JP2008217933A - 磁気転写用情報転写マスタおよび磁気転写方法 - Google Patents

Abstract

【課題】情報転写マスタとスレーブ媒体との間に優れた密着性を与え、従って、情報を確実にスレーブ媒体に転写できる情報転写マスタおよび磁気転写方法を提供する。
【解決手段】情報転写マスタから、潤滑層を表面に有する磁気記録媒体にサーボ情報を磁気転写する際に用いられる、サーボ情報を記録した情報転写マスタであって、前記サーボ情報を磁気転写する際の前記磁気記録媒体と対向する情報転写マスタの表面層の表面自由エネルギーが４５ｍＮ／ｍ以下である情報転写マスタ。
【選択図】図８

Description

本発明は、磁気記録媒体におけるサーボパターンを磁気転写で作成する際の情報転写マスタに関する。

磁気記録媒体におけるサーボパターンを磁気転写で作成する方法では、同期用信号、トラック番号信号、ヘッド位置決め信号等からなる転写情報（サーボ信号またはサーボパターンともいう）を磁性体の微細凹凸パターンにより担持した情報転写マスタ（本発明では単に「情報転写マスタ」ともいう）と、転写を受ける磁気記録部を有する磁気記録媒体（本発明ではスレーブ媒体ともいう）とを密着させた状態で、転写用磁界を印加して情報転写マスタに担持した情報（例えばサーボ信号）に対応する磁化パターンをスレーブ媒体に転写記録する。

磁気転写方法では情報を記録する場合において、情報転写マスタとスレーブ媒体とを密着させることが重要である。例えば、情報転写マスタに付けた凹凸による磁界のコントラストはその磁性膜とスレーブ媒体との距離に反比例するため、両者の距離が離れるとスレーブ媒体上にかかる磁界がぼやけた状態になり、ＳＮ比の高い磁気転写パターンが得られない問題が生じる。このような問題を引き起こす原因としては、スレーブ媒体上にある潤滑剤が情報転写マスタ上に移行して蓄積することや、外部のダスト混入や磁気転写装置からの汚染（コンタミネーション）が考えられる。

そのため、潤滑剤の情報転写マスタ上への移行に関しては、例えば特許文献１では、磁気記録媒体製造工程で、磁性膜と保護膜とを形成した後、磁気転写を行い、その後潤滑剤を塗布することを提案している。また、特許文献２では、磁気転写の前後で潤滑剤を塗布することを提案している。しかしながら、これらの提案方法は、潤滑剤を塗布した後の磁気記録媒体を使用して磁気転写を行うという従来のプロセスでは採用し難い。

上記はスレーブ媒体についての提案であるが、情報転写マスタ側に関する提案もある。特許文献３では、情報転写マスタの凹凸の凹部の底に微細凹部を形成し、その微細凹部に磁気記録媒体の潤滑剤を閉じ込める方法が提案されている。しかしながら、この方法はスレーブ媒体と接触する凸部については効果が無く、問題解決の効果が大きいとは言い難い。また実際のプロセスではクリーンルーム中のダストや磁気転写装置からの汚染の影響で密着性が悪くなっても、情報転写マスタの磁性膜とスレーブ媒体との距離が大きくなる。特に汚染の場合、汚染粒子のサイズが１μｍのオーダとなることがあり、その場合局所的に情報が記録できなくなり、より大きな問題となる。

更に、潤滑剤の情報転写マスタ上への移行により、磁気記録媒体上の潤滑剤量が減少し、潤滑機能がなくなって、ヘッドが磁気記録媒体に接触した場合に、ヘッドクラッシュが発生する問題が生じ易い。また、情報転写マスタ上へ移行した潤滑剤が、逆に磁気記録媒体上に移行し、磁気記録媒体表面の潤滑層を厚く盛り上がらせ、スライダ浮上面に潤滑剤がくっついて、ヘッド汚れやヘッドクラッシュの原因になるという問題も生じ得る。

