JP2008277359A - 角形被処理体のフォトレジストの除去装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】フォトレジスト1bを除去する部分と除去しない部分の境界をに基板1の中央側から縁部側に向かう第1の空気の流れK1と、この第1の空気の流れK1に対向する側縁側からの第2の空気の流れK2と、前記境界線の部分で前記第1の空気の流れK1と第2の空気の流れK2とを合流させて混合させ、この混合流を前記二つの流れに交差して吸引排出される第3の空気の流れK3形成し、第2の空気の流れK2に溶剤を滴下供給し、前記境界線の近傍で溶剤でフォトレジストを溶解し、かつ、溶解物を含んだ第2の空気の流れK2と第1の空気の流れK1を合流して第3の空気の流れK3として排出し角形基板表面のフォトレジストを除去する。
【選択図】図5
Description
図13及び図14は一般的なフォトレジストの除去工程を示しており、図13(イ)は、フォトレジスト30の層が形成された角形の基板(被処理体)31を示している。また、図13(ロ)において除去するフォトレジスト30の部分を枠形に露出させて角形の皿状のシールド32を配置する。なお、このシールド32の内部は正圧に保持されて溶剤の漏れ込みを防止している。
前記第1と第2の空気の流れを合流・混合させて前記スリットに作用する減圧によって吸引排出すること特徴としている。
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る角形被処理体のフォトレジスト除去装置の概要を示す図、図2は基板に溶剤を滴下する状態を示す断面図、そして図3は装置の構成図である。
図8(A)は、基板1の縁側部に沿って溶剤滴下ノズル3より溶剤Sを吐出滴下した状態の平面図を、また、図(B)は、前記図(A)に対応する吸引ノズル2の断面を横向きに示している。
図4は実施している装置の吸引ノズル2の寸法関係を示すもので、下記のような条件を採用することができる。
(イ)フォトレジスト層30の厚さは、2998Å
(ロ)残渣の盛り上がりの高さBは、30000Å以上
(ハ)盛り上がりの幅Cは、100μm
(い)フォトレジスト層30の厚さは、3002Å
(ろ)残渣の盛り上がりの高さXは、411Å
(は)盛り上がりの幅Yは、5μm
(い)/(イ)=1 (ろ)/(ロ)=0.14 (は)/(ハ)=0.05
図11は、本発明の第2の実施の形態に係る角形被処理体のフォトレジスト除去装置の概要を示す図、図12は基板1に溶剤を滴下する箱形吸引ノズル20の断面図を示している。
図17は、図1に示した第1の実施例で使用したフォトレジストの除去装置を改良したものである。図1に示した装置においては溶剤滴下ノズル3を1台の走査機構4に1台設けた装置を示したが、この実施でにおいては1台の走査機構40に対して複数台の溶剤滴下ノズル3,3X,3Y、3Z・・を設けた処理装置41である。
1a 回路形成層
1b フォトレジスト層
2 吸引ノズル
3 溶剤滴下ノズル
3A 針状細菅
4 走査機構
5 固定装置
6、9配管
7 溶剤・薬液供給手段
8 溶剤分離タンク
11 第1本体
12 第2本体
13 スリット
13a 線状の開口部(撹乱部)
13b 帯状面
13c 帯状面
14 空洞部
16 配管
S 溶剤
Sa 液滴
Sb 吸引ノズルより外側の溶剤の部分
Sc 帯状面13bの下になる部分
Sd 第3の空気の流れに同伴する溶剤
1a
1b フォトレジスト
1K 第1の空気の流れ
2K 第2の空気の流れ
3K 第3の空気の流れ
Claims (5)
- フォトレジストを塗布した角形の被処理体の周辺部のフォトレジストを除去する方法において、フォトレジストを除去する部分と除去しない部分の境界線を中心として、前記被処理体の中央側から縁部側に向かう第1の空気の流れと、この第1の空気の流れに対向する側縁側からの第2の空気の流れと、前記境界線の部分で前記第1の空気の流れと第2の空気の流れとを合流させて混合させ、この混合流を前記二つの流れに交差して吸引排出される第3の空気の流れを形成し、前記第2の空気の流れに前記フォトレジストに対する溶剤を供給し、前記境界線の近傍で前記溶剤によって前記フォトレジストを溶解させ、かつ、溶解物を含んだ第2の空気の流れに逆向きに流れる前記第1の空気の流れを対向させて前記境界線付近で合流する前記第3の空気の流れとして排出することを特徴とする角形被処理体のフォトレジスト除去方法。
- フォトレジストを塗布した角形の被処理体の周辺部のフォトレジストを除去する方法において、フォトレジストを除去する部分と除去しない部分の境界線に沿って狭い幅のスリットを有する吸引ノズルを前記被処理体の表面より僅かな間隙をもって保持し、
前記フォトレジストを除去する部分の側より流入する第2の空気の流れに前記フォトレジストに対する溶剤を供給すると共に、除去しない部分の側より対向して薄板状で流れる第1の空気の流れを形成し、前記第2の空気の流れに溶剤によって溶解されたフォトレジストを混入させ、前記境界線部分で前記第1の空気の流れと合流混合させることによって撹乱させながら前記第1と第2の空気の流れに交差する第3の空気の流れとして、前記スリットを通じて吸引排出すること特徴とする角形被処理体のフォトレジスト除去方法。 - 前記吸引ノズルの先端面に、二つの幅の狭い平行する帯状面と、これらの帯状面の間に開口する細長いスリットを有しており、前記被処理体の表面に前記吸引ノズルを小間隙を保持して配置し、前記被処理体の縁部側に位置する小間隙より流入する第2の空気の流れに対して溶剤を供給し、その溶剤の表面張力によって前記被処理体と前記帯状面との間に溶剤の薄膜を形成すると共に、他方の帯状面と被処理体との間に形成される小間隙より第1の空気の流れを通過させ、前記二つの空気の流れに交差するように開口されたスリットの開口部において前記第1と第2の空気の流れを合流混合させて前記スリットに作用する減圧によって吸引排出すること特徴とする角形被処理体のフォトレジスト除去方法。
- フォトレジストを塗布した角形の被処理体の周辺部のフォトレジストを除去する装置において、前記被処理体の表面に接近させて配置する吸引ノズルと、フォトレジストに対する溶剤の供給装置と、この溶剤の供給装置を前記吸引ノズルに沿って移動させる送り装置と、前記吸引ノズルの内部を減圧する真空源を有しており、前記吸引ノズルは、その先端部に狭い幅のスリットと、そのスリットの両側に並行して形成された帯状面とを有していること特徴とする角形被処理体のフォトレジスト除去装置。
