JP2008227113A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
半導体装置およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008227113A JP2008227113A JP2007062709A JP2007062709A JP2008227113A JP 2008227113 A JP2008227113 A JP 2008227113A JP 2007062709 A JP2007062709 A JP 2007062709A JP 2007062709 A JP2007062709 A JP 2007062709A JP 2008227113 A JP2008227113 A JP 2008227113A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- concentration
- type
- guard ring
- semiconductor device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Landscapes
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Abstract
【課題】耐電圧およびサージ耐量が向上し、順方向電圧降下を抑えた半導体装置を提供する。
【解決手段】高濃度N型シリコン基板101の上に形成する低濃度N型エピタキシャル層102の表面にP型ガードリング層103を形成し、P型ガードリング層103の内周縁と外周縁に沿って形成する一対のトレンチが低濃度N型エピタキシャル層102の表面から高濃度N型シリコン基板101にまで達することで、P型ガードリング層103と低濃度N型エピタキシャル層102とのPN接合面を容易にピンチオフでき、低濃度N型エピタキシャル層102を薄くできる。
【選択図】図1
【解決手段】高濃度N型シリコン基板101の上に形成する低濃度N型エピタキシャル層102の表面にP型ガードリング層103を形成し、P型ガードリング層103の内周縁と外周縁に沿って形成する一対のトレンチが低濃度N型エピタキシャル層102の表面から高濃度N型シリコン基板101にまで達することで、P型ガードリング層103と低濃度N型エピタキシャル層102とのPN接合面を容易にピンチオフでき、低濃度N型エピタキシャル層102を薄くできる。
【選択図】図1
Description
本発明は半導体装置およびその製造方法に関し、特に整流に用いられるショットキー接合を含む半導体装置の技術に係るものである。
一般にショットキーバリア半導体装置は、シリコン半導体基板と金属層との接触により形成されるショットキー接合の界面に形成されるショットキー障壁により整流作用を有し、広く用いられている半導体装置である。
従来のショットキーバリア半導体装置はプレーナ型の構造となっており、基板表面のフラットな面にショットキー接合が形成される。また、このショットキー接合面の周辺部には電界が集中し、逆方向電流の増大や逆方向サージに対する弱体化が起きることから、対策としてショットキー接合面の周辺部にはガードリングを設けてPN接合領域を形成している。
このようなショットキーバリア半導体は、ガードリングにて形成するPN接合の降伏電圧をショットキー接合面のそれよりも低く設定することによって、デバイス全体が持つ耐圧特性(逆方向阻止電圧)をPN接合の降伏電圧にて決定している。
この従来のショットキーバリア半導体装置には、ガードリングと略同心にガードリングを貫くように凹部を形成してガードリングに掛かる電界を緩和することで、耐圧特性を向上させ、さらにはこの電界緩和の効果を利用して順方向電圧降下特性を改善するものが有った(例えば、特許文献1参照)。
図6は従来のショットキーバリア半導体装置を示すものであり、図6(a)はショットキーバリア半導体装置の半導体層上のショットキーメタルを除去した状態を示す上面図であり、図6(b)はショットキーバリア半導体装置の断面を示し、図6(a)に示すB−B線に沿った要部断面図である。
図6において、401はN+型シリコン基板、402はN−型エピタキシャル層、403はP+型ガードリング層、404はシリコン酸化膜、405はN型ポリシリコン、406はショットキーメタルを各々示している。
図6に示すように、ショットキーバリア半導体装置は、N+型シリコン基板401上にエピタキシャル成長によりN−型エピタキシャル層402を形成し、N−型エピタキシャル層402の表面にショットキーメタル406を形成し、N−型エピタキシャル層402とショットキーメタル406との接合面にショットキー接合面(素子活性領域)を形成し、ショットキー接合面の周囲を囲むようにその周縁部に沿ってP+型ガードリング層403を形成している。
このP+型ガードリング層403を貫いて形成する環状の凹部は、幅がP+型ガードリング層403の幅よりも狭く、深さが少なくともN+型シリコン基板401に達する。この環状の凹部の表面にはシリコン酸化膜404を形成しており、シリコン酸化膜404は環状の凹部からP+型ガードリング層403およびN−型エピタキシャル層402の表面へ延在している。
凹部にはシリコン酸化膜404を介してN型ポリシリコン405を充填しており、いわゆる金属−酸化物−半導体構造(MOS構造/Metal Oxide Semiconductor構造)を形成しており、凹部を使って形成することからトレンチMOS構造と呼ばれる。ショットキーメタル406は、N−型エピタキシャル層402とP+型ガードリング層403との各表面を覆ってN型ポリシリコン405の表面に掛かるように延在している。