この事情を図１Ａ〜１Ｃを用いて更に詳細に説明すると次の通りである。図１Ａ〜１Ｃは、潤滑剤をコートしていない情報転写マスタを磁気転写に適用する場合を示す模式図である。図中、１は情報転写マスタを、２は磁気記録媒体を、３はその潤滑層を、４は磁性層を含むその他の一または複数の層を示す。図１Ａは転写前の様子を示す。図１Ｂは１枚目の転写後の様子を示す。図１Ａと図１Ｂとの比較から理解されるように、磁気記録媒体上の潤滑剤が情報転写マスタ上に移動して付着する。この場合、潤滑剤の種類によっては時間が経つと、潤滑剤が磁気記録媒体上で広がり、図１Ｃのように潤滑層が平らで薄くなる。すなわち、磁気記録媒体の潤滑剤が情報転写マスタに付着することで、磁気記録媒体表面の潤滑剤が少なくなり、本来の潤滑剤の目的である潤滑の機能がなくなって、ヘッドが磁気記録媒体に接触した場合に、ヘッドクラッシュが発生して問題になることが懸念される。

また、情報転写マスタに潤滑剤がかなり付着された後では、図２に示すように、情報転写マスタに付着した潤滑剤が、磁気記録媒体側に再付着することが起こる。その場合磁気記録媒体表面の潤滑層が厚く盛り上がり、スライダ浮上面に潤滑剤がくっついて、ヘッド汚れやヘッドクラッシュの原因になることが懸念される。

磁気ディスクのヘッドの浮上量は、図９に示すように、面密度の向上と共に年々急速に低下しており、上記の問題の解決は益々重要となってきている。

これらの問題に関しては、情報転写マスタ表面に初めから潤滑剤を塗布する方法が提案されている。たとえば特許文献４，５参照）しかしながら、単に情報転写マスタ表面に初めから潤滑剤を塗布するだけでは、上記の問題を解決する上では不十分である。
特開２００１−００６１７０号公報（特許請求の範囲） 特開２００１−２０９９３４号公報（特許請求の範囲） 特開２００３−１８７４３５号公報（特許請求の範囲） 特開２００５−５０４７７号公報（特許請求の範囲） 特開２００１−３４９３９号公報（特許請求の範囲）

本発明は、上記問題を解決し、情報転写マスタとスレーブ媒体との間に優れた密着性を与え、従って、情報を確実にスレーブ媒体に転写できる情報転写マスタおよび磁気転写方法を提供することを目的としている。本発明の更に他の目的および利点は、以下の説明から明らかになるであろう。

本発明の一態様によれば、情報転写マスタから、潤滑層を表面に有する磁気記録媒体にサーボ情報を磁気転写する際に用いられる、サーボ情報を記録した情報転写マスタであって、前記サーボ情報を磁気転写する際の前記磁気記録媒体と対向する情報転写マスタの表面層の表面自由エネルギーが４５ｍＮ／ｍ以下である情報転写マスタが提供される。

本発明態様により、磁気記録媒体にサーボ情報を磁気転写する際に、磁気記録媒体上にある潤滑剤やその他の異物が情報転写マスタ表面に移行することを抑制することができ、それによって、情報転写マスタとスレーブ媒体との間に優れた密着性を与え、従って、情報を確実にスレーブ媒体に転写できる情報転写マスタが得られる。

前記表面自由エネルギーが２５ｍＮ／ｍ以下であること、前記表面自由エネルギーが、前記潤滑層の表面自由エネルギー未満であること、前記表面層が、前記潤滑層を構成する潤滑剤と同一材料から作製されたものであること、前記表面層がフッ素系樹脂を含有していること、前記フッ素系樹脂がトリフルオロメチル基で終端されているフッ素系樹脂であること、とりわけ、前記フッ素系樹脂が直鎖状の含フッ素ポリエーテルであること、前記表面層の膜厚が１ｎｍ以上であること、前記表面層の膜厚が前記潤滑層の膜厚以下であること、前記表面層が、その下層に対し実質的に化学結合されていること、前記下層に対する前記表面層の固着率が８０％以上であること、前記表面層が溶媒で洗浄されたものであること、前記表面層が、紫外線処理、キセノンエキシマ光線処理、電子線処理、赤外線処理、加熱処理およびそれらの組合せからなる群から選ばれた処理を受けたものであること、および、前記表面層の分離圧が前記潤滑層の分離圧に対し１００±５０％以内にあること、が好ましい。

