JP2008277406A - レーザリフロー装置 - Google Patents

Abstract

【課題】表面実装部品の熱的な損傷を回避しつつ、短時間で半田付けを行うことができるレーザリフロー装置を提供する。
【解決手段】本発明のレーザリフロー装置１は、レーザ光源１１からのレーザ光を照射ユニット２０からプリント基板Ｐに向け照射してプリント基板Ｐ上の半田ボールＳを溶融させることで、本体部Ｍの下面側に複数の端子部を有する表面実装部品Ｅをプリント基板Ｐ上に半田付けするレーザリフロー装置１であって、照射ユニット２０は、レーザ光源１１からの入射光の断面積に対する被照射部における照射スポットの面積の比が１よりも大きくなるようにレーザ光を拡散させる拡散レンズ２１を備え、半田ボールＳを溶融させる本加熱前にその本加熱における比より大きな比となるように形成したレーザ光を本体部Ｍの上面側に照射することにより、複数の端子部を予備加熱する。
【選択図】図３

Description

本発明は、レーザ光の照射により半田を溶融させて表面実装部品を基板上に実装するレーザリフロー装置に関する。

この種のレーザリフロー装置として、例えば下記特許文献１に記載のレーザリフロー装置が知られている。このレーザリフロー装置は、レーザ光源から出射されたレーザ光を基板上に向けて出射する照射ユニットを備えており、レーザ光を熱源として半田を溶融させて半田付けすることにより表面実装部品を基板上に実装する。このようなレーザリフロー装置においてＢＧＡ(Ball Grid Array)のように本体部の下面側に複数の下面電極を備えた表面実装部品を基板上に半田付けする場合には、本体部の上面側にレーザ光を照射し本体部の内部を熱伝達させて端子部を加熱することにより半田を溶融させることが考えられる。
特開平５−３４７４７６号公報

しかしながら、レーザ光のエネルギー密度は極めて高く、表面実装部品の熱容量、熱伝達性によっては、表面実装部品の上面側の温度が急激に上昇するのに対して下面電極の温度が上昇しにくいため、表面実装部品の上面側のみが高温になって熱的な損傷を受ける可能性がある。この対策としてレーザ光のエネルギー密度を下げると共に、この一定の条件で照射し続けることにより半田の溶融温度まで上昇させる方法が考えられる。しかしながら、このような方法では、半田の溶融温度に達するまでの時間が長くなってしまう。
本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、表面実装部品の熱的な損傷を回避しつつ、短時間で半田付けを行うことができるレーザリフロー装置を提供することを目的とする。

本発明は、レーザ光源からのレーザ光を照射ユニットから基板に向け照射して基板上の半田を溶融させることで、本体部の下面側に複数の端子部を有する表面実装部品を基板上に半田付けするレーザリフロー装置であって、照射ユニットは、レーザ光源からの入射光の断面積に対する被照射部における照射スポットの面積の比が１よりも大きくなるようにレーザ光を拡散させるレンズを備え、半田を溶融させる本加熱前にその本加熱における比より大きな比となるように形成したレーザ光を本体部の上面側に照射することにより、複数の端子部を予備加熱する構成としたところに特徴を有する。

このような構成によると、予備加熱によって表面実装部品の上面側から下面側に伝熱させながら部品全体をまんべんなく加熱した状態で、本加熱を行うことによって上面側のみを過熱することなく、下面側の端子部を半田の溶融温度に到達させることができる。すなわち、表面実装部品の損傷を回避しつつ効率良く半田付けを行うことができる。
尚、本発明のレーザリフロー装置に用いられるレーザ光源としては、半導体レーザ発振素子を用いてもよいし、ガス（例えばＣＯ_２等）や固体（例えばＹＡＧ等）をレーザ発振媒体としたものであってもよい。また、本発明の表面実装部品は、本体部の下面側に複数の端子部を有する表面実装部品であればよく、ＣＳＰ(Chip Size Package)等であってもよい。

