JP2008246429A - オゾン分解装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】効率的且つ安全にオゾン分子を分解すること。
【解決手段】オゾン分解装置1はポンプ2とオゾン分解槽3と返送ライン4とバルブV1とを備える。ポンプ2はオゾン処理系5からオゾン含有ガスを系外に排出する。オゾン分解槽3はポンプ2の一次側に配置されると共にポンプ2によって導入したオゾン含有ガスに紫外光を照射して前記ガスに含まれるオゾン分子を分解する。返送ライン4はポンプ2の二次側から排出されたガスをオゾン分解槽3に返送するための配管系である。バルブV1は、返送ライン4を介してオゾン分解槽3に返送されるガスの流量調整手段であり、オゾン分解槽3内のオゾン数密度変化の指標に基づき返送ライン4のガス通路を開閉させて前記ガスの流量を調整する。
【選択図】図1

Description

本発明は減圧雰囲気(例えば1000Pa以下)でオゾンガスを利用したプロセス(例えば半導体製造プロセス)においてプロセス後の排気ガス中に残存するオゾンガスを分解する技術に関する。
近年、メモリに例示される半導体素子、液晶ディスプレーを初めとする情報端末に例示される電子デバイスの微細化、高性能化が進むのにつれて、デバイス製造プロセスの熱負荷(サーマルバジェット)の軽減が要求されている。特に酸化されにくい半導体(シリコン等)や有機物(レジスト等)を酸化、灰化するプロセスを低温化するため、自然界でフッ素についで酸化ポテンシャルの高いオゾンガスをプロセスに利用しようとする動きが活発である。オゾンガスは雰囲気の圧力が低いほど酸素分子に分解せず長時間安定に存在するので基板に到達するまでの気相の反応を抑制でき、処理基板までオゾン分子を高効率に輸送するという観点で減圧雰囲気での利用が増えてきている(例えば特許文献1)。
一方で処理基板の大型化に伴い高濃度且つ大流量のオゾンガスを必要とするプロセスが増加している。したがって、排出ガス中に含まれる未反応のオゾンガスの濃度も増大することになる。これを大気へ排出できる環境適合レベル以下の濃度まで分解するオゾン分解法の開発も必須となる。
ガスを排出するためのポンプはオイルレスのポンプ(例えばドライポンプ)で、接ガス部がオゾンに対して耐性がある材質例えばステンレスやテフロン(登録商標)などで構成されていれば短期的な使用には問題ないがポンプ内材質の酸化、腐食は常時進行するため、ポンプの一次側に導入するオゾンガス濃度はできるだけ予め低下させたほうがよい。さらに、ポンプの二次側(排出側)は通常大気圧に近いこと、また減圧の処理システム下に比べてオゾンを分解させる要因となる不純物濃度が高いため、オゾン濃度がある一定濃度(例えば9vol%)以上になると、オゾン分子同士での急激な爆発的反応が起こりやすい(例えばM.Horvathら,Ozone,Eservier,1985,pp.41)。したがって、減圧雰囲気下でオゾン濃度を効率的に低減させる技術の開発が強く望まれる。
オゾンの分解法としては熱分解法、紫外線照射法、活性炭法、触媒法等が挙げられる(例えば非特許文献1及び特許文献2〜特許文献5)。大部分は大気圧での利用を念頭においたものである。特に、減圧雰囲気で用いることができるのは排気コンダクタンスを大きく取れることやダストフリーのクリーンな処理が実現できる等の観点から熱分解法、紫外線照射法である。熱分解法は特許文献4に開示され、熱分解法と紫外線放射法とを組み合わせたものは特許文献5に開示されている。
特開平8−167603 杉光,オゾンの基礎と応用,光琳,1996,pp.267 特開平6−92614 特開2004−290798 特開2004−167352 特開2001−23977
熱分解法は減圧雰囲気では大気圧雰囲気と比べてガスの流速が早いと共にガスに熱を伝えることが困難であるため十分な効果を発揮させるには熱媒体(構造物)にガスが効率よく衝突するように構造体の配置、ガスの流れを工夫する必要がある。また、構造体の加熱により発生する金属パーティクル等がオゾンの爆発限界を下げることが知られており、急激な反応により処理炉側にガスが逆流し、処理室が汚染され、デバイスの歩留まりに悪影響を与える可能性がある。さらに、排気ポンプの二次側(排出側)で急激な爆発反応が起こる可能性も高める。
一方、紫外光照射法はクリーン度では熱分解法より優れるが、オゾンの分解効率は物性により定まるオゾン分子の光吸収反応及びそれに伴うオゾンの分解で定まるため、効率が低いという問題がある。十分な効果を得るには紫外光の光源を複数配置する必要があり、装置が大掛かりになる。
そこで、前記課題を解決するためのオゾン分解装置は、オゾン処理系からオゾン含有ガスを系外に排出するポンプと、このポンプの一次側に配置されると共に前記ポンプによって導入したオゾン含有ガスに紫外光を照射して前記ガスに含まれるオゾン分子を分解するオゾン分解槽と、前記ポンプの二次側から排出されたガスを前記オゾン分解槽に返送する返送ラインと、この返送ラインを介して前記オゾン分解槽に返送されるガスの流量を前記オゾン分解槽内のオゾン数密度変化の指標に基づき調整する流量調整手段とを備える。
このオゾン分解装置のようにオゾン分解槽を介してポンプの二次側から排出されたガスを前記オゾン分解槽に定量的に返送させることで前記オゾン分解槽のオゾン分圧が高まり前記オゾン分解槽内においてオゾン分解連鎖領域が効率的に形成される。また、前記オゾン分解装置の後段に大気圧状態のオゾン分解処理系が設置された場合、前記ポンプから排出されたガスのオゾン濃度は前記オゾン分解連鎖反応によるオゾン分子の分解によって低減しており、前記オゾン分解処理系の構成要素の劣化速度が下がる。したがって、前記構成要素の交換頻度が低減し、前記オゾン分解処理系の信頼性が長期的に維持される。前記流量調整手段としては前記指標に基づき前記返送ラインのガス通路の開度を調整できるバルブが挙げられる。
前記オゾン分解装置においては、前記オゾン分解槽を前記ポンプの一次側に複数並列に配置させ、この各々のオゾン分解槽に前記返送ラインを接続させるとよい。大流量のオゾン処理系に対応できる。
前記オゾン分解槽を前記ポンプの一次側に複数並列に配置させた場合、前記複数のオゾン分解槽のうち少なくとも一つ以上のオゾン分解槽が排気を担う一方で、他の一つ以上のオゾン分解槽は返送ラインを介して前記ポンプから排出されたガスを導入してオゾン分解連鎖反応を起こすようにするとよい。オゾン分解槽が単一である場合と比べて低い光源の照度及び圧力で容易に分解連鎖反応を起こすことできる。また、オゾン分解槽が単一である場合と比べてオゾン分解槽の前段にあるオゾン処理系の圧力の影響を受けにくくなると共にオゾン分解槽に返送するガスの流量の制限されにくくなる。すなわち、任意の処理能力を有するオゾン処理系に対して適用できるようになる。
前記指標としては前記オゾン分解槽内の圧力または照度が挙げられる。前記オゾン分解槽内の圧力または照度はオゾン数密度変化の指標となるので前記オゾン分解槽内でのオゾン分子の分解の度合いを確認できる。
前記オゾン分解槽内の照度が最大となるように前記光源の照度、前記オゾン分解槽の圧力、前記オゾン分解槽に返送されるガスの流量のいずれかまたは二者以上選択されたものを調節するとよい。より一層効率的にオゾン分子を分解できる。
前記オゾン分解槽には、ガスを導入するラインを備え、前記オゾン分解槽内に任意のガスを導入するとよい。前記任意のガスとしては、NO2、N2O、H2,O2、N2、NO、CO2、H2O、H22、He、Ar、Xeから選択された何れか一種のガス、またはこれらの混合ガスを用いることができる。前記ガスをオゾン分解槽に返送した場合と同様にオゾン分解連鎖反応を起こすことができる。特に、汚染を懸念してポンプの二次側から排出されたガスをオゾン分解槽に返送しない場合や前記排出されたガスの残留オゾン濃度が少なくオゾン分解槽に返送してもオゾン分解連鎖反応を起こさせるのが容易でない場合に有効である。
尚、任意のガスとして前記の各種ガスを例示したが、導入するガス自体や副生成物の影響に配慮する必要がある場合には、例えばH2ガスなどのガス自体や、副生成物(この場合は水)も無害な燃焼ガスを用いることが好ましい。
前記オゾン分解槽には槽内の気相を経由した後の紫外光の強度を計測する光強度測定手段を備えるとよい。前記オゾン分解槽内でのオゾン分解の度合いを把握できる。光強度測定手段としてはフォトディテクターが挙げられる。
また、前記オゾン分解槽の内壁面は研磨処理するとよい。前記オゾン分解槽内に照射された紫外光が吸収されにくくなり、前記内壁面の温度上昇が起こりにくくなるので、前記内壁面がオゾンによる酸化腐食反応が進行しにくくなる。したがって、メンテナンスの頻度が低くなる。尚、前記研磨処理の方法としては電界研磨法や鏡面研磨法が例示される。
したがって、以上の発明によればオゾン分子を効率的に分解できる。また、オゾン含有ガスを排出するポンプの二次側で点火現象(爆発、急激な圧力変化)が起こらないので安全性が確保される。
図1は発明の第一の実施形態に係るオゾン分解装置1の概略構成を示した平面図である。
オゾン分解装置1はポンプ2とオゾン分解槽3と返送ライン4とバルブV1とを備える。ポンプ2はオゾン処理系5からオゾン含有ガスを系外に排出する。ポンプ2は例えばオゾン耐性のあるドライポンプが採用される。オゾン分解槽3はポンプ2の一次側に配置されると共にポンプ2によって導入したオゾン含有ガスに紫外光を照射して前記ガスに含まれるオゾン分子を分解する。返送ライン4はポンプ2の二次側から排出されたガスをオゾン分解槽3に返送するための配管系である。バルブV1は、返送ライン4を介してオゾン分解槽3に返送されるガスの流量調整手段であり、オゾン分解槽3内のオゾン数密度変化の指標に基づき返送ライン4のガス通路を開閉させて前記ガスの流量を調整する。尚、オゾン分解槽3の一次側の配管系にはオゾン処理系5から排出されたオゾン含有ガスの導入を制御する自動開閉可能なバルブV2が、またオゾン分解槽3とポンプ2を連結した配管系にはオゾン分解槽3から排出されたガスの導入を制御する自動開閉可能なバルブV3が設置されている。
オゾン分解槽3はオゾンに対して不活性で且つ紫外光を反射できる(吸収や透過しない)材質及び形状が採用される。例えば、アルミニウムやステンレス材で内壁表面が表面粗さRaを波長と同程度以下(Ra<0.3μm)となるように研磨処理したものである。前記研磨処理は電界研磨法や鏡面研磨法によって行えばよい。オゾン分解槽3の周辺部の材質もオゾンに不活性な材料を採用するとよい。
オゾン分解槽3は前記紫外光として波長220〜300nmの範囲の輝線を照射する光源6を格納している。光源6としては低圧水銀ランプが例示される。光源6は図1に示した矢印のように紫外光が放射状に照射されるようにオゾン分解槽3内に配置される。特にオゾン分解槽3の内壁面に向け紫外光が照射されるようにすると、大部分の紫外光が内壁面に到達し反射され、有効に紫外光をオゾン分解槽3内に閉じ込めることができる。これによりオゾン分解槽3内の光子密度が最大限に向上し、オゾン分子の分解が促進される。
本実施形態のように紫外光を系(すなわちオゾン分解槽3)内に閉じ込めると共にオゾン含有ガスを前記系に返送して前記系のオゾン分圧を高めることにより、前記系内に滞留するガスのオゾン濃度が迅速且つ効率的に低下することが以下の実験で確認されている。
図2は本実験に用いたオゾン分解装置20の概略構成図である。
オゾン分解装置20は床面に対し垂直に設置したオゾン分解管21にオゾンガスのガス導入管22とガス排出管23とを備える。オゾン分解管21はその内壁面が電界研磨(表面粗さ0.2μmRa)されたステンレス製(SUS316)の配管からなる。オゾン分解管21の上方には紫外光を発する光源として波長254nmの光を照射させる低圧水銀ランプ24(浜松ホトニクス製 ペン型水銀ランプ 型番:L937)が配置されている。オゾン低圧水銀ランプ24は照度が照射面からの距離dが20cmとなるような位置で10〜30μW/cm2となるように調節される。一方、オゾン分解管21の上端部及び下端部には紫外光を透過させる窓25が設けられている。窓25は合成石英から成る。また、オゾン分解管21の下方には窓25を透過した紫外光の吸光度を測定するための手段としてフォトダイオード(浜松ホトニクス製 Siフォトダイオード 型番:S1227−1010BQ)26が配置されている。さらに、オゾン分解管21にはオゾン分解管21の内圧を検知する圧力計27が設置されている。そして、ガス排出管23にはオゾン分解管21の内圧を制御するためのバルブ27が設置されている。
