JP2008214231A - リグノフェノールの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】出発原料となるリグノフェノール1を親溶媒に溶解し、リグノフェノールの親溶媒溶液とする工程と、リグノフェノールの親溶媒溶液を貧溶媒中に混合してリグノフェノール沈殿物2を生成する工程と、を備え、貧溶媒を変えることによりリグノフェノール沈殿物2の分子量を制御することができる。さらに、リグノフェノール沈殿物を回収した後の貧溶媒溶へリグノフェノールと金属化合物とからなる錯体様複合体を加え、残存するリグノフェノールを回収することができる。
【選択図】図1
Description
上記構成によれば、貧溶媒にリグノフェノールの親溶媒溶液を混合することで、貧溶媒の種類を選択することにより、分子量が制御されたリグノフェノールを製造することができる。
上記金属化合物として、酸化チタン又は磁鉄鉱を用いれば好ましい。
上記構成によれば、貧溶媒にリグノフェノールの親溶媒溶液を混合し、リグノフェノール沈殿物を得た後、貧溶媒中にリグノフェノールと金属化合物とからなる錯体様複合体を加え、残存するリグノフェノールを回収することができる。
好ましくは、非対称エーテル類は、tert-ブチルメチルエーテル又はシクロペンチルメチルエーテルであり、対称アルキルエーテル類が、ジプロピルエーテル又はジエチルエーテルであり、環状炭化水素類がトルエン、キシレン、ヘキサンの何れかである。
上記構成によれば、貧溶媒の種類や異なる貧溶媒を混合した溶媒によりリグノフェノールの分子量を制御することができる。
図1は、本発明のリグノフェノールの製造方法を示す工程図である。図において、出発原料1は、リグノセルロースから誘導したリグノフェノールである。図示するように、第1工程は、出発原料1となるリグノフェノールを親溶媒に溶解する工程であり、リグノフェノールの親溶媒溶解液とする。第2工程は、第1工程で得たリグノフェノールの親溶媒溶解液を、リグノフェノールの貧溶媒中に混合する工程であり、貧溶媒中にリグノフェノールの沈殿物が生成する。この沈殿物は、出発原料1となるリグノフェノールの分子量が変化したリグノフェノールである。このリグノフェノール沈殿物の分子量は、貧溶媒のリグノフェノール親溶媒溶解液に対する溶解度を変えることにより制御することができる。
リグノセルロース自体は植物の主成分であり、針葉樹や広葉樹のような木本類、草本類の何れも使用可能である。木本類では廃材、間伐材、木粉など、ケナフやバガス、アブラヤシ空房といった草本系農産廃棄物、草本植物、新聞紙、コーヒーガラ等の産業廃棄物も使用可能である。リグノセルロースは、約70%の糖質と約30%の硬い部位であるリグニンからなる。従来は、有用な糖質のみが抽出され、反応性が高いため抽出が困難なリグニンは廃棄されていた。これらの原料のひとつである木本類を用いた場合の特徴を以下に示す。
針葉樹はフェニルプロパン構造のフェニル部の2位にアリールメチルエーテル(メトキシル基)を有するグアイアシル型が全てを占める。広葉樹ではグアイアシル型と同時にフェニル部2位、5位に共にメトキシル基があるシリンギル型を50:50で有する。さらに草本では広葉樹型の基本骨格に加え、メトキシル基がないフェニルプロパン骨格を有する。このような基本骨格以外は得られるリグノフェノールの構造はいずれの樹種を用いてもほぼ同様となる。針葉樹リグノフェノールではグアイアシル基のフェニル部の5位から単位間結合が形成されるため比較的分子量が高くなる。針葉樹では重量平均分子量であるMwが10000から20000程度、広葉樹や草本では、Mw=6000から8000程度となる。
図2は、リグニンからp−クレゾール型のリグノフェノールに変換する化学反応式を示す図である。図2の反応においては、リグニン10をp(パラ)−クレゾールを用いてフェノール置換体とし、硫酸(H2SO4)と反応させ、出発原料となるp−クレゾール型のリグノフェノール1と水溶性炭水化物(糖類)とに分離している。
