JP2008277066A - 導電性ペースト、導電性ペースト乾燥膜及びそれを用いた積層セラミックコンデンサ - Google Patents
導電性ペースト、導電性ペースト乾燥膜及びそれを用いた積層セラミックコンデンサ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008277066A JP2008277066A JP2007118040A JP2007118040A JP2008277066A JP 2008277066 A JP2008277066 A JP 2008277066A JP 2007118040 A JP2007118040 A JP 2007118040A JP 2007118040 A JP2007118040 A JP 2007118040A JP 2008277066 A JP2008277066 A JP 2008277066A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductive paste
- less
- nickel
- powder
- dry film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Conductive Materials (AREA)
- Ceramic Capacitors (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
内部電極用導電性ペーストの乾燥膜における最大突起高さが1.0μm以下で、かつ焼成膜厚が1.0μm程度で緻密かつ連続性の優れた電極膜の形成を可能とする導電性ニッケルペースト及びそれを用いた積層セラミックコンデンサを提供する。
【解決手段】
本発明に係る導電性ペーストは、炭素成分の含有質量比率が0.06%以下で平均粒径が0.20μm未満のニッケル粉末と、平均粒径が0.10μm未満のセラミック粉末を少なくとも含有することを特徴とする。
【選択図】 なし
Description
このため、例えば、内部電極用ニッケルペーストには、少なくとも誘電体層の焼結・収縮を開始する温度付近まで焼結・収縮を制御するために、一般に、誘電体層の組成に類似したチタン酸バリウム系あるいはジルコン酸ストロンチウム系などのペロブスカイト型酸化物を主成分とするセラミック粉末を添加することにより、ニッケル粉末の焼結挙動を制御し、内部電極層と誘電体層の焼結収縮挙動のミスマッチをコントロールしている。
1)内部電極用ニッケルペーストの乾燥膜が高い乾燥膜密度を有すること、
2)内部電極用ニッケルペーストの乾燥膜には誘電体グリーンシートを貫通するような突起物がないこと、
3)薄く印刷塗布された内部電極用ニッケルペーストを焼成した後に、電極膜が途切れず、有効電極面積が高いこと、
である。
即ち、少ない金属塗布量で高密度の内部電極を形成し、薄層化と目標容量値を同時に実現するためには、内部電極用ペーストの乾燥時に、どれだけ単位体積(あるいはスクリーン印刷単位面積)当たりの導電性粒子の充填密度(乾燥膜密度)を上げられるかが大きな課題となる。
即ち、誘電体層グリーンシートの厚みが内部電極用ニッケルペーストの乾燥膜中の突起物高さより薄い場合、突起物がセラミックグリーンシートを貫き、電極膜間でショートし、コンデンサの信頼性や歩留まりなどを低下させる問題が生じてしまう。
また、特許文献2には、電極膜厚を0.7μm以下の範囲が開示されているが、この範囲を超える電極膜厚が0.8μmでは、セラミック層の厚みが3μm以下になるとデラミネーションが頻発するという問題がある。
更には、特許文献3には、電極膜厚の最大寸法が4.0μm以下、最小寸法が0.2μm以上の範囲で静電容量のばらつきも小さく、デラミネーションの発生が抑えられるとの開示がなされているが、該特許文献3に係る発明では電極膜の薄層化には不適切である。
また、本発明に係る他の導電性ペーストは、炭素成分の含有質量比率が0.06%以下で平均粒径が0.20μm未満のニッケル粉末と、平均粒径が0.10μm未満のセラミック粉末と、バインダー樹脂と、有機溶剤を少なくとも含有することを特徴とし、更に、前記セラミック粉末の含有率が前記ニッケル粉末100質量部に対して10〜25質量部であることを特徴とするものである。
更に、本発明に係る他の導電性ペーストは、液相法又は気相法により製造されたニッケル粉末の中から炭素成分の含有質量比率が0.06%以下で平均粒径が0.20μm未満の条件で選別したニッケル粉末と、平均粒径が0.10μm未満のセラミック粉末を少なくとも含有することを特徴とするものである。
更に、本発明に係る他の導電性ペースト乾燥膜は、上記記載の導電性ペーストを印刷し、乾燥して得られる乾燥膜の最大突起高さが1.0μm以下であることを特徴とするものである。