本発明の実施態様として、以下の構成が好ましい。
基板上に載置された複数の表面実装部品のうち隣接配置された所定数の表面実装部品に対し、予備加熱を行う構成としてもよい。このような構成によると、所定数すなわち少なくとも２つ以上の表面実装部品に対し、予備加熱を行うので、効率良く予備加熱を行うことができる。
基板上に載置された複数の表面実装部品のうち隣接配置された表面実装部品群をグループ化し、そのグループに対して一括して照射を行う構成としてもよい。このような構成によると、表面実装部品を個別に照射する必要がなく、短時間で照射を完了させることができる。この結果、基板全体の半田付けに要する時間を短縮することができる。そのグループに対して予備加熱をする場合には予備加熱の効率を上げることができる。同様、そのグループに対して本加熱を行う場合には、本加熱の効率を上げることができる。
基板上に載置された複数の表面実装部品のうち、隣接配置された所定の表面実装部品群に対してグループ化することにより複数のグループを構成し、この各グループに対してそれぞれ一括して照射を行う構成としてもよい。このような構成によると、複数のグループに対してそれぞれ一括して予備加熱、あるいは本加熱、あるいは２種の加熱を組み合わせて実施することになるので、加熱の効率を上げることができる。

グループを照射して予備加熱を行った後に、そのグループを構成する複数の表面実装部品のうち、隣接配置された所定の表面実装部品群に対してグループ化することにより少なくとも１つ以上の小グループを構成し、この小グループに対してそれぞれ一括して照射を行う本加熱を行う構成としてもよい。このような構成によると、予備加熱、及び本加熱において隣接配置される複数の表面実装部品群に対してそれぞれ一括して照射するので、加熱の効率を上げることができる。
グループを照射して予備加熱を行った後に、そのグループを構成する複数の表面実装部品のうち、隣接配置された所定の表面実装部品群に対してグループ化することにより少なくとも２つ以上の小グループを構成し、この小グループに対してそれぞれ一括して照射を行う本加熱を順次行う構成としてもよい。このような構成によると、予備加熱、及び複数の小グループに対して順次行われる本加熱において、隣接配置される複数の表面実装部品群に対してそれぞれ一括して照射するので、加熱の効率をより上げることができる。

照射ユニットは、駆動手段によりレンズと共に基板に対して相対的に移動可能とされている構成としてもよい。このようにすると、駆動手段によって表面実装部品からレンズまでの高さを調整することによりレーザ光源からの入射光の断面積に対する被照射部における照射スポットの面積の比が調整可能となり、レーザ光源におけるレーザ光の出力を一定としたまま、表面実装部品に照射される照射スポットにおけるレーザ光のエネルギー密度を調整することができる。

表面実装部品の上面側の温度を測定する温度測定手段と、この温度測定手段により測定された表面実装部品の上面側の温度データに基づいて表面実装部品の上面側の温度が所定の許容温度域に保持されるように駆動手段によって照射ユニットの位置調整を行う位置調整手段とを備える構成としてもよい。このような構成によると、温度測定手段が表面実装部品の上面側の温度データを測定し、この温度データに基づいて位置調整手段により表面実装部品の上面側の温度が所定の許容温度域に保持されるように照射ユニットの位置調整を行うことができる。これにより、熱量不足による半田付け不良を防止すると共に、表面実装部品の照射熱による破損を未然に防ぐことができる。

本発明によれば、表面実装部品の熱的な損傷を回避しつつ、短時間で半田付けを行うことができる。

＜実施形態＞
本発明の一実施形態にかかるレーザリフロー装置１について図面を参照して説明する。
本実施形態のレーザリフロー装置１は、基台２上を搬送されるプリント基板Ｐ上にレーザ光源としてのレーザユニット１０からのレーザ光を照射してリフロー半田付けを行う装置である。

基台２上面には、図１に示すように、プリント基板Ｐを保持してＸ方向に搬送する一対のコンベア３がＸ方向に沿って設けられている。また、基台２上面には、Ｘ方向に延びる形態をなす一対のＸ方向ガイドレール３３が両コンベア３と並行してかつ両コンベア３より外側に設けられている。Ｘ方向ガイドレール３３上には、ヘッド駆動ユニット３０がＸ方向に移動可能に支持されている。

ヘッド駆動ユニット３０は、照射ユニット２０をＺ方向に移動可能に支持する照射ヘッド３１と、この照射ヘッド３１をＹ方向に移動可能に支持するヘッド支持部材３２とから構成されている。尚、ヘッド駆動ユニット３０は、本発明の「駆動手段」の一例であって、駆動手段７０という場合もある（図５参照）。ヘッド支持部材３２は略門形をなし、Ｙ方向に延びる形態のＹ方向ガイドレール３４と、このＹ方向ガイドレール３４からＸ方向ガイドレール３３に向けて下方に延びる一対の脚部４３とから構成されている。

