JP2008225374A - フォトニック結晶構造を備える素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】フォトニック結晶構造を形成する際に、保護層の変形を抑制して、容易にフォトニック結晶構造を備える素子を製造する方法を提供する。
【解決手段】第1の部分と、第1の部分を構成する材料と異なる屈折率の材料からなる第2の部分とを含むフォトニック結晶層とを備えた、フォトニック結晶構造を備える素子の製造方法は、まず、基板を準備する準備工程(S10)を実施する。そして、基板上に、第1の部分を構成する膜を形成する膜形成工程(S20)を実施する。そして、膜上に、開口部を有する金属マスクを形成する金属マスク形成工程(S30)を実施する。そして、金属マスクを保護層として、膜から第2の部分となる領域を除去することにより、第1の部分を形成する第1の部分形成工程(S40)を実施する。そして、金属マスクを除去する金属マスク除去工程(S60)を実施する。そして、領域を埋め込むように第2の部分を構成する膜を形成する第2の部分形成工程(S70)を実施する。
【選択図】図2
【解決手段】第1の部分と、第1の部分を構成する材料と異なる屈折率の材料からなる第2の部分とを含むフォトニック結晶層とを備えた、フォトニック結晶構造を備える素子の製造方法は、まず、基板を準備する準備工程(S10)を実施する。そして、基板上に、第1の部分を構成する膜を形成する膜形成工程(S20)を実施する。そして、膜上に、開口部を有する金属マスクを形成する金属マスク形成工程(S30)を実施する。そして、金属マスクを保護層として、膜から第2の部分となる領域を除去することにより、第1の部分を形成する第1の部分形成工程(S40)を実施する。そして、金属マスクを除去する金属マスク除去工程(S60)を実施する。そして、領域を埋め込むように第2の部分を構成する膜を形成する第2の部分形成工程(S70)を実施する。
【選択図】図2
Description
本発明は、フォトニック結晶構造を備える素子の製造方法に関するものであり、より特定的には、金属マスク層を用いてフォトニック結晶構造を備える素子を製造する方法に関する。
光の波長レベルと同程度の周期的な屈折率分布を内部にもつ光学材料として、屈折率が異なる2の物質が光の波長程度の周期で規則正しく繰り返し並んだ、フォトニック結晶が知られている。近年、フォトニック結晶を用いて、種々の受発光デバイスの研究が進められている。このようなフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法は、たとえば非特許文献1に開示されている。以下、非特許文献1に開示のフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法について、図18〜図22を用いて説明する。なお、図18は、従来例のレジストを形成する工程を示す概略斜視図である。図19は、従来例のレジストパターンを形成する工程を示す概略斜視図である。図20は、従来例の第1の部分を形成する工程を示す概略斜視図である。図21は、従来例のレジストパターンを示す俯瞰図である。図22は、従来例のレジストパターンを示す別の俯瞰図である。
具体的には、まず、図18に示すように、基板を含むエピタキシャル成長層510上に、屈折率が相対的に低い材料からなる低屈折率材料からなる膜501a1を形成する。次に、膜501a1上にZEP 520Aのレジスト530を形成する。次に、図19に示すように、電子ビーム(EB)による露光および現像により、レジスト530に開口部を有するパターンを形成する。次に、図20によりCHF3ガスを用いたRIE(Reactive Ion Etching:反応性イオンエッチング)により、パターンを有するレジスト530をマスクとして膜501a1を除去する。これにより、フォトニック結晶層の低屈折率材料からなる膜501a1を柱状の第1の部分501aに形成できる。次に、低屈折率材料からなる柱状の第1の部分501aを埋め込むように、相対的に屈折率の高い材料からなる層を第2の部分(図示せず)として、エピタキシャル成長層510上に形成する。これにより、第1の部分501aと第2の部分とからなるフォトニック結晶構造を有する素子を製造できる。
また、非特許文献2には、レジスト530の代わりに、ポーラスアルミナをマスクとしてフォトニック結晶層の低屈折率材料からなる膜501a1を柱状の第1の部分501aに形成している。
Y.-S.Choi,K.Hennessy,R.Sharma,E.Haberer,Y.Gao,S.P.DenBaars,S.Nakamura,and E.L.Hu,"GaN blue photonic crystal membrane nanocavities" APPLIED PHYSICS LETTERS 87,243101(2005) Y.D.Wang,K.Y.Zang,and S.J.Chua,"Nanoair-bridged lateral overgrowth of GaN on ordered nanoporous GaN template" APPLIED PHYSICS 87,251915(2005)
Y.-S.Choi,K.Hennessy,R.Sharma,E.Haberer,Y.Gao,S.P.DenBaars,S.Nakamura,and E.L.Hu,"GaN blue photonic crystal membrane nanocavities" APPLIED PHYSICS LETTERS 87,243101(2005) Y.D.Wang,K.Y.Zang,and S.J.Chua,"Nanoair-bridged lateral overgrowth of GaN on ordered nanoporous GaN template" APPLIED PHYSICS 87,251915(2005)
しかしながら、フォトニック結晶構造を形成するためには、微細なパターンを有するマスクを用いる必要がある。そのため、低屈折率材料を直径100nm以下の柱状に形成する場合には、非特許文献1に開示のレジストの厚みは、200nmを越えて400nm以下必要となる。すなわち、アスペクト比が2〜4程度必要となる。その結果、図21および図22に示すように、レジストを柱状に形成すると、レジストが傾斜する場合や、倒れてしまう場合があるという問題があった。レジストが変形すると、レジストをマスクとしてドライエッチングされる低屈折率材料の形状が歪んでしまう。
また、非特許文献2に開示のポーラスアルミナをマスクとする場合には、低屈折率材料のエッチングレートに対するレジストのエッチングレートの比である選択比が高いが、ポーラスアルミナを作製する際に、液中で陽極酸化をする工程が必要となる。そのため、パターン形成が複雑であるので、製造プロセス全体としても複雑である。
それゆえ本発明の目的は、フォトニック結晶構造を形成する際に、保護層の変形を抑制して、容易にフォトニック結晶構造を備える素子を製造する、フォトニック結晶構造を備える素子の製造方法を提供することである。
本発明にしたがったフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法は、基板と、基板上に形成された第1の部分と、第1の部分を構成する材料と異なる屈折率の材料からなる第2の部分とを含むフォトニック結晶層とを備えた、フォトニック結晶構造を備える素子の製造方法であって、以下の工程を実施する。まず、基板を準備する準備工程を実施する。そして、基板上に、第1の部分を構成する膜を形成する膜形成工程を実施する。そして、膜上に、開口部を有する金属マスクを形成する金属マスク形成工程を実施する。そして、金属マスクを保護層として、膜から第2の部分となる領域を除去することにより、第1の部分を形成する第1の部分形成工程を実施する。そして、金属マスクを除去する金属マスク除去工程を実施する。そして、領域を埋め込むように第2の部分を構成する膜を形成する第2の部分形成工程を実施する。
本発明のフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法によれば、金属マスクを用いているので、金属マスクが微細な構造であっても金属マスクの変形を抑制できる。特に、金属マスクが柱状または錘状である場合、すなわち第1の部分を柱状または錘状に形成する場合に、従来の保護層は変形しやすかった観点から、本発明は効果的である。また、金属マスク層形成工程および金属マスク除去工程を実施することにより、金属マスクの変形を抑制できるので、容易にフォトニック結晶構造を備える素子を製造できる。
