JP2008279159A5

JP2008279159A5 -

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Publication number: JP2008279159A5
Application number: JP2007127645A
Authority: JP
Filing date: 2007-05-14
Publication date: 2009-07-09

Claims

粒子線を標的領域に照射する粒子線照射装置であって、
線量分布形状の異なる高線量領域を形成する複数のエネルギー分布拡大装置で、深さ方向の線量分布を合成することを特徴とする粒子線照射装置。
粒子線を標的領域に照射する粒子線照射装置であって、
幾何形状の異なる複数のエネルギー分布拡大装置で、深さ方向の線量分布を合成することを特徴とする粒子線照射装置。
請求項１又は請求項２記載の粒子線照射装置において、
前記複数のエネルギー分布拡大装置は、
第１のエネルギー分布拡大装置と、
前記粒子線の進行方法での線量分布を、前記第１のエネルギー分布拡大装置よりも急峻に形成する第２のエネルギー分布拡大装置とを備えることを特徴とする粒子線照射装置。
請求項３記載の粒子線照射装置において、
複数層に分割した前記標的領域のうち最深部の層に前記粒子線を照射するときに、前記第２のエネルギー拡大装置を前記粒子線の軌道上に配置するように制御する制御部を備えることを特徴とする粒子線照射装置。
請求項１又は請求項２記載の粒子線照射装置において、
照射線量を測定するモニタと、該照射線量を管理する制御部とを備え、
前記標的領域を積層に分割し、該積層毎に、少なくとも、使用するエネルギー分布拡大装置、照射線量を定め、該モニタで該積層毎に照射線量を測定し、該制御部で照射線量を管理して線量分布を生成し、該線量分布を合成する粒子線照射装置。
請求項１又は請求項２又は請求項５記載の粒子線照射装置において、
前記エネルギー分布拡大装置は、第１の高線量領域を形成する第１のエネルギー分布拡大装置と、前記標的領域の体表からの最深部に第２の高線量領域を形成する第２のエネルギー分布拡大装置とを備え、
前記第２のエネルギー分布拡大装置により前記標的領域の体表からの最深部に第２の高線量領域を形成し、最深部の次に深い領域から体表側の標的領域までに、前記第１のエネルギー分布拡大装置を１回あるいは複数回用いて、第１の高線量領域を形成し、前記第１の高線量領域及び前記第２の高線量領域を重ね合わせて、前記標的領域に合う長さの高線量領域を形成することを特徴とする粒子線照射装置。
請求項６記載の粒子線照射装置において、
前記粒子線の照射深さを可変するレンジシフタと、
前記レンジシフタを駆動するレンジシフタ駆動部と、
加速器の粒子線エネルギーとして１種あるいは複数種類のエネルギー種とを備え、
前記第１のエネルギー分布拡大装置、前記第２のエネルギー分布拡大装置を用いて、前記レンジシフタ駆動部による前記レンジシフタと前記エネルギー種のどちらかあるいは共用により、前記粒子線の照射深さを変えて形成する高線量領域を重ね合わせることを特徴とする粒子線照射装置。
請求項６記載の粒子線照射装置の粒子線照射方法であって、
前記第２のエネルギー分布拡大装置により前記標的領域の体表からの最深部に第２の高線量領域を形成し、
最深部の次に深い領域から体表側の標的領域までに、前記第１のエネルギー分布拡大装置を１回あるいは複数回用いて、第１の高線量領域を形成し、前記第１の高線量領域及び前記第２の高線量領域を重ね合わせて、前記標的領域に合う長さの高線量領域を形成することを特徴とする粒子線照射方法。
粒子線を標的領域に照射する粒子線照射方法であって、
粒子線を直接照射して、前記標的領域の体表からの深部領域に第２の高線量領域を形成し、
前記深部領域の次に深いところから体表側の標的領域までに、エネルギー分布拡大装置を１回あるいは複数回用いて、第１の高線量領域を形成し、前記第１の高線量領域及び前記第２の高線量領域を重ね合わせて、前記標的領域に合う長さの高線量領域を形成することを特徴とする粒子線照射方法。
粒子線を加速する加速器と、
前記加速器からの粒子線を入射して標的領域に照射する粒子線照射装置とを備え、
前記粒子線照射装置は、
第１のエネルギー分布拡大装置と、
前記粒子線の進行方向での線量分布を、前記第１のエネルギー分布拡大装置よりも急峻に形成する第２のエネルギー分布拡大装置とを備え、
少なくとも前記第１のエネルギー分布拡大装置及び前記第２のエネルギー分布拡大装置を用いて、前記粒子線の進行方向の線量分布を合成することを特徴とする粒子線治療システム。
請求項１０記載の粒子線治療システムにおいて、
複数層に分割した前記標的領域のうち最深部の層に前記粒子線を照射するときに、前記第２のエネルギー拡大装置を前記粒子線の軌道上に配置するように制御する制御部を備えることを特徴とする粒子線治療システム。
前記粒子線が陽子線であることを特徴とする請求項１０又は請求項１１記載の粒子線治療システム。
前記粒子線が重粒子線ビームであることを特徴とする請求項１０又は請求項１１記載の粒子線治療システム。