前記紫外光の吸光度は以下の(1)式に基づき算出される(島崎達夫,成層圏オゾン,東京大学出版会(1979))。
I=I0exp(−σ0nd)…(1)
I:透過検出強度(波長254nm),I0:入射光照度,d:光路長,σ0:吸収断面積(σ0=1.1×10-17[cm2]),n:オゾン数密度
オゾン分解管21に供給されるオゾンガスは高純度オゾンガス発生装置(明電舎製,MPOZ−HM1A1)で生成したオゾンガスを用いた。オゾン分解管21のガス導入口でのオゾンガス濃度は90vol%であった。
図3はオゾン分解管の内圧とオゾン数密度の経時的変化(60sccmのオゾンガス流量、254nmで10μW/cm2の照度のランプを使用)を示した特性図である。この特性図から明らかなようにオゾンガス流量及び照度が一定の場合(ここではそれぞれ60sccm、照射面から20cm離れた位置で90vol%以上)、一定のオゾン圧力(この場合900Pa)以上で周期的に圧力が急激に変動する現象及びこれと同期してオゾン数密度((1)式から算出された数値n)が大きく減少するのが確認された。これはオゾンの紫外光にてできた励起状態の酸素原子(O(1D))がオゾン分子との反応が極めて早いため急速に酸素分子生成の反応が進むことさらにこの反応が発熱反応であるため(6.03eV、下記の(2)式で示される反応)、この発熱エネルギーをオゾンの熱分解(熱分解に必要なエネルギー=1.05eV、下記の(3)式で示される反応)に利用できるようになる。O(1D)の周囲のオゾン数密度がある値より高いと、このオゾンの熱分解反応は周囲に伝播していくこと考えられる。
光照射時の初期の反応 O(1D)+O3→2O2+6.03eV…(2)
オゾンの熱分解反応 O3+1.05eV→O(3P)+O2、O(3P)+O3→2O2+4.07eV…(3)
つまり紫外光の照射で生成したO(1D)により、ある一定のオゾン分圧以上にすることにより分解反応を連鎖的に周辺部に広げることができる。
また、光源(低圧水銀ランプ24)の強度が大きくなるにつれてオゾン分解管21の圧力が低い側でも圧力の不安定化(オゾン分解の連鎖)が始まることが実験的に判明した。さらに、図4に示されたようにオゾン分解管21に導入するオゾンガスの流量が小さい程、オゾン分解の連鎖が始まる圧力が低くなることも確認された。
そこで、オゾン分解装置1のようにポンプ2の二次側から排出されたガスを定量的にオゾン分解槽3に返送し、オゾン処理系5へのガスの逆流が起こらない範囲でオゾン分解槽3の内圧(オゾン分圧)をできるだけ高めること、また、オゾン分解槽3からポンプ2への排気量をできるだけ(排気のコンダクタンスが維持されるように)制御(絞る)すること、同時にその条件でオゾンの分解連鎖が起きるよう光源6の照度を調整することにより、オゾン分解槽3内でオゾンの自己分解を起こさせることができる。この結果、オゾン分解槽3内でのオゾン濃度は大きく低下する。
したがって、オゾン分解槽3にはポンプ2の二次側からオゾン分解槽3に返送されるガスの流量を最適化させるために圧力センサー7が設置される。そして、圧力センサー7によって測定された値がオゾン分解槽3の内圧変動を起こり始める値となるように図3及び図4に例示される特性図に基づくバルブV1の開閉動作制御によりポンプ2の二次側から返送されるガスの流量が調整される。
圧力センサー7の代わりにシリコンフォトダイオード等の照度センサーを用いてもよい。すなわち、図1に示されたオゾン分解槽3には紫外光に対し感度を有するフォトセンサーが設置されると共にオゾン分解槽3内の気相を通過した光を前記フォトセンサーに供給する窓が設けられる。この窓はオゾン分解管21の窓25のように合成石英で成せばよい。そして、図3に例示される特性図に基づくバルブV1の制御によってオゾン数密度がある値以下なるまで(式(1)に従い透過してくる光強度Iが所定の値以上になるまで)ポンプ2の二次側から返送されるガスの流量が調整される。