両脚部４３のうち一方側の脚部４３下端には、中空モータ（図示せず）が固定され、この中空モータの中空アーマチャ軸に、脚部４３に回転可能に支持されたボールナット（図示せず）が連結され、このボールナットに嵌合するＸ方向ボールねじ軸（図示せず）が、基台２上においてＸ方向ガイドレール３３の側方に固定配置される。Ｘ方向ボールねじ軸には脚部４３のボールナットが嵌合し、このボールナットを中空モータにより回転駆動させることで、ヘッド支持部材３２をＸ方向の所望の位置に移動させることができる。尚、中空モータはサーボ形式のモータである。

Ｙ方向ガイドレール３４は、図２に示すように、Ｙ方向に沿って内側に開口する凹部４５を有する。一方、照射ヘッド３１を構成する支持プレート４４には、支持突部３５が横向きに突設され、これがＹ方向ガイドレール３４内に収容されている。支持突部３５の上下各面には、一対の案内突部３６が設けられており、この案内突部３６がＹ方向ガイドレール３４の凹部４５内における上下両面においてＹ方向に沿って凹設した案内溝３７と嵌合することにより、照射ヘッド３１をＹ方向に案内可能である。

Ｙ方向ガイドレール３４の凹部４５内には、Ｙ方向ボールねじ軸（図示せず）が軸回転可能に配され、これが支持突部３５に固定されたボールナット（図示せず）に螺合している。Ｙ方向ガイドレール３４にはサーボモータ（図示せず）が固定され、そのサーボモータによりＹ方向ボールねじ軸を駆動して照射ヘッド３１をＹ方向の所望の位置に移動させることができる。

照射ヘッド３１の支持プレート４４には、支持突部３５と反対側の面にＺ方向に延びるＺ方向ガイドレール４０と、Ｚ方向に延びるＺ方向ボールねじ軸４１を一体に備えたサーボモータ４２とが固定されている。Ｚ方向ガイドレール４０には、光ファイバＦの端末に接続された照射ユニット２０を支持する支持アーム３９がＺ方向に移動可能に支持されている。支持アーム３９には、Ｚ方向ボールねじ軸４１と嵌合するボールナット（図示せず）が固定されている。これにより、照射ユニット２０をサーボモータ４２の回転駆動によってＺ方向の所望の位置に移動させることができ、ひいては、表面実装部品Ｅの本体部Ｍの上面から光拡散レンズ２１までの高さを調整することでレーザ光の照射スポット面積を調整可能としている。尚、光拡散レンズ２１は、照射ユニット２０と一体的に設けられている。

レーザユニット１０は、制御部５０からの制御信号に基づいてレーザ光を出射するレーザ光源１１を備えている。照射ユニット２０には、図３に示すように、レーザ光源１１からのレーザ光のうち所定のレーザ光のみを通過させる複数種のマスク板６３を備えた円形のマスクホルダ６０と、マスク板６３を通過した所定のレーザ光を拡散させる光拡散レンズ２１と、マスクホルダ６０を回転駆動するための電動モータ２２とが設けられている。さらに照射ユニット２０には、表面実装部品Ｅの本体部Ｍ上面の温度データを取得する温度測定手段８０が一体的に設けられている。

マスクホルダ６０は、図４に示すように、軸孔６２を中心として回動可能に設けられ、例えば６枚のマスク板６３が取り付けられている。各マスク板６３は、レーザ光の吸収特性を有するカーボン材料等によって形成され、それぞれ異なる形状のレーザビーム透過孔６１（６１Ａ〜６１Ｆ）が形成されている。マスクホルダ６０を回転させると、６枚のマスク板６３のうち１枚がレーザ光の光路上に選択的に位置することになり、レーザ光を絞ることができる。

具体的には、レーザビーム通過孔６１Ａは、レーザ光をほとんどそのまま通過させる場合に用いられる。その他のレーザビーム透過孔６１Ｂ〜６１Ｆは、レーザ光の照射スポット形状を所定形状に変更したい場合に用いられる。レーザビーム透過孔６１Ｂは小さい円孔形状をなし、同６１Ｃは細長い楕円形状をなし、同６１Ｄは細長い長方形状をなし、同６１Ｅは正方形状をなし、同６１Ｆは同６１Ｂよりも大きめの円孔形状をなしている。

