JP2008218491A - 探針収納容器、プローバ装置、探針配置方法、及び探針収納容器の製造方法 - Google Patents
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Abstract
本発明の目的は、製造した探針を、大気暴露することなく、プローバ装置に配置することに関する。
【解決手段】
本発明は、大気暴露することなく、プローバ装置に探針を供給できる探針収納容器に関する。好ましくは、大気暴露することなく、イオン源等を用いたドライ処理により探針先端部の酸化膜を除去し、探針を探針収納容器に収容する。本発明によれば、大気暴露することなく探針をプローバ装置に交換、及び取付けでき、探針の表面に酸化膜が形成されることを回避できる。また、プローバ装置に探針を取付ける作業者が、直接探針に触れるこ
となく作業ができ、探針先端部の破損を防ぐことができる。これにより、ウエハ上の半導
体素子などの電気特性を安定して測定することが可能となる。
【選択図】図1
Description
本実施例では、プローブ装置の探針先端部の酸化膜を除去したのちに、大気中に暴露しないようにするために、内部を密閉できる探針収納容器を用い、酸化膜除去工程と先端部の形状測定工程及び走査型電子顕微鏡を備えたプローブ装置に、収納供給室を設け、酸化膜の除去から探針のプローブ装置への取付けを大気に暴露しないで行うことで実現した。
10をそのまま電子顕微鏡で先端形状を確認する際に、導電性材料でないと表面に電子が帯電して測定できないことがあるので、電子線耐性があり、さらに導電性材料であることが望ましい。また、真空保管中に内部からアウトガスが発生する恐れがあるため、事前に真空中で焼き出しを行うため、ランプヒータ等で加熱する機構を設けることが望ましい。
(TMP)等からなる真空排気装置にて真空引きを行う。真空状態は真空計にてモニタする。ブロック取付け取外し機構21にて、押えブロック17を取外し、上蓋開閉機構22にて収納容器11の上蓋12を取外しておく。次に、供給ベース搬送機構23にてゲート弁24を開らいて収納容器ベース10をミリング装置の加工用のミリングステージ25にセットする。このとき、収納容器ベース10をミリングするときは傾けて処理するため、ミリング装置側に保持する手段を設けることが望ましい。また、収納容器ベース10側に保持機能を設けてもよい。また、ミリングステージ25は自転しながら加工をおこなうため、自転機構のステージ回転機構26を備えている。アルゴンイオンは、イオン源27とアルゴンガスを供給するガス供給装置28、アルゴンイオンを中性化するニュートラライザ29とイオン源電源30により、生成させる。
12を取付ける、次にブロック取外・取付機構13にて押えブロック17を取付けて真空を保持する。ゲート弁24を閉じたのちに、収納容器供給室20を大気開放して、収納容器11を取出す。取出した後に、収納容器11をアルミニウム製の真空パックに入れて、内部の大気を抜き、真空状態にし、開封部を加熱して密閉させる。このとき、真空パック内に脱酸素剤や吸湿剤を入れることで長期の保管が実現できる。
タングステン製の探針の酸化を防止するためには、収納容器内を真空状態にする以外にも例えば窒素などの不活性ガスで置換してもよい。本実施例では、収納容器内に不活性ガスを充填する場合について、実施例1との相違点を中心に説明する。
2 試料ステージ
3 試料室
4 電子銃部
5 探針交換室
6 試料交換室
7 制御表示部
8 探針供給室
9 探針
10 収納ベース
11 収納容器
12 上蓋
13 緩衝材a
14 アリ溝
15 吸入口
16 バルブ
17 押えブロック
18 緩衝材b
19 収納ベースステージ
20 収納容器供給室
21 ブロック取付け取外し機構
22 上蓋開閉機構
23 供給ベース搬送機構
24 ゲート弁
25 ミリングステージ
26 ステージ回転機構
27 イオン源
28 ガス供給装置
29 ニュートラライザ
30 イオン源電源
31 ミリングシャッタ
32 探針供給機構
33 プローブホルダ
34 試料観察ステージ
35 電子光学系
36 2次電子検出器
37 不活性ガス供給装置
Claims (27)
- プローバ装置に用いる探針を収容する探針収納容器であって、
当該探針を当該容器の内部の所定位置に保持する探針保持部と、
プローバ装置に対する当該容器の位置決めのための基準部と、
当該探針が収納される内部を密閉できる蓋部とを備えることを特徴とする探針収納容器。 - 請求項1の探針収納容器であって、
前記探針の少なくとも先端部において、酸化膜が除去されていることを特徴とする探針収納容器。 - 請求項1の探針収納容器であって、