また、オゾン分解槽3に許される最大圧力が低い場合(低い処理圧力のプロセスの場合)またはガスの排気流量を多く必要とするプロセスの場合には、紫外線の出力が大きい光源を用いること、複数の光源6をオゾン分解槽3内に配置することや、オゾン分解槽3(及びこの内部に格納する光源6)を複数設けることで対応が可能となる。
ポンプ2の二次側すなわちオゾン分解装置1の後段には従来と同様に活性炭法等、大気圧でオゾンを分解できるオゾン分解筒8が適宜設置される。
以上のようにガス分解装置1によれば減圧雰囲気下でオゾン分解器を用いない場合に比べ、大気圧におかれたオゾン分解筒8に導入されるオゾンガスの濃度が低いので、オゾン分解筒8内でオゾンガスにより不可逆的に進む反応による部品の消耗及び交換の頻度を低減させることができる。
図5は発明の第二の実施形態に係るオゾン分解装置10の概略構成を示した平面図である。図6はオゾン分解装置10のバルブ操作のタイムシーケンスである。
オゾン分解装置10は大流量のオゾン処理系5に対応できるようにオゾン分解槽3を複数備えている。図5に示された実施形態では同容量のオゾン分解槽3a及びオゾン分解槽3bが並列に設けられている。そして、図6に例示されたタイムシーケンスに基づくバルブ類(バルブV1〜V6)の開閉動作によってポンプ2の二次側から返送されるガスに含まれる金属パーティクル等のオゾン処理系5への逆流を完全に防ぐ。
図5及び図6を参照しながらオゾン分解装置3の動作例を説明する。図6に示されたS1はオゾン分解槽3b内のオゾン数密度の増大による測定手段9bの出力値の減少を示す勾配である。S2はオゾン分解槽3a内のオゾン数密度の増大による測定手段9aの出力値の減少を示す勾配である。P1はオゾン分解槽3b内のオゾン分解連鎖反応開始点である。P2はオゾン分解槽3a内のオゾン分解連鎖反応開始点である。
オゾン処理系5から導入したオゾン含有ガスがオゾン分解槽3aに供給される場合、バルブV2,V3,V4が開(Open)に制御される一方でバルブV1,V5,V6が閉(Close)に制御される。これにより前記オゾン含有ガスはオゾン分解槽3a及び大気圧でのオゾン分解筒8によってオゾン成分が分解された後に大気に排出される。一方、ポンプ2の二次側に排出されたガスの一部はバルブV4が設置されている返送ライン4bを介してオゾン分解槽3bに移送される。そして、オゾン分解槽3bの内圧が所定の値以上になるとオゾン分解槽3b内に滞留するオゾンの分解連鎖反応が起こる。これよりオゾン分解槽3b内のオゾン濃度が急激に低下する。これはオゾン分解槽3bの測定手段9b(照度センサーまたは圧力センサー)の出力値(I)の上昇によって確認される。そして、このタイミングでバルブV2,V3,V4が閉(Close)に制御される一方でV5,V6,V1が開(Open)に制御されてオゾン分解槽3bを介してガスが大気中に排出される。同様にオゾン分解槽3a内でオゾンの分解連鎖が生じたタイミング(測定手段9a(照度センサーまたは圧力センサー)によって検知される)でオゾン処理系5のガス排気ラインはオゾン分解槽3aを経由するラインに戻される。以上のことを繰り返すことにより排気中でないオゾン分解槽3aまたは3bでオゾン圧力が高められ、またガス流速がない状態で導入できるので、オゾン分解装置1に比べて用いる紫外光の光源6a,6bの照度が小さい場合でも容易に分解連鎖領域に移行させることができる。すなわち、オゾン分子の分解連鎖反応を起こしやすくなる。
図5に示された実施形態ではオゾン分解槽3が2つ設置されているが、オゾン分解槽3の設置数をさらに増やすことで減圧でも大流量のオゾンガスを連続的に低濃度まで低下させることが可能となる。その結果、大気圧側に設けたオゾン分解筒の部品の消耗及び交換の頻度が低減することができる。
図7は発明の第三の実施形態に係るオゾン分解装置11の概略構成の平面図である。
オゾン分圧が高くなると分解連鎖反応が始まるのは、O(1D)とオゾンの反応速度定数が大きいことにより分解反応(式(2))が急速に進むこと、および両者の反応の結果生成する生成エネルギーが大きいため、さらにオゾンの分解反応(式(3)の吸熱反応)が促進されるためである。すなわちオゾン分圧を高める代わりに、O(1D)に対してオゾンガスと同等の反応速度定数および反応の結果エネルギーを発熱するガスを同等の圧力まで導入することによっても、分解連鎖反応を起こすことができる。