これらの好ましい条件を採用することにより、スレーブ媒体の潤滑剤が情報転写マスタに付着し難くなるため、潤滑剤の情報転写マスタ上への移行により磁気記録媒体表面の潤滑剤が少なくなって発生する、浮上障害の問題がより効果的に解決できる。また、情報転写マスタ上に付着した潤滑剤やその他の異物により両者の距離が離れ、スレーブ媒体上にかかる磁界がぼやけた状態になり、ＳＮ比が低くなると言う問題や局所的に情報が欠落する問題をより効果的に抑制できる。更に、情報転写マスタ上へ移行した潤滑剤が、逆に磁気記録媒体上に移行し、磁気記録媒体表面の潤滑層を厚く盛り上がらせ、スライダ浮上面に潤滑剤がくっついて、ヘッド汚れやヘッドクラッシュの原因になるという問題も減少する。

本発明の他の一態様によれば、情報転写マスタから、潤滑層を表面に有する磁気記録媒体にサーボ情報を磁気転写する方法において、上記の情報転写マスタを使用する磁気転写方法が提供される。

本発明により、情報転写マスタとスレーブ媒体との間に優れた密着性を与え、従って、情報を確実にスレーブ媒体に転写できる情報転写マスタおよび磁気転写方法を提供することができる。

以下に、本発明の実施の形態を図、実施例等を使用して説明する。なお、これらの図、実施例等および説明は本発明を例示するものであり、本発明の範囲を制限するものではない。本発明の趣旨に合致する限り他の実施の形態も本発明の範疇に属し得ることは言うまでもない。図中、同一の符号は同一の要素を表す。

本発明に係る情報転写マスタは、潤滑層を表面に有する磁気記録媒体にサーボ情報を磁気転写する際に用いられる、サーボ情報を記録した情報転写マスタであって、前記サーボ情報を磁気転写する際の前記磁気記録媒体と対向する情報転写マスタの表面層の表面自由エネルギーが４５ｍＮ／ｍ以下である。

このような条件の情報転写マスタを用いて潤滑層を表面に有する磁気記録媒体にサーボ情報を磁気転写することにより、磁気記録媒体上にある潤滑剤やその他の異物が情報転写マスタ表面に移行することを抑制することができ、それによって、情報転写マスタとスレーブ媒体との間に優れた密着性を与え、従って、情報を確実にスレーブ媒体に転写できる情報転写マスタが得られる。

より、具体的には、スレーブ媒体の潤滑剤が情報転写マスタに付着し難くなるため、潤滑剤の情報転写マスタ上への移行により磁気記録媒体表面の潤滑剤が少なくなって発生する、浮上障害の問題が解決できる。また、情報転写マスタ上に付着した潤滑剤やその他の異物により両者の距離が離れ、スレーブ媒体上にかかる磁界がぼやけた状態になり、ＳＮ比が低くなると言う問題や局所的に情報が欠落する問題を抑制できる。更に、情報転写マスタ上へ移行した潤滑剤が、逆に磁気記録媒体上に移行し、磁気記録媒体表面の潤滑層を厚く盛り上がらせ、スライダ浮上面に潤滑剤がくっついて、ヘッド汚れやヘッドクラッシュの原因になるという問題も減少する。なお、本発明に係る情報転写マスタは、潤滑剤を塗布した後の磁気記録媒体を使用して磁気転写を行うという従来のプロセスでも採用が容易である。この表面自由エネルギーは２５ｍＮ／ｍ以下であることが好ましい。

更に、上記表面自由エネルギーが、前記潤滑層の表面自由エネルギー未満であることが好ましい。この条件を採用することにより、スレーブ媒体上にある潤滑剤やその他の異物が情報転写マスタ表面に移行することをより確実に抑制することができるようになる。

本発明に係る情報転写マスタについては、特に制限はなく、本発明の要件を満たす限り、どのような情報を転写するものでもよい。このような情報転写マスタの構成は、基板の微細凹凸パターンにＦｅ−Ｃｏ等よりなる軟磁性層が被覆されてなるのが一般的である。その微細凹凸パターンは、シリコン基板、ガラス基板等に、フォトファブリケーション、スパッタ、エッチングなどの処理を施して作製されるのが一般的である。

本発明に係る磁気記録媒体（スレーブ媒体）についても、特に制限はなく、ハードディスク装置に使用される、面内媒体、ＳＦＭ（Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｆｅｒｒｉ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｍｅｄｉａ）、垂直記録媒体、パターンド媒体など、どのような記録媒体であってもよい。

