。
この構成により、高炉水滓スラグにプラズマイオン注入を行い、陰イオン発生素材を製造することで、高炉水滓スラグに環境親和性を持たせ、あらゆる産業分野に活用させることが可能となる。

上記陰イオン発生素材製造方法の前記第１ステップにおいて、高炉水滓スラグは４５〜７５μｍの粒径に粉砕されるのが好ましい。

上記陰イオン発生素材製造方法の前記第２ステップにおいて、前記微弱電流の大きさは０．０６〜１．０ｍＡとするのが好ましい。

上記陰イオン発生素材製造方法の前記第３ステップにおいて、前記第１の所定時間は１２〜２４時間とするのが好ましい。

上記陰イオン発生素材製造方法の前記第４ステップにおいて、前記第２の所定時間は１２〜２４時間であり、前記超音波の波長は６０，０００Ｈｚとするのが好ましい。

上記陰イオン発生素材製造方法の前記第５ステップにおいては、前記高炉水滓スラグを、前記所定温度が２００℃のアルミナセラミックス焼成炉において加熱し、所定時間冷却した後、前記所定温度が４００℃のアルミナセラミックス焼成炉において加熱し、前記所定時間冷却した後、前記所定温度が６００℃の各アルミナセラミックス焼成炉において加熱し、前記所定時間冷却して乾燥させてもよい。

本発明に係る陰イオン発生素材は、高炉水滓スラグを常温で低速粉碎し、前記粉砕された粉末を微弱電流が流れる水に沈澱させ、前記沈澱された高炉水滓スラグを所定の第１の時間経過後に超音波ゾーンへ移送し、前記超音波ゾーンへ移送された高炉水滓スラグに所定の第２の時間超音波を照射し、前記超音波を照射された高炉水滓スラグをアルミナセラミックス焼成炉で酸素イオン及びラドンイオンを入れ込みながら所定温度で段階的に乾燥させ、前記乾燥された高炉水滓スラグに対してプラズマチャンバ内でイオンを注入することで製造されたものである。

本発明の他の観点に係る液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法は、高炉水滓スラグを常温で低速粉碎し、前記粉砕された粉末を微弱電流が流れる水に沈澱させ、前記沈澱された高炉水滓スラグを所定の第１の時間経過後に超音波ゾーンへ移送し、前記超音波ゾーンへ移送された高炉水滓スラグに所定の第２の時間超音波を照射し、前記超音波を照射された高炉水滓スラグをアルミナセラミックス焼成炉で酸素イオン及びラドンイオンを入れ込みながら所定の第１の温度で段階的に乾燥させ、前記乾燥された高炉水滓スラグに対してプラズマチャンバ内でイオンを注入することで製造された陰イオン発生素材を所定の粒径に粉碎する第１ステップと、前記粉砕された陰イオン発生素材を化学合成容器に投入してアルコールと化学溶剤と混合して陰イオン発生素材混合物を生成し、所定の化学的合成方法によって８０〜９０重量％の前記陰イオン発生素材混合物をナノ化及び液状化して液状陰イオン発生素材混合物を生成する第２ステップと、前記液状陰イオン発生素材混合物を遠心分離機に通過させて重金属を除去して凝縮させる第３ステップと、前記凝縮された液状陰イオン発生素材混合物を−２０℃〜−５℃に急速冷凍させる第４ステップと、前記冷却された液状陰イオン発生素材混合物を混合タンクに移動させて、当該混合タンクでアルコールと水を混合して低速で希釈させる第５ステップと、前記希釈された液状陰イオン発生素材混合物を高温蒸発装置により所定の第２の温度で所定の第３の時間加熱して６０重量％〜７０重量％の液状溶剤になるまで蒸発させて液状陰イオン発生溶剤を生成する第６ステップと、前記生成された液状陰イオン発生溶剤から、高温プラズマ装置により不純物を蒸発させ除去するとともに、前記第２ステップにおいてナノ化されなかった１０−２０重量％の陰イオン発生素材を２次的にナノ化して高濃縮ナノ化された液状ナノ化陰イオン発生溶剤を生成する第７ステップと、前記生成された液状ナノ化陰イオン発生溶剤を密閉された保管タンクに移動させて、当該保管タンクで自然反応が生じるように所定の第４の時間保管する第８ステップと、前記保管タンクで保管された液状ナノ化陰イオン発生溶剤を油性または水性に希釈して区分して保存する第９ステップとを具備する。

この構成により、陰イオン発生素材をナノ化及び液状化して溶剤として製造することで、粉末状の陰イオン発生素材に比べて導電率、表面照度、吸着率及び凝集力を大きく向上させることができ、塗料用ペイント、セメント、壁紙等の幅広い範囲の建築用資材に容易に活用させることができる。

上記液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法の前記第１ステップにおいて、前記所定の粒径は４５〜７５μｍであることが好ましい。

上記液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法の前記第２ステップにおける所定の化学的合成方法は、上記化学合成容器の温度を常温で維持し、水分を２〜３重量％未満で維持した状態で前記粉砕された陰イオン発生素材を前記化学合成容器の１／４の量投入し、前記アルコールを前記化学合成容器の１／２の量投入するステップと、所定の化学溶剤を前記化学合成容器に投入して化学反応が起きるようにするステップと、前記化学反応が所定の第５の時間維持されるようにするステップと、前記化学合成容器の排出バルブを開いて前記化学合成容器内に発生した気体及びガスを排出するステップとを有していてもよい。

上記液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法の前記第３ステップは、前記遠心分離機によって凝縮濃度が５０重量％〜８０重量％で維持されるようにしても構わない。

上記液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法の前記第５ステップにおいて、前記アルコールはメチルアルコールであり、当該メチルアルコールと水との割合を７：３として前記液状陰イオン混合物を５０重量％に希釈するようにしても構わない。

上記液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法の前記第６ステップにおいて、前記所定の第２の温度は２００℃〜１０００℃であり、前記所定の第３の時間は３０分〜１時間であることが好ましい。

上記液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法の前記第７ステップにおいて、高温プラズマ装置は４００℃〜１５００℃に加熱されることが好ましい。

上記液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法において、前記保管タンクの材質はポリ塩化ビニル系であり、前記保管タンク内部で発生するガスを外部で排出できる構造を有しているのが好ましい。

本発明に係る液状ナノ化陰イオン発生溶剤は、高炉水滓スラグを常温で低速粉碎し、前記粉砕された粉末を微弱電流が流れる水に沈澱させ、前記沈澱された高炉水滓スラグを所定の第１の時間経過後に超音波ゾーンへ移送し、前記超音波ゾーンへ移送された高炉水滓スラグに所定の第２の時間超音波を照射し、前記超音波を照射された高炉水滓スラグをアルミナセラミックス焼成炉で酸素イオン及びラドンイオンを入れ込みながら所定の第１の温度で段階的に乾燥させ、前記乾燥された高炉水滓スラグに対してプラズマチャンバ内でイオンを注入することで製造された陰イオン発生素材を所定の粒径に粉碎し、前記粉砕された陰イオン発生素材を化学合成容器に投入してアルコールと化学溶剤と混合して陰イオン発生素材混合物を生成し、所定の化学的合成方法によって８０−９０重量％の前記陰イオン発生素材混合物をナノ化及び液状化して液状陰イオン発生素材混合物を生成し、前記液状陰イオン発生素材混合物を遠心分離機に通過させて重金属を除去して凝縮させ、前記凝縮された液状陰イオン発生素材混合物を−２０℃〜−５℃に急速冷凍させ、前記冷却された液状陰イオン発生素材混合物を混合タンクに移動させて当該混合タンクでアルコールと水を混合して低速で希釈させ、前記希釈された液状陰イオン発生素材混合物を高温蒸発装置により所定の第２の温度で所定の第３の時間加熱して６０重量％〜７０重量％の液状溶剤になるまで蒸発させて液状陰イオン発生溶剤を生成し、前記生成された液状陰イオン発生溶剤から、高温プラズマ装置により不純物を蒸発させ除去するとともに、前記ナノ化されなかった１０−２０重量％の陰イオン発生素材を２次的にナノ化して高濃縮ナノ化された液状ナノ化陰イオン発生溶剤を生成し、前記生成された液状ナノ化陰イオン発生溶剤を密閉された保管タンクに移動させて、当該保管タンクで自然反応が生じるように所定の第４の時間保管し、前記保管タンクで保管された液状ナノ化陰イオン発生溶剤を油性または水性に希釈して区分して保存することで製造されたものである。

本発明の他の観点に係る建物内部仕上げ材製造方法は、高炉水滓スラグを常温で低速粉碎し、前記粉砕された粉末を微弱電流が流れる水に沈澱させ、前記沈澱された高炉水滓スラグを所定の第１の時間経過後に超音波ゾーンへ移送し、前記超音波ゾーンへ移送された高炉水滓スラグに所定の第２の時間超音波を照射し、前記超音波を照射された高炉水滓スラグをアルミナセラミックス焼成炉で酸素イオン及びラドンイオンを入れ込みながら所定温度で段階的に乾燥させ、前記乾燥された高炉水滓スラグに対してプラズマチャンバ内でイオンを注入することで製造された粉末状の陰イオン発生素材と、セメントとを、１〜２：８〜９の重量割合で混合して第１混合物を生成する第１ステップと、前記第１混合物に砂及び石灰を２０重量％〜４０重量％混合して第２混合物を生成する第２ステップと、前記第２混合物に所定の水溶液を６０重量％〜７０重量％投入して、流動性を有する液体状またはねり状とする第３ステップとを具備する。

