JP5902790B2 - 粒子線照射装置及び粒子線治療装置 - Google Patents
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)照射エネルギー、(2)照射角度、(3)マルチリーフコリメータ(以下「MLC」)等による横方向の照射野制限および(4)照射線量(重み)をパラメータとして、複数の照射を重ね合わせることにより実現する。ここに、深さ方向の照射野制限器はない。
本発明の特徴である柱状スキャニング照射でのIMRTを考える。通常のスポットスキャニングの考え方は、患部を3次元的にスポットにて、あたかも点描するかのごとく照射するものである。スポットスキャニングはこのように自由度の高い照射方法であるが、反面、患部全体を照射するのに要する時間が長い。IMRTは多門照射であるから、さらに照射時間がかかってしまう。そこで、スポットよりも深さ方向へブラッグピークBP(Bragg Peak)を拡大し、柱状の照射野を生成する。
図7は、本発明の実施の形態2によるエネルギー変更装置を示す構成図である。実施の形態1のエネルギー変更装置2aとは、複数の吸収体26a、26b、26c、26dを用いて、荷電粒子ビーム1のエネルギーを低下して所望のエネルギーに変更し、照射対象である患部40におけるブラッグピークBPの深さ方向(Z方向)の位置(飛程)を調整する点で異なる。
図8は、本発明の実施の形態3による深さ方向照射野拡大装置を示す構成図である。実施の形態1の深さ方向照射野拡大装置3aとは、複数のリッジフィルタ28a、28b、28c、28dを用いて、荷電粒子ビームのエネルギーを多種のエネルギーが混ざった状態にし、すなわち荷電粒子ビーム1のエネルギーの幅を変更し、ブラッグピークBPを深さ方向へ拡大する点で異なる。
図9は、本発明の実施の形態4による柱状照射野生成装置を示す構成図である。実施の形態1の柱状照射野生成装置4aとは、エネルギー変更装置2aと深さ方向照射野拡大装置3aを一体化した点で異なる。
実施の形態1乃至4においては、照射野のZ方向への拡大、すなわちSOBPは、リッジフィルタ19、28によって実現することを説明してきた。実施の形態5では、XY方向よりもZ方向に大きく照射野を拡大するために、レンジモジュレーションホイールRMW(Range Modulation Wheel)を用いた場合の実施の形態について説明する。
図12は、本発明の実施の形態6による深さ方向照射野拡大装置を示す構成図である。実施の形態5の深さ方向照射野拡大装置3cとは、選択可能なSOPBの幅が異なる複数のRMW装置を有する点で異なる。図12に示した深さ方向照射野拡大装置3dは、2つのRMW装置66a、66bを有する例である。RMW装置66aのRMW35aは、RMW装置66bのRMW35bよりも選択可能なSOPBの幅の数が多い例である。照射野拡大制御装置65は、RMW装置66a及びRMW装置66bのいずれを使用するかを選択し、RMW装置66aを駆動する駆動装置67a及びRMW装置66bを駆動する駆動装置67bの制御も行う。照射野拡大制御装置65は、RMW装置66aの角度センサ61の信号及びRMW装置66bの角度センサ61の信号を受けて、制御信号Sig1を出力しまたは停止する。
図13は、本発明の実施の形態7による柱状照射野生成装置を示す構成図である。実施の形態5の深さ方向照射野拡大装置3cを有する柱状照射野生成装置4aとは、エネルギー変更装置2(2a)と深さ方向照射野拡大装置3cを一体化した点で異なる。
ことができる。
今まで、実施の形態1乃至7に示した粒子線照射装置は、柱状照射野生成装置4において荷電粒子ビーム1のエネルギーを変更する例で説明してきた。しかし、荷電粒子ビーム1のエネルギーの変更は、シンクロトロン54のパラメータを変更することによっても実現できる。ここでは、シンクロトロン54のパラメータと深さ方向照射野拡大装置3を組み合わせて、柱状照射野44、45を生成する例を説明する。図14は、本発明の実施の形態8による粒子線照射装置を示す構成図である。実施の形態8の粒子線照射装置60は、実施の形態1乃至7に示した粒子線照射装置とは、柱状照射野生成装置4にエネルギー変更装置2が設けられなくても、シンクロトロン54にて荷電粒子ビーム1のエネルギーを変更して柱状照射野44、45を生成する点で異なる。