上記フォトニック結晶構造を備える素子の製造方法において好ましくは、第1の部分形成工程において、第2の部分となる領域に付着する残渣を除去する残渣除去工程をさらに備えている。
これにより、第2の部分形成工程で形成される第2の部分と第2の部分下の層との界面において、電気的障壁を低減できる。そのため、性能を向上したフォトニック結晶構造を備える素子を製造できる。
上記フォトニック結晶構造を備える素子の製造方法において好ましくは、第1の部分形成工程では、膜から第2の部分となる領域をドライエッチングにより除去する。
これにより、第1の部分形成工程において、形状の精度を向上して第1の部分を形成できる。
上記フォトニック結晶構造を備える素子の製造方法において好ましくは、膜形成工程では、第2の部分を構成する材料よりも屈折率が低い材料からなる膜を形成する。
これにより、第2の部分形成工程において、エピタキシャル成長により第2の部分を形成できるので、より容易にフォトニック結晶構造を備える素子を製造できる。
上記フォトニック結晶構造を備える素子の製造方法において好ましくは、金属マスク形成工程は、膜上に、開口部を有するレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、レジストパターン上に、レジストパターンの厚みより薄い厚みの金属層を形成する金属層形成工程と、レジストパターンを除去するリフトオフ工程とを含んでいる。
金属マスクをリフトオフ法で形成できるので、所望の形状を金属マスクに転写できる。また、レジスト形成工程および金属層形成工程を連続して実施するため、形状の変形を抑制できる金属層をレジストの開口部に形成できる。そのため、高いアスペクト比のレジストパターンを形成した場合であっても、安定して金属層に開口部を形成できる。
上記フォトニック結晶構造を備える素子の製造方法において好ましくは、金属マスク形成工程は、膜上に、金属層を形成する金属層形成工程と、金属層上に、第2の部分となるべき領域に開口部が形成されたレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、レジストパターンを保護層としてエッチングにより、開口部から露出した金属層を除去するエッチング工程とを含んでいる。
エッチング工程におけるエッチングを施す時間を調整することにより、金属マスクの開口部の形状について、一層の細径化を図ることができる。そのため、所望の形状を金属マスクに転写できる。
上記フォトニック結晶構造を備える素子の製造方法において好ましくは、金属マスク形成工程は、膜上に、金属層を形成する金属層形成工程と、金属層上に、第2の部分となるべき領域に開口部が形成されたレジストパターンを形成するレジスト形成工程と、レジストパターンを保護層として、イオン照射により開口部から露出した金属層を除去するミリング工程とを含んでいる。
金属マスクをミリングにより形成できるので、所望の形状を金属マスクに転写できる。
このように、本発明によれば、金属マスクを用いて第1の部分を形成しているので、フォトニック結晶構造を形成する際に、保護層の変形を容易に抑制してフォトニック結晶構造を備える素子を製造できる。
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の図面において同一または相当する部分には同一の参照符号を付しその説明は繰り返さない。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1におけるフォトニック結晶構造を備える素子を示す概略断面図である。図1を参照して、本発明の実施の形態1におけるフォトニック結晶構造を備える素子を説明する。図1に示すように、本実施の形態のフォトニック結晶構造を備える素子100は、基板111と、基板111上に形成された第1の部分101aと、第1の部分101aを構成する材料と異なる屈折率の材料からなる第2の部分101bとを含むフォトニック結晶層101とを備えている。なお、フォトニック結晶構造とは、屈折率が周期的に変化する構造体を意味する。
図1は、本発明の実施の形態1におけるフォトニック結晶構造を備える素子を示す概略断面図である。図1を参照して、本発明の実施の形態1におけるフォトニック結晶構造を備える素子を説明する。図1に示すように、本実施の形態のフォトニック結晶構造を備える素子100は、基板111と、基板111上に形成された第1の部分101aと、第1の部分101aを構成する材料と異なる屈折率の材料からなる第2の部分101bとを含むフォトニック結晶層101とを備えている。なお、フォトニック結晶構造とは、屈折率が周期的に変化する構造体を意味する。
具体的には、図1に示すように、実施の形態1におけるフォトニック結晶構造を備える素子100は、基板111と、n型バッファ層112と、n型クラッド層113と、活性層114と、ガイド層115と、p型電子ブロック層116と、p型上ガイド層117と、フォトニック結晶層101と、p型クラッド層118と、p型コンタクト層119と、p型電極121と、n型電極122とを備えている。
図1に示すように、基板111は、主面111a,111bを有し、たとえば厚さが100μmのn型GaN(窒化ガリウム)よりなっている。n型バッファ層112は、基板111上に形成され、たとえば厚さが1μmのn型GaNよりなっている。n型クラッド層113は、n型バッファ層112上に形成され、たとえば厚さが0.5μmのn型AlGaNよりなっている。活性層114は、n型クラッド層113上に形成され、たとえば厚さが0.1μmである。ガイド層115は、活性層114上に形成され、たとえば厚さが0.1μmのアンドープGaNよりなっている。p型電子ブロック層116は、ガイド層115上に形成され、たとえば厚さが0.01μmのp型AlGaNよりなっている。p型上ガイド層117は、p型電子ブロック層116上に形成され、たとえば厚さが0.01μmのp型GaNよりなっている。フォトニック結晶層101は、p型上ガイド層117上に形成され、第1の部分101aと、第1の部分101aを構成する材料と異なる屈折率の材料からなる第2の部分101bとを含んでいる。p型クラッド層118は、フォトニック結晶層101上に形成され、たとえば厚さが0.5μmのp型のAlGaNよりなっている。p型コンタクト層119は、p型クラッド層118上に形成され、たとえば厚さが0.1μmのp型のGaNよりなっている。
フォトニック結晶層101は、基板111の主面111aが延びる方向に沿って基板111上に(図1ではp型上ガイド層117の上部表面上に)形成されている。フォトニック結晶層101は、第1の部分101aと、第1の部分101aを構成する材料と異なる屈折率の材料からなる第2の部分101bとを含んでいる。
実施の形態1におけるフォトニック結晶層101においては、第1の部分101aを構成する材料は、第2の部分101bを構成する材料の屈折率よりも低い。たとえば、第1の部分101aは、屈折率が約1.46の酸化シリコン(SiO2)からなり、第2の部分101bは、屈折率が2.54のGaNからなっている。第1および第2の部分101a,101bを構成する材料の屈折率の差を大きくとると、第2の部分101bの媒質内に光を閉じ込めることができるため、有利である。なお、第1の部分101aは、酸化シリコンに限定されず、他の材料からなっていてもよい。
第1の部分101aは、一定の向きに整列している。実施の形態1における一定の向きとは、後述する図8および図9において左右方向および当該左右方向に対して60°の傾斜角度で延びる方向としている。つまり、フォトニック結晶層101の第1の部分101aは、三角格子を形成している。なお、第1の部分101aの配列は三角格子状に限定されず、第2の部分101bの配列が三角格子であってもよいし、第1または第2の部分101a,101bの配列が正方格子であってもよい。ここで、三角格子とは、任意の第1の部分101aと近接(または隣接)する第1の部分101aの数が6となる場合を意味する。また、正方格子とは、任意の第1の部分101aと近接(または隣接)する第1の部分101aの数が8となる場合を意味する。
また、第1の部分101aの中心間を結ぶ距離であるピッチP(図9参照)は、400nm程度の光に有効である観点から、たとえば180nm以下としている。
活性層114は、たとえばInGaNおよびGaNよりなる多重量子井戸構造により構成されている。なお、活性層114は、単一の半導体材料よりなっていてもよい。
n型クラッド層113およびp型クラッド層118は、活性層114に与えられるべきキャリアが伝導する導電層として機能する。このため、n型クラッド層113およびp型クラッド層118は、活性層114を挟むように設けられている。また、n型クラッド層113、p型電子ブロック層116、およびp型クラッド層118は、それぞれ、活性層114にキャリア(電子および正孔)を閉じ込める閉じ込め層として機能する。つまり、n型クラッド層113、活性層114、p型電子ブロック層116、およびp型クラッド層118は、ダブルヘテロ接合を形成している。このため、発光に寄与するキャリアを活性層114に集中させることができる。