- フォトレジストを塗布した角形の被処理体の周辺部のフォトレジストを除去する装置において、前記被処理体の表面に接近させて配置する長い吸引ノズルと、この吸引ノズルに平行してスリット状に開口されたフォトレジストに対する溶剤の供給装置と、この溶剤の供給装置に対して溶剤を少量ずつ供給する溶剤ノズルと、この溶剤ノズルを前記吸引ノズルに沿って移動させる送り装置と、前記吸引ノズルの内部を減圧する真空源を有しており、前記吸引ノズルは、その先端部に狭い幅のスリットと、このスリットに並行して配置された帯状面を有し、この帯状面を通過して対向して流れる空気の流れを前記スリット内に減圧のよって吸引して排出するように構成されていることを特徴とする角形被処理体のフォトレジスト除去装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2008277359A true JP2008277359A (ja) | 2008-11-13 |
JP5068577B2 JP5068577B2 (ja) | 2012-11-07 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2007116263A Active JP5068577B2 (ja) | 2007-04-25 | 2007-04-25 | 角形被処理体のフォトレジストの除去装置 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017092445A (ja) * | 2015-11-11 | 2017-05-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜除去装置、塗布膜除去方法及び記憶媒体 |
KR20180114807A (ko) * | 2017-04-11 | 2018-10-19 | 비스에라 테크놀러지스 컴퍼니 리미티드 | 정렬 마크로부터 포토레지스트 층을 제거하는 장치 및 방법 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6049949U (ja) * | 1983-09-12 | 1985-04-08 | 富士写真フイルム株式会社 | 吸引ノズル |
JPH07299410A (ja) * | 1995-01-30 | 1995-11-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布層縁部の吸引処理を行う吸引ノズル |
JPH10209143A (ja) * | 1997-01-24 | 1998-08-07 | Tokyo Electron Ltd | 基板端面の洗浄方法および洗浄装置 |
JPH1154424A (ja) * | 1997-08-01 | 1999-02-26 | Tokyo Electron Ltd | 基板縁部の薄膜除去装置 |
JP2002066430A (ja) * | 2000-08-28 | 2002-03-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布液吸引装置 |
JP2002110501A (ja) * | 2000-09-26 | 2002-04-12 | Toppan Printing Co Ltd | レジストビード除去方法及び除去装置 |
JP2002282765A (ja) * | 2001-03-28 | 2002-10-02 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 塗布液の除去方法及び塗布液の除去装置 |
JP2005161155A (ja) * | 2003-12-01 | 2005-06-23 | Tatsumo Kk | 基板端縁部洗浄処理装置 |
-
2007
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6049949U (ja) * | 1983-09-12 | 1985-04-08 | 富士写真フイルム株式会社 | 吸引ノズル |
JPH07299410A (ja) * | 1995-01-30 | 1995-11-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布層縁部の吸引処理を行う吸引ノズル |
JPH10209143A (ja) * | 1997-01-24 | 1998-08-07 | Tokyo Electron Ltd | 基板端面の洗浄方法および洗浄装置 |
JPH1154424A (ja) * | 1997-08-01 | 1999-02-26 | Tokyo Electron Ltd | 基板縁部の薄膜除去装置 |
JP2002066430A (ja) * | 2000-08-28 | 2002-03-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布液吸引装置 |
JP2002110501A (ja) * | 2000-09-26 | 2002-04-12 | Toppan Printing Co Ltd | レジストビード除去方法及び除去装置 |
JP2002282765A (ja) * | 2001-03-28 | 2002-10-02 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 塗布液の除去方法及び塗布液の除去装置 |
JP2005161155A (ja) * | 2003-12-01 | 2005-06-23 | Tatsumo Kk | 基板端縁部洗浄処理装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017092445A (ja) * | 2015-11-11 | 2017-05-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜除去装置、塗布膜除去方法及び記憶媒体 |
KR20180114807A (ko) * | 2017-04-11 | 2018-10-19 | 비스에라 테크놀러지스 컴퍼니 리미티드 | 정렬 마크로부터 포토레지스트 층을 제거하는 장치 및 방법 |
JP2018182277A (ja) * | 2017-04-11 | 2018-11-15 | 采▲ぎょく▼科技股▲ふん▼有限公司VisEra Technologies Company Limited | アライメントマークからフォトレジスト層を除去する装置および方法 |
KR101997711B1 (ko) * | 2017-04-11 | 2019-07-09 | 비스에라 테크놀러지스 컴퍼니 리미티드 | 정렬 마크로부터 포토레지스트 층을 제거하는 장치 및 방법 |
US11747742B2 (en) | 2017-04-11 | 2023-09-05 | Visera Technologies Company Limited | Apparatus and method for removing photoresist layer from alignment mark |
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