この磁気記録媒体の表面には潤滑層が存在する。この潤滑層については特に制限はなく、公知の潤滑剤を使用して公知の方法で形成することができる。本発明に係る潤滑層に使用する潤滑剤としては、フッ素系樹脂を含有するもの、または主に（たとえば９０重量％以上が）フッ素系樹脂よりなるもの、または、フッ素系樹脂のみからなるものが、薄い層で長期間優れた潤滑性を示すので、好ましい。このようなフッ素系樹脂としては、炭素とフッ素とオプションで水素を含み、エーテル結合を含んでいてもよい化合物を挙げることができる。より具体的には直鎖状のフッ素含有ポリエーテルを挙げることができる。水素をまったく含まないフッ素含有ポリエーテルであるパーフルオロポリエーテルもこの範疇に属する。なお、このようなフッ素系樹脂は、トリフルオロメチル基で終端されていることが好ましい場合が多い。トリフルオロメチル基は対応するメチル基や他の炭化水素系官能基に比べ低表面エネルギーであるので、この場合、表面エネルギーを効率良く下げられるからであるからである。本発明に係る潤滑層の厚さについては特に制限はないが、厚過ぎると磁気ディスクのヘッドの浮上量が大きくなるので不利である。

情報転写マスタの表面層は、表面自由エネルギーの要件が満たされる限り、どのように構成されていてもよい。固形状であっても液状であってもよい。例えば、情報転写マスタの磁性膜上に保護層を設ける場合には、その保護層が表面層に該当していてもよい。特別な層を設けてもよい。その特別な層が、他の機能、例えば潤滑層としての機能を有していてもよい。

この表面層は、スレーブ媒体の潤滑層を構成する潤滑剤と同一材料から作製されたものであることが好ましい場合が多い。このようにすると、互いの親和性が高いため、スレーブ媒体から情報転写マスタへの一方的な物質の移行やその逆の移行が起こりにくくなる場合が多い。

また、材料の観点からすれば、表面層がフッ素系樹脂を含有していることや、そのフッ素系樹脂が直鎖状の含フッ素ポリエーテルであることや、そのフッ素系樹脂がトリフルオロメチル基で終端されているフッ素系樹脂であることが好ましい。そのような樹脂は、一般的に、情報転写マスタ上に留まり、スレーブ媒体側に移行し難いからである。この場合の用語の意味は上記スレーブ媒体の潤滑層用の潤滑剤の場合と同様である。

表面層の膜厚には特に制限はないが、１ｎｍ以上であることが好ましいことが判明した。これより薄いと磁気記録媒体上にある潤滑剤やその他の異物が情報転写マスタ表面に移行するのを抑制しがたくなるのであろうと考えられる。

潤滑層の膜厚との関係では、表面層の膜厚が潤滑層の膜厚以下であることが好ましい。現状は潤滑層が０．９ｎｍなので、潤滑層の膜厚以上で表面層は１ｎｍ以上で低表面エネルギーとしたほうが望ましい。その方が表面エネルギーを小さくでき且つ磨耗強度が向上するからである。

本発明に係る表面層は、その下層に対し実質的に化学結合されていることが好ましい。実質的に化学結合されていれば、更にスレーブ媒体側に移行し難くなるからである。なお、「実質的に化学結合された」ことは、実際に化学結合が起こっていることを確認することまで要求するものではなく、溶媒により洗浄で洗い流されない、下層に固着した成分があれば充分である。

この下層に固着した成分の割合、すなわち下層に対する表面層の固着率としては、具体的には８０％以上であることが好ましい。表面層の固着率は、情報転写マスタの表面層を２，３−ジハイドロデカフルオロペンタン、ヘキサフルオロイソプロパノール等の溶媒で抽出し、表面層の膜厚が定常状態になったときの抽出前膜厚に対する抽出後膜厚の割合で求めることができる。膜厚は平均膜厚である。抽出時間は表面層膜厚が一定値を指すまで行えばよいが、通常１分間ほどで充分である。膜厚は、Ｘ線光電子分光法、フーリエ変換赤外吸収分光法、エリプソメータを用いる方法等で測定することができる。または、抽出量が定常状態になったときの、抽出前重量に対する非抽出物重量の割合で求めてもよい。固着率は、９５％以上がより好ましく、９８％以上がさらに好ましい。