ところで、本実施形態のプリント基板Ｐ上には、本体部Ｍと、本体部Ｍの下面側に設けた複数の端子部（図示せず）とを備えた表面実装部品Ｅが載置されている。各端子部とプリント基板Ｐ上の各ランド（図示せず）との間には、半田ボールＳが配されている。このような表面実装部品Ｅに対し本実施形態では、光拡散レンズ２１によりレーザ光源１１からのレーザ光の単位面積あたりのエネルギー（エネルギー密度）を下げることで、表面実装部品Ｅの上面側に直接照射する方式のリフローが採用されている。

本実施形態におけるリフロー工程の温度プロファイルは、半田ボールＳが溶融する直前状態となるまで加熱し、表面実装部品Ｅの端子部とプリント基板Ｐ上のランドにフラックスを十分に馴染ませるために行われる予備加熱と、半田ボールＳが溶融状態となるまで加熱して端子部とランドとを接合させるために行われる本加熱とから構成されている。このため、本加熱では、レーザ光の照射スポットが表面実装部品Ｅの本体部Ｍの上面内に収まるように設定されているものの、予備加熱では、図３に示すように、レーザ光の照射スポットを表面実装部品Ｅの本体部Ｍの上面を超えて複数の表面実装部品Ｅに及んだ広範囲に設定することで、本加熱よりもエネルギー密度が低くなるように設定してある。

照射ユニット２０において光ファイバＦから出射されたレーザ光は、マスク板６３を通過することにより光ファイバＦの光通過断面積D0から平行光断面積D1に縮小される。さらにマスク板６３を通過したレーザ光は、光拡散レンズ２１を通過することにより平行光断面積D1から表面実装部品Ｅの本体部Ｍの上面（被照射部）における照射スポットの照射面積D2に拡大される。ここで、光ファイバＦの光通過断面積D0は、D0＝個々の光ファイバの断面積d×総数nにより算出される。

本実施形態では、D2/D1が本発明の「レーザ光源からの入射光の断面積に対する被照射部における照射スポットの面積の比」に相当し、１より大きくなるように設定される。尚、マスク板６３が設けられていない場合には、D2/D0が本発明の「レーザ光源からの入射光の断面積に対する被照射部における照射スポットの面積の比」に相当し、同様に１より大きくなるように設定される。

尚、仮にレーザ光が例えば図６のグラフＡ（光拡散レンズ２１に入射する前のレーザ光の光強度分布）に示すように光軸中心から離れるほど光強度が低下するような特定の強度分布を有している場合には、光拡散レンズ２１によって拡散されて表面実装部品Ｅに照射されるレーザ光も同図グラフＢ（本加熱における本体部Ｍ上面におけるレーザ光の光強度分布）及びグラフＣ（予備加熱における本体部Ｍ上面におけるレーザ光の光強度分布）で示すように照射範囲が広がると共に強度が全体的に低下する分布曲線を呈する。すなわち、光拡散レンズ２１に入射する前のレーザ光のピーク強度を１としたときに、表面実装部品Ｅの本体部Ｍ上面に照射されるレーザ光の相対的なピーク強度は、本加熱ではIp2となり、予備加熱ではIp1（０＜Ip1＜Ip2＜１）となる。その場合、光拡散レンズ２１に入射する前のレーザ光の断面積D1が分かっていれば、本体部Ｍ上面におけるレーザ光の照射スポットの照射面積D2は算出することができる。すなわち、断面積D1を有する円の直径をd1とするとき、このd1に対応する算出位置のグラフＡにおける相対強度ｔ（０＜ｔ＜１）が求まり、この相対強度ｔに対して、It2／Ip2＝ｔ／１を満足するIt2を求め、グラフＢから相対強度It2となる算出位置を導き出す。この算出位置に対応するd2を直径とする円の面積が、本加熱における表面実装部品Ｅの本体部Ｍ上におけるレーザ光の照射スポットの照射面積D2として求めることができる。同様に、It1／Ip1＝t／１を満足するIt1を求め、グラフＣから相対強度It1となる算出位置を導き出す。この算出位置に対応するd3を直径とする円の面積が、予備加熱における表面実装部品Ｅの本体部Ｍ上におけるレーザ光の照射スポットの照射面積D3として求めることができる。
尚、D2とグラフＡ，Ｂが分かっていれば同様にしてD1を求めることができ、D3とグラフＡ，Ｃが分かっていれば、D1を求めることができる。