また、p型電子ブロック層116は、フォトニック結晶層101への電子の進入をブロックするブロック層としても機能する。これにより、フォトニック結晶層101内で電子と正孔とが非発光再結合するのを抑止することができる。
p型コンタクト層119は、p型電極121との接触をオーミック接触にするために形成される。p型コンタクト層119はたとえばp型のGaNよりなっている。
p型コンタクト層119の上には円形状のp型電極121が設けられており、基板111の主面111aとは反対側の主面111bには、一面に(主面111b全体を覆うように)n型電極122が設けられている。p型電極121およびn型電極122は、たとえばAu(金)などよりなっている。
次に、図1〜図9を参照して、実施の形態1における、基板111と、基板111上に形成された第1の部分101aと、第1の部分101aを構成する材料と異なる屈折率の材料からなる第2の部分101bとを含むフォトニック結晶層101とを備えた、フォトニック結晶構造を備える素子100の製造方法について説明する。なお、図2は、本発明の実施の形態1におけるフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法を示すフローチャートである。図3は、本発明の実施の形態1におけるレジストを塗布する工程を示す概略斜視図である。図4は、本発明の実施の形態1における金属マスク形成工程を示すフローチャートである。図5は、本発明の実施の形態1におけるレジストパターン形成工程を示す概略斜視図である。図6は、本発明の実施の形態1における金属層形成工程を示す概略斜視図である。図7は、本発明の実施の形態1における金属マスク形成工程を示す概略斜視図である。図8は、本発明の実施の形態1における第1の部分形成工程を示す概略斜視図である。図9は、本発明の実施の形態1における第2の部分形成工程を示す概略斜視図である。
まず、図1および図2に示すように、基板111を準備する準備工程(S10)を実施する。実施の形態1における準備工程(S10)では、基板111を含むエピタキシャル成長層110を形成するために、以下の工程を実施している。
具体的には、たとえば厚さが300μmのn型GaNからなる基板111を準備する。そして、基板111上に、たとえばMOCVD(Metal-organic chemical vapor deposition:有機金属気相成長)法を用いて、厚さが1μmのn型GaNよりなるn型バッファ層112を形成する。そして、n型バッファ層112上に、たとえばMOCVD法を用いて、厚さが0.5μmのn型AlGaNよりなるn型クラッド層113を形成する。そして、n型クラッド層113上に、たとえばMOCVD法を用いて、厚さが0.1μmのInGaNとGaNとが積層された多重量子井戸構造の活性層114を形成する。そして、活性層114上に、たとえばMOCVD法を用いて、たとえば厚さが0.1μmのアンドープGaNよりなるガイド層115を形成する。そして、ガイド層115上に、たとえばMOCVD法を用いて、厚さが0.01μmのp型AlGaNよりなるp型電子ブロック層116を形成する。そして、p型電子ブロック層116上に、たとえばMOCVD法を用いて、厚さが0.01μmのp型GaNよりなるp型上ガイド層117を形成する。これにより、基板111と、n型バッファ層112と、n型クラッド層113と、活性層114と、ガイド層115と、p型電子ブロック層116と、p型上ガイド層117とを含むエピタキシャル成長層110を準備する。
次に、図2および図3に示すように、基板111上に、第1の部分101aを構成する膜101a1を形成する膜形成工程(S20)を実施する。膜形成工程(S20)で形成される膜101a1は、後述する第1の部分形成工程(S40)でフォトニック結晶層101における第1の部分101aに形成される。
具体的には、膜形成工程(S20)では、図3に示すように、エピタキシャル成長層110上に、たとえば酸化シリコンからなる膜101a1をプラズマCVD(Chemical Vapor Deposition:化学気相成長)法により形成する。膜形成工程(S20)では、第1の部分101aの厚みを考慮した厚みの膜101a1を形成することが好ましく、たとえば厚みが10nm〜500nmの膜101a1を形成する。
なお、膜形成工程(S20)において用いられる膜101a1の材料は、第2の部分101bを構成する材料の屈折率と異なっていれば、酸化シリコンに特に限定されず、任意に選択できる。また、膜形成工程(S20)では、膜101a1を形成する方法は、プラズマCVD法に特に限定されず、一般公知の方法を任意に用いることができる。
次に、図2〜図8に示すように、膜101a1上に、開口部141aを有する金属マスク141を形成する金属マスク形成工程(S30)を実施する。実施の形態1における金属マスク形成工程(S30)では、リフトオフにより形成している。
図4に示すように、実施の形態1における金属マスク形成工程(S30)では、膜101a1上に、開口部131aを有するレジストパターン131を形成するレジストパターン形成工程(S31)と、レジストパターン131上に、レジストパターン131の厚みより薄い厚みの金属層140を形成する金属層形成工程(S32)と、レジストパターン131を除去するリフトオフ工程(S33)とを含んでいる。これらの工程(S31〜S33)を実施することにより、開口部141aを有する金属マスク141を形成できる。具体的には、以下のような処理を行なう。
まず、図3〜図5に示すように、膜101a1上に、開口部131aを有するレジストパターン131を形成するレジストパターン形成工程(S31)を実施する。レジストパターン形成工程(S31)では、まず、エピタキシャル成長層110上にレジスト130を塗布する工程を実施する。この工程では、開口部131aを形成できる程度の厚みを有するレジスト130を、膜101a1の表面全体に塗布する。
塗布されるレジスト130は、特に限定されないが、たとえば、EB(電子ビーム)露光用レジスト(日本ゼオン(株)製 ZEP520)などを用いることができる。
なお、レジスト130を塗布する工程では、レジスト130の代わりに、たとえば、SiNなどの絶縁膜などにEB描写パターンをエッチング転写したマスクを形成してもよい。また、レジスト130とともに、またはレジスト130の代わりに、多層のマスクを形成してもよい。
そして、露光を行なう工程を実施する。露光は、たとえば、EB(電子ビーム)露光によって、塗布された露光用のレジスト130に直接パターンを描写する。このパターンは所定形状とし、実施の形態1では、略同一で一定の方向に整列した円形が抜けた形状としている。一定の方向として、実施の形態1では三角格子としている。また、隣接する円形の中心間の距離であるピッチPは、たとえば180nm以下、円形の直径は、たとえば100nm以下と微細にしている。
なお、露光によって描写されるパターンは、特に限定されないが、三角格子や正方格子など一定の向きに整列していることが好ましい。また、パターンは、上方から見た時の形状が円形や矩形、または円形または矩形が抜けた形状などであってもよいが、後述する第1の部分形成工程(S40)で形成される第1の部分101aが柱状または錘状であることが好ましい観点から、円形や矩形が抜けた形状であることが好ましい。
次いで、現像を行なう工程を実施する。具体的には、レジスト130においてEBで露光された部分を溶かす。現像を行なう工程で用いる現像液は特に限定されないが、たとえば有機系溶剤を用いることができる。これにより、描写されたパターンが反映された開口部131aが形成されたレジストパターン131が得られる。
実施の形態1では、パターンの形状から、略同一で一定の方向に整列した平面形状が円形である、複数の開口部131aを有するレジストパターン131が形成される。これにより、膜101a1上に、開口部131aを有するレジストパターン131を形成することができる。
次に、図4および図6に示すように、レジストパターン131上に、レジストパターン131の厚みより薄い厚みの金属層140を形成する金属層形成工程(S32)を実施する。金属層形成工程(S32)では、たとえば電子ビーム蒸着法により、蒸着源であるレジストパターン131および開口部131a下の膜101a1上に垂直に飛ばして、厚みが10nm以上20nm以下のNi(ニッケル)などからなる金属層140を形成する。形成される金属層140は、特に限定されないが、NiやAl(アルミニウム)を用いることができ、これらの金属はマスクとして使用した後に残る残渣を減少して除去できる観点から好ましい。