前記探針の酸化膜が除去されている部分以外が金でコーティングされていることを特徴とする探針収納容器。 - 請求項1の探針収納容器であって、
当該探針の先端部がタングステン、タングステン合金製であることを特徴とする探針収納容器。 - 請求項1の探針収納容器であって、
容器内部を真空にするための吸入口と、容器内部を外気と遮断するためのバルブを備えることを特徴とする探針の探針収納容器。 - 請求項1の探針収納容器にあって、
容器内部が不活性ガスで充填されることを特徴とする探針収納容器。 - 請求項1の探針収納容器にあって、
容器内部が窒素ガスで充填されることを特徴とする探針収納容器。 - 試料と探針が配置されるチャンバと、
チャンバとの扉部を備える探針供給室と、を備え、
前記探針供給室内に、
プローバ装置に用いる探針を収容する探針収納容器を所定位置に保持する保持機構と、
探針収納容器の蓋部を開閉できる容器開閉機構と、
探針収納容器の探針をチャンバに配置できる探針供給機構と、
探針供給室内部を排気できる排気機構と、
を有するプローバ装置。 - 請求項8のプローバ装置であって、
前記探針の少なくとも先端部において、酸化膜が除去されていることを特徴とするプローバ装置。 - 請求項8のプローバ装置であって、
前記探針の酸化膜が除去されている部分以外が金でコーティングされていることを特徴とするプローバ装置。 - 請求項8のプローバ装置であって、
当該探針の先端部がタングステン、タングステン合金製であることを特徴とするプローバ装置。 - 請求項8のプローバ装置であって、
容器内部を真空にするための吸入口と、容器内部を外気と遮断するためのバルブを備えることを特徴とする探針のプローバ装置。 - 請求項8のプローバ装置であって、
容器内部が不活性ガスで充填されることを特徴とするプローバ装置。 - 請求項8のプローバ装置であって、
容器内部が窒素ガスで充填されることを特徴とするプローバ装置。 - プローバ装置に探針を配置する探針配置方法であって、
探針を収容する探針収納容器を、プローバ装置の探針供給室内の所定位置に保持し、
探針供給室内を排気し、
探針供給室内において、探針収納容器の蓋部を開き、
探針収納容器の探針を、プローバ装置のチャンバに配置する方法。 - 請求項15の探針配置方法であって、
前記探針の少なくとも先端部において、酸化膜が除去されていることを特徴とする探針配置方法。 - 請求項15の探針配置方法であって、
前記探針の酸化膜が除去されている部分以外が金でコーティングされていることを特徴とする探針配置方法。 - 請求項15の探針配置方法であって、
当該探針の先端部がタングステン、タングステン合金製であることを特徴とする探針配置方法。 - 請求項15の探針配置方法であって、
容器内部を真空にするための吸入口と、容器内部を外気と遮断するためのバルブを備えることを特徴とする探針の探針配置方法。 - 請求項15の探針配置方法にあって、
容器内部が不活性ガスで充填されることを特徴とする探針配置方法。 - 請求項15の探針配置方法にあって、
容器内部が窒素ガスで充填されることを特徴とする探針配置方法。 - プローバ装置の探針収納容器の製造方法であって、
大気暴露することなく、イオンビーム装置を用いて探針の少なくとも先端部の酸化膜を除去し、
大気暴露することなく、当該探針を探針収納容器に収容し、
大気暴露することなく、当該探針収納容器の蓋部を閉じる方法。 - 請求項22の探針収納容器の製造方法であって、
前記探針の酸化膜が除去されている部分以外が金でコーティングされていることを特徴とする方法。 - 請求項22の探針収納容器の製造方法であって、
当該探針の先端部がタングステン、タングステン合金製であることを特徴とする方法。 - 請求項22の探針収納容器の製造方法であって、
容器内部を真空にするための吸入口と、容器内部を外気と遮断するためのバルブを備えることを特徴とする探針の方法。 - 請求項22の探針収納容器の製造方法にあって、
容器内部が不活性ガスで充填されることを特徴とする方法。 - 請求項22の探針収納容器の製造方法にあって、
容器内部が窒素ガスで充填されることを特徴とする方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2014533369A (ja) * | 2011-11-15 | 2014-12-11 | コミッサリア ア レネルジー アトミーク エ オ ゼネルジ ザルタナテイヴ | マイクロプローブ補助式放射性物質分析装置 |
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