一方、光拡散レンズ２１に入射するレーザ光のエネルギー密度M0は、光拡散レンズ２１に入射するレーザ光のエネルギーをE0とすると、M0＝E0/D0となる。また、マスク板６３を通過したレーザ光のエネルギーE1は、E1＝E0×(D1/D0)であるから、光拡散レンズ２１から出射され、表面実装部品Ｅの本体部Ｍの上面に照射されるエネルギー密度M1は、M1＝E1/D2＝E0×D1/(D0×D2)となる。したがって、光拡散レンズ２１に入射するレーザ光のエネルギー密度M0に対する表面実装部品Ｅの本体部Ｍの上面に照射されるレーザ光のエネルギー密度M1の比M1/M0は、M1/M0＝{E0×D1/(D0×D2)}/{E0/D0}＝D1/D2となる。ここで、D2/D1は上述したように１より大きくなるように設定されているから、D1/D2は１より小さくなり、上記比M1/M0は１より小さくなる。よって、光拡散レンズ２１を通過させることによりレーザ光のエネルギー密度を低下させ、広い範囲を穏やかに加熱することができる。また、予備加熱における表面実装部品Ｅの本体部Ｍ上におけるレーザ光の照射スポットの照射面積D3は、D1＜D2＜D3となるように設定されており、予備加熱においては、本加熱に対してさらに本体部Ｍ上におけるレーザ光のエネルギー密度を低下させて、より広い範囲をより穏やかに加熱することができる。

また、本実施形態のレーザリフロー装置１は、表面実装部品Ｅの本体部Ｍ上面の温度を測定することにより、本加熱において所定の下限温度以上に保持すると共に、所定の上限温度以下に保持するべく、表面実装部品Ｅの上面側の温度を測定する温度測定手段８０を有し、照射ユニット２０及び照射ヘッド３１の移動制御を行う機能を有している。

温度測定手段８０は、図示はしないが対象物から放射される赤外線に基づき対象物の温度を測定するための熱画像測定部と、対象物の可視画像を撮像する可視画像撮像部とを備え、サーモグラフィーとしての周知構成である。本実施形態では、熱画像測定部の測定中心と、可視画像撮像部による撮像中心とは、レーザ光の照射スポット中心と一致するように設定されている。また、熱画像測定部による測定範囲と、可視画像撮像部による撮像範囲とは、表面実装部品Ｅの本体部Ｍ上面より大きな範囲に設定され、複数の表面実装部品Ｅの本体部Ｍ上面全体について温度分布を測定可能である。

本実施形態は以上の構成であり、次にその作用を図７のフローチャートを参照しながら説明する。
クリーム半田が印刷されたプリント基板Ｐ上に部品実装機（図示せず）によって表面実装部品Ｅが実装され、これが本実施形態のレーザリフロー装置１に搬入される。レーザリフロー装置１には、図８及び図９に示す半田付け条件が記憶手段に記憶されており、プリント基板Ｐの搬入に先立ってこれらの半田付け条件が読み出される（Ｓ１０１）。

ここで、図８の半田付け条件について説明する。図８の上段の表は、予備照射（予備加熱における照射）の半田付け条件を示し、同図下段の表は、本照射（本加熱における照射）の半田付け条件を示している。予備照射と本照射の半田付け条件は、照射番号、照射中心座標、設定照射角、照射時間、及び許容温度域のデータを備えている点で共通し、本照射の半田付け条件にG&内順位（グループ内順位）のデータが含まれている点で異なる。各データの具体的内容について、以下に説明する。

１．照射番号
基板Ｐ上にはレーザ照射により半田付けすべき表面実装部品Ｅが複数搭載されており、大型部品に対しては部品１個毎に本照射を行い、小型部品に対しては隣接して搭載された複数の部品に対して一括して本照射を行う。すなわち、本照射における照射番号は、レーザ照射毎に便宜的に付与された通し番号となっている一方、予備照射における照射番号についてはその基板Ｐにおいて照射される順番に付与されている。尚、予備照射番号の中には、各データ欄が０とされることで実際には予備照射が行われないもの（例えば番号Ａ３）が含まれており、この場合にはフローチャートの中でジャンプされ予備照射を行うことなく本照射を開始する。