本発明において、突起高さが低く、焼成後に緻密な薄層化対応可能な電極膜を得るためには、ニッケル粉末は平均粒径0.2μm未満が望ましく、より望ましくは0.1μm以上0.2μm未満の微粉末を用いるのが良い。ニッケル粉末の粒径が0.2μmを超えると後述する最大突起高さが1.0μmを超えてしまうことが多くなるため好ましくない。より詳細には、ニッケル粉末は凝集により粗大粒子が生じることがあり、ニッケル粉末の粒径が0.2μmを超えると、粗大粒子の粒径(D100)が1.3μmを超えてしまい、この存在が突起部分の発生の問題に大きく寄与するからである。
このように、最大突起高さが1.0μmを超えると、誘電体層厚1.0μm以下のMLCCを製造した場合、電極間でショートし、コンデンサの信頼性や歩留まりなどを低下させてしまう。
ここで、本発明におけるニッケル粉末の粒径は、特に断らない限り比表面積をBET法に基づいて算出した粒径である。算出式は以下のとおりである。
粒径=6/S.A×ρ。(ρ=8.9(Niの真密度)、S.A=Ni粉の比表面積)
また、ニッケル粉末の粒径を0.2μm未満とする理由としては、焼成膜厚0.8〜1.0μmで50%以上の有効電極面積の電極膜を形成するのに必須だからである。粒径0.2μmを超えたニッケル粉末で焼成膜厚0.8〜1.0μmとなるような電極膜を形成しようとすると、ニッケル粉末の粒径に対し、乾燥膜を薄くする必要があり、乾燥膜でニッケル粉末粒子の充填が不十分となり、所望の乾燥膜密度が確保できず、結果的に、電極膜の有効電極面積が確保できない。つまり、ニッケル粉末の粒径が0.2μmを超えると、電極膜が途切れてしまい、MLCCの容量を低下させるのである。なお、有効電極面積については後述する。
例えば、ニッケル塩水溶液を還元剤により還元し、ニッケル粉末を析出させる液相還元法では、得られる粉末の粒径制御、凝集防止等の目的で反応溶液中に界面活性剤等の有機分散剤を添加して合成するが、この際、添加された有機物が反応により生成したニッケル粉末内部の粒界に残留することがある。
従って、反応溶液中の界面活性剤等の有機分散剤添加量が、ニッケル粉末中の炭素含有量に大きく影響を与えることとなる。
また、ニッケルカルボニル塩の熱分解、ニッケルアルコシキシドの還元、塩化ニッケルの還元などによりニッケル粉末を製造する気相法では、出発原料に含まれる炭素および炭素起因となる不純物がニッケル粉末中の炭素含有量に大きく影響を与えることとなる。
さらに、原理を異にする他のニッケル粉末の製造方法においても、生産されるニッケル粉末の炭素含有量については一様ではない。
以上より、本発明は、従来管理対象外であった、ニッケル粉末中の炭素成分の含有質量比率が非常に低いニッケル粉末を選別使用することで、高品質のペーストを製造し得ることを見出してなされたものである。
なお、ニッケル粉末に含まれる炭素量の分析は、高周波燃焼赤外吸収波法(測定器はLECO製EC−12もしくは堀場製EMIA−U511)で測定している。
ここで、ニッケル粉末中の炭素成分の含有質量比率は、0.06%以下が望ましく、より望ましくは0.04%以下が良い。ニッケル粉末中の炭素成分の含有質量比率が0.06%を超えると、乾燥膜密度の低下につながるので好ましくない。また、ニッケル粉末中の炭素成分の含有質量比率と乾燥膜密度が関係する理由は詳細にはわからないが、ニッケル粉末中の炭素成分の含有質量比率が0.06%以下であれば、所望の乾燥膜密度が実現でき、結果的に所望の膜厚で、所望の有効電極面積を確保した電極膜が形成できる。一方、ニッケル粉末中の炭素成分の含有質量比率が0.06%を超えると電極膜中に炭素が過剰に残留し、この残留炭素が原因となり焼成後の電気特性(例えば、静電容量、誘電損失、絶縁破壊電圧など)を悪化させるため好ましくない。
本発明において、導電性ペーストに添加されるセラミック粉末は、通常ペロブスカイト型酸化物であるBaTiO3などや、これに種々の添加物を添加したから選択することができる。また、MLCC用の誘電体層グリーンシートの主成分として使用されるセラミック粉末と同組成、あるいは類似の組成であっても好ましい。
また、セラミック粉末の粒径が0.1μmを超えると乾燥膜密度が低下する。乾燥膜では、略球状のニッケル粉末粒子が積み重なって形成される隙間にセラミック粉末が充填されるが、該セラミック粉末の粒径が0.1μmを超えると、略球状のニッケル粉末粒子の隙間に収まりきらず、セラミック粉末が存在することでニッケル粉末粒子の充填を阻害し、結果的に所望の乾燥膜密度を得られない問題が生ずるからである。
さらに、セラミック粉末の粒径が0.1μmを超えると、上述の乾燥膜密度の低下やセラミック粉末の凝集粉末を起因に最大突起高さが1.0μm以上となり、誘電体層の薄層化が困難となり、また、コンデンサの信頼性(絶縁抵抗の低下やショート率の上昇など)が悪化するという問題が発生する。