また、金属層形成工程(S32)で形成される金属層140の厚みは、レジストパターン131の厚みより薄ければ特に限定されない。レジストパターン形成工程(S31)において、第1の部分101aを形成するための形状を有するレジストパターン131の厚みは、200nm未満の範囲内で、所定の厚みが必要であることから、金属層140の厚みは200nm未満であることが好ましい。
次に、図3および図7に示すように、レジストパターン131を除去するリフトオフ工程(S33)を実施する。リフトオフ工程(S33)では、たとえば、金属層形成工程(S32)においてレジストパターン131上に金属層140が形成された状態で、レジストパターン131を溶解させる液中に浸す。レジストパターン131を除去する液として、たとえば有機溶剤を用いることができる。
これにより、レジストパターン131を除去できるので、図7に示すように、略同一で一定の方向に整列した開口部131aを有する金属マスク141を形成できる。実施の形態1では、ピッチPが180nm以下の三角格子状で、直径が100nm以下の円柱状の(円形が抜けた形状の)金属マスク141を形成できる。
次に、図2、図7および図8に示すように、金属マスク141を保護層として、膜101a1から第2の部分101bとなる領域を除去することにより、第1の部分101aを形成する第1の部分形成工程(S40)を実施する。第1の部分形成工程(S40)では、金属マスク141から露出している膜101a1を除去する。
具体的には、第1の部分形成工程(S40)では、除去したい部分の制御を容易に行なうことができる観点および平面の面内均一性が良好である観点から、膜101a1から第2の部分101bとなる領域を、金属マスク141を保護層としてドライエッチングにより除去することが好ましい。ドライエッチングとしては、たとえばCF4やCF3などのフロロカーボンガスを用いたICP(Inductive Coupled Plasma:誘導結合プラズマ)−RIEなどのRIEが挙げられる。
なお、ドライエッチングに用いるガスは、フロロカーボンガスに限定されず、たとえばCl(塩素)系ガスまたはHI(ヨウ化水素酸)系ガスなどを用いてもよい。また、Cl系ガスまたはHI系ガスにアルゴンガスやキセノンガスなどの不活性ガスを混ぜてもよい。
また、ドライエッチングはICP−RIEに限定されず、たとえば、平行平板RIEを行なってもよい。さらに、膜101a1を除去する方法としては、ドライエッチングに特に限定されず、ウエットエッチングやミリングなどを適用してもよい。
第1の部分形成工程(S40)では、開口部131aが形成された金属マスク141により、金属マスク141に覆われていない開口部131aにおいてエッチングが進行するとともに、金属マスク141下の膜101a1のみが残る。その結果、第2の部分101bとなる領域を除去できるとともに、第1の部分101aを形成できる。実施の形態1における第1の部分形成工程(S40)では、たとえば、円柱状の第1の部分101aを形成する。
なお、第1の部分形成工程(S40)で形成される第1の部分101aの形状は、図8に示す円柱に特に限定されないが、柱状または錘状であることが好ましい。また、第1の部分形成工程(S40)で形成される第1の部分101aが柱状または錘状である場合には、底面の直径が100nm以下であることが好ましい。また、第1の部分形成工程(S40)で形成される第1の部分101aのピッチは180nm以下であることが好ましい。
第1の部分形成工程(S40)実施後は、エピタキシャル成長層110と、エピタキシャル成長層110上に配置された第1の部分101aと、第1の部分101a上に配置された金属マスク141とが形成される。
次に、図2に示すように、第1の部分形成工程(S40)において第2の部分101bとなる領域に付着する残渣を除去する残渣除去工程(S50)を実施する。残渣除去工程(S50)により、第1の部分形成工程(S40)でドライエッチングを行なった場合には、用いた有機系残渣を除去できる。
残渣除去工程(S50)で残渣を除去する方法は、特に限定されないが、たとえば、酸素を含有する雰囲気での熱処理、酸素プラズマ処理、硫酸、過酸化水素水、および有機溶剤の少なくとも1つを用いた除去、および不活性ガスをプラズマなどによりイオン化してミリングによる除去などが挙げられる。
なお、残渣除去工程(S50)は、省略されてもよい。また、残渣除去工程(S50)は、後述する金属マスク除去工程(S60)後に実施してよい。
次に、図2および図8に示すように、金属マスク141を除去する金属マスク除去工程(S60)を実施する。金属マスク除去工程(S60)を実施することにより、図8に示すように、エピタキシャル成長層110と、エピタキシャル成長層110上に形成された第1の部分101aとを備えた構造となる。
具体的には、金属マスク除去工程(S60)では、たとえば金属マスク形成工程(S30)で形成した金属マスク141を溶解できる酸を用いてウエットエッチングにより除去する。たとえば、Niからなる金属マスク141を用いる場合には、硝酸溶液中に浸漬させることによって、金属マスク141を除去することができる。
次に、図2および図9に示すように、領域を埋め込むように第2の部分101bを構成する膜を形成する第2の部分形成工程(S70)を実施する。第2の部分101bを構成する膜は、第1の部分101aを構成する材料と屈折率が異なる材料からなる。
第2の部分形成工程(S70)では、第1の部分101aを構成する材料と屈折率が異なる材料の膜を、たとえばMOCVD法で形成する。実施の形態1では、たとえばMOCVD装置内に水素とアンモニアとTMG(トリメチルガリウム)とをソースとして1000℃以上の条件で、GaNからなる膜を形成する。これにより、第1の部分101aと、第2の部分101bとを含むフォトニック結晶層101を形成できる。
次に、フォトニック結晶層101上に、たとえばMOCVD法を用いて、たとえば厚さが0.5μmのp型のAlGaNよりなるp型クラッド層118を形成する。そして、p型クラッド層118上に、たとえばMOCVD法を用いて、たとえば厚さが0.1μmのp型のGaNよりなるp型コンタクト層119を形成する。
次に、p型コンタクト層119の上面である光放出面119aに、たとえばAuなどからなるp型電極121を形成する。そして、基板111の主面111bに、たとえばAuなどからなるn型電極122を形成する。なお、図1に示すn型電極122は、基板111がたとえばGaN基板である場合を示しており、基板111がサファイヤなどからなっている場合には、たとえばn型バッファ層112上にn型電極122を形成する。
以上の工程(S10〜S80)を実施することにより、図1に示すフォトニック結晶構造を備える素子100を製造できる。
次に、フォトニック結晶構造を備える素子100の発光方法について、図1を用いて説明する。
p型電極121に正電圧を印加すると、ガイド層115から活性層114へ正孔が注入され、n型クラッド層113から活性層114へ電子が注入される。活性層114へ正孔および電子(キャリア)が注入されると、キャリアの再結合が起こり、光が発生される。発生される光の波長は、活性層114が備える半導体層のバンドギャップによって規定される。
活性層114において発生された光は、n型クラッド層113およびガイド層115によって活性層114内に閉じ込められるが、一部の光はエバネッセント光としてフォトニック結晶層101に到達する。フォトニック結晶層101に到達したエバネッセント光の波長と、フォトニック結晶層101が有する所定の周期とが一致する場合には、その周期に対応する波長において光は回折を繰り返し、定在波が発生し、位相条件が規定される。フォトニック結晶層101によって位相が規定された光は、活性層114内の光にフィードバックされ、やはり定在波を発生させる。この定在波は、フォトニック結晶層101において規定される光の波長および位相条件を満足している。
このような現象は、活性層114およびフォトニック結晶層101が2次元的に広がりをもって形成されているので、p型電極121を中心にした領域およびその付近において生じうる。十分な量の光がこの状態に蓄積された場合、波長および位相条件の揃った光が、フォトニック結晶層101の主面に垂直な方向(図1において上下方向)、つまり光放出面119aから誘導放出される。