２．照射中心座標
本照射において大型部品に対しては、通常部品中心にレーザ光の光軸中心を一致させて照射を行い、この部品中心座標が照射中心座標となる。一方、本照射において複数の部品を同時照射する場合には、これらの部品からなる図形の図心、あるいは部品の体積を重量に換算して求める重心に、レーザ光の光軸中心を一致させて照射を行い、この図心あるいは重心の座標が照射中心座標となる。予備照射においては、その予備照射でカバーされる領域の中に、予備照射後に実施される本照射の照射中心座標の全てを含み、それらの照射中心座標の最外郭を結ぶ図形の図心、あるいは各照射中心座標に本照射におけるエネルギーの大きさを換算した重量があるとした重心に、レーザ光の光軸中心を一致させて照射を行い、この図心あるいは重心の座標が照射中心座標となる。

３．設定照射角
設定照射角は、照射開始時のレーザ光の頂角であって、照射表面温度に応じてこの照射角を変化させてもよいし、本実施形態のように照射ユニット２０の位置を上げ下げしてもよい。照射角の調整は、照射表面温度が所定値以下であれば照射角を小さくし、所定値以上であれば照射角を大きくすることによって行われる。尚、予備照射における設定照射角は、本加熱における設定照射角よりも大きい。

４．照射時間
照射時間は、照射開始から照射を終了させるまでの時間、あるいは許容温度域の下限に最初に到達した時から照射を終了させるまでの時間のいずれかとして設定される。

５．許容温度域
レーザ光を所定の照射角で照射を続けると、部品の表面温度は上昇する。しかしながら、部品の表面温度（上面側の温度）が半田の溶融温度に達しても、これと同時には電極部分の温度（下面側の温度）は半田の溶融温度に達しないため、部品の表面温度が溶融温度になってから、所定の時間経過し、電極部分の半田が十分溶融するまで照射を継続する必要がある。したがって、許容温度域の下限温度は、半田の溶融開始温度か、それより低めに設定される。一方、許容温度域の上限温度は、半田の溶融開始温度よりは高く、かつ部品が熱損傷を余裕をもって起こさない温度に設定される。尚、予備照射における許容温度域は、本照射における許容温度域より低めに設定される。

６．G&内順位
部品の耐熱性能や熱容量によっては本照射に先行して予備照射を行う必要があるため、このような場合には１つの予備照射の後に複数の本照射を行う。すなわち、G&内順位とは、予備照射毎にグループ分けを行うと共に、そのグループの中における照射の順番を付与したものである。ここで、前記したように、照射番号によっては予備照射が行われないもの（例えば番号Ａ３）が含まれているものの、次述するように、全体的な照射の順番を考慮し、予備照射番号を付与してグループ化した上で、そのグループの中での順位付けを行う。

次に、図８に示した本照射及び予備照射における全ての半田付け条件を、実際に照射が行われる順番に並び替えたものが、図９に示した半田付け条件である。さらに並び替えが行われた後の各半田付け条件には、照射の順番に従って新たに全体照射番号（Ａ１０〜ＡＭ１）が付与される。具体的には、Ａ１０〜Ａ１３が１つの予備照射グループを形成しており、Ａ１０により予備照射を行った後に、Ａ１１〜Ａ１３の順番に従って各本照射が行われる。尚、Ｃｍは、各予備照射グループ内において本照射が行われる回数を示している。

さて、上記した半田付け条件が読み込まれると（図７のＳ１０１）、複数の表面実装部品Ｅが搭載されたプリント基板Ｐがレーザリフロー装置１に搬入され、基板クランプ（図示せず）によって所定の位置に保持される（Ｓ１０２）。そして、カメラ（図示せず）によって基板クランプ及びプリント基板Ｐ上に付された基板フィデューシャルマークを撮像し、これらのＸＹ方向における位置データを取得する（Ｓ１０３）。