本発明に係る表面層は、単に情報転写マスタに所望の材料を塗布しただけのものでもよい場合もあるが、このような固着率の条件を満たすには、表面層を溶媒で洗浄することや、表面層を高エネルギー線で照射することや加熱処理することが有用である。これらの組合せも有用である。

洗浄により、物理吸着等により弱く吸着している部分を除去することができる。この目的のための溶媒としては、フッ素系の溶媒である、２，３−ジハイドロデカフルオロペンタン、ヘキサフルオロイソプロパノール等を挙げることができる。

高エネルギー線で照射する場合には、表面層と下層との化学結合を促進できるものと考えられる。紫外線処理、キセノンエキシマ光線処理、電子線処理、赤外線処理等があるが、特に紫外線処理が実用性が高く好ましい。このようにすると、表面層を形成する材料がその下の層により強固に固着させ、表面層からスレーブ媒体への移行をより確実に抑制することができるからである。紫外線の場合には、照射により表面エネルギーを低下させることもできる。高エネルギ線で実質的に化学結合させることで、低表面エネルギー状態を維持できる。紫外線処理の場合、マスターの仕事関数よりも紫外線のエネルギーが高い方が、マスターから光電子が発生し、潤滑剤の結合効率を高める。

紫外線処理、キセノンエキシマ光線処理、電子線処理、赤外線処理、加熱処理およびそれらの組合せの条件は、実験により適宜定めることができる。一般的には、紫外線処理については、１５０〜２００ｎｍの波長で、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下照射する。加熱処理は１００〜１５０℃の温度で３０〜９０分加熱の条件が好ましい。これらの処理後に上記洗浄を組み合わせてもよいことは言うまでもない。

ここで「下層」とは、情報転写マスタにおいて表面層の下にある層を意味する。保護層の直上に本発明に係る表面層があれば、その保護層が該当し、磁性膜の直上に本発明に係る表面層があれば、その磁性膜が該当する。

上記以外の観点としては、本発明に係る表面層の分離圧がスレーブ媒体の潤滑層の分離圧に対し１００±５０％以内にあることも好ましい態様である。分離圧とは、固体上にある液体薄膜についてその膜厚をある値に保つためにその薄膜に加えておかなければならない圧力を意味し、分離圧の異なる材料が接触すると、分離圧の低い側から高い側に向けて物質が移動する傾向が生じる。このような物質移動を抑制できるからである。なお、分離圧は下記のようにして求めることができる。

次に本発明の実施例および比較例を詳述する。なお、次の評価方法を採用した。

（表面自由エネルギー測定）
表面自由エネルギーは対象膜に対する純水およびジヨードメタンの接触角を測定し、以下の導出式から算出した。

固体試料の表面自由エネルギーをγS、液体試料の表面自由エネルギーをγL、固体試料／液体試料の接触角をθSL、固体試料／液体試料の界面自由エネルギーをγSLとすれば（２）式に示すYoungの式が成立する。

γS =γL・cosθSL+γSL・・・（２）
液体が固体表面に付着することにより安定化するエネルギーである接着仕事WSLはDupreの式（３）に従う。

γS +γL = WSL+γSL・・・（３）
以上の２式からYoung- Dupreの式（４）が導出され、接着仕事は液体の表面自由エネルギーと接触角から求められることになる。

WSL=γL（1+cosθSL）・・・（４）
この接着仕事に対して表面自由エネルギーの各成分の幾何平均則を適用すると、（５）式が成り立つ。

WSL=２√（γSd・γLd）＋２√（γSh・γLh）・・・（５）
ここでｄ、ｈは分散成分、水素結合成分を意味する。

２種類の液体（i, j）を用いれば接着仕事について次の関係が成り立つ。

従って、２種類の液体の接触角を実測し接着仕事求めれば次の関係から固体の表面自由エネルギーを各成分毎に求めることができる。この関係式をFowkes式と呼ぶ。またこの関係式より、表面自由エネルギーγ_s=γ_s ^d＋γ_s ^hが求められる。