このような構成のショットキーバリア半導体装置では、ショットキーメタル406に接続されたP+型ガードリング層403の下方領域において、N+型シリコン基板401とN−エピタキシャル層402との界面上に凹部(トレンチMOS構造部)との境界をなす稜線(X部)が形成される。このため、上述のショットキーバリア半導体装置では、逆方向電圧の印加時に稜線(X部)の近傍で電界集中が起きる。
この稜線(X部)の近傍で起きる電界集中の現象は、凹部(トレンチMOS構造部)が存在しない場合と比べると、P+型ガードリング層403とN−エピタキシャル層402との接合面であるPN接合面にかかる電界強度を軽減する結果をもたらす。
従って、従来と同じ逆方向電圧を印加した場合には、P+型ガードリング層403とN−エピタキシャル層402とのPN接合面からN−エピタキシャル層402の層内へ拡がる空乏層の伸びを抑えることができ、PN接合面からN+型シリコン基板401とN−型エピタキシャル層402との界面へ伸びる空乏層の距離を小さくできる。
このため、P+型ガードリング層403とN−エピタキシャル層402とのPN接合面からN−エピタキシャル層402とN+型シリコン基板との界面までの距離と、前記PN接合面から伸びる空乏層が前記界面へ達するパンチスルーとの関係で決定される耐電圧を向上させることができる。
また、従来と同じ耐電圧に設定する場合には、上述の空乏層の伸びを抑制する効果によって向上できる耐電圧の分だけ(空乏層の伸びを抑えた分だけ)、N−型エピタキシャル層402の厚みを削減することが可能であり、素子が持つシリーズ抵抗成分を低減させることができるので、順方向電圧降下を低減向上させることができる。
特開平9−260688号公報
しかしながら、従来の構成では、電界集中が上述した稜線(X部)の近傍で起きるので、稜線(X部)から離れる程に電界緩和の効果を及ぼし難くなる。例えば図6(b)に示すように、N−型エピタキシャル層402とのPN接合面をなすP+型ガードリング層403の外側面において、N+型シリコン基板401に対向する底部面から側面に掛かる曲率部は、凹部の有無に係らず、元来電界が集中する部分であるが、稜線(X部)から離れた位置にあることで、電界緩和の効果を得ることが難しい。
従って、P+型ガードリング層403とN−型エピタキシャル層402とのPN接合面からN−型シリコン層402の層内へ拡がる空乏層は、PN接合面の曲率部からN+型シリコン基板401側へ向けて拡がる成分の伸張が、稜線(X部)の直上のPN接合面からN+型シリコン基板401側へ向けて拡がる成分の伸張よりも大きく成る。この現象が、上述のパンチスルーとの関係で決定される耐電圧を向上させる上でボトルネックになっていた。
本発明は、上記の課題を解決するものであり、逆方向電圧の印加時に、PN接合面から拡がる空乏層を均一に伸張させることで、従来のものよりも耐電圧が向上し、さらには順方向電圧印加時の電圧降下をも従来のものよりも低減可能な半導体装置およびその製造方法を提供することを目的とする。
上記の課題を解決するために、本発明の半導体装置は、半導体基板が、基層の上に同じ導電型の低濃度エピタキシャル層を形成し、前記低濃度エピタキシャル層に異なる導電型のガードリング層を層表面から層内に延在して環状に形成してなり、前記半導体基板に設ける凹部に前記凹部内面に形成する絶縁皮膜を介してショットキーメタルとオーミックコンタクトを得る導電体を充填してなるトレンチを有し、前記ガードリング層の外周縁と内周縁とに沿って環状をなす一対の前記トレンチを前記低濃度エピタキシャル層の層表面から前記基層に達するまで形成し、半導体基板の一方の主面に形成する前記ショットキーメタルが前記トレンチと前記ガードリング層と前記ガードリング層によって囲まれる前記低濃度エピタキシャル層に接合することを特徴とする。
上記の構成により、ガードリング層と低濃度エピタキシャル層とのPN接合面が環状平面をなして外周縁と内周縁をトレンチで絶縁されるので、PN接合面が曲率部を含まず、PN接合面から基層に向けて低濃度エピタキシャルの層内に略均一に空乏層が拡がる。ガードリング層の下方領域において、基層と低濃度エピタキシャル層との界面上にトレンチに沿った稜線が形成され、対向する稜線から主として相互に近付く方向に空乏層が拡がり、互いの稜線間の距離を所定の範囲に設定することで空乏層同士が繋がって一体と成り、ガードリング層と低濃度エピタキシャル層とのPN接合面をピンチオフする。従って、PN接合面にかかる電界を緩和することができ、PN接合面から基層へ向けて広がる空乏層の伸びが小さく、且つ均一化できるので、耐電圧が向上する。
また、前記ガードリング層は、前記トレンチの相互間に挟まれる内周縁から外周縁までの距離が5μm以下であることが好ましく、逆方向電圧の印加時にガードリング層と低濃度エピタキシャル層とのPN接合面を容易にピンチオフさせることができる。
また、前記ガードリング層の両側に配置する前記トレンチを第1のトレンチとして、前記ガードリング層を両側の前記トレンチの間で分割する単数または複数の第2のトレンチを前記ガードリング層の層表面から前記基層に達するまで形成しても良く、トレンチの相互間の距離を拡げることなくガードリング層と低濃度エピタキシャル層とのPN接合面の面積を拡大出来る。
また、前記第2のトレンチにて、前記第1のトレンチの相互間に挟まれる前記ガードリング層を等間隔に分割しても良く、電界と電流との偏りを防ぐことができる。
また、前記基層と前記低濃度エピタキシャル層との層間に同じ導電型の半導体層を形成しても良く、逆方向電圧の印加時に、ガードリング層と低濃度エピタキシャル層とのPN接合面をより容易にピンチオフさせることができる。