本発明の実施の形態9は、実施の形態1乃至8に示した粒子線照射装置を備えた粒子線治療装置である。図15は本発明の実施の形態9における粒子線治療装置の概略構成図である。粒子線治療装置51は、イオンビーム発生装置52と、イオンビーム輸送系59と、粒子線照射装置58a、58b(60a、60b)とを備える。イオンビーム発生装置52は、イオン源(図示せず)と、前段加速器53と、シンクロトロン54とを有する。粒子線照射装置58bは回転ガントリ(図示せず)に設置される。粒子線照射装置58aは回転ガントリを有しない治療室に設置される。イオンビーム輸送系59の役割はシンクロトロン54と粒子線照射装置58a、58bの連絡にある。イオンビーム輸送系59の一部は回転ガントリ(図示せず)に設置され、その部分には複数の偏向電磁石55a、55b、55cを有する。
a、27b、27c、27d…駆動装置、28a、28b、28c、28d…リッジフィルタ、29a、29b、29c、29d…駆動装置、30…変更制御装置、34…走査照射系、35…RMW(レンジモジュレーションホイール)、36a、36b、36c、36d、36e、36f…台、37a、37b、37c…羽根(エネルギー吸収体)、40…患部、44a、44b、44c、44d、45a、45b、45c、45d…柱状照射野、52…イオンビーム発生装置、54…シンクロトロン、58、58a、58b…粒子線照射装置、59…イオンビーム輸送系、60、60a、60b…粒子線照射装置、61…角度センサ、62…モータ、65…照射野拡大制御装置、66、66a、66b…RMW装置、67a、67b…駆動装置。
Claims (15)
- 加速器により加速された荷電粒子ビームを、照射方向に垂直なX方向及びY方向にそれぞれ走査するX方向走査電磁石及びY方向走査電磁石により前記X方向及び前記Y方向に走査する走査照射系を備え、前記荷電粒子ビームの照射方向を回転させる回転ガントリに搭載された粒子線照射装置であって、
前記粒子線照射装置は、前記荷電粒子ビームのブラッグピークを拡大し、柱状の照射野を生成する柱状照射野生成装置を備え、
前記柱状照射野生成装置は、前記荷電粒子ビームのエネルギーを変更するエネルギー変更装置と、前記荷電粒子ビームのブラッグピークを拡大する深さ方向照射野拡大装置とを備え、
前記深さ方向照射野拡大装置は、
前記荷電粒子ビームが通過する位置を変えてエネルギーに幅を生じさせる複数のRMW装置と、前記RMW装置を前記荷電粒子ビームが通過する位置または通過しない位置に移動する駆動装置と、複数の前記RMW装置を制御する照射野拡大制御装置とを備え、
前記RMW装置は、
軸方向の厚さが段階的に異なる複数の台が周方向に配置されたエネルギー吸収体を有し、前記複数の台を前記荷電粒子ビームが通過することによってエネルギーに幅を生じさせるRMWと、
前記RMWを回転させる回転駆動装置と、を有し、
前記照射野拡大制御装置は、前記荷電粒子ビームが前記複数の台を通過するように制御し、
前記柱状の照射野は、当該柱状の照射野の高さが前記荷電粒子ビームの照射方向の幅であるSOBPの幅であり、当該柱状の照射野の高さ方向の軸に垂直な断面の長さが前記荷電粒子ビームの前記X方向及び前記Y方向の幅であるビームサイズであり、当該柱状の照射野の高さが前記ビームサイズよりも長い照射野であり、
前記ビームサイズは、一回の治療照射において選択された単一のサイズであり、
前記柱状照射野生成装置は、前記荷電粒子ビームが照射される照射対象のディスタル形状に応じて、一つの前記SOBPの幅を有する前記柱状の照射野である外側柱状照射野と、前記照射対象の内側に前記外側柱状照射野と異なる他の前記SOBPの幅を有する前記柱状の照射野である内側柱状照射野とを生成し、
前記走査照射系は、前記柱状照射野生成装置により生成された前記外側柱状照射野を照射対象のディスタル形状に合わせて敷き詰めるように走査して照射し、前記内側柱状照射野を前記外側柱状照射野の内側に敷き詰めるように走査して照射することを特徴とする粒子線照射装置。 - 加速器により加速された荷電粒子ビームを、照射方向に垂直なX方向及びY方向にそれぞれ走査するX方向走査電磁石及びY方向走査電磁石により前記X方向及び前記Y方向に走査する走査照射系を備え、前記荷電粒子ビームの照射方向を回転させる回転ガントリに搭載された粒子線照射装置であって、
前記粒子線照射装置は、前記荷電粒子ビームのブラッグピークを拡大し、柱状の照射野を生成する柱状照射野生成装置を備え、
前記柱状照射野生成装置は、前記荷電粒子ビームのブラッグピークを拡大する深さ方向照射野拡大装置を備え、
前記荷電粒子ビームのエネルギーは前記加速器により変更され、
前記深さ方向照射野拡大装置は、
前記荷電粒子ビームが通過する位置を変えてエネルギーに幅を生じさせる複数のRMW装置と、前記RMW装置を前記荷電粒子ビームが通過する位置または通過しない位置に移動する駆動装置と、複数の前記RMW装置を制御する照射野拡大制御装置とを備え、