リグノフェノールは、以下のような構造特性を有する不定形ポリマーである。植物中に20〜30%含まれるフェノール系物質でフェニルプロパン骨格(C6C3)を有するリグニンに酸触媒下、過剰のフェノール類(例えばp−クレゾールなど)との界面反応によってフェノール化処理を施すと、主にフェニルプロパン骨格のC1位にフェノールが、水酸基がC1に対しオルト位になるように求核的に導入され、ほぼ定量的にフェノール性リグニン系構造可変ポリマー(リグノフェノール)が得られる(図2の1−1,ビス(アリール)プロパン−2−O−アリールエーテル型構造参照)。
出発原料1となるリグノフェノールの各種の溶媒による溶解性を検討した結果、溶解度は次の序列になることがわかった。
強アルカリ溶液>アセトン,メチルエチルケトンなどのアルキルケトン類>ジメチルフォルムアミド(DMF),N-メチルピロリドン(NMP)のような非プロトン極性溶媒>テトラヒドロフラン(THF),ジオキサンのような環状エーテル類>ピリジンのようなヘテロ環状化合物>エタノール,セロソルブのようなアルコール類>tert-ブチルメチルエーテル(TBME),シクロペンチルメチルエーテル(CPME)などの非対称エーテル類>ジエチルエーテルやジプロピルエーテル,ジイソプロピルエーテルなどの対称アルキルエーテル>トルエン又はキシレンとヘキサンとの混合溶媒>ベンゼン,トルエン,ヘキサンなどの環状炭化水素類>水
上記貧溶媒によれば、沈殿するリグノフェノールの分子量の大きさのみならず、分布の広さも制御することができる。
図3は、本発明のリグノフェノールの別の製造方法を示す工程図である。
図3に示すように、第1工程及び第2工程は、図1に示したリグノフェノールを分画する方法と同じであり、第3工程として、リグノフェノール沈殿物を回収した後の貧溶媒及び親溶媒へリグノフェノールと金属化合物との錯体様複合体を加え、残存するリグノフェノールを沈殿物として回収する工程が付加されている。リグノフェノールと金属化合物との錯体様複合体は、リグノフェノールの吸着剤として作用し、第2工程の貧溶媒及び親溶媒に残存しているリグノフェノールを吸着し、沈殿物として回収することができる。
酸化チタンナノ粒子ペースト(触媒化成株式会社製、PASOL−HPA−15R)10重量部と、酸化チタン(日本アエロジル株式会社製、P25)1重量部と、ポリエチレングリコール(和光純薬工業株式会社製、特級、分子量20000)4重量部とを瑪瑙乳鉢でよく攪拌した。このペーストを、フッ素ドープした酸化スズで被覆された導電性ガラス(FTO)上に厚さ63μmのメンディングテープ(スリーエム株式会社製)で厚み規正し、バーコーティング法でペーストを塗布した。乾燥後450℃のマッフル炉に60分入れて焼結した。得られた酸化チタン膜の厚みは、10μm〜45μmであった。走査電子顕微鏡(SEM)で観察した結果、1μm以下の粒子が確認された。
最初に、以下の方法で出発原料1となるリグノフェノールを製造した。
p−クレゾール500gをアセトン17リットルに溶解させ、抽出物を除去した気乾ヒノキ(Chamaecyparis obtusa)木粉1000gに加え数時間放置した。アセトンを除去し、木粉に残留したp−クレゾールのリグニン1ユニット(フェニルプロパン構造C6C3)は、1モルあたり3モル倍であった。このp−クレゾールが付着した木粉に硫酸(72%)5リットルを加え室温下1時間激しく攪拌した。水洗にて酸を除去した後乾燥させ、アセトン7リットルを加えて抽出し、この抽出液を3リットル程度まで濃縮し、リグノフェノールの親溶媒溶液とした。
なお、上記濃縮アセトン抽出液(54.2mg/cm3)3リットルを、ジエチルエーテル20リットルに磁気攪拌しながら滴下し、沈殿物として得られたリグノフェノール140gの物性をGPC分析で評価すると、重量平均分子量(Mw)は13436であった。熱機械分析法(TMA)による測定では、熱流動開始点温度が165.8℃であり、終了点温度が181.1℃であった。
実施例1に対する比較例1として、第2工程の貧溶媒をジエチルエーテル(DEE)200cm3とした以外は、実施例1と同様にして比較例1のリグノフェノールを得た。