また、前記基層と前記低濃度エピタキシャル層との層間に同じ導電型の半導体層を形成しても良く、逆方向電圧の印加時に、ガードリング層と低濃度エピタキシャル層とのPN接合面をより容易にピンチオフさせることができる。
また、前記トレンチの絶縁皮膜の終端部はテーパー状に形成することが好ましく、絶縁皮膜の終端部に電界が集中することを防止できる。
以上のように、本発明によれば、ガードリング層と低濃度エピタキシャル層とのPN接合面に曲率部が存在せず、PN接合面から基層に向けて低濃度エピタキシャルの層内に略均一に空乏層が拡がり、ガードリング層の下方領域においてトレンチ間で空乏層が繋がってガードリング層と低濃度エピタキシャル層とのPN接合面をピンチオフすることで、PN接合面にかかる電界を緩和し、PN接合面から基層へ向けて広がる空乏層の伸びを小さく、且つ均一化することができ、高耐圧で耐サージ性が高く、且つ順方向電流に伴う電圧降下を抑えることが可能である。
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1におけるショットキーバリア半導体装置を示すものであり、図1(a)はショットキーバリア半導体装置のショットキーメタルを除去した状態を示す上面図であり、図1(b)はショットキーバリア半導体装置の断面を示し、図1(a)に示すA−A線に沿った要部断面図である。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1におけるショットキーバリア半導体装置を示すものであり、図1(a)はショットキーバリア半導体装置のショットキーメタルを除去した状態を示す上面図であり、図1(b)はショットキーバリア半導体装置の断面を示し、図1(a)に示すA−A線に沿った要部断面図である。
図1において、101は高濃度N型シリコン基板、102は低濃度N型エピタキシャル層、103は高濃度P型ガードリング層、104はトレンチ、104aは凹部、104bはシリコン酸化膜、104cはN型ポリシリコン、105はショットキーメタルを各々示している。
図1(a)、(b)に示すように、ショットキーバリア半導体装置は、半導体基板の基層をなす高濃度N型シリコン基板101の上に高濃度N型シリコン基板101よりもドーパント濃度が低濃度な低濃度N型エピタキシャル層102を形成し、低濃度N型エピタキシャル層102に層表面から層内に延在する環状の高濃度P型ガードリング層103を形成している。
低濃度N型エピタキシャル層102には、ガードリング層103の外周縁と内周縁とに沿って二つの環状の凹部104aを同心状に形成しており、各環状の凹部104aは低濃度N型エピタキシャル層102の層表面から高濃度N型シリコン基板101まで達している。各凹部104aの内部には、内面に形成した絶縁皮膜であるシリコン酸化膜104bを介して、N型ポリシリコン104cを充填しており、凹部104aとシリコン酸化膜104bとN型ポリシリコン104cとでトレンチ104を形成している。外側のトレンチ104のシリコン酸化膜104bは外周部が凹部104aの外周縁から周辺の低濃度N型エピタキシャル層102の表面へ延在している。
半導体基板の一側の主面に配置するショットキーメタル105は、内側の環状の凹部104aに囲まれた低濃度N型エピタキシャル層102の表面、内側および外側のトレンチ104および高濃度P型ガードリング層103を覆って形成しており、その外周部が外側のトレンチ104において低濃度N型エピタキシャル層102の上に広がるシリコン酸化膜104bの上まで延在している。
上記の構成によれば、高濃度P型ガードリング層103の外周縁と内周縁とに沿ってガードリング層103を挟む様にトレンチ104を形成し、高濃度P型ガードリング層103と低濃度N型エピタキシャル層102との界面で形成されるPN接合面が、低濃度N型エピタキシャル層102と高濃度N型シリコン基板101との界面と平行な環状平面をなし、環状平面の端部をなす外周縁と内周縁とが共にトレンチ104のシリコン酸化膜104bで他の部分と絶縁されて隔てられているので、PN接合面は曲率部、つまり図6(b)で示した従来のような曲率部を含まない。
よって、逆方向電圧の印加時には、両側のトレンチ104と高濃度P型ガードリング層103と高濃度N型シリコン基板101とで閉じられた部分の低濃度N型エピタキシャル層102の層内へ、高濃度P型ガードリング層103と低濃度N型エピタキシャル層102との界面をなすPN接合面から低濃度N型エピタキシャル層102と高濃度N型シリコン基板101との界面へ向けて略均一に空乏層が拡がる。また、N型ポリシリコン104cはショットキーメタル105にオーミック接続されているので、N型ポリシリコン104cからシリコン酸化膜104bを介して低濃度N型エピタキシャル層102にも電界が生じ、上述の閉じられた部分の低濃度N型エピタキシャル層102の層内へトレンチ104のシリコン酸化膜104bとの界面からも空乏層が拡がる。
このような構成の半導体装置においても、ショットキーメタル105に接続された高濃度P型ガードリング層103の下方領域において、高濃度N型シリコン基板101と低濃度N型エピタキシャル層102との界面上に凹部104aとの境界をなす稜線(Y部)が形成され、逆方向電圧の印加時に稜線(Y部)の近傍で電界集中が起きる。
しかし、本発明では高濃度P型ガードリング層103の内周側に隣接するトレンチ104に沿った稜線(Y部)と、高濃度P型ガードリング層103の外周側に隣接するトレンチ104に沿った稜線(Y部)との一対が存在し、各々の稜線(Y部)から主として相互に近付く方向に空乏層が拡がり合うので、互いの稜線(Y部)間の距離を所定の範囲に設定することで空乏層同士が繋がって一体と成る。この現象によって、高濃度P型ガードリング層103と低濃度N型エピタキシャル層102との界面で形成されるPN接合面がピンチオフされることになる。
