JP2008218254A5 - - Google Patents

Claims (11)

1. プラズマを供給して、前記プラズマにより被処理面を表面処理するプラズマ処理装置であって、
   第１の開口と、該第１の開口に連通するプラズマを生成するプラズマ生成空間とを備え、該プラズマ生成空間において前記プラズマを生成し、生成された前記プラズマを前記第１の開口から前記被処理面に向けて放出するヘッドと、
   前記ヘッドの前記プラズマ生成空間に、前記プラズマを生成するためのガスを供給するガス供給手段と、
   前記ヘッドは、前記第１の開口に向かって収斂する収斂形状をなす凹部を有する第１の電極と、前記凹部の内周面に対応する形状の外周面を備え、前記内周面と前記外周面との間に前記プラズマ生成空間を画成する第２の電極と、
   前記第１の電極と前記第２の電極とに電圧を印加する、電圧印加手段と、
   を有し、
   前記第１の電極の内周面および前記第２の電極の外周面のいずれか一方には、前記ヘッドの前記第１の開口の方向に螺旋状の溝が形成され、他方には、前記溝に対応する螺旋状の凸条が形成されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
2. 前記ヘッドは、前記プラズマ生成空間に連通する第２の開口を備え、
   前記第２の開口の開口面積をＡ［ｃｍ２］とし、前記第１の開口の開口面積をＢ［ｃｍ２］としたとき、Ａ／Ｂが、１．５〜２００程度なる関係を満足する請求項１に記載のプラズマ処理装置。
3. 前記ガス供給手段は、前記ガスが前記螺旋状の溝および前記螺旋状の凸条に沿って、前記ガスを前記プラズマ生成空間に供給する構成である請求項１または２に記載のプラズマ処理装置。
4. 前記ガス供給手段は、前記ガスを前記プラズマ生成空間に連通する前記第２の開口から供給するノズルを備え、該ノズルは、前記第２の開口に沿って移動可能に設けられている請求項１ないし３のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
5. 前記第２の電極において、前記外周面の、前記第１の開口側の端が、前記第１の開口から突出していない請求項１ないし４のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
6. 前記プラズマ生成空間において、前記第１の電極と前記第２の電極との間隙が一定である請求項１ないし５のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
7. 前記第２の電極は円錐形状であり、前記第２の電極の円錐角は、３０〜６０°である請求項１ないし６のいずれかにに記載のプラズマ処理装置。
8. 前記螺旋状の溝および前記螺旋状の凸条の幅が第１の開口側に向かって小さくなっている請求項１ないし７のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
9. 前記螺旋状の溝および前記螺旋状の凸条が複数形成されている請求項１ないし８のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
10. プラズマを供給して、前記プラズマによりワークの被処理面を表面処理するプラズマ処理装置であって、
    下側開口と、該下側開口に連通するプラズマを生成するプラズマ生成空間とを備え、該プラズマ生成空間において前記プラズマを生成し、生成された前記プラズマを前記下側開口から前記ワークの前記被処理面に向けて放出するヘッドと、
    該ヘッドの前記プラズマ生成空間内に、前記プラズマを生成するためのガスを供給するガス供給手段と、
    前記プラズマ生成空間内に供給された前記ガスに対して、前記プラズマを生成させるための電圧を印加する電圧印加手段とを有し、
    前記ヘッドは、前記下側開口に向かって収斂する収斂形状をなす凹部を有する第１の電極と、前記凹部の内周面に対応する形状の外周面を備え、前記内周面と前記外周面との間に前記プラズマ生成空間を画成する第２の電極とを備えることを特徴とするプラズマ処理装置。
11. 被処理面をプラズマによって処理するプラズマ処理装置であって、
    前記被処理面に向けて、第１の開口から前記プラズマを放出するプラズマ生成ヘッドと、
    前記プラズマ生成ヘッドに、前記プラズマを生成するガスを供給するガス供給手段と、
    を有し、
    前記プラズマ生成ヘッドにおいて、
    前記第１の開口が設けられ、該第１の開口に向かって収斂する収斂形状をなす凹部を有する第１の電極と、
    前記第１の電極の前記凹部に収容される第２の電極と、
    前記第１の電極と前記第２の電極とに電圧を印加する、電圧印加手段と、
    を備えることを特徴とするプラズマ処理装置。