以上説明したように、本発明の実施の形態1におけるフォトニック結晶構造を備える素子100の製造方法によれば、第1の部分101aを形成するために、第2の部分101bとなる領域の開口部131aを有する金属マスク141を用いているので、金属マスク141が微細な構造であっても金属マスク141の変形を抑制できる。特に、金属マスク141が柱状または錘状である場合、すなわち第1の部分101aを柱状または錘状に形成する場合に、従来の保護層は変形しやすかった観点から、効果的である。また、金属マスク層形成工程(S30)および金属マスク除去工程(S60)を実施することにより、金属マスク141の変形を抑制できるので、容易にフォトニック結晶構造を備える素子100を製造できる。
(実施の形態2)
本発明の実施の形態2におけるフォトニック結晶構造を備える素子は、図1に示す実施の形態1におけるフォトニック結晶構造を備える素子100と同様の構造である。
本発明の実施の形態2におけるフォトニック結晶構造を備える素子は、図1に示す実施の形態1におけるフォトニック結晶構造を備える素子100と同様の構造である。
次に、図1、図2、および図8〜図13を参照して、本発明の実施の形態2におけるフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法について説明する。実施の形態2におけるフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法は、基本的には実施の形態1におけるフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法と同様であるが、金属マスク形成工程(S30)においてのみ異なる。なお、図10は、本発明の実施の形態2における金属マスク形成工程を示すフローチャートである。図11は、本発明の実施の形態2におけるレジストパターン形成工程を示す概略斜視図である。図12は、本発明の実施の形態2におけるエッチング工程を示す概略斜視図である。図13は、本発明の実施の形態2における金属マスク形成工程を示す概略斜視図である。
まず、図2および図11に示すように、基板を準備する準備工程(S10)を実施する。次に、基板111上に、第1の部分101aを構成する膜101a1を形成する膜形成工程(S20)を実施する。準備工程(S10)および膜形成工程(S20)は、実施の形態1と同様であるのでその説明は繰り返さない。
次に、図2および図10〜図13に示すように、膜101a1上に、開口部131aを有する金属マスク141を形成する金属マスク形成工程(S30)を実施する。金属マスク工程(S30)は、膜101a1上に、金属層140を形成する金属層形成工程(S32)と、金属層140上に、第2の部分101bとなるべき領域に開口部が形成されたレジストパターン131を形成するレジストパターン形成工程(S31)と、レジストパターン131をマスクとしてエッチングにより、開口部から露出した金属層140を除去するエッチング工程(S34)とを含んでいる。
まず、図10および図11に示すように、膜101a1上に、金属層140を形成する金属層形成工程(S32)を実施する。実施の形態2における金属層形成工程(S32)は、基本的には実施の形態1における金属層形成工程(S32)と同様であるが、膜101a1の上に接するように金属層140を形成する点においてのみ異なる。
次に、図10〜図12に示すように、金属層140上に、第2の部分101bとなるべき領域に開口部が形成されたレジストパターン131を形成するレジストパターン形成工程(S31)を実施する。実施の形態2におけるレジストパターン形成工程(S31)は、基本的には実施の形態1におけるレジストパターン形成工程(S31)と同様であるが、金属層140上に接するようにレジスト130を形成する点においてのみ異なる。レジストパターン形成工程(S31)により、図12に示すように、金属層140上にレジストパターン131が形成される。
なお、レジストパターン形成工程(S31)形成されるレジストパターン131の厚みは、開口部131aを形成できる程度の厚みを有していれば特に限定されない。レジストパターン131は、第1の部分101aを形成するための保護層でなく金属マスク141の開口部141aを形成するための保護層であるので、従来必要であった厚みよりも薄くすることができる。また、実施の形態2におけるレジストパターン131は、選択比の関係から、従来必要であった第1の部分を形成するためのレジストパターンの厚みよりも薄くできるため、レジストパターン131の変形は抑制できる。
次に、図10、図12および図13に示すように、レジストパターン131を保護層としてエッチングにより、開口部から露出した金属層140を除去するエッチング工程(S34)を実施する。エッチング工程(S34)により、金属マスク141の開口部を形成できる。
なお、エッチング工程(S34)では、ドライエッチングまたはウエットエッチングのいずれを実施してもよい。エッチングを行なう時間を調整することによって、金属マスク141の開口部の細径化を図ることができる。たとえば、ウエットエッチングを行なう場合には、レジストパターン131が配置されていない側面から侵食させることによって、金属マスク141の開口部の細径化を図ることができる。また、ドライエッチングを行なう場合には、レジストパターンを細らせることによって、金属マスク141の開口部の細径化を図ることができる。
また、エッチング工程(S34)では、レジストパターン131を除去する工程を実施してもよい。レジストパターン131を除去する方法は特に限定されないが、たとえば有機溶剤などに浸漬させる。
次に、図8、図10および図13に示すように、金属マスク141を保護層として、膜101a1から第2の部分101bとなる領域を除去することにより、第1の部分101aを形成する第1の部分形成工程(S40)を実施する。次に、金属マスク141を除去する金属マスク除去工程(S60)を実施する。次に、領域を埋め込むように第2の部分101bを構成する膜を形成する第2の部分形成工程(S70)を実施する。第1の部分形成工程(S40)、金属マスク除去工程(S60)、および第2の部分形成工程(S70)は、実施の形態1と同様であるので、その説明は繰り返さない。なお、必要に応じて、残渣除去工程(S50)および電極を形成する工程を実施する。
以上説明したように、本発明の実施の形態2におけるフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法によれば、金属マスク形成工程(S30)ではエッチングにより開口部を有する金属マスク141が形成されるエッチング工程(S34)を実施している。エッチング工程(S34)を実施することにより、金属マスク141の開口部について一層の細径化を図ることができる。そのため、所望の形状を金属マスク141に転写できる。
なお、実施の形態2では、レジストパターン131の金属マスク141に対するエッチングレートが、レジストパターンのSiO2に対するエッチングレートよりも遅い。そのため、開口部131aを有するレジストパターン131のアスペクト比を従来よりも小さくできるとともに、エッチングによるレジストパターン131のダメージを減少できる。よって、エッチング工程(S34)を実施することにより、レジストパターン131へのダメージが少ない方法で形成できる点で、実施の形態2におけるフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法は有利である。
また、リフトオフ工程(S33)により金属マスク141を形成する場合と比較して、実施の形態2におけるエッチング工程(S34)によれば、レジストパターン131の開口部131a以外の部分を金属層140が覆うことがない。そのため、所望の形状の開口部を有するとともに、変形をより抑制した金属マスクを形成しやすい。
(実施の形態3)
本発明の実施の形態3におけるフォトニック結晶構造を備える素子は、図1に示す実施の形態1におけるフォトニック結晶構造を備える素子100と同様の構造である。
本発明の実施の形態3におけるフォトニック結晶構造を備える素子は、図1に示す実施の形態1におけるフォトニック結晶構造を備える素子100と同様の構造である。
次に、図1、図2、および図11〜図14を参照して、本発明の実施の形態3におけるフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法について説明する。実施の形態3におけるフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法は、基本的には実施の形態1におけるフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法と同様であるが、金属マスク形成工程(S30)においてのみ異なる。なお、図14は、本発明の実施の形態3におけるフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法を示すフローチャートである。