本発明では、ニッケル粉末の粒径が0.2μm未満であることから、従来の粒径0.2μmを超えたニッケル粉末の導電性ペーストよりもデラミネーションが発生しやすい。本発明のニッケル粉末のデラミネーションを制御するためにも、セラミック粉末の粒径は0.1μm未満である必要がある。
導電性ペーストの有機溶剤には、樹脂成分を溶解するとともに、導電性金属粉末などの無機成分をペースト中で安定に分散させる機能をもつ成分であるが、電子部品のグリーンシートや回路基板などへ塗布(印刷)したとき、これら粉末を均一に展延させ、焼成時までには大気中に逸散する必要がある。
通常、導電性ペーストをスクリーン印刷によりグリーンシート等に塗布し、例えば加熱乾燥して溶剤を除去し、所定のパターンの内部電極ペースト乾燥膜を形成する。このとき、スクリーンパターンの厚みを変更することによって、所定の導電性ペースト膜の厚みを作製する。
なお、乾燥膜密度の測定方法は、例えば以下の方法で測定することができる。NiペーストをPETフィルム上に5×10cmの面積で膜厚30μmとなるように印刷後、120℃で40分間、空気中で乾燥させる。乾燥したNiペースト乾燥膜を1×1cmに切断し、厚みと質量を測定して、乾燥膜密度を算出する。
乾燥膜密度の測定はPETフィルム上に導電性ペーストを印刷して行うが、本発明の導電性ペーストを誘電体層グリーンシートに印刷しても同様の特性が発揮されるのはもちろんである。
ここで、乾燥膜密度とは、導電性ペーストを乾燥させた後の密度のことである。
なお、最大突起高さの測定方法はたとえば以下の方法がある。アプリケーター(ギャップ厚5μm)を用いてガラス基板上にNiペーストを塗布後、120℃で5分間、空気中で乾燥させ、膜厚約3μmの乾燥膜を得る。次いで、乾燥膜について、光学的な方法、つまり位相シフト干渉方式により表面の突起を測定する。具体的には、特定波長領域に限定された光源から光を、試料およびリファレンス鏡に照射し、試料およびリファレンス鏡に照射した光の干渉縞により表面状態を観察する。さらに言えば、試料を1/4波長ごとに光が照射される方向に移動させて光の干渉縞から表面状態を観察する。たとえば、光干渉式表面形状測定装置(WYCO製NT−1100)を用いて、乾燥膜の最大突起高さを測定することができる。
最大突起高さの測定は、ガラス基板に本発明の導電性ペーストを塗布して行うが、誘電体層グリーンシートに本発明の導電性ペーストを印刷しても同様の特性が発揮されるのはもちろんである。
ここで、最大突起高さとは、任意の測定面積における輪郭曲線の山高さの最大値と谷深さの最大値の和、すなわちRmax値ではなく、任意の測定面積における輪郭曲線の山高さの最大値を示す値である。
導電性ペースト乾燥膜が形成されたグリーンシートを所定の枚数積み重ね、加圧積層し、所定の形状に切断後、不活性雰囲気下または若干の酸素を含む不活性雰囲気中で脱バインダーを行い、還元雰囲気中で1100〜1300℃の高温で焼成して内部電極と誘電体を同時焼結させる。
焼成膜厚が0.8μm未満では、電極膜の連続性が悪くなり、MLCCの所望の電気特性(容量、絶縁破壊電圧等)を確保することができなくなり、さらにはMLCCの信頼性や歩留まりなどを低下させる。一方、膜厚が1.0μmを超えると、MLCCの小型・大容量化の要求に応えられない。そのため、小型・大容量のMLCCを所望の特性や信頼性を維持して実現するには、電極膜の膜厚は0.8〜1.0μmとなる。
なお、ニッケル有効電極面積の測定方法は例えば次の方法がある。スクリーン印刷を用いてアルミナ基板上に焼成膜厚が0.8μmになるように印刷し、乾燥後、不活性雰囲気下で焼成した後の電極膜を画像解析してニッケルの被覆面積の割合をニッケル有効電極面積とする。
具体的には、画像解析は電極膜を光学顕微鏡で観察した画像をコンピュータが識別しやすいようにコントラストを強調する画像処理と視野内のニッケル被覆面積を測定、解析する手段を備えている。例えば、LUZEX(登録商標)という画像処理解析システムを用いることで、本発明の導電膜のニッケル有効面積を求めることができる。
なお、ニッケル有効電極面積の評価はアルミナ基板に導電性ペーストを印刷して行っているが、前述の誘電体層グリーンシートに印刷、乾燥、焼成しても導電性ペーストの所望の特性はもちろん発揮されるものである。
ここで、有効電極面積とは、電極膜を形成するように導電性ペーストを印刷、乾燥、焼成した後の電極膜における電極となるニッケル(金属)の被覆面積率である。
以下、本発明を、実施例、比較例に基づいて、種々のニッケル粉末粒径とセラミック粉末粒径を組み合わせたときの品質への影響を確認したデータ(表1)と、ニッケル粉末中の炭素成分の含有質量比率を変化させたときの品質への影響を確認したデータ(表2)と共に詳細に説明する。なお、本発明の実施例によって請求項に記載した本発明の技術的範囲は何ら限定されるものではない。