この構成により、高炉水滓スラグから製造された陰イオン発生素材とセメントとを混合して流動性を有する液状及びねり状とすることで、セメントやコンクリート等の表面に生じる白化現象及びかび菌の発生を防止することが可能な建物内部仕上げ材を製造することができる。

上記建物内部仕上げ材製造方法において、前記陰イオン発生素材は４５〜７５μｍの粒径を有する粉末状であり、前記セメントの粒径は前記陰イオン発生素材の粒径よりも大きいことが好ましい。

上記建物内部仕上げ材製造方法において、前記投入される所定の水溶液は、前記粉末状の陰イオン発生素材を液状化して製造された液状陰イオン発生溶剤に、１０〜２０重量％の一般水を添加して希釈したものであってもよい。

上記建物内部仕上げ材製造方法において、前記液状陰イオン発生溶剤は、４０重量％の前記粉末状の陰イオン発生素材を、５０重量％の蒸溜水と、１０重量％の水性バインダーとで希釈して製造された溶剤であっても構わない。

上記建物内部仕上げ材製造方法において、前記建物内部仕上げ材は、天井材、床材料、壁材、壁紙、床マット、シリコンコーキング材、接着剤、タイル工事用白セメント、セメントモルタルのうち少なくとも１つに適用することができる。

本発明のまた別の観点に係る建物内部施工方法は、高炉水滓スラグを常温で低速粉碎し、前記粉砕された粉末を微弱電流が流れる水に沈澱させ、前記沈澱された高炉水滓スラグを所定の第１の時間経過後に超音波ゾーンへ移送し、前記超音波ゾーンへ移送された高炉水滓スラグに所定の第２の時間超音波を照射し、前記超音波を照射された高炉水滓スラグをアルミナセラミックス焼成炉で酸素イオン及びラドンイオンを入れ込みながら所定温度で段階的に乾燥させ、前記乾燥された高炉水滓スラグに対してプラズマチャンバ内でイオンを注入することで製造された粉末状の陰イオン発生素材と、セメントとを、１〜２：８〜９の重量割合で混合して第１混合物を生成し、前記第１混合物に砂及び石灰を２０重量％〜４０重量％混合して第２混合物を生成し、前記第２混合物に所定の水溶液を６０重量％〜７０重量％投入して、流動性を有する液体状またはねり状とすることで製造された建物内部仕上げ材を用意し、建物内壁の左官面またはコンクリート面をそれらの水気状態が１〜２重量％未満となるように乾燥させ、前記建物内部仕上げ材を前記左官面またはコンクリート面に０．２ｍｍ〜０．３ｍｍの厚さで塗布するものである。

上記建物内部施工方法において、前記陰イオン発生素材は４５〜７５μｍの粒径を有する粉末状であり、前記セメントの粒径は前記陰イオン発生素材の粒径よりも大きいことが好ましい。

上記建物内部施工方法において、前記投入される所定の水溶液は、前記粉末状の陰イオン発生素材を液状化して製造された液状陰イオン発生溶剤に、１０〜２０重量％の一般水を添加して希釈したものであってもよい。

上記建物内部施工方法において、前記液状陰イオン発生溶剤は、４０重量％の前記粉末状の陰イオン発生素材を、５０重量％の蒸溜水と、１０重量％の水性バインダーとで希釈して製造された溶剤であっても構わない。

本発明のまた別の観点に係るまな板は、ゴム弾性を有する板材からなり、高炉水滓スラグから製造された素材を含有する。当該素材は、高炉水滓スラグを常温で低速粉碎し、前記粉砕された粉末を微弱電流が流れる水に沈澱させ、前記沈澱された高炉水滓スラグを所定の第１の時間経過後に超音波ゾーンへ移送し、前記超音波ゾーンへ移送された高炉水滓スラグに所定の第２の時間超音波を照射し、前記超音波を照射された高炉水滓スラグをアルミナセラミックス焼成炉で酸素イオン及びラドンイオンを入れ込みながら所定温度で段階的に加熱して乾燥させ、前記乾燥された高炉水滓スラグに対してプラズマチャンバ内でイオンを注入することで製造される。
このまな板は、上記高炉水滓スラグから製造された素材を含有することにより、抗菌効果、防カビ効果及び消臭効果を有する。

以上のように、本発明によれば、高炉水滓スラグをより環境親和性のある用途に用いることが可能な陰イオン発生素材を提供することができる。

また、本発明によれば、上記陰イオン発生素材を用いて、建築用資材として適用することが可能な、液状化及びナノ化した液状ナノ化陰イオン発生溶剤を提供することができる。

また、本発明によれば、上記陰イオン発生素材を用いて、建物内部のコンクリート等の表面に生じる白化現象及びかび菌の発生を防ぐことが可能な建物内部仕上げ材を提供することができ、また当該建物内部仕上げ材を用いて建物内部を施工することができる。

さらに、本発明によれば、上記素材を含有した、抗菌効果、防カビ効果及び脱臭効果を有するまな板を提供することができる。

以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。

（第１の実施形態）
まず、本発明の第１の実施形態について説明する。
図１は、本実施形態に係る高炉水滓スラグを利用した陰イオン発生素材製造方法の製造工程の流れを示した図である。

同図に示すように、本実施形態においてはまず、粒子状態の高炉水滓スラグを、破砕機を用いて常温（１７℃〜２６℃）で熱が発生しないように低速で粉碎して粉末状にする（ステップ１１）。この場合、粉碎後の粒子の大きさ（粒径）は、４５〜７５μｍ程度にすることが望ましい。粒径が４５〜７５μｍとなるまで粉砕することで、角が取れ丸みを帯びた粒子とすることができる。これにより、粒子が人体に吸収されても汗腺を介して排出されるため、臓器に損傷を与えることを防ぐことができる。すなわち、人体に対する安全性を高めることができる。

次に、粉砕された高炉水滓スラグの粉末を、微弱電流が流れる水に沈澱させる（ステップ１２）。この場合、水に流れる微弱電流の大きさは例えば０．０６〜１．０ｍＡ程度とされる。この電流範囲においては安定して電荷を注入できる一方、１．０ｍＡ以上だと安定した電荷の注入が困難になるからである。なお、０．０６ｍＡは、電気石として知られるトルマリンが発生する電流値及び生体電流値とほぼ一致する。

次に、上記微弱電流が流れる水に沈澱された高炉水滓スラグを、所定時間（例えば１２〜２４時間程度）が経過した後、超音波ゾーン（超音波照射装置）に移送する（ステップ１３）。この移行までの沈殿時間は、高炉水滓スラグのうち、有機物や不純物等、天然無機質以外の物質を洗浄するための時間である。沈殿時間を１２時間以上としたのは、沈殿時間が１２時間に満たない場合、その洗浄が十分行えないからである。また、２４時間以上沈殿させても構わないが、沈殿時間を２４時間以下としたのは、洗浄効果としては２４時間で十分な結果が得られる一方、２４時間を越えると、陰イオン発生素材の生産性が低下してしまうおそれがあるからである。

次に、上記超音波ゾーンに移送された高炉水滓スラグに対して、所定時間超音波を照射する（ステップ１４）。この場合、照射される超音波の波長は、６０，０００Ｈｚ程度とし、滞留時間は１２〜２４時間にすることが望ましい。このように高炉水滓スラグに超音波を照射することで、気体、液体及び固体中で横波及び縦波のみならず表面波も発生させて、物質の分子を加速させることで物質の変異、還元反応、置換反応を促進するという超音波の作用を利用して、上記高炉水滓スラグの性質に流動性を与えて酸化還元反応を促進させることができる。

次に、超音波を所定時間照射した高炉水滓スラグを、アルミナセラミックス焼成炉へ移送し、当該アルミナセラミックス焼成炉において酸素イオンとラドンイオンとを注入しながら所定温度で段階的に乾燥させる（ステップ１５）。アルミナセラミックスはボーキサイト鉱物であり、陰イオンの発生素子を持つ触媒として機能することで、高炉水滓スラグの電子が、上記注入された酸素イオン及びラドンイオンに置換される。

また、この高炉水滓スラグを所定温度で段階的に乾燥させるための具体的方法として、上記アルミナセラミックス焼成炉内に例えば２００℃、４００℃、６００℃をそれぞれ維持する複数の加熱炉を用意する。そして、まず第１段階として、２００℃の加熱炉において、滞留時間を約３０分として高炉水滓スラグを加熱し、約１時間冷却して、乾燥率が約３０％となるようにする。続いて、第２段階として、４００℃の加熱炉において、滞留時間を約３０分として高炉水滓スラグを加熱し、約１時間冷却して、乾燥率が約５０％となるようにする。そして、第３段階として６００℃の加熱炉において、滞留時間を３０分として加熱し、約１時間冷却して、乾燥率が９５％となるようにする。