前記RMW装置は、
軸方向の厚さが段階的に異なる複数の台が周方向に配置されたエネルギー吸収体を有し、前記複数の台を前記荷電粒子ビームが通過することによってエネルギーに幅を生じさせるRMWと、
前記RMWを回転させる回転駆動装置と、を有し、
前記照射野拡大制御装置は、前記荷電粒子ビームが前記複数の台を通過するように制御し、
前記柱状の照射野は、当該柱状の照射野の高さが前記荷電粒子ビームの照射方向の幅であるSOBPの幅であり、当該柱状の照射野の高さ方向の軸に垂直な断面の長さが前記荷電粒子ビームの前記X方向及び前記Y方向の幅であるビームサイズであり、当該柱状の照射野の高さが前記ビームサイズよりも長い照射野であり、
前記ビームサイズは、一回の治療照射において選択された単一のサイズであり、
前記柱状照射野生成装置は、前記荷電粒子ビームが照射される照射対象のディスタル形状に応じて、一つの前記SOBPの幅を有する前記柱状の照射野である外側柱状照射野と、前記照射対象の内側に前記外側柱状照射野と異なる他の前記SOBPの幅を有する前記柱状の照射野である内側柱状照射野とを生成し、
前記走査照射系は、前記柱状照射野生成装置により生成された前記外側柱状照射野を照射対象のディスタル形状に合わせて敷き詰めるように走査して照射し、前記内側柱状照射野を前記外側柱状照射野の内側に敷き詰めるように走査して照射することを特徴とする粒子線照射装置。 - 前記内側柱状照射野は、前記外側柱状照射野よりも小さい他の前記SOBPの幅を有することを特徴とする請求項1記載の粒子線照射装置。
- 前記内側柱状照射野は、前記外側柱状照射野よりも小さい他の前記SOBPの幅を有することを特徴とする請求項2記載の粒子線照射装置。
- 前記エネルギー変更装置は、
前記荷電粒子ビームが通過する方向の厚さが場所によって異なり、通過する荷電粒子ビームのエネルギーを前記厚さに応じて低下するレンジシフタと、前記荷電粒子ビームの前記レンジシフタにおける通過位置を移動する上流側偏向電磁石対と、前記荷電粒子ビームの軌道を当該エネルギー変更装置に入射したビーム軸の方へ戻す下流側偏向電磁石対と、前
記荷電粒子ビームを前記レンジシフタの所定の厚さを通過するように前記上流側偏向電磁石対及び前記下流側偏向電磁石対を制御する変更制御装置とを備えたことを特徴とする請求項1または3に記載の粒子線照射装置。 - 前記深さ方向照射野拡大装置は、
前記荷電粒子ビームが通過する位置によって失うエネルギーが異なる厚さ分布を有するリッジフィルタと、前記荷電粒子ビームの前記リッジフィルタにおける通過位置を移動する上流側偏向電磁石対と、前記荷電粒子ビームの軌道を当該深さ方向照射野拡大装置に入射したビーム軸の方へ戻す下流側偏向電磁石対と、前記荷電粒子ビームを前記リッジフィルタの所定の厚さ分布を通過するように前記上流側偏向電磁石対及び前記下流側偏向電磁石対を制御する照射野拡大制御装置とを備えたことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の粒子線照射装置。 - 前記エネルギー変更装置は、
前記荷電粒子ビームが通過する厚さによってエネルギーが低下する複数の吸収体と、前記吸収体のそれぞれを駆動する複数の駆動装置と、前記駆動装置を駆動して前記荷電粒子ビームが通過する前記吸収体の合計の厚さを制御する変更制御装置とを備えたことを特徴とする請求項1または3に記載の粒子線照射装置。 - 前記深さ方向照射野拡大装置は、
前記荷電粒子ビームが通過する厚さによってエネルギーの幅を変更する複数のリッジフィルタと、前記リッジフィルタのそれぞれを駆動する複数の駆動装置と、前記駆動装置を駆動して前記荷電粒子ビームが通過する前記リッジフィルタの合計の厚さを制御する照射野拡大制御装置とを備えたことを特徴とする請求項1乃至5及び7のいずれか1項に記載の粒子線照射装置。 - 前記深さ方向照射野拡大装置は、前記RMWの回転角度を検出する角度センサを備え、前記照射野拡大制御装置は、
前記RMWを回転し続けるように回転駆動装置を制御し、前記角度センサにより検出された前記回転角度に基づいて、前記荷電粒子ビームの出射開始と出射停止を制御して、前記荷電粒子ビームが前記複数の台を通過するようにすることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の粒子線照射装置。 - 加速器により加速された荷電粒子ビームを、照射方向に垂直なX方向及びY方向にそれぞれ走査するX方向走査電磁石及びY方向走査電磁石により前記X方向及び前記Y方向に走査する走査照射系を備え、前記荷電粒子ビームの照射方向を回転させる回転ガントリに搭載された粒子線照射装置であって、