まず、図2および図14に示すように、基板を準備する準備工程(S10)を実施する。次に、基板111上に、第1の部分101aを構成する膜101a1を形成する膜形成工程(S20)を実施する。準備工程(S10)および膜形成工程(S20)は、実施の形態1と同様であるのでその説明は繰り返さない。
次に、図2および図14に示すように、膜101a1上に、開口部131aを有する金属マスク141を形成する金属マスク形成工程(S30)を実施する。金属マスク工程(S30)は、膜101a1上に、金属層140を形成する金属層形成工程(S32)と、金属層140上に、第2の部分101bとなるべき領域に開口部が形成されたレジストパターン131を形成するレジスト形成工程(S31)と、レジストパターン131を保護層として、イオン照射により開口部から露出した金属層140を除去するミリング工程(S35)とを含んでいる。
まず、図11および図14に示すように、膜101a1上に、金属層140を形成する金属層形成工程(S32)を実施する。次に、図11、図12および図14に示すように、金属層140上に、第2の部分101bとなるべき領域に開口部が形成されたレジストパターン131を形成するレジストパターン形成工程(S31)を実施する。実施の形態3における金属層形成工程(S32)およびレジストパターン形成工程(S31)は、実施の形態2における金属層形成工程(S32)およびレジストパターン形成工程(S31)と同様であるので、その説明は繰り返さない。
次に、図13および図14に示すように、レジストパターン131を保護層としてイオン照射により、開口部から露出した金属層140を除去するミリング工程(S35)を実施する。ミリング工程(S35)により、金属マスク141の開口部を形成できる。
ミリング工程(S35)では、たとえばキセノン(Xe)やアルゴン(Ar)などの希ガスをイオン化させて金属層140に照射する。なお、ミリング工程(S35)では、レジストパターン131を除去する工程を実施してもよい。レジストパターン131を除去する方法は特に限定されないが、たとえば有機溶剤などに浸漬させる。
次に、図2に示すように、金属マスク141を保護層として、膜101a1から第2の部分となる領域を除去することにより、第1の部分101aを形成する第1の部分形成工程(S40)を実施する。次に、金属マスク141を除去する金属マスク除去工程(S60)を実施する。次に、領域を埋め込むように第2の部分101bを構成する膜を形成する第2の部分形成工程(S70)を実施する。第1の部分形成工程(S40)、金属マスク除去工程(S60)、および第2の部分形成工程(S70)は、実施の形態1と同様であるので、その説明は繰り返さない。なお、必要に応じて、残渣除去工程(S50)、電極を形成する工程を実施する。
以上説明したように、本発明の実施の形態3におけるフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法によれば、金属マスク形成工程(S30)ではイオン照射により開口部を有する金属マスク141を形成するミリング工程(S35)を実施している。ミリング工程(S35)を実施することにより、所望の形状を金属マスク141に転写できる。
[実施例1]
実施例1では、図1〜図9に示す実施の形態1のフォトニック結晶構造を備える素子100の製造方法に従って、フォトニック結晶構造を備える素子を製造した。
実施例1では、図1〜図9に示す実施の形態1のフォトニック結晶構造を備える素子100の製造方法に従って、フォトニック結晶構造を備える素子を製造した。
具体的には、まず、準備工程(S10)では、厚さが300μmのn型GaNからなる基板111を準備した。そして、基板111上に、MOCVD法を用いて、厚さが0.2μmのn型GaNよりなるn型バッファ層112を形成した。そして、n型バッファ層112上に、MOCVD法を用いて、厚さが1μmのn型AlGaNよりなるn型クラッド層113を形成した。そして、n型クラッド層113上に、MOCVD法を用いて、厚さが0.005μmのInGaNとGaNとがそれぞれ3層積層された多重量子井戸構造の活性層114を形成した。そして、活性層114上に、MOCVD法を用いて、厚さが0.01μmのアンドープGaNよりなるガイド層115を形成した。そして、ガイド層115上に、MOCVD法を用いて、厚さが0.02μmのp型AlGaNよりなるp型電子ブロック層116を形成した。そして、p型電子ブロック層116上に、MOCVD法を用いて、厚さが0.01μmのp型GaNよりなるp型上ガイド層117を形成した。これにより、基板111と、n型バッファ層112と、n型クラッド層113と、活性層114と、ガイド層115と、p型電子ブロック層116と、p型上ガイド層117とからなるエピタキシャル成長層110を準備した。
次に、膜形成工程(S20)では、プラズマCVD法を用いて、SiO2からなる膜101a1を50nmの厚みで、p型上ガイド層117上全面に形成した。
次に、金属マスク形成工程(S30)では、リフトオフにより金属マスクを形成した。すなわち、レジストパターン形成工程(S31)では、電子ビーム描画用レジストを200nmの厚みで、膜101a1上全面に形成した。そして、電子ビーム描画装置中で、ピッチPが160nmの三角格子配列で、開口部の形状を径が65nmの円形のパターンを形成した。そして、金属層形成工程(S32)では、電子ビーム蒸着法によって、レジストパターン131上全面にNiを20nmの厚みで形成した。そして、リフトオフ工程(S33)では、溶剤を用いて、電子ビーム描画用レジストを除去した。これにより、直径が65nmで、厚みが20nmの円形のパターンが160nmのピッチで三角格子状に配列したNiからなる金属マスクを形成した。
次に、第1の部分形成工程(S40)では、金属マスクが形成されたエピタキシャル成長層を、ICP−RIE装置に導入し、CF4ガスを用いて2Paの雰囲気中で放電させた。これにより、金属マスク下のみの膜101a1が残り、直径が65nmで、高さが50nmのSiO2からなる柱状の第1の部分101aを形成した。
次に、残渣除去工程(S50)では、第1の部分101aが形成されたエピタキシャル成長層を、硝酸を40℃に加熱した液中に3分間浸漬させた。これにより、SiO2からなる柱状の第1の部分101a上に残ったNiからなる金属マスクを除去した。
次に、第1の部分101aが形成されたエピタキシャル成長層をMOCVD装置に導入し、領域を埋め込むようにGaNを成長した。これにより、p型上ガイド層117上に、SiO2からなる第1の部分101aとGaNからなる第2の部分101bとからなるフォトニック結晶層101を形成した。
次に、フォトニック結晶層101上に、MOCVD法を用いて、厚さが0.6μmのp型のGaNよりなるp型クラッド層118を形成した。そして、p型クラッド層118上に、MOCVD法を用いて、厚さが0.05μmのp型のGaNよりなるp型コンタクト層119を形成した。
次に、p型コンタクト層119の上面である光放出面119aに、基板111の主面111aに近い側から順にNi、Au、Ti、およびAuからなるp型電極121を形成した。そして、基板111の主面111bに、基板111の主面111bから近い側から順にAl、Ti、Al、およびAuからなるn型電極122を形成した。これにより、図1に示す実施例1のフォトニック結晶構造を備える素子100を製造した。
(比較例1)
比較例1は、基本的には実施例1のフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法と同様の構成を備えているが、金属マスク形成工程(S30)を備えていない点においてのみ異なる。
比較例1は、基本的には実施例1のフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法と同様の構成を備えているが、金属マスク形成工程(S30)を備えていない点においてのみ異なる。
具体的には、図18〜図20を用いて上述したフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法に従って、第1の部分を形成した。
(測定方法)
実施例1における金属マスク形成工程(S30)後の金属マスクと、第1の部分形成工程(S40)後の第1の部分と、比較例1におけるレジストパターン形成後のレジストとについて、SEM(電子顕微鏡)を用いて確認した。その結果を図15および図16に示す。なお、図15は、実施例1における金属マスクのSEMによる俯瞰図を示す。また、図16(A)は、実施例1における第1の部分のSEMによる俯瞰図であり、(B)は実施例1における第1の部分のSEMによる別の俯瞰図である。