具体的には下表のデータを用い、下記の式により、表面自由エネルギーγ_s=γ_s ^d＋γ_s ^ｈを求めた。

上式においてθ_ｗは水の接触角、θ_Ｄはジヨードメタンの接触角である。

（固着率）
情報転写マスタ一個を、室温で、１０００ｍＬの２，３−ジハイドロデカフルオロペンタン中に１分間浸漬して取り出し、乾燥してから、浸漬前の表面層の膜厚に対する乾燥後の表面層の膜厚の百分率を求めた。

（分離圧）
表面張力（表面自由エネルギー）の潤滑膜厚依存性を求め、膜厚ｈの関数γ（ｈ）と表現する。分離圧Ｐ（ｈ）はＰ（ｈ）＝−ｄγ／ｄｈとして求めることができる。

（サーボセクタの欠落セクタ率）
サーボセクタの欠落セクタ率は、磁気ディスク媒体上に記録されるサーボセクタの内、記録再生に使えないセクタの割合を表す。

なお、以下において「転写枚数」とは、サーボセクタの欠落セクタ率が１％になるまでに転写できたスレーブ媒体数を意味する。

［例１］
図３の（ａ）に示すように、８インチＳｉウエハー上に電子線レジスト（ｚｅｐ−５２０）を塗布し、電子ビーム描画装置でサーボパターンに対応する凹凸形状を現像した。サーボパターンを図４に例示する。

次に、ＳＦ_６ガスでＲＩＥ（ｒｅａｃｔｉｖｅ ｉｏｎ ｅｔｃｈｉｎｇ）を行い、深さ１００ｎｍの、図３の（ｂ）に示す形状の凹凸を得た。ＲＩＥは、１Ｐａの圧力下、ＳＦ_６を１５ｍＬ／分の流量で６０秒間流して行った。

ついで、酸素ガスでレジストをアッシング除去した。アッシングは、１０Ｐａの圧力下、酸素を１００ｍＬ／分の流量で３分間流して行った。

次に、Ｎｉをスパッタして電極膜を形成した後、図３の（ｃ）に示すように、電気メッキで３００μｍのＮｉメッキを行った。

Ｎｉを剥離した後、図示しない外形加工装置で２．５インチの形状に外形加工した。

次に、Ｎｉの凹凸のある側に磁性膜を形成した。磁性膜としては、透磁率の高いＦｅＣｏ系材料を使用した。最後にＤＬＣ（ダイアモンドライクカーボン）やスパッタカーボン等で保護膜を形成すると情報転写マスタが得られる。今回は、ＤＬＣで保護膜を形成した。この表面自由エネルギーは５５ｍＮ／ｍであった。

［例２］
上記の情報転写マスタをそのまま用いて磁気転写の耐久試験を行った。使用したスレーブ媒体は、ハードディスク用の２．５インチの円板状磁気記録媒体で、情報転写マスタに対向する面には、１．２５ｎｍの厚さのプロピレングリコール基で終端されている直鎖状のパーフルオロポリエーテル（ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＴＥＴＲＡＯＬ）よりなる潤滑層が設けられていた。スレーブ媒体の表面自由エネルギーすなわちスレーブ媒体の潤滑層の表面自由エネルギーは１８ｍＮ／ｍであり、分離圧は４×１０^６Ｐａであった。

その結果、１万枚の転写を行うと磁気記録媒体から供給される汚染が情報転写マスタに付着し、密着不良で全サーボセクタのうち外周付近で欠落セクタ率が５％を超えるようになりサーボ情報を正確に記録することができなくなった。

［例３］
これに対し、上記で作製した情報転写マスタに、トリフルオロメチル基で終端されている直鎖状のパーフルオロポリエーテルをコートし、１７２ｎｍのＵＶ光を照度１３ｍW、窒素雰囲気下で照射し、加熱は行わず、UV照射後室温で、１０００ｍＬの２，３−ジハイドロデカフルオロペンタン中に１分間浸漬洗浄して可溶成分取り出し、乾燥し、１．５ｎｍの厚さの表面層を持つ情報転写マスタを作製し、これを磁気転写に使用したところ、磁気転写に１００万枚の転写を行った後も、サーボセクタの欠落セクタ率は１％にもならなかった。なお、この場合、ＤＬＣ層が下層に該当する。