従って、従来の構成のものよりも、PN接合面にかかる電界を緩和することができ、PN接合面から高濃度N型シリコン基板101へ向けて広がる空乏層の伸びが小さく、且つ均一化できるので、PN接合面から低濃度N型エピタキシャル層102と高濃度N型シリコン基板101との界面までの距離と、前記PN接合面から伸びる空乏層が前記界面へ達するパンチスルーとの関係で決定される耐電圧が従来よりもさらに向上する。
また、従来と同様の耐電圧を設定する場合には、従来のものよりもPN接合面から低濃度N型エピタキシャル層102と高濃度N型シリコン基板101との界面へ向けた空乏層の伸張が小さくなるので、その相当分だけ低濃度N型エピタキシャル層102の厚みを薄くしてシリーズ抵抗成分を低減することが可能となり、順方向電圧の印加時の電圧降下を従来よりもさらに削減することが可能である。
図3は、本発明の実施の形態1において、両側のトレンチ104に挟まれる高濃度P型ガードリング層103の幅と耐圧特性との相関を示している。図3より明らかなように、高濃度P型ガードリング層103の幅に相当する両側のトレンチ104の間の距離、つまり一対の稜線(Y部)間の距離を5μm以下に設定すると、耐圧特性向上の効果を得られることがわかり、3μm以下の幅に設定すればより好ましい効果が得られることがわかる。従って、両側のトレンチ104に挟まれる高濃度P型ガードリング層103の幅は5μm以下で、好ましくは3μm以下とすれば良い。
ここで、例えば、耐電圧が45V(40V保証)程度のものとすると、高濃度N型シリコン基板101のドーパントを砒素とし、ドーパント濃度は1×1019個/cm−3程度、厚みは200μm程度が各々好ましく、低濃度N型エピタキシャル層102のドーパントは燐とし、濃度は1×1015個/cm−3程度、厚みは1.8μm(仕上がり厚)が好ましく、高濃度P型ガードリング層103のドーパントはボロンとし、表面近傍のドーパント濃度は1×1017個/cm−3程度、拡散深さは1.0μm程度が好ましく、凹部104aの幅は1.0μm程度が好ましく、凹部104a内面に形成するシリコン酸化膜104bの厚みは0.3μm程度が好ましく、凹部104aの内部に充填するN型ポリシリコン104cのドーパントは燐とし、ドーパント濃度は1×1017個/cm−3程度が好ましく、ショットキーメタル105はチタン、モリブデン、クロム等の金属を用いるのが好ましい。
図1(c)、(d)は、トレンチ104の凹部104aの内面に形成したシリコン酸化膜104bの終端部分の断面構造図である。図1(c)に示すように、凹部104aの内面に形成したシリコン酸化膜104bが凹部104aの側壁部に終端部を持つ場合は、凹部104aの側壁に沿う形で終端部をテーパー形状にすると良い。図1の(d)に示すように、凹部104aの内面に形成したシリコン酸化膜104bが高濃度P型ガードリング層103の表面上、もしくは低濃度N型エピタキシャル層102の表面上まで延在し、そこに終端部を持つ場合は、各層の表面上に沿う形で終端部をテーパー形状にすると良い。このように終端部をテーパー形状にすることで、シリコン酸化膜104bの終端部とショットキー接合部との接点にかかる電界集中を緩和して、逆方向漏れ電流の増加やサージ耐量の低化を防ぐことができるのでより好ましい構成となる。
尚、本実施の形態では凹部104a内に充填するものをN型ポリシリコン104cとしたが、ショットキーメタル105とオーミックコンタクトを得られる導電体であれば、例えばAlやTiやCrやMoなどの単一あるいはこれらを含む合金としても良い。
本発明の半導体装置の製造方法を図2に基づいて説明する。図2は本発明の実施の形態1に係る半導体装置の製造過程の主な工程終了時点の断面を示している。図2において、101は高濃度N型シリコン基板、102は低濃度N型エピタキシャル層、103は高濃度P型ガードリング層、104はトレンチ、104aは凹部、104bはシリコン酸化膜、104cはN型ポリシリコン、105はショットキーメタル、307はレジスト膜、308はP型ドーパント注入層、311は酸化ポリシリコン層を各々示している。
図2(a)は初期酸化工程を示し、その終了時点の断面を示すものである。半導体基板の基層をなす高濃度N型シリコン基板101はN型ドーパントである砒素をドーパントとするものである。この高濃度N型シリコン基板101上にN型ドーパントである燐をドーパントとする低濃度N型エピタキシャル層102をエピタキシャル生長により形成する。低濃度N型エピタキシャル層102は高濃度N型シリコン基板101よりもドーパント濃度が低濃度である。低濃度N型エピタキシャル層102の表面上には1100℃の熱酸化によってシリコン酸化膜104bを形成する。
図2(b)は、凹部形成工程を示し、その終了時点の断面を示すものである。初期酸化工程の後に、シリコン酸化膜104bを選択的エッチング除去し、高濃度P型ガードリング層103の形成予定部の外周縁と内周縁とに接する位置で、かつ凹部104aの形成予定部に対応する部分のシリコン酸化膜104bに窓を形成する。残されたシリコン酸化膜104bをマスクとしてドライエッチング法にて低濃度N型エピタキシャル層102の層表面から高濃度N型シリコン基板101にまで達する一対の環状の凹部104aを形成する。
図2(c)は、凹部内面酸化工程を示し、その終了時点の断面を示すものである。凹部形成工程の後に、950℃の熱酸化によって各々の環状の凹部104aの内面に露出する低濃度N型エピタキシャル層102および高濃度N型シリコン基板101の表面にもシリコン酸化膜104bを形成する。
図2(d)は、ポリシリコン形成工程を示し、その終了時点の断面を示すものである。凹部内面酸化工程の後に、CVD法にて各々の凹部104aの内部にN型ドーパントである燐をドーピングされたN型ポリシリコン104cを堆積充填する。