そこで、第三の実施形態のオゾン分解装置11では、反応ガスをオゾン分解槽3に供給するライン12をオゾン分解槽3に備えている。ライン12は測定手段9(照度センサーまたは圧力センサー)の出力値に基づき前記反応ガスの導入を制御するバルブV7を備えている。反応ガスとしては、オゾンガスと同等の反応速度定数と生成エネルギーを有するNO2、N2O、H2,O2、N2、NO、CO2、H2O、H22、He、Ar、Xeから選択された何れか一種のガス、またはこれらの混合ガスを用いることができるが、本実施形態においてはN2Oガス、NO2ガスを用いた場合について説明する。
2Oガス、NO2ガスはO(1D)分子に対しO3と同等の反応速度定数を有し、O(1D)分子との反応した際にO3と同等のエネルギーを発熱する。以下にO(1D)分子とO3とが反応した場合、O(1D)分子とN2Oガスとが反応した場合、及びO(1D)分子とNO2ガスとが反応した場合の反応速度定数kを示した(Baulch et al.,J.Phys.Chem.Ref,Data,11,327(1984))。
O(1D)+O3→2O2の場合、反応速度定数k=2.4×10-10[cm-3molecule-1-1
O(1D)+NO2→O2+NO+3.96eVの場合、反応速度定数k=1.4×10-10[cm-3molecule-1-1
O(1D)+N2O→O2+N2+5.41eVの場合、反応速度定数k=1.2×10-10[cm-3molecule-1-1
したがって、オゾンガスと同等の反応速度定数と生成エネルギーを有するガスをオゾン分解槽3に導入することによってもオゾン分解反応の連鎖が促進される。つまり、より低い照度及び圧力並びにより高いオゾンガス流量の条件でオゾン分子の分解連鎖が起こる臨界点を低減させることができる。すなわち、減圧プロセスとの整合性が高まり、大流量処理にも対応でき、また、使用する光源の数とその出力を下げられるので、コスト、オゾン分解槽のサイズ及び個数の低減が実現する。
尚、導入するガス自体や副生成物の影響に配慮する必要がある場合には、例えばH2ガスなどのガス自体や、副生成物(この場合は水)も無害な燃焼ガスを用いることが好ましい。
発明の第一の実施形態に係るオゾン分解装置の概略構成を示した平面図。 実験に用いたオゾン分解装置の概略構成図。 オゾン分解管の内圧とオゾン数密度の経時的変化を示した特性図。 オゾン分解管の圧力が不安定化(オゾン分解の連鎖)するオゾンガス流量とオゾン分圧の関係を示した特性図。 発明の第二の実施形態に係るオゾン分解装置の概略構成を示した平面図。 第二の実施形態に係るオゾン分解装置のバルブ操作のタイムシーケンス。 発明の第三の実施形態に係るオゾン分解装置の概略構成を示した平面図。
符号の説明
1,10,11…オゾン分解装置
2…ポンプ、3,3a,3b…オゾン分解槽、4,4a,4b…返送ライン、5…オゾン処理系、6,6a,6b…光源、7…圧力センサー、8…オゾン分解筒
9,9a,9b…測定手段、12…ライン
V1〜V7…バルブ

Claims (9)

  1. オゾン処理系からオゾン含有ガスを系外に排出するポンプと、
    このポンプの一次側に配置されると共に前記ポンプによって導入したオゾン含有ガスに紫外光を照射して前記ガスに含まれるオゾン分子を分解するオゾン分解槽と、
    前記ポンプの二次側から排出されたガスを前記オゾン分解槽に返送する返送ラインと、
    この返送ラインを介して前記オゾン分解槽に返送されるガスの流量を前記オゾン分解槽内のオゾン数密度変化の指標に基づき調整する流量調整手段と
    を備えたこと
    を特徴とするオゾン分解装置。
  2. 前記オゾン分解槽が前記ポンプの一次側に複数並列に配置され、
    この各々のオゾン分解槽には前記返送ラインが接続されたこと
    を特徴とする請求項1に記載のオゾン分解装置。
  3. 前記複数のオゾン分解槽のうち少なくとも一つ以上のオゾン分解槽が排気を担う一方で、他の一つ以上のオゾン分解槽は返送ラインを介して前記ポンプから排出されたガスを導入してオゾン分解連鎖反応を起こすこと