図4は、実施例1及び比較例1で得たリグノフェノールのゲルパーミッションクロマトグラフィーの測定結果を示す図である。図4において、横軸は溶出時間(分)であり、縦軸は信号強度(任意目盛)である。図4から明らかなように、貧溶媒としてシクロペンチルメチルエーテルを用いて得た実施例1のリグノフェノールの数平均分子量は7210であり、貧溶媒としてジエチルエーテルを用いて得た実施例2のリグノフェノールの数平均分子量は5325であることが分かった。
実施例2〜4に対する比較例2として、第2工程の貧溶媒を、ジエチルエーテル200cm3とした以外は、実施例2と同様にして、比較例2のリグノフェノールを得た。
一方、貧溶媒としてジエチルエーテルを用いて得た比較例2のリグノフェノールの数平均分子量は7871であり、実施例2及び3のリグノフェノールの数平均分子量よりも小さいことが分かった。
図9から明らかなように、実施例2の貧溶媒としてtert−ブチルメチルエーテルを用いて得たリグノフェノールの熱流動開始点温度は179.2℃であり、終了点温度は203℃であった。実施例3の貧溶媒としてシクロペンチルメチルエーテルとジエチルエーテルの混合溶媒を用いて得たリグノフェノールの熱流動開始点温度は177.0℃、終了点温度は213.2℃であった。実施例4の貧溶媒としてシクロペンチルメチルエーテルを用いて得たリグノフェノールの熱流動開始点温度は178.20℃、終了点温度は202.2℃であった。
一方、比較例2の貧溶媒としてジエチルエーテルを用いて得たリグノフェノールの熱流動開始点温度は174.2℃、終了点温度は199.3℃であった。
なお、実施例1及び比較例1の数平均分子量や流動開始点温度の値が、同じ貧溶媒を用いた実施例4及び比較例2における測定結果と異なっているのは、産地の異なる気乾ヒノキを用いたことに起因している。比較例2の貧溶媒をジエチルエーテルとした場合と比較すると、実施例2のリグノフェノールの分子量や分布の偏りや熱特性の順序や傾向は同じとなっていることが分かった。
2:リグノフェノール(沈殿物)
3:貧溶媒から回収されるリグノフェノール
10:リグニン
Claims (7)
- 出発原料となるリグノフェノールを親溶媒に溶解し、リグノフェノールの親溶媒溶液とする工程と、
上記リグノフェノールの親溶媒溶液を貧溶媒中に混合してリグノフェノール沈殿物を生成する工程と、を備え、
上記貧溶媒を変えることにより上記リグノフェノール沈殿物の分子量を制御することを特徴とする、リグノフェノールの製造方法。 - 出発原料となるリグノフェノールを親溶媒に溶解し、リグノフェノールの親溶媒溶液とする工程と、
上記リグノフェノールの親溶媒溶液を貧溶媒中に混合してリグノフェノール沈殿物を生成する工程と、
上記リグノフェノール沈殿物を回収した後の上記貧溶媒へリグノフェノールと金属化合物とからなる錯体様複合体を加え、残存するリグノフェノールを回収する工程と、を備え、
上記貧溶媒を変えることにより上記リグノフェノール沈殿物の分子量を制御することを特徴とする、リグノフェノールの製造方法。 - 前記貧溶媒が、R1−O−R2型のエーテル類(ここで、R1及びR2は、アルキル、イソアルキル、tert-アルキル、フェニル、アリルの何れかの基であり、かつ、R1及びR2で示される置換基の炭素数の合計は4以上である。)であることを特徴とする、請求項1又は2に記載のリグノフェノールの製造方法。
- 前記エーテル類が、tert-ブチルメチルエーテル又はシクロペンチルメチルエーテルであることを特徴とする、請求項3に記載のリグノフェノールの製造方法。
- 前記貧溶媒が、非対称エーテル類,対称アルキルエーテル類,環状炭化水素類のうち少なくとも二つから選択され、選択された貧溶媒を任意の比率で混合することを特徴とする、請求項1又は2に記載のリグノフェノールの製造方法。
- 前記非対称エーテル類が、tert-ブチルメチルエーテル又はシクロペンチルメチルエーテルであり、前記対称アルキルエーテル類が、ジプロピルエーテル又はジエチルエーテルであり、前記環状炭化水素類が、トルエン、キシレン、ヘキサンの何れかであることを特徴とする、請求項5に記載のリグノフェノールの製造方法。
- 前記金属化合物が、酸化チタン又は磁鉄鉱であることを特徴とする、請求項2に記載のリグノフェノールの製造方法。
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