図2(e)は、ガードリングイオン注入工程を示し、その終了時点の断面を示すものである。ポリシリコン形成工程の後に、凹部104aの開口を含む一方の主面の全面をレジスト膜307で覆い、両側を凹部104aに挟まれた高濃度P型ガードリング層103の形成予定部に対応する部分において膜307にフォトリソグラフィーによって環状に窓を形成する。残されたレジスト膜307をマスクとしてシリコン酸化膜104bに選択的エッチング除去を施し、高濃度P型ガードリング層103の形成予定部に対応する低濃度N型エピタキシャル層102を露出させる。露出した低濃度N型エピタキシャル層102に、P型ドーパントであるボロンを、ドーズ量1×1013個/cm−3程度で、注入エネルギー100KeV程度としてイオン注入し、P型ドーパント注入層308を形成する。
図2(f)は、ガードリング拡散工程を示し、その終了時点の断面を示すものである。ガードリングイオン注入工程の後に、レジスト膜307を除去して1100℃の熱処理を施し、P型ドーパント注入層308をドライブ拡散して低濃度N型エピタキシャル層102の表面から層内へ延在する高濃度P型ガードリング層103を形成する。
尚、この工程で高濃度P型ガードリング層103の表面は熱処理によって再度シリコン酸化膜104bで覆われる。また、P型ドーパント注入層308はシリコン酸化膜104b(凹部104aの内面に形成された部分)で囲まれているので、深さ方向へのみドライブ拡散され、高濃度P型ガードリング層103と低濃度N型エピタキシャル層102との界面で形成されるPN接合面はフラットな面となる。
さらに、N型ポリシリコン104cはバルクシリコンに比べて結晶性が低く、酸化速度が速くなるので、その表面から0.3μm程度の深さの酸化ポリシリコン311が形成される。
図2(g)は、コンタクト領域形成工程を示し、その終了時点の断面を示すものである。ガードリング拡散工程の後に、外側のトレンチ104の開口における酸化ポリシリコン311の外周縁を境として、その内側域にある酸化ポリシリコン311およびシリコン酸化膜104bとに選択的エッチング除去を施し、低濃度N型エピタキシャル層102の上のシリコン酸化膜104bと高濃度P型ガードリング層103の上のシリコン酸化膜104bと凹部104aの開口に形成された酸化ポリシリコン311とを除去して、N型ポリシリコン104cと高濃度P型ガードリング層103と低濃度N型エピタキシャル層102を露出させる。
この際に、酸化ポリシリコン311はバルクシリコンを熱酸化して形成したシリコン酸化膜104bよりも結晶性が低く、エッチング速度が速くなる。凹部104aの内面に形成されたシリコン酸化膜104bは、図2(c)に示したように、バルクシリコンである低濃度N型エピタキシャル層102から形成されたシリコン酸化膜104bである。よって、凹部104aの内部の酸化ポリシリコン311のエッチング速度が凹部104aの内面のシリコン酸化膜104bよりも速くなる。
ここで、上述のガードリング拡散工程で加えられた熱履歴によってシリコン酸化膜104bと酸化ポリシリコン311との界面の明確性が失われており、酸化ポリシリコン311と熱履歴の影響によりシリコン酸化膜104bは、凹部104aの開口に近い程にそのエッチング速度が速くなり、凹部の開口から深く(遠く)なる程に酸化ポリシリコン311と熱履歴の影響が和らいでエッチング速度が遅くなる。
よって、上述の選択的エッチング除去によってN型ポリシリコン104cと高濃度P型ガードリング層103と低濃度N型エピタキシャル層102との表面を露出させると、図1(c)に示したような、シリコン酸化膜104bの終端部が凹部104aの側壁に沿う形でテーパー状になる。
なお、図1の(d)に示したように、低濃度N型エピタキシャル層102の表面上にシリコン酸化膜104の終端部を形成する場合には、凹部104aの周辺の低濃度N型エピタキシャル層102の表面に熱酸化により形成したシリコン酸化膜104bに、CVD法によって燐をドープした酸化膜であるPSG(Phospho−Silicate−Glass)を形成し、燐濃度が高い程にエッチング速度が速くなることを利用する選択的エッチングを施すことで、低濃度N型エピタキシャル層102の表面上に形成するシリコン酸化膜104bの終端部をテーパー状に形成する。
図2(h)は、ショットキーメタル形成工程を示し、その終了時点の断面を示すものである。コンタクト領域形成工程の後に、半導体基板の一方の主面側に、ショットキーメタル105を電子ビーム蒸着により被着させる。ショットキーメタル105は、コンタクト領域形成工程における選択的エッチング除去によりシリコン酸化膜104bから露出した範囲、つまりトレンチ104の開口におけるN型ポリシリコン104cとシリコン酸化膜104bの表面、高濃度P型ガードリング層103の表面、低濃度N型エピタキシャル層102の表面を覆うとともに周囲のシリコン酸化膜104bの上まで延在させる。
尚、この後、ショットキーメタル105を覆う表面電極(図示せず)を蒸着にて形成し、高濃度N型シリコン基板101を研削研磨にて厚み調整の上、半導体基板の他方の主面である高濃度N型シリコン基板101の表面に裏面電極(図示せず)をメタライズ形成する。
(実施の形態2)
図4は、本発明の実施の形態2におけるショットキーバリア半導体装置を示す要部断面である。図4において、106は第2のトレンチ、106aは凹部、106bはシリコン酸化膜、106cはN型ポリシリコンを示しており、図1と同じ構成要素については同じ符号を用いてその説明を省略する。
(実施の形態2)