    を特徴とする請求項2に記載のオゾン分解装置。
  4. 前記指標は前記オゾン分解槽内の圧力または照度であること
    を特徴とする請求項1からの3いずれか1項に記載のオゾン分解装置。
  5. 前記流量調整手段は前記オゾン分解槽内の照度が最大となるように前記光源の照度、前記オゾン分解槽の圧力、前記オゾン分解槽に返送されるガスの流量のいずれかまたは二者以上選択されたものを調整すること
    を特徴とする請求項4に記載のオゾン分解装置。
  6. 前記オゾン分解槽に任意のガスを導入するラインを備えたこと
    を特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載のオゾン分解装置
  7. 前記任意のガスが、NO2、N2O、H2,O2、N2、NO、CO2、H2O、H22、He、Ar、Xeから選択された何れか一種のガス、またはこれらの混合ガスであること
    を特徴とする請求項6に記載のオゾン分解装置。
  8. 前記オゾン分解槽は槽内の気相を経由した後の紫外光の強度を計測する光強度測定手段を備えたこと
    を特徴とする請求項1から7のいずれか1項に記載のオゾン分解装置。
  9. 前記オゾン分解槽はその内壁面が研磨処理されたこと
    を特徴とする請求項1から8のいずれか1項に記載のオゾン分解装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010222168A (ja) * 2009-03-23 2010-10-07 Meidensha Corp オゾン供給装置
JP5469281B2 (ja) * 2011-12-06 2014-04-16 株式会社Leap オゾン分解器
JP2015211193A (ja) * 2014-04-30 2015-11-24 東京エレクトロン株式会社 成膜方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04313330A (ja) * 1991-04-10 1992-11-05 Okaya Electric Ind Co Ltd オゾン消滅装置
JP2004121495A (ja) * 2002-10-01 2004-04-22 Nomura Micro Sci Co Ltd ホルモン様活性作用を有する化学物質の処理方法及び処理装置
JP2006120825A (ja) * 2004-10-21 2006-05-11 Canon Inc 気体の浄化方法及び露光装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04313330A (ja) * 1991-04-10 1992-11-05 Okaya Electric Ind Co Ltd オゾン消滅装置
JP2004121495A (ja) * 2002-10-01 2004-04-22 Nomura Micro Sci Co Ltd ホルモン様活性作用を有する化学物質の処理方法及び処理装置
JP2006120825A (ja) * 2004-10-21 2006-05-11 Canon Inc 気体の浄化方法及び露光装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010222168A (ja) * 2009-03-23 2010-10-07 Meidensha Corp オゾン供給装置
JP5469281B2 (ja) * 2011-12-06 2014-04-16 株式会社Leap オゾン分解器
JP2015211193A (ja) * 2014-04-30 2015-11-24 東京エレクトロン株式会社 成膜方法
KR101858315B1 (ko) * 2014-04-30 2018-05-15 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 성막 방법

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