前記粒子線照射装置は、前記荷電粒子ビームのブラッグピークを拡大し、柱状の照射野を生成する柱状照射野生成装置を備え、
前記柱状照射野生成装置は、
前記荷電粒子ビームが通過する方向の厚さが階段状に変化しており、通過する荷電粒子ビームのエネルギーを前記厚さに応じて低下する第1のレンジシフタと、
前記荷電粒子ビームが通過する位置によって失うエネルギーが異なる厚さ分布の山を複数有し、前記第1のレンジシフタの下流側であって、少なくとも1つの前記山が前記第1のレンジシフタの厚さの異なる部分毎に配置された第1のリッジフィルタと、
前記荷電粒子ビームが通過する方向の厚さが階段状に変化しており、通過する荷電粒子ビームのエネルギーを前記厚さに応じて低下する第2のレンジシフタと、
前記荷電粒子ビームが通過する位置によって失うエネルギーが異なる厚さ分布の山を複数有し、当該山の高さが前記第1のリッジフィルタの前記山の高さと異なっており、前記第2のレンジシフタの下流側であって、少なくとも1つの前記山が前記第2のレンジシフタの厚さの異なる部分毎に配置された第2のリッジフィルタと、
前記荷電粒子ビームの前記第1のレンジシフタ及び前記第1のリッジフィルタにおける通過位置、又は前記荷電粒子ビームの前記第2のレンジシフタ及び前記第2のリッジフィルタにおける通過位置を移動する上流側偏向電磁石対と、前記荷電粒子ビームの軌道を当該柱状照射野生成装置に入射したビーム軸の方へ戻す下流側偏向電磁石対と、前記荷電粒子ビームを前記第1のレンジシフタの所定の厚さ及び前記第1のリッジフィルタの所定の厚さ分布の前記山を通過するように、又は前記荷電粒子ビームを前記第2のレンジシフタの所定の厚さ及び前記第2のリッジフィルタの所定の厚さ分布の前記山を通過するように、前記上流側偏向電磁石対及び前記下流側偏向電磁石対を制御する変更制御装置を備え、
前記柱状の照射野は、当該柱状の照射野の高さが前記荷電粒子ビームの照射方向の幅であるSOBPの幅であり、当該柱状の照射野の高さ方向の軸に垂直な断面の長さが前記荷電粒子ビームの前記X方向及び前記Y方向の幅であるビームサイズであり、当該柱状の照射野の高さが前記ビームサイズよりも長い照射野であり、
前記ビームサイズは、一回の治療照射において選択された単一のサイズであり、
前記柱状照射野生成装置は、前記荷電粒子ビームが照射される照射対象のディスタル形状に応じて、前記第1のリッジフィルタにより前記荷電粒子ビームのブラッグピークが拡大された一つの前記SOBPの幅を有する前記柱状の照射野である外側柱状照射野と、前記照射対象の内側に前記第2のリッジフィルタにより前記荷電粒子ビームのブラッグピークが拡大された前記外側柱状照射野と異なる他の前記SOBPの幅を有する前記柱状の照射野である内側柱状照射野とを生成し、
前記走査照射系は、前記柱状照射野生成装置により生成された前記外側柱状照射野を照射対象のディスタル形状に合わせて敷き詰めるように走査して照射し、前記内側柱状照射野を前記外側柱状照射野の内側に敷き詰めるように走査して照射することを特徴とする粒子線照射装置。 - 加速器により加速された荷電粒子ビームを、照射方向に垂直なX方向及びY方向にそれぞれ走査するX方向走査電磁石及びY方向走査電磁石により前記X方向及び前記Y方向に走査する走査照射系を備え、前記荷電粒子ビームの照射方向を回転させる回転ガントリに搭載された粒子線照射装置であって、
前記粒子線照射装置は、前記荷電粒子ビームのブラッグピークを拡大し、柱状の照射野を生成する柱状照射野生成装置を備え、
前記柱状照射野生成装置は、
前記荷電粒子ビームが通過する方向の厚さが場所によって異なり、通過する荷電粒子ビームのエネルギーを前記厚さに応じて低下する第1のレンジシフタと、
前記第1のレンジシフタの下流側に配置され、前記荷電粒子ビームが通過する位置を変えてエネルギーに幅を生じさせる第1のRMW装置と、
前記荷電粒子ビームが通過する方向の厚さが場所によって異なり、通過する荷電粒子ビームのエネルギーを前記厚さに応じて低下する第2のレンジシフタと、
前記第2のレンジシフタの下流側に配置され、前記荷電粒子ビームが通過する位置を変えてエネルギーに幅を生じさせる第2のRMW装置と、
前記荷電粒子ビームの前記第1のレンジシフタ及び前記第1のRMW装置における入射位置、又は前記荷電粒子ビームの前記第2のレンジシフタ及び前記第2のRMW装置における入射位置を移動する上流側偏向電磁石対と、前記荷電粒子ビームの軌道を当該柱状照射野生成装置に入射したビーム軸の方へ戻す下流側偏向電磁石対と、前記荷電粒子ビームを前記第1のレンジシフタの所定の厚さを通過するように前記上流側偏向電磁石対及び前記下流側偏向電磁石対を制御し、かつ前記第1のRMW装置によりエネルギーに幅を生じさせるように制御する、又は前記荷電粒子ビームを前記第2のレンジシフタの所定の厚さを通過するように前記上流側偏向電磁石対及び前記下流側偏向電磁石対を制御し、かつ前記第2のRMW装置によりエネルギーに幅を生じさせるように制御する変更制御装置と、を備え、