図4は、本発明の実施の形態2におけるショットキーバリア半導体装置を示す要部断面である。図4において、106は第2のトレンチ、106aは凹部、106bはシリコン酸化膜、106cはN型ポリシリコンを示しており、図1と同じ構成要素については同じ符号を用いてその説明を省略する。
図4において、ショットキーバリア半導体装置は、両側の一対の環状のトレンチ104の間に挟まれたガードリング層103を分割して配置する別途の環状のトレンチ106を設けている。本実施の形態2ではガードリング層103の両側に配置する一対のトレンチ104を第1のトレンチと称し、中間に位置するトレンチ106を第2のトレンチと称する。
第2のトレンチ106は高濃度P型ガードリング層103を分割する環状の凹部106aを有し、凹部106aはガードリング層103の層表面から高濃度N型シリコン基板101にまで達する。凹部106aの内部には、N型ポリシリコン106cがシリコン酸化膜106bを介して充填してある。その他の構成は図1と同様である。
このため、本実施の形態2では、第1のトレンチ104の間に、高濃度P型ガードリング層103を分割して高濃度N型シリコン基板101まで達する第2のトレンチ106を新たに形成したことで、ショットキーメタル105に接続された高濃度P型ガードリング層103の下方領域において、高濃度N型シリコン基板101と低濃度N型エピタキシャル層102との界面上に凹部106aとの境界をなす一対の新たな稜線(Y部)が第2のトレンチ106の内周側および外周側に同心状に形成される。
このため、分割された高濃度P型ガードリング層103の夫々の下方領域に、対をなす稜線(Y部)が同心状に形成され、全体として稜線(Y部)が同心状に二対形成された構成となる。
この構成により、逆方向電圧の印加時には、分割された高濃度P型ガードリング層103の夫々の下方領域において、対をなす各々の稜線(Y部)から主として相互に近付く方向に空乏層が拡がり合い、互いの稜線(Y部)間の距離を所定の範囲、例えば5μm以下望ましくは3μm以下に設定することで空乏層同士が繋がって一体と成り、分割された各高濃度P型ガードリング層103と低濃度N型エピタキシャル層102との界面で形成されるPN接合面をピンチオフする。
このため、高濃度P型ガードリング層103と低濃度N型エピタキシャル層102との界面で形成されるPN接合面の面積を、実施の形態1の構成よりも拡大できるので、実施の形態1と同じ作用効果を得ると共に、より大きなサージ耐量を得ることが可能である。
尚、本発明の実施の形態2においては、一例として第1のトレンチ104で挟まれる間に、一つの第2のトレンチ106を設ける構成としたが、これに限定されるものでは無く、複数の第2のトレンチ106を設けても良い。
さらに、高濃度P型ガードリング層103を等間隔に分割する様に第1のトレンチ104および第2のトレンチ106を形成することが望ましい。この好ましい一例によれば、電界と電流の偏りを防いで半導体装置としての動作特性をより確実なものとできる。
(実施の形態3)
図5は、本発明の実施の形態3におけるショットキーバリア半導体装置を示す要部断面である。図5において、107はN型半導体層を示しており、図1と同じ構成要素については同じ符号を用いてその説明を省略する。
(実施の形態3)
図5は、本発明の実施の形態3におけるショットキーバリア半導体装置を示す要部断面である。図5において、107はN型半導体層を示しており、図1と同じ構成要素については同じ符号を用いてその説明を省略する。
図5において、ショットキーバリア半導体装置は、高濃度N型シリコン基板101の上にN型半導体層107を形成しており、N型半導体層107の上に低濃度N型エピタキシャル層102を形成している。N型半導体層107のドーパント濃度は、高濃度N型シリコン基板101よりも低濃度で、かつ低濃度N型エピタキシャル層102よりも高濃度である。トレンチ104は、低濃度N型エピタキシャル層102の表面からN型半導体層107を通り、高濃度N型シリコン基板101にまで達している。その他の構成は図1と同様である。
このため、本実施の形態3では、トレンチ104が低濃度N型エピタキシャル層102およびN型半導体層107を貫通して高濃度N型シリコン基板101に達することで、ショットキーメタル105に接続された高濃度P型ガードリング層103の下方領域において、高濃度N型シリコン基板101とN型半導体層107との界面上に凹部104aとの境界をなす稜線(Z部)が同心状に形成され、N型半導体層107と低濃度N型エピタキシャル層102との界面上に凹部104aとの境界をなす稜線(Z’部)が同心状に形成される。
このため、高濃度P型ガードリング層103の下方領域に、内側および外側のトレンチ104の間で対をなす稜線(Z部もしくはZ’部)がN型半導体層107を介して上下に二対形成された構成となる。
上記の構成によれば、逆方向電圧の印加時に、高濃度P型ガードリング層103の下領域で、高濃度N型シリコン基板101とN型半導体層107との界面における稜線(Z部)の近傍で電界集中が起き、N型半導体層107と低濃度N型エピタキシャル層102との界面における稜線(Z´部)近傍でも電解集中が起きる。
これら二対の電解集中部(Z部とZ´部)によって高濃度P型ガードリング層103の外周縁と内周縁との距離(第1のトレンチ104同士の距離)が実施の形態1の構成と同じであるとしても、実施の形態1よりもさらに大きな作用効果を得ることが出来る。
尚、本発明の実施の形態3においては、高濃度N型シリコン基板101とN型半導体層107と低濃度N型エピタキシャル層102との三層として電界集中部を二対(Z部とZ´部)としたが、これに限定されるものでは無く、さらに濃度差をもたせたN型半導体からなる層を設けて三対以上の電界集中部を形成する構成としても良い。