(1)ペーストの製造
ペーストの組成は、Ni粉末(粒径=0.4μm、0.2μm、0.17μm、0.13μm)が47質量%、セラミック粉末(粒径=0.2μm、0.1μm、0.08μm、0.05μm、0.02μm)が10.8質量%、ビヒクルA 42.2質量%である。ビヒクルAは、樹脂成分としてエチルセルロース(分子量70000)が9質量%、有機溶剤としてターピネオール91質量%からなり加熱(60℃)して作製したビヒクルとした。ニッケル粉末は液相還元法で作成し、反応溶液中に添加する界面活性剤等の有機分散剤の量を増減させて、種々の炭素含有量のものを得た中から、Ni粉中の炭素成分の含有質量比率が0.04%と0.06%のものを選択した。
(2)積層セラミックコンデンサの製造
上述のように製造した導電性ペーストを用いてMLCCを作製し、電気特性としてショート率を評価した。評価法は後述する。
アプリケーター(ギャップ厚5μm)を用いてガラス基板上にNiペーストを塗布後、120℃で5分間、空気中で乾燥させ、膜厚約3μmの乾燥膜を得る。次いで、乾燥膜について、光学的な方法、光干渉式表面形状測定装置(WYCO製NT−1100)を用いて、乾燥膜の最大突起高さを測定した。測定数は3箇所とし、それらのうち最も高い突起の高さを最大突起高さとした。
(4)乾燥膜密度の測定
乾燥膜密度の測定は、ペーストをPETフィルム上に5×10cmの面積で膜厚30μmとなるように印刷後、120℃で40分間、空気中で乾燥させる。乾燥したNiペースト乾燥膜を1×1cmに切断し、厚みと質量を測定して、乾燥膜密度を算出した。測定数は30箇所であり、得られた膜密度の平均値をその導電性ペーストの膜密度とした。
乾燥膜密度=(試料の質量)/(試料の面積×厚み)
(5)有効電極面積
ペーストをスクリーン印刷法によりアルミナ基板上に焼成膜厚が0.8μmになるように印刷し、乾燥後、不活性雰囲気下で焼成した後の電極膜を画像解析装置(LUZEXIII)でニッケルの被覆面積の割合を測定し、有効電極面積とした。
(6)積層MLCCの作製
上述のように製造した導電性ペーストを用いてMLCCを作製し、電気特性としてショート率を評価した。評価法は以下の通りである。
厚さ3.0μmの生の誘電体グリーンシート上に導電性ペーストを印刷、乾燥後に、10層積み重ねて圧着、切断し、3.2×1.6mmサイズのチップを作製した。このチップを脱バインダー後に、弱還元雰囲気下にて1240℃で焼成した。焼成後チップに端子電極を塗布し、積層セラミックコンデンサを20個作製した。その積層セラミックコンデンサのショート不良の発生個数をQメータにより調べて不良発生率を求めた。ショート率は5%以下が必要である。なお、チップ焼成後の内部電極厚は0.8μmであり、誘電体層厚は2.0μmである。
Claims (7)
- 炭素成分の含有質量比率が0.06%以下で平均粒径が0.20μm未満のニッケル粉末と、平均粒径が0.10μm未満のセラミック粉末を少なくとも含有することを特徴とする導電性ペースト。
- 炭素成分の含有質量比率が0.06%以下で平均粒径が0.20μm未満のニッケル粉末と、平均粒径が0.10μm未満のセラミック粉末と、バインダー樹脂と、有機溶剤を少なくとも含有することを特徴とする導電性ペースト。
- 前記セラミック粉末の含有率が前記ニッケル粉末100質量部に対して10〜25質量部であることを特徴とする請求項1又は2に記載の導電性ペースト。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の導電性ペーストを印刷し、乾燥して得られる乾燥膜の乾燥膜密度が5.5g/cc以上であることを特徴とする導電性ペースト乾燥膜。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の導電性ペーストを印刷し、乾燥して得られる乾燥膜の最大突起高さが1.0μm以下であることを特徴とする導電性ペースト乾燥膜。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の導電性ペーストを誘電体グリーンシートに印刷、乾燥、焼成して得られる導電性ペースト電極膜が膜厚0.8〜1.0μmでニッケル有効電極面積50%以上であることを特徴とする導電性ペースト焼成膜。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の導電性ペーストを誘電体グリーンシートに印刷、乾燥、焼成して得られる導電性ペースト電極膜が膜厚0.8〜1.0μmでニッケル有効電極面積50%以上であり、且つ前記誘電体グリーンシートが焼成されて得られる誘電体層の厚みが2μm以下であることを特徴とする積層セラミックコンデンサ。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007118040A JP4947418B2 (ja) | 2007-04-27 | 2007-04-27 | 導電性ペースト、導電性ペースト乾燥膜及びそれを用いた積層セラミックコンデンサ |