この情報転写マスタの表面自由エネルギー、すなわち情報転写マスタの表面層の表面自由エネルギーは１５ｍＮ／ｍであり、分離圧は２．５×１０^６Ｐａであった。また、表面層の固着率は９９％であった。

［例４］
情報転写マスタの表面層の厚さを種々変えて、サーボセクタの欠落セクタ率が１％になるまでの転写枚数を評価した。結果を図５に示す。表面層がある場合は、膜厚以外は例３と同様に作製した。

この結果から、表面層なしでは、１０００枚で欠落セクタ率が１％となるが、膜厚が１．５ｎｍの場合は１００万枚まで欠落セクタ率が１％とならないことが確認された。なお、膜厚がより厚い場合に欠落セクタ率が下がる傾向を示すのは、磁気記録媒体と情報転写マスタとの間のスペースが大きくなることで、信号の転写不良が起こるためであろうと考えられる。

［例５］
情報転写マスタの表面層の厚さを１．２ｎｍとし、紫外線照射時間を変えた以外は、例３と同様にして表面層を持つ情報転写マスタを作製した。

図６は、ＵＶ光照射時間と転写枚数および情報転写マスタの表面層の固着率とを測定したものである。ＵＶ光照射時間の増加に連れて転写枚数が増えることが分かる。また、固着率は、ＵＶ光照射時間３０秒まではほぼ直線的に増加し９５％程度になった。

［例６］
ＵＶ光照射の代わりに、潤滑剤として、プロピレングリコールで終端されている直鎖状のパーフルオロポリエーテルを使用し、加熱処理を１時間行った以外は例３と同様にして表面層を持つ情報転写マスタを作製した。図７は加熱温度と転写枚数の関係を示したものである。加熱温度が高いと転写枚数が大きくなることが理解される。加熱温度は１３０℃以上であると転写枚数が１００万枚となった。なお、本例の潤滑剤膜厚は１．５ｎｍ、情報転写マスタの表面層の表面自由エネルギーは１６．５ｍＮ／ｍであり、分離圧は２．８×１０^６Ｐａであった。また、表面層の固着率は９９％であった。

［例７］
次に、例３において、膜厚を変更することで、表面エネルギーを変化させた場合にサーボセクタの欠落セクタ率が１％になる転写枚数を調べた結果、図８のようになることが判明した。これより、表面層を形成することで、表面エネルギーが４５ｍＮ／ｍ以下になると、転写枚数は２万枚となることから、情報転写マスタをクリーニングすれば、生産に適用することが可能で、２５ｍＮ／ｍ以下となれば、クリーニングをしなくても生産に耐えられるようになる場合がある。また、情報転写マスタの表面（本例の場合には表面層の表面）の表面自由エネルギーが、サーボ情報が書き込まれる磁気記録媒体（本例の場合には潤滑層の表面）の表面よりも小さい場合、磁気記録媒体の潤滑層が情報転写マスタ側へ移着しないため、情報転写マスタからの再付着もないと考えられる。

なお、上記に開示した内容から、下記の付記に示した発明が導き出せる。

（付記１） 情報転写マスタから、潤滑層を表面に有する磁気記録媒体にサーボ情報を磁気転写する際に用いられる、サーボ情報を記録した情報転写マスタであって、前記サーボ情報を磁気転写する際の前記磁気記録媒体と対向する情報転写マスタの表面層の表面自由エネルギーが４５ｍＮ／ｍ以下である情報転写マスタ。