実施例1における金属マスク形成工程(S30)後の金属マスクと、第1の部分形成工程(S40)後の第1の部分と、比較例1におけるレジストパターン形成後のレジストとについて、SEM(電子顕微鏡)を用いて確認した。その結果を図15および図16に示す。なお、図15は、実施例1における金属マスクのSEMによる俯瞰図を示す。また、図16(A)は、実施例1における第1の部分のSEMによる俯瞰図であり、(B)は実施例1における第1の部分のSEMによる別の俯瞰図である。
また、実施例1および比較例1のフォトニック結晶構造を備える素子について、それぞれ電流を流して、レーザ光が取り出せるかを確認した。
(測定結果)
実施例1の金属マスク形成工程(S30)後の金属マスクは、図15に示すように、傾斜せずに柱状に形成できた。そのため、実施例1の第1の部分形成工程(S40)後の第1の部分は、図16(A)および(B)に示すように、柱状に、かつ三角格子状に配列するように形成できた。一方、比較例1のレジストパターン形成後のレジストパターンは、傾斜した柱状となった。また、レジストパターンを三角格子状に形成するべくパターンを形成したにもかかわらず、ずれが生じていた。
実施例1の金属マスク形成工程(S30)後の金属マスクは、図15に示すように、傾斜せずに柱状に形成できた。そのため、実施例1の第1の部分形成工程(S40)後の第1の部分は、図16(A)および(B)に示すように、柱状に、かつ三角格子状に配列するように形成できた。一方、比較例1のレジストパターン形成後のレジストパターンは、傾斜した柱状となった。また、レジストパターンを三角格子状に形成するべくパターンを形成したにもかかわらず、ずれが生じていた。
また、実施例1により製造したフォトニック結晶構造を備える素子に電流を流したところ、フォトニック結晶構造を備える素子の上下面からレーザ光が取り出せた。一方、比較例1により製造したフォトニック結晶構造を備える素子に電流を流したところ、レーザ光が取り出せなかった。
以上説明したように、実施例1によれば、リフトオフ法により開口部が形成された金属マスクを保護層として第1の部分を形成することによって、所望の形状の第1の部分を形成できることが確認できた。また、所望の形状の第1の部分を形成できたので、フォトニック結晶構造を備える素子100が動作することを確認した。
[実施例2]
実施例2では、図2、図8〜図13、および図17に示す実施の形態2のフォトニック結晶構造を備える素子200の製造方法に従って、フォトニック結晶構造を備える素子を製造した。なお、図17は、実施例2におけるフォトニック結晶構造を備える素子を示す概略断面図である。
実施例2では、図2、図8〜図13、および図17に示す実施の形態2のフォトニック結晶構造を備える素子200の製造方法に従って、フォトニック結晶構造を備える素子を製造した。なお、図17は、実施例2におけるフォトニック結晶構造を備える素子を示す概略断面図である。
具体的には、図2および図19に示すように、準備工程(S10)では、基板111と、n型バッファ層112と、n型クラッド層113とをこの順で、実施例1と同様に形成し、エピタキシャル成長層110を準備した。
次に、膜形成工程(S20)では、SiO2からなる膜101a1を50nmの厚みで、n型クラッド層113上全面に形成した。
次に、金属マスク形成工程(S30)では、エッチングにより金属マスクを形成した。すなわち、金属層形成工程(S32)では、電子ビーム蒸着法によって、n型クラッド層113上全面にAlを30nmの厚みで形成した。そして、レジストパターン形成工程(S33)では、ナノインプリント用樹脂を160nmの厚みで、金属層140上全面に形成した。そして、ナノインプリント装置で、ピッチPが160nmの正方格子配列で、径が65nmの円形のパターンを形成した。そして、エッチング工程(S34)では、ICP−RIE装置でCl2ガスを用いて0.4Paの雰囲気中で放電させて、レジストパターンがややエッチングされるとともに、開口部から露出した金属層がエッチングされる。これにより、細まった直径が60nmで、薄くなった厚みが約20nmの円形のパターンが160nmのピッチで正方格子状に配列したAlからなる金属マスクを形成した。そして、レジストパターンを、溶剤を用いて除去した。
次に、第1の部分形成工程(S40)では、金属マスクが形成されたエピタキシャル成長層を、ICP−RIE装置に導入し、CF4ガスを用いて2Paの雰囲気中で放電させた。これにより、金属マスク下のみの膜101a1が残り、直径が60nmで、厚みが50nmのSiO2からなる柱状の第1の部分101aを形成した。
次に、残渣除去工程(S50)では、第1の部分101aが形成されたエピタキシャル成長層をリン酸と硝酸と酢酸との混合溶液(リン酸:硝酸:酢酸=16:1:2)を40℃に加熱した液中に3分間浸漬させた。これにより、SiO2からなる柱状の第1の部分101a上に残ったAlからなる金属マスクを除去した。
次に、第1の部分101aが形成されたエピタキシャル成長層をMOCVD装置に導入し、領域を埋め込むようにGaNを成長した。これにより、p型上ガイド層117上に、SiO2からなる第1の部分101aとGaNからなる第2の部分101bとからなるフォトニック結晶層101を形成した。
次に、フォトニック結晶層101上に、MOCVD法を用いて、活性層114と、ガイド層115と、p型電子ブロック層116と、p型クラッド層118と、p型コンタクト層119とをこの順で、実施例1と同様に形成した。次に、p型電極121とn型電極122とを、実施例1と同様に形成した。これにより、図11に示す実施例2のフォトニック結晶構造を備える素子200を製造した。
このようにして得られた実施例2におけるフォトニック結晶構造を備える素子200について、実施例1と同様に電流を流した。その結果、実施例2におけるフォトニック結晶構造を備える素子200の上下面からレーザ光が取り出せた。
以上説明したように、実施例2によれば、エッチングにより開口部が形成された金属マスクを保護層として第1の部分を形成することによって、所望の形状の第1の部分を形成できたので、フォトニック結晶構造を備える素子が動作することを確認した。
[実施例3]
実施例3では、図2、図8〜図13、および図17に示す実施の形態2のフォトニック結晶構造を備える素子200の製造方法に従って、フォトニック結晶構造を備える素子を製造した。
実施例3では、図2、図8〜図13、および図17に示す実施の形態2のフォトニック結晶構造を備える素子200の製造方法に従って、フォトニック結晶構造を備える素子を製造した。
具体的には、図2および図19に示すように、準備工程(S10)では、基板111と、n型バッファ層112と、n型クラッド層113とをこの順で、実施例1と同様に形成し、エピタキシャル成長層110を準備した。
次に、膜形成工程(S20)では、SiO2からなる膜101a1を100nmの厚みで、n型クラッド層113上全面に形成した。
次に、金属マスク形成工程(S30)では、エッチングにより金属マスクを形成した。すなわち、金属層形成工程(S32)では、電子ビーム蒸着法によって、n型クラッド層113上全面にAlを30nmの厚みで形成した。そして、レジストパターン形成工程(S33)では、レジストを160nmの厚みで、金属層140上全面に形成した。そして、干渉露光装置装置で、ピッチPが160nmの三角格子配列で、開口部の形状を径が65nmの円形のパターンを形成した。そして、エッチング工程(S34)では、20℃のリン酸と硝酸と酢酸との混合溶液(リン酸:硝酸:酢酸=16:1:2)に浸漬させた。これにより、開口部から露出した金属層がウエットエッチングされた。なお、ウエットエッチングがさらに進行すると、レジストパターン下の金属層についても側面からウエットエッチングされる。その結果、直径が60nmで、厚みが20nmの円形のパターンが160nmのピッチで三角格子状に配列したAlからなる金属マスクを形成した。そして、レジストパターンを、溶剤を用いて除去した。
次に、第1の部分形成工程(S40)では、金属マスクが形成されたエピタキシャル成長層を、ICP−RIE装置に導入し、CF4ガスを用いて2Paの雰囲気中で放電させた。これにより、金属マスク下のみの膜101a1が残り、直径が60nmで、厚みが100nmのSiO2からなる柱状の第1の部分101aを形成した。
次に、残渣除去工程(S50)では、第1の部分101aが形成されたエピタキシャル成長層を硝酸を40℃に加熱した液中に3分間浸漬させた。これにより、SiO2からなる柱状の第1の部分101a上に残ったAlからなる金属マスクを除去した。
次に、実施例2と同様に、第1の部分101aが形成されたエピタキシャル成長層をMOCVD装置に導入し、領域を埋め込むようにGaNを成長した。
次に、実施例2と同様に、フォトニック結晶層101上に、MOCVD法を用いて、活性層114と、ガイド層115と、p型電子ブロック層116と、p型クラッド層118と、p型コンタクト層119とをこの順で形成した。次に、p型電極121とn型電極122とを、実施例1と同様に形成した。これにより、図11に示す実施例3のフォトニック結晶構造を備える素子を製造した。
このようにして得られたフォトニック結晶構造を備える素子について、実施例1と同様に電流を流した。その結果、実施例3におけるフォトニック結晶構造を備える素子の上下面からレーザ光が取り出せた。
以上説明したように、実施例3によれば、エッチングにより開口部が形成された金属マスクを保護層として第1の部分を形成することによって、所望の形状の第1の部分を形成できたので、フォトニック結晶構造を備える素子が動作することを確認した。
[実施例4]
実施例4では、図1、図2、図8、図9、および図11〜図14に示す実施の形態3のフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法に従って、フォトニック結晶構造を備える素子を製造した。
実施例4では、図1、図2、図8、図9、および図11〜図14に示す実施の形態3のフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法に従って、フォトニック結晶構造を備える素子を製造した。
具体的には、図2および図17に示すように、準備工程(S10)では、基板111と、n型バッファ層112と、n型クラッド層113と、活性層114と、ガイド層115と、p型電子ブロック層116と、p型上ガイド層117とをこの順で積層した、実施例1と同様のエピタキシャル成長層110を形成した。
次に、膜形成工程(S20)では、Al2O3からなる膜101a1を50nmの厚みで、p型上ガイド層117上全面に形成した。
次に、金属マスク形成工程(S30)では、ミリングにより金属マスクを形成した。すなわち、金属層形成工程(S32)では、電子ビーム蒸着法によって、p型上ガイド層117上全面にNiを20nmの厚みで形成した。そして、レジストパターン形成工程(S33)では、電子ビーム描画用レジストを200nmの厚みで、金属層140上全面に塗布した。そして、ステッパを用いて、ピッチPが160nmの三角格子配列で、開口部の形状を径が65nmの円形のパターンを形成した。そして、ミリング工程(S35)では、イオンミリング装置で、Xeガスをイオン化させてレジストパターンが形成された金属層に照射させた。これにより、直径が65nmで、厚みが20nmの円形のパターンが160nmのピッチで正方格子状に配列したAlからなる金属マスクを形成した。そして、レジストパターンを溶剤を用いて除去した。
次に、第1の部分形成工程(S40)では、金属マスクが形成されたエピタキシャル成長層を、ICP−RIE装置に導入し、Cl2ガスを用いて2Paの雰囲気中で放電させた。これにより、金属マスク下のみの膜101a1が残り、直径が65nmで、厚みが100nmのAl2O3からなる柱状の第1の部分101aを形成した。
次に、残渣除去工程(S50)では、第1の部分101aが形成されたエピタキシャル成長層を硝酸を40℃に加熱した液中に3分間浸漬させた。これにより、SiO2からなる柱状の第1の部分101a上に残ったNiからなる金属マスクを除去した。
次に、実施例1と同様に、第1の部分101aが形成されたエピタキシャル成長層をMOCVD装置に導入し、領域を埋め込むようにGaNを成長した。次に、フォトニック結晶層101上に、MOCVD法を用いて、p型クラッド層118と、p型コンタクト層119とをこの順で、実施例1と同様に形成した。次に、p型電極121とn型電極122とを、実施例1と同様に形成した。これにより、図1に示す実施例4のフォトニック結晶構造を備える素子を製造した。
このようにして得られた実施例4におけるフォトニック結晶構造を備える素子について、実施例1と同様に電流を流した。その結果、実施例4におけるフォトニック結晶構造を備える素子の上下面からレーザ光が取り出せた。
以上説明したように、実施例4によれば、ミリングにより開口部が形成された金属マスクを保護層として第1の部分を形成することによって、所望の形状の第1の部分を形成できたので、フォトニック結晶構造を備える素子が動作することを確認した。
今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した実施の形態ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
100,200 フォトニック結晶構造を有する素子、101 フォトニック結晶層、101a 第1の部分、101a1 膜、101b 第2の部分、110 エピタキシャル成長層、111 基板、111a,111b 主面、112 n型バッファ層、113 n型クラッド層、114 活性層、115 ガイド層、116 p型電子ブロック層、117 p型上ガイド層、118 p型クラッド層、119 型コンタクト層、119a 光放出面、121 p型電極、122 n型電極、130 レジスト、131 レジストパターン、131a,141a 開口部、140 金属層、141 金属マスク、P ピッチ。
Claims (7)
- 基板と、前記基板上に形成された第1の部分と、前記第1の部分を構成する材料と異なる屈折率の材料からなる第2の部分とを含むフォトニック結晶層とを備えた、フォトニック結晶構造を備える素子の製造方法であって、
前記基板を準備する準備工程と、
前記基板上に、前記第1の部分を構成する膜を形成する膜形成工程と、
前記膜上に、開口部を有する金属マスクを形成する金属マスク形成工程と、
前記金属マスクを保護層として、前記膜から前記第2の部分となる領域を除去することにより、第1の部分を形成する第1の部分形成工程と、
前記金属マスクを除去する金属マスク除去工程と、
前記領域を埋め込むように前記第2の部分を構成する膜を形成する第2の部分形成工程とを備えた、フォトニック結晶構造を備える素子の製造方法。 - 前記第1の部分形成工程において前記第2の部分となる領域に付着する残渣を除去する残渣除去工程をさらに備えた、請求項1に記載のフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法。
- 前記第1の部分形成工程では、前記膜から前記第2の部分となる領域をドライエッチングにより除去する、請求項1または2に記載のフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法。
- 前記膜形成工程では、前記第2の部分を構成する材料よりも屈折率が低い材料からなる膜を形成する、請求項1〜3のいずれかに記載のフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法。
- 前記金属マスク形成工程は、
前記膜上に、開口部を有するレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、
前記レジストパターン上に、前記レジストパターンの厚みより薄い厚みの金属層を形成する金属層形成工程と、
前記レジストパターンを除去するリフトオフ工程とを含む、請求項1〜4のいずれかに記載のフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法。 - 前記金属マスク形成工程は、
前記膜上に、金属層を形成する金属層形成工程と、
前記金属層上に、前記第2の部分となるべき領域に開口部が形成されたレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、
前記レジストパターンを保護層としてエッチングにより、前記開口部から露出した前記金属層を除去するエッチング工程とを含む、請求項1〜4のいずれかに記載のフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法。 - 前記金属マスク形成工程は、
前記膜上に、金属層を形成する金属層形成工程と、
前記金属層上に、前記第2の部分となるべき領域に開口部が形成されたレジストパターンを形成するレジスト形成工程と、
前記レジストパターンを保護層として、イオン照射により前記開口部から露出した前記金属層を除去するミリング工程とを含む、請求項1〜4のいずれかに記載のフォトニック結晶構造を備える素子の製造方法。
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