CN2008100929474A CN101295582B (zh) | 2007-04-27 | 2008-04-18 | 导电性糊、导电性糊干燥膜及采用它的多层陶瓷电容器 |
TW97114493A TW200915351A (en) | 2007-04-27 | 2008-04-21 | Conductive paste, conductive paste drying film and multilayer ceramic capacitor employing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007118040A JP4947418B2 (ja) | 2007-04-27 | 2007-04-27 | 導電性ペースト、導電性ペースト乾燥膜及びそれを用いた積層セラミックコンデンサ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008277066A true JP2008277066A (ja) | 2008-11-13 |
JP4947418B2 JP4947418B2 (ja) | 2012-06-06 |
Family
ID=40054795
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007118040A Active JP4947418B2 (ja) | 2007-04-27 | 2007-04-27 | 導電性ペースト、導電性ペースト乾燥膜及びそれを用いた積層セラミックコンデンサ |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4947418B2 (ja) |
CN (1) | CN101295582B (ja) |
TW (1) | TW200915351A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012129181A (ja) * | 2010-12-15 | 2012-07-05 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | 内部電極用導電性ペースト組成物、それを用いた積層セラミック電子部品及びその製造方法 |
KR20130136247A (ko) | 2012-06-04 | 2013-12-12 | 삼성전기주식회사 | 적층 세라믹 부품 |
US9183987B2 (en) | 2012-06-05 | 2015-11-10 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Multilayered ceramic component |
WO2016017463A1 (ja) * | 2014-07-31 | 2016-02-04 | 住友金属鉱山株式会社 | 積層セラミックコンデンサ内部電極用ペースト、及び積層セラミックコンデンサ |
CN110197767A (zh) * | 2018-02-26 | 2019-09-03 | 太阳诱电株式会社 | 层叠陶瓷电容器和层叠陶瓷电容器的制造方法 |
CN111788650A (zh) * | 2018-01-30 | 2020-10-16 | 泰科纳等离子系统有限公司 | 用作多层陶瓷电容器中的电极材料的金属粉末及其制造和使用方法 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101850869B1 (ko) * | 2013-09-17 | 2018-04-23 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 도전성 페이스트의 제조 방법 |
CN113272919A (zh) * | 2019-01-08 | 2021-08-17 | 住友金属矿山株式会社 | 层叠陶瓷电容器用镍糊料 |
CN114920556B (zh) * | 2022-06-09 | 2022-11-29 | 潮州三环(集团)股份有限公司 | 一种陶瓷浆料及其制备的多层陶瓷电容器 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001284161A (ja) * | 2000-03-30 | 2001-10-12 | Tdk Corp | ニッケル粉末、電極用ペーストおよび電子部品の製造方法 |
