JP2008255383A - 堆積膜形成装置および堆積膜形成方法 - Google Patents
堆積膜形成装置および堆積膜形成方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】本発明は、成膜対象となる円筒状基体10を収容するための成膜室23と、円筒状基体10に対して、その内周面から熱エネルギを付与するための熱エネルギ発生手段25と、グロー放電によりプラズマを生成させるとともに円筒状基体10の外周面から熱エネルギを付与するためのプラズマ生成手段30と、を備えた堆積膜形成装置2に関する。熱エネルギ発生手段25が円筒状基体10に付与する熱エネルギは、プラズマ生成手段30が円筒状基体10に付与する熱エネルギよりも小さい。
【選択図】図2
Description
画像特性は、電子写真感光体を電子写真プリンタ(「FS−1550」:京セラ株式会社製)に搭載して30万枚の耐刷実験を行うことにより評価した。画質は、実質的に画像濃度ムラが認められなかった場合を「◎」、実用上充分に許容し得る程度の画像濃度ムラが認められた場合を「○」、実用上許容し得る程度の画像濃度ムラが認められた場合を「△」、実用上支障がある程度の画像濃度ムラが認められた場合を「×」として評価した。耐久性は、30万枚の耐刷後における画質として評価した。画像特性の評価結果については、上記表2に示した。
電子写真感光体は、円筒状基体の外周面に、キャリア注入阻止層、光導電層および表面層を成膜することにより形成した。円筒状基体としては、アルミニウム合金から成る外径30mm、内径27.1mm、長さ254mmの引き抜き管にインロー部を形成した後に外周面を鏡面加工し、洗浄したものを用いた。インロー部は、内径27.5mm、深さ11mmに形成した。キャリア注入阻止層、光導電層および表面層は、円筒状基体を図2に示したプラズマCVD装置2にセットして、下記表3ないし表5に示す成膜条件により作製した。なお、電源としては、パルス状DC電源、RF電源、またはDC電源を用いた。
プラズマ加熱温度と加熱体による円筒状基体の内周面からの加熱温度は、プラズマCVD装置に円筒状基体をセットした状態で、円筒状基体の外周面において、軸方向の中央部および端部(インロー部に対応する部分)のそれぞれに熱電対を配置して測定した。
円筒度は、成膜後の円筒状基体における軸方向の端部について、JIS B 0182に準拠して測定した。円筒度の評価結果については、表6に示した。円筒度の測定範囲は、端面から20mmまでの部位とした。
画質は、種々の条件で成膜した電子写真感光体A〜Qのそれぞれを、電子写真プリンタ(「FS−1550」:京セラ株式会社製)に搭載して印刷を行うことにより評価した。画質は、電子写真感光体A〜Qの端部(インロー部が形成されている部分)に対応する部分の画像において、画像濃度ムラの発生が認められるか否かにより評価した。画質は、実質的に画像濃度ムラが認められなかった場合を「◎」、実用上充分に許容し得る程度の画像濃度ムラが認められた場合を「○」、実用上許容し得る程度の画像濃度ムラが認められた場合を「△」、実用上支障がある程度の画像濃度ムラが認められた場合を「×」として評価した。画質の評価結果については、表6に示した。
11 インロー部
2,2′ プラズマCVD装置(堆積膜形成装置)
23 真空室(真空成膜室)
25 加熱体(熱エネルギ発生手段)
30 電源(プラズマ生成手段)
Claims (15)
- 成膜対象となる円筒状基体を収容するための成膜室と、
前記円筒状基体に対して、その内周面から熱エネルギを付与するための熱エネルギ発生手段と、
グロー放電によりプラズマを生成させるとともに前記円筒状基体の外周面から熱エネルギを付与するためのプラズマ生成手段と、
を備えた堆積膜形成装置であって、
前記熱エネルギ発生手段が前記円筒状基体に付与する熱エネルギは、前記プラズマ生成手段が前記円筒状基体に付与する熱エネルギよりも小さいことを特徴とする、堆積膜形成装置。 - 堆積膜形成時において、前記熱エネルギ発生手段のみによる前記円筒状基体の加熱温度は、140℃以下であり、前記円筒状基体の外周面の温度は、240℃以上400℃以下である、請求項1に記載の堆積膜形成装置。
- 堆積膜形成時において、前記円筒状基体の外周面の温度と前記熱エネルギ発生手段のみによる前記円筒状基体の加熱温度との温度差は、100℃以上である、請求項1または2に記載の堆積膜形成装置。
- 前記熱エネルギ発生手段は、抵抗発熱または電磁誘導発熱により前記円筒状基体を加熱するものである、請求項1ないし3のいずれかに記載の堆積膜形成装置。
- 堆積膜形成前においては、前記熱エネルギ発生手段により前記円筒状基体の内周面からの加熱を行い、
堆積膜形成時においては、前記プラズマ生成手段のみにより前記円筒状基体の加熱を行うように構成されている、請求項1ないし4のいずれかに記載の堆積膜形成装置。 - 成膜対象となる円筒状基体を収容するための成膜室と、
グロー放電によりプラズマを生成させるとともに前記円筒状基体の外周面から熱エネルギを付与するためのプラズマ生成手段と、
を備えた堆積膜形成装置であって、
前記プラズマ生成手段のみにより、前記円筒状基体を加熱するように構成されていることを特徴とする、堆積膜形成装置。 - 堆積膜形成時において、前記円筒状基体の外周面の温度は、240℃以上400℃以下である、請求項6に記載の堆積膜形成装置。
堆積膜形成装置。 - 前記プラズマ生成手段は、直流電源またはパルス状直流電源を含んでいる、請求項1ないし7のいずれかに記載の堆積膜形成装置。
- 前記円筒状基体は、端部に設けられ、かつ前記円筒状基体の軸方向における中央部よりも内径が大きいインロー部を有している、請求項1ないし8のいずれかに記載の堆積膜形成装置。
- 成膜室において、グロー放電プラズマを利用して円筒状基体に対して堆積膜を形成する方法であって、
前記円筒状基体の内周面から付与される熱エネルギを、前記グロー放電プラズマにより前記円筒状基体の外周面から付与される熱エネルギに比べて小さくして堆積膜を形成することを特徴とする、堆積膜形成方法。 - 堆積膜形成時において、前記円筒状基体の内周面からの前記円筒状基体の加熱温度は、140℃以下であり、前記円筒状基体の外周面の温度は、240℃以上400℃以下である、請求項10に記載の堆積膜形成方法。
- 堆積膜形成時において、前記円筒状基体の外周面の温度と前記円筒状基体の内周面からの加熱温度との温度差は、100℃以上である、請求項10または11に記載の堆積膜形成方法。
- 堆積膜形成前においては、前記円筒状基体の内周面から加熱を行い、
堆積膜形成時においては、前記円筒状基体の外周面から加熱を行なう、請求項10ないし12のいずれかに記載の堆積膜形成装置。 - 前記グロー放電は、直流電源またはパルス状直流電源を用いて電圧を印加することにより発生させられる、請求項10ないし13のいずれかに記載の堆積膜形成方法。
- 前記円筒状基体は、端部に設けられ、かつ前記円筒状基体の軸方向における中央部よりも内径が大きいインロー部を有している、請求項10ないし14のいずれかに記載の堆積膜形成方法。
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