前記第1のRMW装置は、
軸方向の厚さが段階的に異なる複数の台が周方向に配置されたエネルギー吸収体を有し、前記複数の台を前記荷電粒子ビームが通過することによってエネルギーに幅を生じさせる第1のRMWと、前記第1のRMWを回転させる第1の回転駆動装置と、を有し、
前記第2のRMW装置は、
軸方向の厚さが段階的に異なる複数の台が周方向に配置され、かつ軸方向の厚さが前記第1のRMWと異なっているエネルギー吸収体を有し、前記複数の台を前記荷電粒子ビームが通過することによってエネルギーに幅を生じさせる第2のRMWと、前記第2のRMWを回転させる第2の回転駆動装置と、を有し、
前記第1のレンジシフタは、前記第1のRMW装置における前記RMWの回転軸より前記ビーム軸側に配置され、
前記第2のレンジシフタは、前記第1のRMW装置における前記RMWの回転軸より前記ビーム軸側に配置され、
前記柱状の照射野は、当該柱状の照射野の高さが前記荷電粒子ビームの照射方向の幅であるSOBPの幅であり、当該柱状の照射野の高さ方向の軸に垂直な断面の長さが前記荷電粒子ビームの前記X方向及び前記Y方向の幅であるビームサイズであり、当該柱状の照射野の高さが前記ビームサイズよりも長い照射野であり、
前記ビームサイズは、一回の治療照射において選択された単一のサイズであり、
前記柱状照射野生成装置は、前記荷電粒子ビームが照射される照射対象のディスタル形状に応じて、一つの前記SOBPの幅を有する前記柱状の照射野である外側柱状照射野と、前記照射対象の内側に前記外側柱状照射野と異なる他の前記SOBPの幅を有する前記柱状の照射野である内側柱状照射野とを生成し、
前記走査照射系は、前記柱状照射野生成装置により生成された前記外側柱状照射野を照射対象のディスタル形状に合わせて敷き詰めるように走査して照射し、前記内側柱状照射野を前記外側柱状照射野の内側に敷き詰めるように走査して照射することを特徴とする粒子線照射装置。 - 前記内側柱状照射野は、前記外側柱状照射野よりも小さい他の前記SOBPの幅を有することを特徴とする請求項10または11に記載の粒子線照射装置。
- 荷電粒子ビームを発生させ、加速器により所定のエネルギーまで加速するイオンビーム発生装置と、前記イオンビーム発生装置により加速された荷電粒子ビームを輸送するイオンビーム輸送系と、前記イオンビーム輸送系で輸送された荷電粒子ビームを照射対象に照射する粒子線照射装置と、前記粒子線照射装置の照射方向を回転させる回転ガントリとを備え、
前記粒子線照射装置は、請求項1乃至12のいずれか1項に記載の粒子線照射装置であることを特徴とする粒子線治療装置。 - 前記粒子線照射装置及び前記回転ガントリの動作条件を含む治療計画を作成する治療計画装置を備え、
前記治療計画装置は、
前記荷電粒子ビームが照射される照射対象のディスタル形状に応じて、一つの前記SOBPの幅を有する前記外側柱状照射野を配置するとともに、前記照射対象の内側に前記内側柱状照射野を敷き詰めて配置する照射野配置部と、
前記照射野配置部により前記外側柱状照射野及び前記内側柱状照射野が敷き詰められた状態を初期状態として、前記照射対象への照射線量が所定の範囲に入るように前記外側柱状照射野及び前記内側柱状照射野の配置を調整する最適化計算部とを有することを特徴とする請求項13記載の粒子線治療装置。 - 前記照射野配置部は、前記照射対象のディスタル形状に応じて前記外側柱状照射野を配置した後に、前記照射対象における前記外側柱状照射野が配置されていない内側の形状に応じて前記内側柱状照射野を配置することを特徴とした請求項14記載の粒子線治療装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014224885A JP5902790B2 (ja) | 2010-04-02 | 2014-11-05 | 粒子線照射装置及び粒子線治療装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010085993 | 2010-04-02 | ||
JP2010085993 | 2010-04-02 | ||