このように段階的に加熱及び冷却を繰り返すことで、高炉水滓スラグの溶融を防ぎながら内部まで加熱することができ、当該高炉水滓スラグの分子を内部まで不安定な状態とすることができる。これにより、次のイオン注入工程において、イオンが注入されやすくなる。上記冷却は例えば常温下で行われるが、水冷により行われてもよく、冷却時間も適宜変更可能である。なお、高炉水滓スラグを７００℃以上で加熱すると、その性質が置換して分子が安定してしまい、イオン注入の妨げになってしまうため、上記乾燥処理においては６００℃を最高温度とする。

次に、上記乾燥した高炉水滓スラグをプラズマイオン注入装置へ移動し、当該高炉水滓スラグにイオン注入を行う（ステップ１６）。

具体的には、図２に示すように、乾燥した高炉水滓スラグ５０を、プラズマイオン注入装置１００のプラズマチャンバ１０１内に置き、真空ポンプ１０４によりプラズマチャンバ１００内を真空状態とした上で、図示しないプラズマ源からプラズマを発生させ、イオンガス供給装置１０２からプラズマチャンバ１０１内にイオンガスを供給しながら、高電圧パルス発生器１０３から、高炉水滓スラグに対して、グラウンドに接地されたプラズマチャンバ１０１の壁部に比べて相対的に高い陰の電圧パルス（例えば２０〜５０ｋＶ）と、低い陰の電圧パルス（例えば１．４ｋＶ〜３．５ｋＶ）をそれぞれ繰り返し（例えば１０回以上）印加する。これにより、高炉水滓スラグとプラズマの界面にはプラズマシースが形成され、高炉水滓スラグの周囲のプラズマ中のイオンが、そのシース電圧により加速され、高炉水滓スラグに注入される。

なお、イオンガス供給装置１０２は、高電圧状態と低電圧状態とで異なるガスを供給し、多重的なイオン注入を行う。高電圧状態において供給されるガスは例えばラドンイオンガスや酸素イオンガス等であり、これらのイオンガスは、高炉水滓スラグ内部の分子の改質を誘導する。低電圧状態において供給されるガスは例えばアルゴンイオンガスやヘリウムイオンガス等であり、これらのイオンガスは、上記高電圧状態において注入されたイオンが逃げ出さないように表面を覆う膜の形成を誘導する。

以上のプラズマイオン注入処理により、注入された陰イオンが、高炉水滓スラグの分子に変化を与えることで、半永久的に陰イオンの発生反応を生じる陰イオン発生素材を製造することができる。

本発明者等は、上記高炉水滓スラグを利用した陰イオン発生素材製造方法によって製造された陰イオン発生素材の陰イオン発生量について試験を行った結果、図３に示すような結果を得た。

同図に示すように、自然石においては、陰イオンの発生量は２００個／ｍｌであり、本実施形態における製造方法の実施前における高炉水滓スラグの陰イオン発生量は０個／ｍｌであったが、本実施形態における製造方法により製造された陰イオン発生素材の陰イオン発生量は３，５３６個／ｍｌとなり、自然石に比べて１７．７倍の陰イオンが発生することが確認された。この試験結果から、本実施形態による陰イオン発生素材製造方法によれば、自然石が発生する陰イオンの発生量よりもはるかに多くの陰イオンを発生する陰イオン発生素材を製造することが立証できた。

本実施形態における陰イオン発生素材製造方法によって製造された陰イオン発生素材は、陰イオンによる美容効果、界面活性効果、脱臭効果等の効果を有するため、産業各分野に活用することができる。

例えば繊維分野では、遠赤外線効果等を発揮する製品に適用でき、水処理分野では、水質浄化・還元作用、汚染防止、ミネラル效果、弱アルカリ化等の効果により、バクテリアとの融合活性水装置、活水器、浄水器、貯水槽、浄化槽、下水処理装置、飲料水、シャワーヘッド等の製品に適用することができる。

また、建築・住宅分野では建築材料、タイル、断熱材、風呂場内装材、トイレ内装材、塗料等に適用することができ、樹脂分野においては鮮度維持剤、界面活性剤、ポリエチレン封筒、プラスチック容器、キッチン用具、便器、洗面台、風呂場及びトイレ用品、冷蔵庫、洗濯機素材、エアコン、文房具、事務用品等に適用することができる。

また、上記陰イオン発生素材は、上述の分野だけでなく、陰イオンによる効能が必要な医療分野、化粧品・雑貨分野、食品分野、インテリア分野、セラミックス分野、畜産・水産分野等のあらゆる産業分野に適用が可能である。

（第２の実施形態）
次に、本発明の第２の実施形態について説明する。本実施形態においては、上述の第１の実施形態における陰イオン発生素材製造方法によって製造された陰イオン発生素材を、建築用資材として応用するために、溶剤として製造する方法について説明する。

近来、建築用資材において、消費者の生活環境水準の向上欲求及び健康とエネルギー節約に高い関心が集められており、セメントの毒性を排除して、環境親和的な住居環境内で生活を営むための機能性建築用資材が要求されている。したがって、上記第１の実施形態において製造される陰イオン発生素材は、抗菌特性、脱臭機能等の效果を有するため、建築用資材としての適正を有することとなる。

この場合、上記陰イオン発生素材を粉末状にして例えば左官用モルタル、ペイントに添加して使用することも可能であるが、この粉末の粒子が大きいと、表面照度や吸着力及び凝集力が十分でなく、左官用モルタル及びペイントとしての本来の機能を阻害してしまう可能性がある。

そこで、本実施形態においては、上記陰イオン発生素材をナノ化及び液状化した溶剤として製造する方法を提供する。

図４は、本実施形態における液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法の製造工程（液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造装置の構成）を示すブロック図である。また、図５は、本実施形態における液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法の製造工程の流れを示すフローチャートである。

これらの図に示すように、本実施形態においては、まず、上述の第１の実施形態において製造した陰イオン発生素材を、破砕機を用いて所定の大きさ（例えば粒径４５〜７５μｍ）に粉砕し（ステップ５０１）、粉砕された陰イオン発生素材を、液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造装置２００の化学合成容器２１へ投入する。この化学合成容器２１は、化学反応を利用して、金属、セラミックス及び複合材料等の核を生成させた後、所望の大きさまで成長させてナノ化する公知の化学合成方法において使用される密閉された容器である。

この化学合成容器２１においては、温度を常温（１７℃−２８℃）に維持し、水分を２〜３％未満に維持した状態で、上記粉砕された陰イオン発生素材を化学合成容器２１の約１／４の量投入して、アルコールを上記化学合成容器２１の約１／２の量投入するとともに、所定の化学溶剤を投入し、上記公知の化学合成方法によって所定時間（例えば２〜３時間）化学反応を生じさせるようにする。投入される化学溶剤としては、例えばＴｉＯ_２、ＳｉＯ_２、ＺｎＯ_２、ＲａＴｉＯ_３、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３等の合成素材が挙げられる。また、この場合の化学合成容器２１の温度は２００℃〜７００℃となる。

そして、この化学合成容器２１の圧力が２００ｈＰａとなる時に、上記陰イオン発生素材がマイクロエマルジョン（微細現象）となり、表面エネルギーが発生して、この表面エネルギーが互いに結合することが妨げられるため、ヒドロキシルイオン（Ｈ_３Ｏ_２ ⁻）が界面活性物質として安定な結晶を作る。そして、上記投入された化学溶剤及びアルコール（９９％）がＰＨの影響を受けて、上記陰イオン発生素材のナノ化を極大化する。その後、上記化学合成容器２１の化学反応によって発生したガスを、図示しない排出バルブを開いて外部へ排出する。

このように、上記陰イオン素材は、上記化学合成方法によって８０〜９０％ナノ化され、上記化学合成容器２１に投入されたアルコール及び化学溶剤と混合されることで液状化され、液状陰イオン発生素材混合物として生成される（ステップ５２）。

続いて、上記化学合成容器２１において生成された液状陰イオン発生素材混合物を高速遠心分離機２２に移動し、アルコール成分及び気化されたＨ_２Ｏ、Ｈ_３Ｏ_２等を分離し、例えば雨や雪に含まれる重金属を除去して凝縮させる（ステップ５３）。この遠心分離機によって、凝縮濃度は５０％〜８０％で維持される。この場合、遠心分離機の速度は３０００ｒｐｍ程度が望ましい。

上記高速遠心分離機２２により凝縮された液状陰イオン発生素材混合物は、その温度が６０℃〜１５０℃となっているため、次に、当該液状陰イオン発生素材混合物を、急速冷却タンク２３に投入して、−２０℃〜−５℃に急速冷却する（ステップ５４）。この温度まで冷却することで、液状陰イオン発生素材は次工程において攪拌しやすい状態となる。