（付記２） 前記表面自由エネルギーが２５ｍＮ／ｍ以下である、付記１に記載の情報転写マスタ。

（付記３） 前記表面自由エネルギーが、前記潤滑層の表面自由エネルギー未満である、付記１または２に記載の情報転写マスタ。

（付記４） 前記表面層が、前記潤滑層を構成する潤滑剤と同一材料から作製されたものである、付記１〜３のいずれかに記載の情報転写マスタ。

（付記５） 前記表面層がフッ素系樹脂を含有している、付記１〜４のいずれかに記載の情報転写マスタ。

（付記６） 前記フッ素系樹脂がトリフルオロメチル基で終端されているフッ素系樹脂である、付記５に記載の情報転写マスタ。

（付記７） 前記フッ素系樹脂が直鎖状の含フッ素ポリエーテルである、付記５または６に記載の情報転写マスタ。

（付記８） 前記表面層の膜厚が１ｎｍ以上である、付記１〜７のいずれかに記載の情報転写マスタ。

（付記９） 前記表面層の膜厚が前記潤滑層の膜厚以下である、付記１〜８のいずれかに記載の情報転写マスタ。

（付記１０） 前記表面層が、その下層に対し実質的に化学結合されている、付記１〜９のいずれかに記載の情報転写マスタ。

（付記１１） 前記下層に対する前記表面層の固着率が８０％以上である、付記１０に記載の情報転写マスタ。

（付記１２） 前記表面層が溶媒で洗浄されたものである、付記１〜１１のいずれかに記載の情報転写マスタ。

（付記１３） 前記表面層が、紫外線処理、キセノンエキシマ光線処理、電子線処理、赤外線処理、加熱処理およびそれらの組合せからなる群から選ばれた処理を受けたものである、付記１〜１２のいずれかに記載の情報転写マスタ。

（付記１４） 前記表面層の分離圧が前記潤滑層の分離圧に対し１００±５０％以内にある、付記１〜１３のいずれかに記載の情報転写マスタ。

（付記１５） 情報転写マスタから、潤滑層を表面に有する磁気記録媒体にサーボ情報を磁気転写する方法において、付記１〜１４のいずれかに記載の情報転写マスタを使用する、磁気転写方法。

潤滑剤をコートしていない情報転写マスタを磁気転写に適用する場合を示す模式図である。 潤滑剤をコートしていない情報転写マスタを磁気転写に適用する場合を示す模式図である。 潤滑剤をコートしていない情報転写マスタを磁気転写に適用する場合を示す模式図である。 情報転写マスタに付着した潤滑剤が、磁気記録媒体側に再付着する様子を示す模式図である。 情報転写マスタの作製方法を例示する模式図である。 サーボパターンを例示する模式図である。 情報転写マスタの表面層の厚さとサーボセクタの欠落セクタ率との関係を示すグラフである。 ＵＶ光照射時間と転写枚数および情報転写マスタの表面層の固着率とを示すグラフである。 加熱温度と転写枚数の関係を示すグラフである。 表面エネルギーと転写枚数との関係を示すグラフである。 磁気ディスクのヘッドの浮上量と面密度のトレンドを示すグラフである。

符号の説明

１ 情報転写マスタ
２ 磁気記録媒体
３ 潤滑層
４ 磁性層

Claims (10)

1. 情報転写マスタから、潤滑層を表面に有する磁気記録媒体にサーボ情報を磁気転写する際に用いられる、サーボ情報を記録した情報転写マスタであって、前記サーボ情報を磁気転写する際の前記磁気記録媒体と対向する情報転写マスタの表面層の表面自由エネルギーが４５ｍＮ／ｍ以下である情報転写マスタ。
2. 前記表面自由エネルギーが、前記潤滑層の表面自由エネルギー未満である、請求項１に記載の情報転写マスタ。
3. 前記表面層が、前記潤滑層を構成する潤滑剤と同一材料から作製されたものである、請求項１または２に記載の情報転写マスタ。
4. 前記表面層がフッ素系樹脂を含有している、請求項１〜３のいずれかに記載の情報転写マスタ。
5. 前記フッ素系樹脂がトリフルオロメチル基で終端されているフッ素系樹脂である、請求項４に記載の情報転写マスタ。
6. 前記フッ素系樹脂が直鎖状の含フッ素ポリエーテルである、請求項４または５に記載の情報転写マスタ。
7. 前記表面層の膜厚が１ｎｍ以上である、請求項１〜６のいずれかに記載の情報転写マスタ。
8. 前記表面層が、その下層に対し実質的に化学結合されている、請求項１〜７のいずれかに記載の情報転写マスタ。
9. 前記表面層が、紫外線処理、キセノンエキシマ光線処理、電子線処理、赤外線処理、加熱処理およびそれらの組合せからなる群から選ばれた処理を受けたものである、請求項１〜８のいずれかに記載の情報転写マスタ。
10. 情報転写マスタから、潤滑層を表面に有する磁気記録媒体にサーボ情報を磁気転写する方法において、請求項１〜９のいずれかに記載の情報転写マスタを使用する、磁気転写方法。

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