また、本発明の実施の形態1から3における各層の導電型を相互に反対に入れ替えた構成も可能であり、その場合には電圧と電流が反対方向と成る。
本発明は耐電圧およびサージ耐量と順方向電圧降下とを両立して向上させるものに適しているので、ショットキーバリア半導体装置として有用である。
101 高濃度N型シリコン基板
102 低濃度N型エピタキシャル層
103 高濃度P型ガードリング層
104、106 トレンチ
104a、106a 凹部
104b、106b、404 シリコン酸化膜
104c、106c、405 N型ポリシリコン
105、406 ショットキーメタル
107 N型半導体層
307 レジスト膜
308 P型ドーパント注入層
311 酸化ポリシリコン
401 N+型シリコン基板
402 N−型エピタキシャル層
403 P+型ガードリング層
102 低濃度N型エピタキシャル層
103 高濃度P型ガードリング層
104、106 トレンチ
104a、106a 凹部
104b、106b、404 シリコン酸化膜
104c、106c、405 N型ポリシリコン
105、406 ショットキーメタル
107 N型半導体層
307 レジスト膜
308 P型ドーパント注入層
311 酸化ポリシリコン
401 N+型シリコン基板
402 N−型エピタキシャル層
403 P+型ガードリング層
Claims (12)
- 半導体基板が、基層の上に同じ導電型の低濃度エピタキシャル層を形成し、前記低濃度エピタキシャル層に異なる導電型のガードリング層を層表面から層内に延在して環状に形成してなり、
前記半導体基板に設ける凹部に前記凹部内面に形成する絶縁皮膜を介してショットキーメタルとオーミックコンタクトを得る導電体を充填してなるトレンチを有し、
前記ガードリング層の外周縁と内周縁とに沿って環状をなす一対の前記トレンチを前記低濃度エピタキシャル層の層表面から前記基層に達するまで形成し、半導体基板の一方の主面に形成する前記ショットキーメタルが前記トレンチと前記ガードリング層と前記ガードリング層によって囲まれる前記低濃度エピタキシャル層に接合することを特徴とする半導体装置。 - 前記ガードリング層は、前記トレンチの相互間に挟まれる内周縁から外周縁までの距離が5μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記ガードリング層の両側に配置する前記トレンチを第1のトレンチとして、前記ガードリング層を両側の前記トレンチの間で分割する単数または複数の第2のトレンチを前記ガードリング層の層表面から前記基層に達するまで形成したことを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
- 前記第2のトレンチにて、前記第1のトレンチの相互間に挟まれる前記ガードリング層を等間隔に分割することを特徴とする請求項3に記載の半導体装置。
- 前記第1のトレンチと前記第2のトレンチとの距離、または前記第2のトレンチの相互間の距離が5μm以下であることを特徴とする請求項4に記載の半導体装置。
- 前記基層と前記低濃度エピタキシャル層との層間に同じ導電型の半導体層を形成したことを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の半導体装置。
- 前記基層と前記低濃度エピタキシャル層との層間に同じ導電型の複数の半導体層を形成し、前記半導体層の各層におけるドーパント濃度は、前記基層のドーパント濃度より低く、前記低濃度エピタキシャル層のドーパント濃度より高く、かつ前記低濃度エピタキシャル層に近い層である程にドーパント濃度が低濃度であることを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の半導体装置。
- 前記トレンチの凹部内面に形成する絶縁皮膜が、前記凹部内面上にテーパー状の終端部を有することを特徴とする請求項1〜7の何れか1項に記載の半導体装置。
- 前記トレンチの凹部内面に形成する絶縁皮膜が、前記トレンチの周辺の前記低濃度エピタキシャル層上および前記ガードリング層上にまで延在してテーパー状の終端部を有することを特徴とする請求項1〜7の何れか1項に記載の半導体装置。
- 請求項1〜9の何れか1項に記載の半導体装置を用いたことを特徴とする半導体パッケージ。
- 請求項1〜9の何れか1項に記載の半導体装置を用いたことを特徴とする電源回路。
- 半導体層にトレンチの凹部を形成し、前記凹部に結晶性の異なる複数の絶縁層を形成し、前記絶縁層にエッチングを施し、前記絶縁層の各層のエッチング速さの差異を利用してエッチングの仕上がり形状を操作し、前記絶縁層の終端部をテーパー形状に形成する工程を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007062709A JP2008227113A (ja) | 2007-03-13 | 2007-03-13 | 半導体装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007062709A JP2008227113A (ja) | 2007-03-13 | 2007-03-13 | 半導体装置およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008227113A true JP2008227113A (ja) | 2008-09-25 |
Family
ID=39845386