続いて、上記冷却された液状陰イオン発生素材混合物を、混合タンク２４に移動させて保管する。この混合タンク２４においては、上記液状陰イオン発生素材混合物をアルコール及び水と混合し、攪拌機によって低速（例えば１，８００ｒｐｍ）で希釈する（ステップ５５）。この場合、アルコールとしてはメチルアルコールが用いられ、このメチルアルコールと水との割合を７：３とし、上記液状陰イオン発生素材混合物を５０％の希釈率で希釈する。アルコールの蒸発により当該混合物の量が少なくなることを考慮すると、アルコールの割合は７割よりも高くしない方がよい。

次に、上記希釈された液状陰イオン発生素材混合物を高温蒸発装置２５へ移動させ、この高温蒸発装置２５において高温で所定時間加熱して、６０〜７０％の溶剤になるまで蒸発させ、液状陰イオン発生溶剤として生成する（ステップ５６）。この時の温度は例えば２００℃〜１０００℃であり、加熱時間は例えば３０分〜１時間とされる。加熱時間が３０分に満たない場合、高温蒸発装置２５内の気体の圧力が、蒸発に十分な程度に達しない可能性があるためである。この高温蒸発装置２５では、少量のエネルギー投入で大量生産が可能であり、合成反応の速度が速く均一な反応制御が可能である。

続いて、上記高温蒸発装置２５により生成された液状陰イオン発生溶剤を高温プラズマ装置２６へ移動し、当該高温プラズマ装置２６において、液状陰イオン発生溶剤から汚染物質や化学的危険要素を含む不純物を蒸発させて除去すると同時に、上記化学合成容器２１（ステップ５２）においてナノ化されずに残った１０−２０％の陰イオン発生素材を２次的にナノ化して、高濃縮ナノ化された液状ナノ化陰イオン発生溶剤を生成する（ステップ５７）。この高温プラズマ装置２６においては、例えば４００℃〜１５００℃の加熱温度で、上記液状陰イオン発生溶剤から噴出される物質を、高融点、低蒸気圧で蒸発させるため、Ｗ、Ｍｏ、Ｔａ、Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２等の汚染物質、化学的危険要素を含む不純物を最終的に蒸発させて除去することができる。なお、この時の液状ナノ化陰イオン発生溶剤の粘度は約５０〜６０％となる。

次に、上記生成された液状ナノ化陰イオン発生溶剤を、密閉された保管タンク２７へ移動し、この保管タンク２７で自然反応が生じるように所定時間（例えば２〜６時間）保管する（ステップ５８）。この保管タンク２７は、外部空気からは遮断されているものの、保管タンク２７内で発生されるガスについては外部へ排出することができる構造を有している。この保管タンク２７の容器材質は、耐熱性及び耐化学薬品性を考慮するとＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）系であることが好ましい。

そして、上記保管タンク２７で所定時間が経過した液状ナノ化陰イオン発生溶剤を、油性希釈タンクまたは水生希釈タンクにおいてそれぞれ油性または水性に希釈して区分して保存する（ステップ５９）。この場合の希釈率は、水やアルコール等を混合することで５００倍〜１０００倍まで調整可能である。

上記化学合成容器２１でナノ化される前の粉末状の陰イオン発生素材の陰イオン発生量は、３，５００個／ｍｌであるが、上記希釈タンクでアルコールや水により１，０００倍に希釈された液状ナノ化陰イオン発生素材の陰イオン発生量は、平均すると５００〜１０００個／ｍｌとなる。

図６は、以上の製造工程により製造された液状ナノ化陰イオン発生溶剤（同図（ｂ））と、上記化学合成容器２１に投入する前の粉末状（粒径４５〜７５μｍ）の陰イオン発生素材（同図（ａ））とを光学顕微鏡で拡大して観察した様子を示した図である。同図に示すように、本実施形態により製造された液状ナノ化陰イオン発生溶剤は、上記粉末状の陰イオン発生素材に比べてその粒子が格段に細かく分布していることが分かる。これにより、この液状ナノ化陰イオン発生溶剤は、上記粉末状の陰イオン発生素材に比べて導電率及び表面照度が高く、吸着力及び凝集力も大きく向上することとなる。

本発明者等は、本実施形態における製造方法により製造された液状ナノ化陰イオン発生溶剤について、その抗菌性能及び脱臭性能について試験を行った。図７は抗菌性能についての試験結果を示した図であり、図８は脱臭性能についての試験結果を示した図である。図７においては、試料として、上記液状ナノ化陰イオン発生溶剤と、例えば水等の上記液状ナノ化陰イオン発生溶剤を含まないものとを用いて、各試料中に大腸菌及び緑膿菌を添加し、その濃度を時間を追って測定した。なお、各菌の濃度は、希釈倍率を掛けて算出した。また、図８においては、アンモニアガスを充填したスペースに、試料として上記液状ナノ化陰イオン発生溶剤を投入した場合と、何も投入しない場合とで、アンモニアガスの濃度を時間を追って測定した。もちろん、アンモニアガス以外の臭気ガスを用いても構わない。

図７に示すように、本発明の製造方法によって製造された液状ナノ化陰イオン発生溶剤を使用することで、使用前よりも大腸菌及び緑膿菌を著しく減少させる抗菌效果があることが立証された。

また、図８に示すように、アンモニアを使った脱臭試験でも、２時間経過後には９１％まで減少させる脱臭效果があることが立証された。

したがって、本発明の製造方法によって製造された液状ナノ化陰イオン発生溶剤は、顕著な抗菌效果及び脱臭效果を有しており、また液状化及びナノ化により活用が容易となることで、多くの産業分野に活用が可能である。特に、壁材、天井材、床材、タイル、断熱材、風呂場内装材、トイレ内装材、塗料等の建築用資材に対して、用途に応じて油性または水性に区分して活用することができる。

（第３の実施形態）
次に、本発明の第３の実施形態について説明する。本実施形態においては、上記第１実施形態において製造された陰イオン発生素材を用いた建物内部仕上げ材及びその製造方法を提供する。

従来から建物の壁は、煉瓦を積んで形成したり、コンクリート骨組の上にセメントにより左官した後、壁紙を貼付したり、塗料を塗布したり、またタイルや大理石等の内装材を張ることで、見掛けを綺麗にして仕上げるのが一般的である。

この場合、コンクリートやセメントなどを建物内部面施工用で使用すると、それらには水や砂、その他石灰等が混合されているため、外部から流入される塩によって白化現象が発生する場合がある。特に砂は、主にシリカ成分からなり、水に溶けずに砂に混じっている不純物が、白化現象を発生させる主な原因になっている。

このような白化現象の発生過程は多種多様であるが、例えば、水に溶解された塩が例えば煉瓦表面に移動して、水分が蒸発し、塩が表面に現れることで生じる。この白化現象は、通常はアルカリ性であり、主に硫化物や炭化物であるが、塩化物が発生されることもある。この塩化物としては、ナトリウム（Ｎａ）、カルシウム（Ｃａ）、カリウム（Ｋ）、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニウム（Ａｌ）等の硫酸塩や炭酸塩が挙げられる。このような塩化物は、主にセメントモルタルの凝固を早めるために塩化カルシウムや海土を使用したり、または煉瓦が海水に汚染されたり、その他不適切な工業用酸を使用したりした場合に発生する。

このように発生した白化現象は、建物内部仕上げ材である塗料、壁紙等の腐食を引き起こし、また接着力を喪失させてしまい。また白化現象は、セメントや煉瓦等の建築材の腐食と割れ目を引き起こし、空気中の炭酸ガスが水に溶解することで、炭酸により表面が中性化され、かび菌等を増殖させることにもなる。

すなわち、白化現象の発生は建築物の腐食、割れ、変色、寿命短縮、かび菌発生の各原因となる。その中でもかび菌は、人間の住居生活において各種の疾病を誘発する病原性微生物であり、物を腐敗させたり寄生したりして、各種の疾病や細菌性食中毒を誘発させることになり、人間住居生活の有益な各種の物質に寄生してその效用価値を低下させてしまうこととなる。

そこで、本実施形態においては、上記陰イオン発生素材を用いて、上記白化現象及びかび菌の発生を防止することが可能な建物内部仕上げ材及びその製造方法を提供する。

まず、上記セメント及びコンクリートで発生される白化成分を説明する。白化成分は、以下のように、セメントの中に含まれる水酸カリウムが空気中の二酸化炭素と結合して炭酸カルシウムに変わることで現れる。
Ｃａ（ＯＨ）_２＋ Ｃｏ_２ → ＣａＣＯ_３ ＋ Ｈ_２Ｏ
一方、酸（Ｈ^＋）は、水に溶けたときに水素イオンの濃度を増加させる物質であり、塩基（ＯＨ⁻）は水に溶けて水酸化イオンの濃度を増加させる物質である。例えばＨＣｌが水に溶けると以下のようにイオン化する。
ＨＣｌ → Ｈ^＋ ＋ Ｃｌ⁻
この時生じた水素イオン（Ｈ^＋）は、水溶液で水化され、事実上Ｈ_３Ｏ^＋（ヒドロニウムイオン）になる。ＨＣｌのイオン化は以下のようになる。
ＨＣｌ ＋ Ｈ_２０ → Ｈ_３Ｏ^＋ ＋ Ｃｌ⁻・・・（１）
Ｈ^＋またはＨ_３Ｏ^＋の濃度が大きくなれば、酸の特性が強く現れて強酸となり、Ｈ^＋または Ｈ_３Ｏ^＋の濃度が小さければ弱酸となる。