JP2005071714A (ja) * | 2003-08-21 | 2005-03-17 | Murata Mfg Co Ltd | 導電性ペーストおよび積層セラミック電子部品 |
JP2005203213A (ja) * | 2004-01-15 | 2005-07-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 導電性ペーストおよびこれを用いた積層セラミック電子部品 |
WO2006062186A1 (ja) * | 2004-12-10 | 2006-06-15 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | ニッケル粉及びその製造方法並びに導電性ペースト |
-
2007
- 2007-04-27 JP JP2007118040A patent/JP4947418B2/ja active Active
-
2008
- 2008-04-18 CN CN2008100929474A patent/CN101295582B/zh active Active
- 2008-04-21 TW TW97114493A patent/TW200915351A/zh unknown
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001284161A (ja) * | 2000-03-30 | 2001-10-12 | Tdk Corp | ニッケル粉末、電極用ペーストおよび電子部品の製造方法 |
JP2005071714A (ja) * | 2003-08-21 | 2005-03-17 | Murata Mfg Co Ltd | 導電性ペーストおよび積層セラミック電子部品 |
JP2005203213A (ja) * | 2004-01-15 | 2005-07-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 導電性ペーストおよびこれを用いた積層セラミック電子部品 |
WO2006062186A1 (ja) * | 2004-12-10 | 2006-06-15 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | ニッケル粉及びその製造方法並びに導電性ペースト |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012129181A (ja) * | 2010-12-15 | 2012-07-05 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | 内部電極用導電性ペースト組成物、それを用いた積層セラミック電子部品及びその製造方法 |
KR20130136247A (ko) | 2012-06-04 | 2013-12-12 | 삼성전기주식회사 | 적층 세라믹 부품 |
US9183987B2 (en) | 2012-06-05 | 2015-11-10 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Multilayered ceramic component |
WO2016017463A1 (ja) * | 2014-07-31 | 2016-02-04 | 住友金属鉱山株式会社 | 積層セラミックコンデンサ内部電極用ペースト、及び積層セラミックコンデンサ |
JP2016033998A (ja) * | 2014-07-31 | 2016-03-10 | 住友金属鉱山株式会社 | 積層セラミックコンデンサ内部電極用ペースト、及び積層セラミックコンデンサ |
KR20170037988A (ko) * | 2014-07-31 | 2017-04-05 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | 적층 세라믹 콘덴서 내부 전극용 페이스트 및 적층 세라믹 콘덴서 |
CN106575574A (zh) * | 2014-07-31 | 2017-04-19 | 住友金属矿山股份有限公司 | 叠层陶瓷电容器内部电极用膏体及叠层陶瓷电容器 |
KR102241054B1 (ko) * | 2014-07-31 | 2021-04-16 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | 적층 세라믹 콘덴서 내부 전극용 페이스트 및 적층 세라믹 콘덴서 |
CN111788650A (zh) * | 2018-01-30 | 2020-10-16 | 泰科纳等离子系统有限公司 | 用作多层陶瓷电容器中的电极材料的金属粉末及其制造和使用方法 |