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007062709A Withdrawn JP2008227113A (ja) | 2007-03-13 | 2007-03-13 | 半導体装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008227113A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012009756A (ja) * | 2010-06-28 | 2012-01-12 | Shindengen Electric Mfg Co Ltd | ショットキーバリアダイオード及びその製造方法 |
WO2014099918A1 (en) * | 2012-12-18 | 2014-06-26 | International Business Machines Corporation | Moat construction to reduce noise coupling to a quiet supply |
-
2007
- 2007-03-13 JP JP2007062709A patent/JP2008227113A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012009756A (ja) * | 2010-06-28 | 2012-01-12 | Shindengen Electric Mfg Co Ltd | ショットキーバリアダイオード及びその製造方法 |
WO2014099918A1 (en) * | 2012-12-18 | 2014-06-26 | International Business Machines Corporation | Moat construction to reduce noise coupling to a quiet supply |
US8994117B2 (en) | 2012-12-18 | 2015-03-31 | International Business Machines Corporation | Moat construction to reduce noise coupling to a quiet supply |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10157986B2 (en) | Silicon carbide semiconductor device and method for manufacturing same | |
JP4456013B2 (ja) | 半導体装置 | |
US10243067B2 (en) | Semiconductor device and method for manufacturing the same | |
US9825164B2 (en) | Silicon carbide semiconductor device and manufacturing method for same | |
WO2015145929A1 (ja) | 半導体装置 | |
JP6415749B2 (ja) | 炭化珪素半導体装置 | |
US7915705B2 (en) | SiC semiconductor device having outer periphery structure | |
KR101745437B1 (ko) | 바이폴라 넌-펀치-쓰루 전력 반도체 디바이스 | |
JP7182850B2 (ja) | 炭化珪素半導体装置および炭化珪素半導体装置の製造方法 | |
JP5939448B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
US20150115314A1 (en) | Semiconductor device and manufacturing method of the same | |
WO2016046900A1 (ja) | 炭化ケイ素半導体装置、炭化ケイ素半導体装置の製造方法及び炭化ケイ素半導体装置の設計方法 | |
US11251299B2 (en) | Silicon carbide semiconductor device and manufacturing method of same | |
JP2018537859A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
CN113826213A (zh) | 碳化硅半导体装置及其制造方法 | |
JP2008235590A (ja) | 半導体装置 | |
JP6005903B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2008227113A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP2004200441A (ja) | 半導体装置とその製造方法 | |
JP2006086549A (ja) | 電界効果トランジスタ及びその製造方法 | |
JP2007235064A (ja) | ショットキーバリア半導体装置及びその製造方法 | |
TWI538055B (zh) | 接面位障蕭特基二極體的製造方法 | |
JP2004356534A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP2017092364A (ja) | 半導体装置および半導体装置の製造方法 | |
JP2019125625A (ja) | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090723 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20111116 |