水酸化ナトリウムや水酸化カリウムは、金属と水酸化のイオン化合物であり、これらの水溶液は塩基性を現わす。これらは以下のように水に溶けて水酸化イオン（ＯＨ⁻）を放出する。
ＮａＯＨ → Ｎａ^＋ ＋ ＯＨ⁻
ＫＯＨ → Ｋ^＋ ＋ ＯＨ⁻
塩基も、酸と同様に塩基を作る水酸化イオンの濃度によって強塩基と弱塩基に区分される。また、以下のように、酸と塩基を反応させれば必ず中和反応が起こり、塩を生成する。
ＨＣｌ ＋ ＮａＯＨ → ＮａＣｌ ＋ Ｈ_２Ｏ・・・（２）
ＨＣｌ ＋ ＮＨ_４ＯＨ → ＮＨ_４Ｃｌ ＋ Ｈ_２Ｏ・・・（３）
上記（２）の反応は、塩基であるＮＨ_３と酸であるＨＣｌが反応して新たな酸−塩基対を作る反応である。また上記（３）の反応では、ＨＣｌがＨ_２Ｏに陽性子を与える酸となり、水は陽性子を受けるため塩基となる。

上記（１）の反応の生成物であるヒドロニウムイオン（Ｈ_３Ｏ^＋）は、塩素イオン（Ｃｌ⁻）に陽性子を提供してＨ_２Ｏに戻るため、Ｈ_３Ｏ^＋は酸であり、Ｃｌ⁻は塩基である。

したがって、白化は水に溶融可能な多くの塩の複合体で構成されているといえる。

本発明者等は、上述のような白化現象を分析した結果、上記第１の実施形態において高炉水滓スラグから製造された陰イオン発生素材を用いることで、白化現象が防止されることを分かった。

すなわち、粉末状の陰イオン発生素材が水で希釈された場合に有する以下のような特性と、石灰の有する以下のような特性とを利用することで、ヒドロキシルイオンの還元作用によって白化現象を防止できることが分かった。
・陰イオン発生素材の特性
水の界面活性化 ：Ｈ_３Ｏ^＋（ヒドロニウムイオン）
ガス化 ：Ｈ_３Ｏ_２ ⁻（ヒドロキシルイオン）
水の強アルカリ化 ：ＰＨ ７．５〜８
物性の変換作用 ：招電效果、圧電效果（極性結晶体現象）
電気伝導率 ：０．１２１ｍｓ／ｃｍ（素材：水＝１：５、２５℃）
陽イオン交換用量 ：２．３ｍＥｑ／素材１００ｇ
微弱電流発生 ：０．０６ｍＡ
・石灰の特性
Ｃａ（カルシウム）：活性（水で分離する。イオンになる。）
ＣａＣＯ_２（石灰石）：活性（水で分離する。イオンになる。）
Ｃａ（ＯＨ）_３（焼石灰）：活性（水で分離する。イオンになる。）
ＣａＯ（石灰）：不活性（水で分離しない。イオンにならない。）
また、上記陰イオン発生素材を用いることで、かび菌の胞子も自生することができなくなる。

以上のように、本発明者等は、上記陰イオン発生素材が建築内部の白化現象及びかび菌の発生を防止することに着眼して、この陰イオン発生素材を利用した建物内部仕上げ材を製造する方法を見出した。以下、本実施形態における陰イオン発生素材を利用した建物内部仕上げ材製造方法の製造工程を説明する。図９は、この建物内部仕上げ材製造方法の製造工程の流れを示したフローチャートである。

同図に示すように、まず、セメントと粉末状の上記陰イオン発生素材とを８〜９：１〜２の重量割合で混合する（ステップ９１）。この割合範囲内では、陰イオン発生素材の重量割合がより小さい方が望ましい。このとき、上記陰イオン素材の粒径は４５〜７５μｍとし、上記セメントの粒径は上記陰イオン素材の粒径（４５〜７５μｍ）よりも大きくする。また、陰イオン発生素材の比重を１とした場合、セメントの比重は１．５であり、そのままでは一様に混合することが難しいため、混合方法は次のような手順で混合するのが望ましい。なお、以下の手順は、セメントと陰イオン発生素材との重量割合を８：２とした場合の手順である。
ａ．セメント２０％、陰イオン発生素材２０％を混合する。
ｂ．上記ａの混合物（セメント＋陰イオン発生素材）４０％とセメント４０％とを混合する。
ｃ．上記ａ＋ｂの混合物に、残り２０％のセメントを混合する。

次に、この混合方法により混合したセメント‐陰イオン発生素材混合物（第１混合物）に対して、灰、砂及び石灰等を２０％〜４０％混合した第２混合物を生成する（ステップ９２）。この場合、セメント‐陰イオン素材混合物に混合する砂、石灰等は、仕上げ材の性質によって２０％〜４０％の範囲内で調節して混合する。

そして、上記第２混合物に水を投入して、流動性がある液状またはねり状の仕上げ材を製造する（ステップ９３）。この場合、上記第２混合物に投入される水の量は、水：第２混合物とを６〜７:３〜４の割合で投入する。

また、この場合に投入される水は、水道水をそのまま使っても構わないが、通常の水道水では塩素イオンやカリウム、カルシウムなどが含まれているため、より良い效果を得るためには、液状陰イオン発生溶剤１０‐２０％を添加して希釈するのが好ましい。この希釈率は、上記ステップ９１におけるセメントと陰イオン発生素材との混合割合に応じて適宜変更される。ここで液状陰イオン発生溶剤とは、上記粉末状の陰イオン発生素材（粒径４５〜７５μｍ）４０％を、蒸溜水５０％と、水性バインダー１０％とで希釈して作った溶剤である。この希釈比率により、水性バインダーの粘性（粘着力）が確保される。水性バインダーは、粉末状の陰イオン発生素材の凝集力を高めるために添加するものである。

以上の方法により製造された建物内部仕上げ材は、天井材、床材、壁材、壁紙、床マット、シリコンコーキング材、接着剤等に適用することができる。

次に、上記方法により製造された建物内部仕上げ材を用いた建物内部施工方法について説明する。

まず、建物の内壁の左官面またはコンクリート面に含まれる水分が１〜２％未満となるように完全に乾燥させる。水分が２％以上だと、左官面またはコンクリート面にクラックが生じてしまう可能性があるからである。

そして、上記液状またはねり状の建物内部仕上げ材を、厚さ０．２ｍｍ〜０．３ｍｍでエアコンプレッサなどを利用してスプレー式に塗布する。

また、上記建物内部仕上げ材を用いて既存建物の内壁面を施工する場合、例えば既存建物の内壁面に壁紙等の仕上げ材が施工されている場合にはこれを撤去して新たに施工するのは費用やその他の面で不利な点が多いため、当該壁紙等が施工された状態で、その上から上記製造された建物内部仕上げ材を施工するのが望ましい。

したがって、本実施形態においては、既存建物の場合も新築建物の場合も同様の方法で上記建物内部仕上げ材を施工することができる。

本発明者等は、上記方法によって製造された建物内部仕上げ材を建物内壁に施工した場合における建物内壁の状態について試験を行った。図１０は、当該試験結果を示した図である。なお、当該試験は、施工後１９０日経過後に行った。

同図に示すように、陰イオン発生素材から製造した建物内部仕上げ材を用いて新築建物及び既存建物の建物内部を仕上げ施工した結果、白化現象が全く起こらず、またかび菌の発生も最大限防止することができることが分かった。また、人体に有益な陰イオン及び遠赤外線まで放出するようになる效果があることも確認された。

また、上記ステップ９３において、水道水の代わりに添加される溶剤として、上記第２の実施形態において製造された液状ナノ化陰イオン発生溶剤を用いても構わない。以下、この液状ナノ化陰イオン発生溶剤を用いた場合の建物内部施工方法について説明する。

まず、上記液状ナノ化陰イオン発生液状溶剤を、アルコール４０％、蒸溜水４０％、水性バインダー２０％で構成された希釈溶剤に、１０〜２０％添加して混合し、液体状態の混合物とする。

続いて、この混合物をエアコンプレッサなどを利用してスプレー式で既存建物の壁紙等で仕上げ施工された内壁面に、厚さ０．２ｍｍ〜０．３ｍｍで塗布する。

そして、この塗布工程が完了してから２〜４時間経過して内壁面を乾燥させた後、同じ方法で再噴射して塗布する。

なお、この施工方法においては、１回施工後４〜５年が経過すると上記效果が削減してしまう可能性があるため、再度噴射コーティング作業を行うことが望ましい。

以上説明した施工方法は、特に既存建物の内壁面に壁紙等が施工された状態でそのまま施工することができるという点と、白化現象の防止及びかび菌の抑制力を充分に発揮することができるという点で非常に有益である。また。上記陰イオン液状溶剤自体は人体に無害であり、引火点や沸点が高いため、火災等に対しても安全であり、また陰イオンの発生により、菌糸体に不適な環境条件となるため、その生育（胞子繁殖）を防止できるという利点もある。

本発明は上述の実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。

上述の実施形態においては、上記第１の実施形態において製造された陰イオン発生素材を建物内部仕上げ材として適用した例について説明したが、上述の通り、その他にも様々なものに適用することが可能である。以下の実施形態においては、上記陰イオン発生素材を用いた各種製品について説明する。

（第４の実施形態）
上記第１の実施形態において製造された陰イオン発生素材は、上記仕上げ材以外にも、機能性モルタル、塗料、白セメント、シリコンコーキング材、壁紙等の他の建築資材にも適用することができる。

上記陰イオン発生素材を機能性モルタルに適用する場合には、例えばモルタル４０ｋｇに対して、上記粉末状の陰イオン発生素材を２０％混合する。モルタルの具体的な構成成分を含めて説明すると、陰イオン発生素材：セメント：スラグ：砂（細骨材）＝２：３：２．５：２．５となる。

本発明者等は、この機能性モルタルについて陰イオン測定器を用いて陰イオン発生量を測定した。陰イオン測定器としては、試料を直接センサに接触させて試料表面の陰イオン発生量を測定する接触方式の測定器と、試料周囲の空気を吸入して当該空気中の陰イオン発生量を測定する吸入式の測定器の両方を用いた。この機能性モルタルは、接触方式の測定器を用いた場合には、２，４００個／ｍｌの陰イオンが測定され、吸入方式の測定器を用いた場合は、１８，０００〜２０，０００個／ｍｌの陰イオンが測定された。

上記陰イオン発生素材を塗料に適用する場合には、例えば塗料１８ｌに対して上記陰イオン発生素材を１０％混合する。

本発明者等は、この塗料について上記と同様に接触方式及び吸入方式の陰イオン測定器で陰イオン発生量を測定した結果、接触方式の測定器においては２，６６８個／ｍｌ、吸入方式の測定器においては５，８００個／ｍｌの陰イオンが測定された。

上記陰イオン発生素材を白セメントに適用する場合、例えば白セメント２０ｌに対して、陰イオン発生素材を１０％混合する。

本発明者等は、この白セメントについて上記と同様に接触方式及び吸入方式の陰イオン測定器で陰イオン発生量を測定した結果、接触方式の測定器においては２，５００個／ｍｌ、吸入方式の測定器においては５，８００個／ｍｌの陰イオンが測定された。

上記陰イオン発生素材をシリコンコーキング材に適用する場合には、所定量のシリコン原素材に対して陰イオン発生素材を７％混合する。

本発明者等は、このシリコンコーキング材について上記と同様に接触方式及び吸入方式の陰イオン測定器で陰イオン発生量を測定した結果、接触方式の測定器においては２，５００個／ｍｌ、吸入方式の測定器においては５，８００個／ｍｌの陰イオンが測定された。

上記陰イオン発生素材を壁紙に適用する場合には、壁紙原素材に対して陰イオン発生素材を５％混合し、さらにその混合物製造後に、コーティング液として陰イオン発生素材を５％混合する。

本発明者等は、この壁紙について上記と同様に接触方式及び吸入方式の陰イオン測定器で陰イオン発生量を測定した結果、接触方式の測定器においては１，５００個／ｍｌ、吸入方式の測定器においては５，８００個／ｍｌの陰イオンが測定された。

（第５の実施形態）
上記陰イオン発生素材は、繊維プリント関連材料にも適用することができる。

陰イオン発生素材を一般的な繊維プリント用の水性または油性のラバーインクに適用する場合、例えばインク２０ｌに対して、陰イオン発生素材を１０％混合する。

本発明者等は、このラバーインクについて上記と同様に接触方式及び吸入方式の陰イオン測定器で陰イオン発生量を測定した結果、接触方式の測定器においては１，５００個／ｍｌ、吸入方式の測定器においては２，０００〜３，０００個／ｍｌの陰イオンが測定された。

陰イオン発生素材を発砲インクに適用する場合、例えばインク２０ｌに対して、陰イオン発生素材を７％混合する。発砲インクとは、プリント後の熱処理によりエンボス効果を得ることができるインクであり、立体感を出すのに効果的なインクである。

本発明者等は、この発砲インクについて上記と同様に接触方式及び吸入方式の陰イオン測定器で陰イオン発生量を測定した結果、接触方式の測定器においては８００〜１，２００個／ｍｌ、吸入方式の測定器においては２，０００〜３，０００個／ｍｌの陰イオンが測定された。

（第６の実施形態）
上記陰イオン発生素材は、陶磁器食器や衛生陶器、それらの釉薬、水質浄化用黄土ボール及び水質浄化用スラグボール等の窯業関連製品にも適用することができる。

陰イオン発生素材を陶磁器食器の釉薬に適用する場合には、釉薬に対して例えば３％の陰イオン発生素材を混合する。

本発明者等は、この陶磁器食器用の釉薬について上記と同様に接触方式及び吸入方式の陰イオン測定器で陰イオン発生量を測定した結果、接触方式の測定器においては１，５００個／ｍｌ、吸入方式の測定器においては２，０００〜３，０００個／ｍｌの陰イオンが測定された。

陰イオン発生素材を衛生陶器用の釉薬に適用する場合にも、釉薬に対して例えば３％の陰イオン発生素材を混合する。

本発明者等は、この衛生陶器用の釉薬について上記と同様に接触方式の陰イオン測定器で陰イオン発生量を測定した結果、６２３個／ｍｌの陰イオンが測定された。

また、この衛生陶器用の素地自体に上記陰イオン発生素材を適用することも可能である。この場合、当該素材に対して陰イオン発生素材を３％混合する。

本発明者等は、この衛生陶器について上記と同様に接触方式及び吸入方式の陰イオン測定器で陰イオン発生量を測定した結果、接触方式の測定器においては１，１７４個／ｍｌ、吸入方式の測定器においては３，３７０〜３，６６０個／ｍｌの陰イオンが測定された。

陰イオン発生素材を水質浄化用の黄土ボールに適用する場合には、黄土と陰イオン発生素材とを、例えば９３：７の割合で混合する。

本発明者等は、この黄土ボールについて上記と同様に接触方式の陰イオン測定器で陰イオン発生量を測定した結果、２，０００個／ｍｌの陰イオンが測定された。

陰イオン発生素材を水質浄化用のスラグボールに適用する場合には、スラグと陰イオン発生素材とを、例えば９０：１０の割合で混合する。

本発明者等は、このスラグボールについて上記と同様に接触方式の陰イオン測定器で陰イオン発生量を測定した結果、１，０００〜２，５００個／ｍｌの陰イオンが測定された。

（第７の実施形態）
上記陰イオン発生素材は、いわゆるマスターバッチ（Masterbatch）等の樹脂製品にも適用することができる。

マスターバッチの原素材である樹脂（レジン）としては、最も一般的なポリプロピレン（ＰＰ）、ポリプロピレンよりも耐熱性がやや高いポリエチレン（ＰＥ）、ポリエチレンよりも高い耐熱性及び耐薬品性を有するポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）等を用いることができる。この場合、樹脂に対して上記陰イオン素材を例えば３３％混合する。

本発明者等は、このマスターバッチについて上記と同様に接触方式の陰イオン測定器で陰イオン発生量を測定した結果、３，０００〜４，０００個／ｍｌの陰イオンが測定された。

（第８の実施形態）
上記陰イオン発生素材は、洗剤製品にも適用することができる。

この場合、洗剤に対して上記陰イオン発生素材を例えば３％混合する。

本発明者等は、この洗剤について上記と同様に接触方式の陰イオン測定器で陰イオン発生量を測定した結果、１，０００〜２，５００個／ｍｌの陰イオンが測定された。

（第９の実施形態）
上記陰イオン発生素材は、紙のコーティング液にも適用することができる。

この場合、紙のコーティング液に対して上記陰イオン発生素材を例えば５％混合する。

本発明者等は、この紙について上記と同様に接触方式の陰イオン測定器で陰イオン発生量を測定した結果、５００〜１，０００個／ｍｌの陰イオンが測定された。

（第１０の実施形態）
上記陰イオン発生素材は、紙製品にも適用することができる。

紙製品としては、子供向けの本、宅配ピザ等の食品の包装箱、壁紙等が考えられる。これにより、陰イオン発生素材の抗菌効果、防カビ効果及び消臭効果を生かした紙製品を提供することができる。

本発明者等は、上記陰イオン発生素材を含有した紙について、その抗菌性能について試験を行った。図１１は、抗菌性能についての試験結果を示した図である。同図においては、試料として、上記陰イオン発生素材を含有した紙の紙片と、上記陰イオン発生素材を含有しない紙の紙片とを用いて、各試料に黄色ブドウ球菌及び白癬菌を添加し、その濃度を時間を追って測定した。紙への陰イオン発生素材の含有率は０．３％とした。

同図に示すように、わずか０．３％の含有率であっても、上記陰イオン発生素材を紙に含有させることで、含有しない紙に比べて、黄色ブドウ球菌及び白癬菌を９９．９％減少させる抗菌効果があることが立証された。したがって、この陰イオン発生素材を含有した紙を用いて紙製品を製造することで、本や壁紙に付着した手垢や、包装箱内の食品から黄色ブドウ球菌や白癬菌が人に感染してしまうのを防ぐことができる。

（第１１の実施形態）
上記陰イオン発生素材は、まな板にも適用することができる。

このまな板は、ゴム弾性を有する板材に、少なくとも上記陰イオン発生素材を含有させることで製造される。ゴム弾性を有する板材としては、例えばエラストマーが用いられる。

板材としてエラストマーを用いる場合、まな板に含有される成分及びその割合は、例えば、エラストマー：８０％、木材粉末：７％、陰イオン発生素材：８％、炭酸カルシウム：３％及び顔料（染料）：２％とされる。板材をエラストマーとするのは、まな板の表面に包丁等による傷が付きにくくするためである。エラストマーとしては、例えばスチレン系、オレフィン系の熱可塑性エラストマーやゴムが用いられる。ゴム弾性を有する板材としては、エラストマーに代えて、熱可塑性プラスチック等の樹脂を用いても構わない。

このように、上記陰イオン発生素材を含有することで、抗菌効果、防カビ効果及び消臭効果を有するまな板を提供することができる。

（その他）
上記陰イオン発生素材は、衣服の繊維材料としても用いることができる。これにより、抗菌効果、防カビ効果及び消臭効果を有する衣服を提供することができる。

上記陰イオン発生素材は、植物の肥料として用いることができる。
本発明者等は、陰イオン発生素材を溶融させた水や、陰イオン発生素材の粉末を肥料として芝に与えた場合、成長が著しく早くなることを見出した。これは、陰イオン発生素材が、水分子同士の結合を弱めて離散させ（細かくし）、芝の根による水分子の吸収を促進させる働きがあるためであると思われる。

本発明の第１の実施形態に係る陰イオン発生素材製造方法の製造工程の流れを示した図である。 本発明の第１の実施形態に係る陰イオン発生素材製造方法の製造工程中、プラズマを利用したイオン注入の様子を示した図である。 本発明の第１の実施形態において製造された陰イオン発生素材の陰イオン発生量を測定する試験の結果を示した図である。 本発明の第２の実施形態における液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法の製造工程を示すブロック図である。 本発明の第２の実施形態における液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法の製造工程の流れを示すフローチャートである。 本発明の第２の実施形態における液状ナノ化陰イオン発生溶剤を光学顕微鏡で拡大して観察した様子を示した図である。 本発明の第２の実施形態において製造された液状ナノ化陰イオン発生溶剤の抗菌性能を測定した試験の結果を示した図である。 本発明の第２の実施形態において製造された液状ナノ化陰イオン発生溶剤の脱臭性能を測定した試験の結果を示した図である。 本発明の第３の実施形態における建物内部仕上げ材製造方法の製造工程の流れを示したフローチャートである。 本発明の第３の実施形態において製造された建物内部仕上げ材について行った性能評価試験の結果を示した図である。 本発明の第１０の実施形態に係る、陰イオン発生素材を含有する紙製品の抗菌性能についての試験結果を示した図である。

符号の説明

２１…化学合成容器
２２…高速遠心分離機
２３…急速冷却タンク
２４…混合タンク
２５…高温蒸発装置
２６…高温プラズマ装置
２７…保管タンク
２８…タンク
１００…プラズマイオン注入装置
１０１…プラズマチャンバ
１０２…イオンガス供給装置
１０３…高電圧パルス発生器
１０４…真空ポンプ
２００…液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造装置

Claims (26)