次に、変数ｍに１を付与し、変数ｎに０を付与した上で（Ｓ１０４）、全体照射番号Ａｍｎに対応する半田付け条件データを取得する（Ｓ１０５）。ここで、予備照射の半田付け条件がゼロか否かを判定し、ゼロでなければ（Ｓ１０６でＮｏ）、前記プリント基板ＰのＸＹ方向における位置データに基づいてレーザ光による照射中心座標の補正を行う（Ｓ１０７）。この後、照射ヘッド３１を補正後の照射中心座標へ移動させ（Ｓ１０８）、取得された半田付け条件に従って予備照射を開始する（Ｓ１０９）。

続いて、温度測定手段８０によって測定された本体部Ｍの温度分布に基づき、中心部の測定温度と許容温度域の下限及び上限温度との比較を行い、測定温度が下限温度よりも低い場合には（Ｓ１１０でＮｏ）、駆動手段７０によって照射ユニット２０をＺ方向に下降させて（Ｓ１１１）照射スポットの照射面積D2を小さくして表面実装部品Ｅに照射されるレーザ光のエネルギー密度を高める（図５参照）。逆に、測定温度が上限温度以上になった場合には（Ｓ１１０でＮｏ）、駆動手段７０によって照射ユニット２０を上昇させて（Ｓ１１１）照射スポットの照射面積D2を大きくして表面実装部品Ｅに照射されるレーザ光のエネルギー密度を低くする。以上の一連の動作は図７のステップＳ１１０〜Ｓ１１２を繰り返し実行することにより実現される。このようなレーザ照射が、表面実装部品Ｅ毎に設定されている照射時間に達するまで行われると（Ｓ１１２においてYes）、ｎがＣｍに至ったか否かを判定し（Ｓ１１３）、ｎがＣｍに至っていない場合には、ｎをｎ＋１にインクリメントし（Ｓ１１４）、ステップＳ１０５〜Ｓ１１２に示した手順に従って本照射を実施する。

１つの予備照射グループ内における全ての本照射が完了すると（Ｓ１１３でＮｏ）、ｍがＭに至ったか否かを判定し（Ｓ１１５）、ｍがＭに至っていない場合には、ｍをｍ＋１にインクリメントし（Ｓ１１６）、次の予備照射グループについて予備照射及び本照射が行われる（Ｓ１０５〜Ｓ１１３）。全ての予備照射グループについて照射が完了すると（Ｓ１１５でＮｏ）、照射を終了する（Ｓ１１７）。この後、基板クランプによる保持を解除した上で、半田付けが完了したプリント基板Ｐを下流側に搬出する。尚、レーザ照射によって半田付けを行う別のプリント基板Ｐがある場合には、Ｓ１０１からこのプログラムが実行される。

以上のように本実施形態では、以下に示す効果を奏することができる。
１．予備照射によって部品全体をまんべんなく加熱することにより、本照射において本体部Ｍの上面側の過熱を防ぎつつ、本体部Ｍの下面側の端子部を半田の溶融温度に到達させることができる。すなわち、表面実装部品Ｅの損傷を回避しつつ効率良く半田付けを行うことができる。
２．複数の表面実装部品Ｅを一括して予備照射することにより、短時間で半田付けを完了させることができる。

３．表面実装部品Ｅの表面温度が所定の許容温度域となるように制御することで、熱量不足による半田付け不良を防止すると共に、表面実装部品の照射熱による破損を未然に防ぐことができる
＜他の実施形態＞
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。

（１）本実施形態では照射ユニット２０のＺ方向位置調整を行うことにより照射スポットにおけるエネルギー密度を調整して表面実装部品Ｅを温度調整しているものの、本発明によると、半田付け条件の設定照射角を調整することにより温度調整をしてもよい。
（２）本実施形態では予備照射グループを構成する各表面実装部品Ｅに対して個別に本照射しているものの、本発明によると、複数の表面実装部品Ｅに対して一括して本照射してもよく、その予備照射グループに対して一括して本照射してもよい。

（３）本実施形態では隣接配置された予備照射グループに対して一括して予備照射しているものの、本発明によると、各表面実装部品Ｅに対して個別に予備照射してもよい。
（４）本実施形態では照射ユニット２０を上下駆動させることによりレーザ光の照射スポットの照射面積D2を変更しているものの、本発明によると、照射ユニット２０内で光拡散レンズ２１を上下駆動させることによりレーザ光の照射スポットの照射面積D2を変更してもよい。

（５）本実施形態では表面実装部品Ｅの上面側の温度を所定の許容温度域に保持する温度調整手段を備えているものの、本発明によると、このような温度調整手段を備えていなくてもよい。
（６）本実施形態では１つの照射ユニット２０を使い予備照射と本照射をするようにしているが、複数の照射ユニット２０を用い、予備照射をする照射ユニット２０と本照射をする照射ユニット２０を分けるようにしてもよい。

本実施形態において照射ヘッドをＸＹ方向に駆動させる様子を示した斜視図 その照射ユニットをＺ方向に駆動させる様子を示した側面図 その照射ユニットから照射されたレーザ光を表面実装部品の上面側に照射することにより端子部を半田付けする様子を示した側面図 そのマスクホルダを示した平面図 その表面実装部品の本体部の温度分布に基づいて温度調整を行う作動システムを示したブロック図 そのレーザ光の光強度分布の一例を示した図 そのレーザリフロー装置の動作手順を示したフローチャート その予備照射及び本照射における半田付け条件を示した表 その実際に照射が行われる順番に各半田付け条件を並べ替えた表

符号の説明

１…レーザリフロー装置
１０…レーザユニット
１１…レーザ光源
２０…照射ユニット
２１…光拡散レンズ
３０…ヘッド駆動ユニット
３１…照射ヘッド
５０…制御部
５２…位置調整手段
８０…温度測定手段
D0…光通過断面積
D1…平行光断面積（レーザ光源からの入射光の断面積）
D2…照射スポットの照射面積（被照射部における照射スポットの面積）
Ｅ…表面実装部品
Ｍ…本体部
Ｐ…プリント基板
Ｓ…半田ボール

Claims (8)

1. レーザ光源からのレーザ光を照射ユニットから基板に向け照射して前記基板上の半田を溶融させることで、本体部の下面側に複数の端子部を有する表面実装部品を前記基板上に半田付けするレーザリフロー装置であって、
   前記照射ユニットは、前記レーザ光源からの入射光の断面積に対する被照射部における照射スポットの面積の比が１よりも大きくなるように前記レーザ光を拡散させるレンズを備え、
   前記半田を溶融させる本加熱前にその本加熱における前記比より大きな前記比となるように形成した前記レーザ光を前記本体部の上面側に照射することにより、前記複数の端子部を加熱する予備加熱を行うことを特徴とするレーザリフロー装置。
2. 前記基板上に載置された複数の前記表面実装部品のうち隣接配置された所定数の前記表面実装部品に対し、前記予備加熱を行うことを特徴とする請求項１に記載のレーザリフロー装置。
3. 前記基板上に載置された複数の前記表面実装部品のうち隣接配置された前記表面実装部品群をグループ化し、そのグループに対して一括して照射を行う請求項１に記載のレーザリフロー装置。
4. 前記基板上に載置された複数の前記表面実装部品のうち、隣接配置された所定の前記表面実装部品群に対してグループ化することにより複数のグループを構成し、この各グループに対してそれぞれ一括して照射を行う請求項３に記載のレーザリフロー装置。
5. 前記グループを照射して前記予備加熱を行った後に、そのグループを構成する複数の前記表面実装部品のうち、隣接配置された所定の前記表面実装部品群に対してグループ化することにより少なくとも１つ以上の小グループを構成し、この小グループに対してそれぞれ一括して照射を行う本加熱を行う請求項３又は請求項４に記載のレーザリフロー装置。
6. 前記グループを照射して前記予備加熱を行った後に、そのグループを構成する複数の前記表面実装部品のうち、隣接配置された所定の前記表面実装部品群に対してグループ化することにより少なくとも２つ以上の小グループを構成し、この小グループに対してそれぞれ一括して照射を行う本加熱を順次行う請求項３又は請求項４に記載のレーザリフロー装置。
7. 前記照射ユニットは、駆動手段により前記レンズと共に前記基板に対して相対的に移動可能とされている請求項１ないし請求項６のいずれか一項に記載のレーザリフロー装置。
8. 前記表面実装部品の上面側の温度を測定する温度測定手段と、この温度測定手段により測定された前記表面実装部品の上面側の温度データに基づいて前記表面実装部品の上面側の温度が所定の許容温度域に保持されるように前記駆動手段によって前記照射ユニットの位置調整を行う位置調整手段とを備える請求項７に記載のレーザリフロー装置。

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