JP2014224885A JP5902790B2 (ja) | 2010-04-02 | 2014-11-05 | 粒子線照射装置及び粒子線治療装置 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010284520A Division JP5646312B2 (ja) | 2010-04-02 | 2010-12-21 | 粒子線照射装置及び粒子線治療装置 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016046523A Division JP6184544B2 (ja) | 2010-04-02 | 2016-03-10 | 治療計画装置及び粒子線治療装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015044034A JP2015044034A (ja) | 2015-03-12 |
JP5902790B2 true JP5902790B2 (ja) | 2016-04-13 |
Family
ID=52670081
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014224885A Active JP5902790B2 (ja) | 2010-04-02 | 2014-11-05 | 粒子線照射装置及び粒子線治療装置 |
JP2016046523A Active JP6184544B2 (ja) | 2010-04-02 | 2016-03-10 | 治療計画装置及び粒子線治療装置 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016046523A Active JP6184544B2 (ja) | 2010-04-02 | 2016-03-10 | 治療計画装置及び粒子線治療装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP5902790B2 (ja) |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4322419B2 (ja) * | 2000-12-26 | 2009-09-02 | 株式会社東芝 | 3次元粒子線照射装置とその作動方法 |
US6777700B2 (en) * | 2002-06-12 | 2004-08-17 | Hitachi, Ltd. | Particle beam irradiation system and method of adjusting irradiation apparatus |
JP2006280457A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Hitachi Ltd | 荷電粒子ビーム出射装置及び荷電粒子ビーム出射方法 |
JP4115468B2 (ja) * | 2005-06-10 | 2008-07-09 | 三菱電機株式会社 | 粒子線治療装置 |
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JP5074915B2 (ja) * | 2007-12-21 | 2012-11-14 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子ビーム照射システム |
JP4580465B2 (ja) * | 2008-05-13 | 2010-11-10 | 三菱電機株式会社 | 粒子線治療装置 |
-
2014
- 2014-11-05 JP JP2014224885A patent/JP5902790B2/ja active Active
-
2016
- 2016-03-10 JP JP2016046523A patent/JP6184544B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015044034A (ja) | 2015-03-12 |
JP2016105844A (ja) | 2016-06-16 |
JP6184544B2 (ja) | 2017-08-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150731 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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|
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