1. 高炉水滓スラグを常温で低速粉碎する第１ステップと、
   前記粉砕された粉末を微弱電流が流れる水に沈澱させる第２ステップと、
   前記沈澱された高炉水滓スラグを所定の第１の時間経過後に超音波ゾーンへ移送する第３ステップと、
   前記超音波ゾーンへ移送された高炉水滓スラグに所定の第２の時間超音波を照射する第４ステップと、
   前記超音波を照射された高炉水滓スラグをアルミナセラミックス焼成炉で酸素イオン及びラドンイオンを入れ込みながら所定温度で段階的に加熱し乾燥させる第５ステップと、
   前記乾燥された高炉水滓スラグに対してプラズマチャンバ内でイオンを注入する第６ステップと
   を具備する陰イオン発生素材製造方法。
2. 請求項１に記載の陰イオン発生素材製造方法であって、
   前記第５ステップにおいて、前記高炉水滓スラグを、前記所定温度が２００℃のアルミナセラミックス焼成炉において加熱し、所定時間冷却した後、前記所定温度が４００℃のアルミナセラミックス焼成炉において加熱し、前記所定時間冷却した後、前記所定温度が６００℃の各アルミナセラミックス焼成炉において加熱し、前記所定時間冷却して乾燥させる
   陰イオン発生素材製造方法。
3. 請求項２に記載の陰イオン発生素材製造方法であって、
   前記第１ステップにおいて、高炉水滓スラグは４５〜７５μｍの粒径に粉砕される
   陰イオン発生素材製造方法。
4. 請求項２に記載の陰イオン発生素材製造方法であって、
   前記第２ステップにおいて、前記微弱電流の大きさが０．０６〜１．０ｍＡである
   陰イオン発生素材製造方法。
5. 請求項２に記載の陰イオン発生素材製造方法であって、
   前記第３ステップにおいて、前記第１の所定時間は１２〜２４時間である
   陰イオン発生素材製造方法。
6. 請求項２に記載の陰イオン発生素材製造方法であって、
   前記第４ステップにおいて、前記第２の所定時間は１２〜２４時間であり、前記超音波の波長は６０，０００Ｈｚである
   陰イオン発生素材製造方法。
7. 高炉水滓スラグを常温で低速粉碎し、前記粉砕された粉末を微弱電流が流れる水に沈澱させ、前記沈澱された高炉水滓スラグを所定の第１の時間経過後に超音波ゾーンへ移送し、前記超音波ゾーンへ移送された高炉水滓スラグに所定の第２の時間超音波を照射し、前記超音波を照射された高炉水滓スラグをアルミナセラミックス焼成炉で酸素イオン及びラドンイオンを入れ込みながら所定温度で段階的に加熱して乾燥させ、前記乾燥された高炉水滓スラグに対してプラズマチャンバ内でイオンを注入することで製造された陰イオン発生素材。
8. 高炉水滓スラグを常温で低速粉碎し、前記粉砕された粉末を微弱電流が流れる水に沈澱させ、前記沈澱された高炉水滓スラグを所定の第１の時間経過後に超音波ゾーンへ移送し、前記超音波ゾーンへ移送された高炉水滓スラグに所定の第２の時間超音波を照射し、前記超音波を照射された高炉水滓スラグをアルミナセラミックス焼成炉で酸素イオン及びラドンイオンを入れ込みながら所定の第１の温度で段階的に加熱して乾燥させ、前記乾燥された高炉水滓スラグに対してプラズマチャンバ内でイオンを注入することで製造された陰イオン発生素材を所定の粒径に粉碎する第１ステップと、
   前記粉砕された陰イオン発生素材を化学合成容器に投入してアルコールと化学溶剤と混合して陰イオン発生素材混合物を生成し、所定の化学的合成方法によって８０〜９０重量％の前記陰イオン発生素材混合物をナノ化及び液状化して液状陰イオン発生素材混合物を生成する第２ステップと、
   前記液状陰イオン発生素材混合物を遠心分離機に通過させて重金属を除去して凝縮させる第３ステップと、
   前記凝縮された液状陰イオン発生素材混合物を−２０℃〜−５℃に急速冷凍させる第４ステップと、
   前記冷却された液状陰イオン発生素材混合物を混合タンクに移動させて、当該混合タンクでアルコールと水を混合して低速で希釈させる第５ステップと、
   前記希釈された液状陰イオン発生素材混合物を高温蒸発装置により所定の第２の温度で所定の第３の時間加熱して６０重量％〜７０重量％の液状溶剤になるまで蒸発させて液状陰イオン発生溶剤を生成する第６ステップと、
   前記生成された液状陰イオン発生溶剤から、高温プラズマ装置により不純物を蒸発させ除去するとともに、前記第２ステップにおいてナノ化されなかった１０〜２０重量％の陰イオン発生素材を２次的にナノ化して高濃縮ナノ化された液状ナノ化陰イオン発生溶剤を生成する第７ステップと、
   前記生成された液状ナノ化陰イオン発生溶剤を密閉された保管タンクに移動させて、当該保管タンクで自然反応が生じるように所定の第４の時間保管する第８ステップと、
   前記保管タンクで保管された液状ナノ化陰イオン発生溶剤を油性または水性に希釈して区分して保存する第９ステップと
   を具備する液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法。
9. 請求項８に記載の液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法であって、
   前記第１ステップにおいて、前記所定の粒径は４５〜７５μｍである
   液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法。
10. 請求項８に記載の液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法であって、
    前記第２ステップにおける所定の化学的合成方法は、
    上記化学合成容器の温度を常温で維持し、水分を２〜３重量％未満で維持した状態で前記粉砕された陰イオン発生素材を前記化学合成容器の１／４の量投入し、前記アルコールを前記化学合成容器の１／２の量投入するステップと、
    所定の化学溶剤を前記化学合成容器に投入して化学反応が起きるようにするステップと、
    前記化学反応が所定の第５の時間維持されるようにするステップと、
    前記化学合成容器の排出バルブを開いて前記化学合成容器内に発生した気体及びガスを排出するステップと
    を有する液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法。
11. 請求項８に記載の液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法であって、
    前記第３ステップは、前記遠心分離機によって凝縮濃度が５０重量％〜８０重量％で維持されるようにする
    液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法。
12. 請求項８に記載の液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法であって、
    前記第５ステップにおいて、前記アルコールはメチルアルコールであり、当該メチルアルコールと水との割合を７：３として前記液状陰イオン混合物を５０重量％に希釈する
    液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法。
13. 請求項８に記載の液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法であって、
    前記第６ステップにおいて、前記所定の第２の温度は２００℃〜１０００℃であり、前記所定の第３の時間は３０分〜１時間である
    液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法。
14. 請求項８に記載の液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法であって、
    前記第７ステップにおいて、高温プラズマ装置は４００℃〜１５００℃に加熱される
    液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法。
15. 請求項８に記載の液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法であって、
    前記保管タンクの材質はポリ塩化ビニル系であり、前記保管タンク内部で発生するガスを外部で排出できる構造を有する
    液状ナノ化陰イオン発生溶剤製造方法。
16. 高炉水滓スラグを常温で低速粉碎し、前記粉砕された粉末を微弱電流が流れる水に沈澱させ、前記沈澱された高炉水滓スラグを所定の第１の時間経過後に超音波ゾーンへ移送し、前記超音波ゾーンへ移送された高炉水滓スラグに所定の第２の時間超音波を照射し、前記超音波を照射された高炉水滓スラグをアルミナセラミックス焼成炉で酸素イオン及びラドンイオンを入れ込みながら所定の第１の温度で段階的に加熱して乾燥させ、前記乾燥された高炉水滓スラグに対してプラズマチャンバ内でイオンを注入することで製造された陰イオン発生素材を所定の粒径に粉碎し、前記粉砕された陰イオン発生素材を化学合成容器に投入してアルコールと化学溶剤と混合して陰イオン発生素材混合物を生成し、所定の化学的合成方法によって８０−９０重量％の前記陰イオン発生素材混合物をナノ化及び液状化して液状陰イオン発生素材混合物を生成し、前記液状陰イオン発生素材混合物を遠心分離機に通過させて重金属を除去して凝縮させ、前記凝縮された液状陰イオン発生素材混合物を−２０℃〜−５℃に急速冷凍させ、前記冷却された液状陰イオン発生素材混合物を混合タンクに移動させて当該混合タンクでアルコールと水を混合して低速で希釈させ、前記希釈された液状陰イオン発生素材混合物を高温蒸発装置により所定の第２の温度で所定の第３の時間加熱して６０重量％〜７０重量％の液状溶剤になるまで蒸発させて液状陰イオン発生溶剤を生成し、前記生成された液状陰イオン発生溶剤から、高温プラズマ装置により不純物を蒸発させ除去するとともに、前記ナノ化されなかった１０−２０重量％の陰イオン発生素材を２次的にナノ化して高濃縮ナノ化された液状ナノ化陰イオン発生溶剤を生成し、前記生成された液状ナノ化陰イオン発生溶剤を密閉された保管タンクに移動させて、当該保管タンクで自然反応が生じるように所定の第４の時間保管し、前記保管タンクで保管された液状ナノ化陰イオン発生溶剤を油性または水性に希釈して区分して保存することで製造された液状ナノ化陰イオン発生溶剤。
17. 高炉水滓スラグを常温で低速粉碎し、前記粉砕された粉末を微弱電流が流れる水に沈澱させ、前記沈澱された高炉水滓スラグを所定の第１の時間経過後に超音波ゾーンへ移送し、前記超音波ゾーンへ移送された高炉水滓スラグに所定の第２の時間超音波を照射し、前記超音波を照射された高炉水滓スラグをアルミナセラミックス焼成炉で酸素イオン及びラドンイオンを入れ込みながら所定温度で段階的に加熱して乾燥させ、前記乾燥された高炉水滓スラグに対してプラズマチャンバ内でイオンを注入することで製造された粉末状の陰イオン発生素材と、セメントとを、１〜２：８〜９の重量割合で混合して第１混合物を生成する第１ステップと、
    前記第１混合物に砂及び石灰を２０重量％〜４０重量％混合して第２混合物を生成する第２ステップと、
    前記第２混合物に所定の水溶液を６０重量％〜７０重量％投入して、流動性を有する液体状またはねり状とする第３ステップと
    を具備する建物内部仕上げ材製造方法。
18. 請求項１７に記載の建物内部仕上げ材製造方法であって、
    前記陰イオン発生素材は４５〜７５μｍの粒径を有する粉末状であり、前記セメントの粒径は前記陰イオン発生素材の粒径よりも大きい
    建物内部仕上げ材製造方法。
19. 請求項１７に記載の建物内部仕上げ材製造方法であって、
    前記投入される所定の水溶液は、一般水に、前記粉末状の陰イオン発生素材を液状化して製造された液状陰イオン発生溶剤を、１０〜２０重量％添加して希釈したものである
    建物内部仕上げ材製造方法。
20. 請求項１９に記載の建物内部仕上げ材製造方法であって、
    前記液状陰イオン発生溶剤は、４０重量％の前記粉末状の陰イオン発生素材を、５０重量％の蒸溜水と、１０重量％の水性バインダーとで希釈して製造された溶剤である
    建物内部仕上げ材製造方法。
21. 請求項１乃至４のうちいずれかに記載の建物内部仕上げ材製造方法であって、
    前記建物内部仕上げ材は、天井材、床材料、壁材、壁紙、床マット、シリコーンコーキング材、接着剤、タイル工事用白セメント、セメントモルタルのうち少なくとも１つに適用される
    建物内部仕上げ材製造方法。
22. 高炉水滓スラグを常温で低速粉碎し、前記粉砕された粉末を微弱電流が流れる水に沈澱させ、前記沈澱された高炉水滓スラグを所定の第１の時間経過後に超音波ゾーンへ移送し、前記超音波ゾーンへ移送された高炉水滓スラグに所定の第２の時間超音波を照射し、前記超音波を照射された高炉水滓スラグをアルミナセラミックス焼成炉で酸素イオン及びラドンイオンを入れ込みながら所定温度で段階的に加熱して乾燥させ、前記乾燥された高炉水滓スラグに対してプラズマチャンバ内でイオンを注入することで製造された粉末状の陰イオン発生素材と、セメントとを、１〜２：８〜９の重量割合で混合して第１混合物を生成し、前記第１混合物に砂及び石灰を２０重量％〜４０重量％混合して第２混合物を生成し、前記第２混合物に所定の水溶液を６０重量％〜７０重量％投入して、流動性を有する液体状またはねり状とすることで製造された建物内部仕上げ材を用意し、
    建物内壁の左官面またはコンクリート面をそれらの水気状態が１〜２重量％未満となるように乾燥させ、
    前記建物内部仕上げ材を前記左官面またはコンクリート面に０．２ｍｍ〜０．３ｍｍの厚さで塗布する
    建物内部施工方法。
23. 請求項２２に記載の建物内部施工方法であって、
    前記陰イオン発生素材は４５〜７５μｍの粒径を有する粉末状であり、前記セメントの粒径は前記陰イオン発生素材の粒径よりも大きい
    建物内部仕上げ材製造方法。
24. 請求項２２に記載の建物内部施工方法であって、
    前記投入される所定の水溶液は、前記粉末状の陰イオン発生素材を液状化して製造された液状陰イオン発生溶剤に、１０〜２０重量％の一般水を添加して希釈したものである
    建物内部施工方法。
25. 請求項２４に記載の建物内部施工方法であって、
    前記液状陰イオン発生溶剤は、４０重量％の前記粉末状の陰イオン発生素材を、５０重量％の蒸溜水と、１０重量％の水性バインダーとで希釈して製造された溶剤である
    建物内部施工方法。
26. ゴム弾性を有する板材からなり、
    高炉水滓スラグを常温で低速粉碎し、前記粉砕された粉末を微弱電流が流れる水に沈澱させ、前記沈澱された高炉水滓スラグを所定の第１の時間経過後に超音波ゾーンへ移送し、前記超音波ゾーンへ移送された高炉水滓スラグに所定の第２の時間超音波を照射し、前記超音波を照射された高炉水滓スラグをアルミナセラミックス焼成炉で酸素イオン及びラドンイオンを入れ込みながら所定温度で段階的に加熱して乾燥させ、前記乾燥された高炉水滓スラグに対してプラズマチャンバ内でイオンを注入することで製造された素材を含有する
    まな板。