CN110197767A (zh) * | 2018-02-26 | 2019-09-03 | 太阳诱电株式会社 | 层叠陶瓷电容器和层叠陶瓷电容器的制造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200915351A (en) | 2009-04-01 |
CN101295582A (zh) | 2008-10-29 |
JP4947418B2 (ja) | 2012-06-06 |
CN101295582B (zh) | 2012-10-24 |
TWI374454B (ja) | 2012-10-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4947418B2 (ja) | 導電性ペースト、導電性ペースト乾燥膜及びそれを用いた積層セラミックコンデンサ | |
JP5157799B2 (ja) | 導電性ペースト、並びにこの導電性ペーストを用いた乾燥膜及び積層セラミックコンデンサ | |
JP5569747B2 (ja) | 積層セラミックコンデンサ内部電極に用いられるグラビア印刷用導電性ペースト | |
JP2012174797A5 (ja) | ||
JP6447903B2 (ja) | 積層セラミック電子部品用導電性ペーストの製造方法及びこの導電性ペーストを用いた積層セラミック電子部品の製造方法、並びにこの方法による積層セラミックコンデンサの製造方法 | |
CN104246911A (zh) | 导电性糊剂、层叠陶瓷电子部件、及该层叠陶瓷电子部件的制造方法 | |
US20200243263A1 (en) | Capacitor component and method for manufacturing the same | |
JP2003257776A (ja) | 導電性ペーストおよび積層セラミック電子部品 | |
JPWO2004063119A1 (ja) | 誘電体磁器組成物、電子部品およびこれらの製造方法 | |
WO2020166361A1 (ja) | 導電性ペースト、電子部品及び積層セラミックコンデンサ | |
TWI810336B (zh) | 導電性漿料、電子零件以及積層陶瓷電容器 | |
KR20210109531A (ko) | 적층 세라믹 콘덴서용 니켈 페이스트 | |
JP4826881B2 (ja) | 導電性ペースト、及び積層セラミック電子部品の製造方法、並びに積層セラミック電子部品 | |
JP2003115416A (ja) | 導電性ペースト、積層セラミック電子部品の製造方法および積層セラミック電子部品 | |
TWI734769B (zh) | 導體形成用糊及積層陶瓷電容器 | |
JP6809280B2 (ja) | 導電性ペーストの製造方法 | |
JP2003317542A (ja) | 導電性ペーストおよび積層セラミック電子部品 | |
JP5184333B2 (ja) | 誘電体セラミックス材料の製造方法 | |
JPH07197103A (ja) | 金属粉末表面への金属化合物被覆方法 | |
JP2016192477A (ja) | 積層セラミック電子部品 | |
TWI795509B (zh) | 積層陶瓷電容器用鎳糊料 | |
JP2023072900A (ja) | 導電性ペーストおよびその製造方法 | |
JP2005071714A (ja) | 導電性ペーストおよび積層セラミック電子部品 | |
JP2023070182A (ja) | ニッケルペーストおよび導体用膜 | |
JP4653971B2 (ja) | 内部電極用ニッケル含有ペースト |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091007 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110216 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110224 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110405 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120210 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120223 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150316 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4947418 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |