JP2008211764A - 電子装置およびrfモジュール - Google Patents

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茂 土田
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Abstract

【課題】電子装置の小型化又は低コスト化を実現する。
【解決手段】それぞれ少なくともインダクタンス成分を備えた配線パターンMS21〜MS24を積層することで並列共振回路を実現する。この際に、互いに隣接するMS21,MS22の一方を信号入力ノードNinとし、他方を信号出力ノードNoutする。そして、例えば、Ninを、順に、MS21、MS23、MS24、MS22のインダクタンス成分を介してNoutに接続する。NinとNoutの配線層を互いに隣接させることで、隣接させない場合と比べてNinとNout間の容量値を大きくできる。また、MS21とMS22の配線幅を太く形成することで、この容量値を更に大きくできる。したがって、小面積で大きな容量値を実現でき、電子装置の小型化等が実現可能となる。
【選択図】図2

Description

本発明は電子装置、特に高調波歪を低減するフィルタ等を含む高周波モジュール(RFモジュール)に適用して有益な技術に関するものである。
携帯電話に代表される移動体通信には、複数の通信方式が存在する。例えば欧州では、第2世代無線通信方式として普及しているGSMおよびGSMのデータ通信速度を向上したEDGEに加えて、近年サービスが開始された第3世代無線通信方式であるW−CDMAがある。また、北米では第2世代無線通信方式であるDCS、PCSに加えて、第3世代無線通信方式であるcdma1xが普及している。尚、GSMは、Global System for Mobile Communicationの略である。EDGEは、Enhanced Data rate for GSM Evolutionの略である。W−CDMAは、Wide-band Code Division Multiple Accessの略である。DCSは、Digital Cellar Systemの略である。PCSは、Personal Communication Systemの略である。cdma1xは、Code Division Multiple Access 1xの略である。
GSMおよびEDGEに対応する携帯電話端末の高周波回路部分おいて、高周波電力増幅器とアンテナとの間には、アンテナスイッチが配置される。アンテナスイッチは、TDMA(時分割マルチプルアクセス)方式の送信スロットと受信スロットとを切り換える機能を実行する。
一方、携帯電話端末における高周波回路構成に関する他の傾向として、高周波電力増幅器を有する高周波電力増幅器モジュールへの出力電力検出回路の内蔵化がある。例えば、下記非特許文献1には、電力増幅器により生成される電力を検出する方向性結合器を電力増幅器と伴に電力増幅器モジュールに集積化することが記載されている。方向性結合器の主線路は電力増幅器の出力とアンテナとの間に接続され、方向性結合器の副線路は終端抵抗と電力レベル制御部の入力との間に接続される。方向性結合器は、電力増幅器により生成された進行波信号からの結合電圧と負荷により反射された反射波信号からの結合電圧とのベクトル和の検出電圧を検出することができる。
また、下記非特許文献2には、電力増幅器、増幅コントローラ、送受信スイッチ、スイッチコントローラ、デュアルバンド方向性結合器、ディプレクサ、整合回路、高調波フィルタを内蔵する高集積クワッドバンド送信フロントエンドモジュールが記載されている。クワッドバンドは、UGSM(GSM850)、EGSM(GSM900)、DCS(DCS1880)、PCS(PCS1900)の携帯電話のマルチバンドである。このモジュールは、InGaP/GaAsのHBT(ヘテロバイポーラトランジスタ)と、AlGaAs/InGaAs/AlGaAsのPHEMTと、GaAsのショットキー/受動素子と、Siのショットキー/バイポーラ/CMOS半導体技術を採用している。
また、非特許文献2に示されるようなフロントエンドモジュールでは、複数のインダクタやコンデンサが使用される。例えば、特許文献1の図8には、ビルドアップ多層基板の各層の表面に、Cの字形状のコイル用パターンを形成し、この各層のコイル用パターンをビルドアップバイアにより接続した構成が示されている。この構成は、全体として螺旋状のインダクタ(一般的にスパイラルインダクタなどと呼ばれる)となる。
特許文献2の図1には、構成層を積層してなる積層体と、構成層に設けられる内部導体と、この内部導体を電気的に接続するためのビアホールとを備えた構成が示されている。この構成も、特許文献1と同様にスパイラルインダクタとなる。また、特許文献2の図11には、構成層を積層してなる積層体と、構成層上に形成されているプレーン状の内部導体と、積層体の両側にそれぞれ設けられる端子電極とを備え、隣り合う内部導体が、それぞれ異なる端子電極に接続された構成が示されている。この構成は、コンデンサとなる。
特許文献3の図1には、5層の誘電体層において、2層目と3層目に線路状導体を形成し、4層目に容量電極を形成し、5層目に2個の接地容量電極を形成し、5層目の裏面を接地電極とした構成が示されている。この構成では、2層目の線路状導体の一端が貫通導体を介して4層目の容量電極と5層目の一方の接地容量電極に接続され、他端が貫通導体を介して3層目の線路状導体の一端に接続されている。また、3層目の線路状導体の他端は、貫通導体を介して5層目の他方の接地容量電極に接続されている。この構成は、LC並列共振回路とその両端に接続されたコンデンサからなるロウパスフィルタとなる。
特開2005−268447号公報 特開2006−59999号公報 特開2004−296927号公報 Jelena Madic et al, "Accurate Power Control Techinique for Handset PA Modules with Integrated Directional Couplers", 2003 IEEE Radio Frequency Integrated Circuits Symposium, pp.715-718. P. DiCarlo et al, "A Highly Integrated Quad-Band GSM TX-Front-End-Module", 2003 IEEE Gallium Arsenide Intgrated Circuit (GaAsIC) Symposium, 2003, 25th Annual Technical Digest, pp.280-283.
近年、携帯電話機を代表とする移動体通信機器では、部品の小型化・高密度化および低コスト化への要求が高まってきている。移動体通信機器では、アンテナとの間で高周波信号の送受信を行う高周波(RF:Radio Frequency)モジュールと呼ばれる部品が備わっているが、移動体通信機器の多機能化、小型化、低コスト化の要求にあわせて高周波モジュールの小型化が求められる。
高周波モジュールには、通常、アンテナスイッチ回路、パワーアンプ回路、入出力整合回路、および各種フィルタ回路等が含まれている。この内、出力整合回路や各種フィルタ回路等は、半導体チップ(パワーアンプ回路等)が実装された多層配線基板上で、その配線パターンを利用して形成することが可能である。したがって、高周波モジュールの小型化又は低コスト化を実現するには、このような配線パターンの小型化又は低コスト化を図ることが特に有益となる。
多層配線基板上で出力整合回路や各種フィルタ回路等を形成する際には、例えば、特許文献1〜特許文献3に示されるようなインダクタやコンデンサを用いることが考えられる。しかしながら、特許文献1や特許文献2に示されるようなスパイラルインダクタおよびコンデンサを組み合わせて各種フィルタ回路等を構成すると、その回路面積が増大し、配線の引き回しに伴い例えば10層程度の配線基板が必要とされる場合もあるため、小型化又は低コスト化が困難となる。また、特許文献3の技術を用いると、ある程度の小型化又は低コスト化を実現可能となるが、インダクタが2層分しか形成されないため、インダクタンスが不足し、実用上、比較的高い周波数に対応したフィルタにしか適用できない恐れがある。更に、特許文献3の構成は、表面から投影して見ると、インダクタの隣に容量が形成されたものとなっているため、回路面積の増大が懸念される。
一方、高周波モジュールの小型化・高密度化を進めていった場合の他の問題として、多層配線基板を介したリターンパスの問題が考えられる。例えば、パワーアンプ回路の出力信号が多層配線基板上のリターンパスを介して入力側に帰還すると発振現象等が生じてしまう。この発振現象は、不必要な帯域にノイズを乗せ、他の帯域の送受信信号を妨害するため誤動作の原因となり、また電波法上の問題にもなる。高周波モジュールの小型化・高密度化を図るためには、このリターンパスの問題を解決することが重要である。
更に、このようなリターンパスと共に、次のようなリークパスの問題も生じ得る。例えば、前記非特許文献1に記載されたような電力増幅器モジュールに集積化された方向性結合器を使用することによって、電力増幅器により生成された進行波信号からの結合電圧と負荷により反射された反射波信号からの結合電圧とのベクトル和の検出電圧を検出することができる。一方、方向性結合器をRF電力増幅器と伴にRFモジュールに集積化するだけではなく、前記非特許文献2のようにRF電力増幅器の出力整合回路、高調波除去フィルタ、アンテナスイッチも集積化することにより、前述したように携帯電話端末の更なる小型化を可能とする高機能RFモジュールの開発が期待されている。
本発明者等は、本発明に先立ってGSM850、GSM900、DCS1800、PCS1900のマルチバンドの送信を可能とする携帯電話に搭載されるRFモジュールとの開発に従事した。
図18は、本発明に先立った開発の期間中に本発明者等によって検討されたRFモジュールの回路構成を示す図である。RFモジュールは、RF電力増幅器HPAと、最終段の出力整合回路12cと、高調波除去フィルタ(LPF)14と、方向性結合器(CPL)13と、アンテナスイッチ(ANT_SW)15とを含んでいる。アンテナスイッチ15は、RFモジュール外部で、携帯電話のアンテナ(ANT)16に接続される。
RF電力増幅器HPAはモノリシック半導体集積回路のチップに構成され、初段増幅器10a、初段バイアス回路10b、第1段間整合回路10c、次段増幅器11a、次段バイアス回路11b、第2段間整合回路11c、最終段増幅器12a、最終段バイアス回路12b、利得制御ユニット17を含む。
初段増幅器10aの初段RF入力端子にはRF増幅信号RFinが供給され、初段増幅器10aの初段RF増幅出力信号は第1段間整合回路10cを介して次段増幅器11aの次段RF入力端子に供給される。次段増幅器11aの次段RF増幅出力信号は、第2段間整合回路11cを介して最終段増幅器12aの最終段RF入力端子に供給される。
利得制御ユニット17には、RFアナログ信号処理半導体集積回路を経由してベースバンド信号処理ユニットからの利得制御信号Vrampと方向性結合器(CPL)13からの検出電圧Vcplとが供給される。尚、利得制御信号Vrampのレベルは基地局と携帯電話との距離に比例するものであり、RF電力増幅器HPAからアンテナ(ANT)16に供給されるRF送信信号RFoutのレベルが利得制御信号Vrampのレベルにより制御されることができる。利得制御ユニット17は、利得制御信号Vrampのレベルに方向性結合器(CPL)13からの検出電圧Vcplのレベルが追従するように、RF電力増幅器HPAの利得を制御することによりAPC(自動電力制御)動作を行う。このAPCは、利得制御ユニット17により制御された初段バイアス回路10b、次段バイアス回路11b、最終段バイアス回路12bによる初段増幅器10a、初段増幅器10a、最終段増幅器12aの利得制御により実行される。
RF電力増幅器HPAの最終段増幅器12aの最終段RF増幅出力信号は、モノリシック半導体集積回路のチップ外部の最終段の出力整合回路12cを介して高調波除去フィルタ(LPF)14のRF信号入力端子に供給される。高調波除去フィルタ(LPF)14はRF信号入力端子に供給されるRF信号の基本周波数成分を極めて小さな減衰率でRF信号出力端子に伝達するが、2倍高調波、3倍高調波、4倍高調波等の高調波成分は大きな減衰率で減衰する。高調波除去フィルタ(LPF)14のRF信号出力端子のRF信号は方向性結合器(CPL)13の主線路を経由してアンテナスイッチ(ANT_SW)15の一端に供給され、アンテナスイッチ(ANT_SW)15の他端はアンテナ(ANT)16の一端に接続される。方向性結合器(CPL)13の副線路の一端と他端とは、終端抵抗Rtと利得制御ユニット17の検出電圧入力端子とにそれぞれ接続される。
しかしながら、本発明に先立った本発明者等による検討により、図18に示すRFモジュールの高調波特性が設計目標を満足しないことが明らかとなった。RFモジュールは高調波特性が設計目標を満足しないと、携帯電話から送信されるRF送信信号に含まれる高レベルの高調波成分が隣接チャンネルへの妨害信号となる。このRF送信信号に含まれる高調波成分のレベルは、ACPR(隣接チャンネル漏洩電力比)で示される。尚、ACPRは、Adjacent Channel Leakage Power Ratioの略である。
更に、本発明者等は図18に示すRFモジュールの高調波特性が設計目標を満足しない原因の解明を行ったところ、下記のような結論に到達した。それは、図18の破線HD_SPに示すように、RF電力増幅器HPAの最終段増幅器12aの最終段RF増幅出力信号に含まれる高調波成分は、アンテナ16に伝達される。破線HD_SPの信号経路は、方向性結合器(CPL)13の副線路と利得制御ユニット17との間の信号配線、方向性結合器13の副線路および主線路、アンテナスイッチ15で構成されている。最終段増幅器12aと方向性結合器13の主線路との間には、高調波成分を大きな減衰率で減衰する最終段の出力整合回路12cと高調波除去フィルタ14とが接続されている。しかし、破線HD_SPの信号経路は、最終段の出力整合回路12cと高調波除去フィルタ14とをバイパスしている。その結果、最終段増幅器12aの出力の高調波成分は、方向性結合器13の副線路と利得制御ユニット17との間の信号配線、方向性結合器13の副線路および主線路を介してアンテナ16に伝達されるものである。
そこで、本発明の目的の一つは、RFモジュール等の電子装置の小型化又は低コスト化を実現することにある。また、本発明の他の目的の一つは、RF電力増幅器の出力の高レベルの高調波成分が方向性結合器の副線路と利得制御ユニットとの間の信号配線、方向性結合器の副線路および主線路を介してアンテナに伝達されることを回避し、RFモジュールの小型化を実現することにある。なお、本発明の前記ならびにそれ以外の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
本発明の一実施の形態による共振回路は、複数配線基板を用い、第1配線層での第1配線パターンと、この第1配線層と隣接する第2配線層での第2配線パターンを少なくともインダクタンス成分を持つ形状で形成し、更に、この第1および第2配線層と異なる配線層の第3配線パターンをインダクタンス成分を持つ形状(インダクタパターン)で形成した構成となっている。そして、この第1配線パターンの一端は、入力または出力ノードとされ、他端は前述したインダクタパターンの一端にビアホール導体によって接続される。一方、第2配線パターンの一端は、出力または入力ノードとされ、他端は前述したインダクタパターンの他端にビアホール導体によって接続される。
このように、互いに隣接する第1配線パターンと第2配線パターンの一方に入力または出力ノードを設置し、他方に出力または入力ノードを設置することで、隣接していない配線層に設置した場合と比べて入力ノードと出力ノード間の容量値を増加させることが可能となる。したがって、小面積で十分な容量値を確保できるため、小型な又は低コストな並列共振回路を実現でき、これを高周波モジュールのフィルタ回路等に適用することで当該モジュールの小型化又は低コスト化が実現可能となる。なお、容量値を更に増大させるためには、第1配線パターンと第2配線パターンの最大線幅をインダクタパターンの最大線幅よりも大きくするとよい。
また、本発明の一実施の形態による共振回路は、第1配線層と、前記第1配線層の下層に配置された第2配線層と、前記第2配線層の下層に配置された第3配線層と、前記第3配線層の下層に配置された第4配線層とを含んだ複数配線層基板に形成され、(1)前記第1配線層が略ループ状の線路を含むように形成され、信号を入力もしくは出力される第1ノードを一端に有する第1配線パターンと、(2)前記第2配線層が略ループ状の線路を含むように形成され、信号を入力もしくは出力される第2ノードを一端に有する第2配線パターンと、(3)前記第3配線層が板状に形成された第3配線パターンと、(4)前記第4配線層が板状に形成された第4配線パターンとを備える。
そして、前記第1配線パターンの他端と前記第2配線パターンの他端とは、第1ビアホール導体を介して電気的に接続され、前記第3配線パターンと前記第4配線パターンは、互いに対向するように形成され、前記第3配線パターンと前記第4配線パターンの一方のパターンは、第2ビアホール導体を介して前記第1ノードに電気的に接続され、前記第3配線パターンと前記第4配線パターンの他方のパターンは、第3ビアホール導体を介して前記第2ノードに電気的に接続される。さらに、前記第1配線パターン、前記第2配線パターン、前記第3配線パターン、および前記第4配線パターンは、互いに重なるように形成され、前記第3配線パターンと前記第4配線パターンとの重なり面積が、前記第2配線パターンと前記第3配線パターンとの重なり面積より大きい。
このように、互いに隣接する2つの配線層に入力ノードおよび出力ノードを形成するこ
とで、前述した内容と同様にこれらのノード間の容量値を増加させることが可能となる。
また、この入力ノードおよび出力ノードを第3および第4配線層で板状に形成された配線パターン(容量パターン)に接続することで、更に容量値を増大させることができる。これによって、小型な又は低コストな並列共振回路を実現でき、これを高周波モジュールのフィルタ回路等に適用することで当該モジュールの小型化又は低コスト化が実現可能となる。なお、更に小型化等を図るためには、第1配線パターン、第2配線パターンおよび容量パターンを上層から平面的に見た場合のそれぞれの占有領域を、いずれか一つの占有領域がその他の占有領域を包含する関係にするとよい。
また、本発明の一実施の形態によるRFモジュールは、RF電力増幅器(HPA)と、出力整合回路(12c)と、方向性結合器(13)と、高調波除去フィルタ(14)とを含む。前記RF電力増幅器の出力増幅信号(Pout)は前記出力整合回路の入力端子に供給され、前記出力整合回路の出力端子のRF信号は前記方向性結合器の主線路を介して前記高調波除去フィルタの入力端子に供給される。前記方向性結合器の副線路からの検出信号(Vcpl)は、前記RF電力増幅器(HPA)の利得制御ユニット(17)の信号入力端子に供給される。前記高調波除去フィルタの出力端子のRF信号は、アンテナ(16)に伝達可能とされている(図19参照)。
このような構成によれば、RF電力増幅器の出力増幅信号(Pout)の高調波成分が方向性結合器(13)の副線路と利得制御ユニット(17)との間の信号配線、方向性結合器(13)の副線路および主線路に伝達されたとしても、方向性結合器(13)の主線路とアンテナ(16)との間には高調波除去フィルタ(14)が接続されている。従って、RF電力増幅器の出力の高レベルの高調波成分が方向性結合器の副線路と利得制御ユニットとの間の信号配線、方向性結合器の副線路および主線路を介してアンテナに伝達されることを回避することができる。
本発明の一実施の形態による電子装置および高周波モジュールを用いることで、小型化又は低コスト化が実現可能となる。
《代表的な実施の形態》
先ず、本願において開示される発明の代表的な実施の形態について概要を説明する。代表的な実施の形態についての概要説明で括弧を付して参照する図面の参照符号はそれが付された構成要素の概念に含まれるものを例示するに過ぎない。
〔1〕本発明の代表的な実施の形態に係る電子装置は、第1配線層(LY1)と、前記第1配線層の下層に配置された第2配線層(LY2)と、前記第2配線層の下層に配置された第3配線層(LY3)とを含んだ複数配線層基板で実現される。ここで、当該電子装置は、前記第1配線層内に略ループ状の線路として形成され、一端が第1ノード(Nin)となる第1配線パターン(MS21)と、前記第2配線層内に略ループ状の線路として形成され、一端が第2ノード(Nout)となる第2配線パターン(MS22)と、前記第3配線層または前記第3配線層から更に下層に渡って、単数または複数回の略ループ状の線路として形成されたインダクタパターン(MS23およびMS24)と、前記第1配線パターンの他端と前記インダクタパターンの一端とを電気的に接続する第1ビアホール導体(VH13a)と、前記第2配線パターンの他端と前記インダクタパターンの他端とを電気的に接続する第2ビアホール導体(VH24a)とを備え、前記第1配線層と前記第2配線層が、互いに隣接した配線層となっている(図2参照)。
ここで、より具体的な実施の形態による電子装置は、前記複数配線層基板が更に前記第3配線層(LY3)の下層に配置された第4配線層(LY4)を含み、前記第3配線層内には、略ループ状の線路として形成され前記インダクタパターンの一部となる第3配線パターン(MS23)が備わり、前記第4配線層内には、略ループ状の線路として形成され前記インダクタパターンの他の一部となる第4配線パターン(MS24)が備わったものとなっている。ここで、前記第3配線パターンの一端は、前記第1ビアホール導体(VH13a)によって前記第1配線パターンの他端と接続され、前記第3配線パターンの他端は、第3ビアホール導体(VH34a)によって前記第4配線パターンの一端と電気的に接続され、前記第4配線パターンの他端は、前記第2ビアホール導体(VH24a)によって前記第2配線パターンの他端と電気的に接続される(図2参照)。
また、より好適な実施の形態による電子装置は、前記第1配線パターン、前記第2配線パターン、および前記インダクタパターンを上層から平面的に見た場合のそれぞれの占有領域(AA21〜AA24)が、いずれか一つの占有領域がその他の占有領域を包含する関係となっている(図4参照)。
更に、他の好適な実施の形態による電子装置は、前記第1配線パターン(MS21)および前記第2配線パターン(MS22)の最大線幅が、前記インダクタパターン(MS23およびMS24)の最大線幅よりも大きいものとなっている。
更に、他の好適な実施の形態による電子装置は、前記複数配線層基板の最下層もしくは最上層が、接地電極となっている(図3参照)。
更に、他の好適な実施の形態による電子装置は、前述したような電子装置が、帯域遮断フィルタ(LPF_HB、LPF_LB、ANT_FIL、RX_FIL)に含まれている(図8参照)。
更に、他の好適な実施の形態による電子装置は、前述したような電子装置が前記複数配線層基板内に形成された高調波減衰用の帯域遮断フィルタ(LPF_HB、LPF_LB、ANT_FIL、RX_FIL)に含まれ、前記複数配線層基板上には、電力増幅回路を含む第1半導体チップ(PA_CP)とアンテナスイッチ回路(ANT_SW)を含む第2半導体チップとが実装され、前記帯域遮断フィルタが、前記アンテナスイッチ回路に接続されている(図1および図8参照)。
以上のように、本発明の代表的な実施の形態に係る電子装置は、複数配線基板を用い、第1配線層での第1配線パターンと、この第1配線層と隣接する第2配線層での第2配線パターンを少なくともインダクタンス成分を持つ形状で形成し、更に、この第1および第2配線層と異なる層でインダクタパターンを形成した構成となっている。そして、この第1配線パターンの一端は、入力または出力ノードとされ、他端は前述したインダクタパターンの一端にビアホール導体によって接続される。一方、第2配線パターンの一端は、出力または入力ノードとされ、他端は前述したインダクタパターンの他端にビアホール導体によって接続される。すなわち、この電子装置は、並列共振回路として機能する。
このように、互いに隣接する2つの配線層の一方に入力または出力ノードを設置し、他方に出力または入力ノードを設置することで、隣接していない配線層に設置した場合と比べて入力ノードと出力ノード間の容量値を増加させることが可能となる。したがって、小面積で十分な容量値を確保できるため、小型な又は低コストな並列共振回路を実現でき、これを高周波モジュールのフィルタ回路等に適用することで当該モジュールの小型化又は低コスト化が実現可能となる。なお、容量値を更に増大させるためには、第1配線パターンと第2配線パターンの最大線幅をインダクタパターンの最大線幅よりも大きくするとよい。また、複数配線基板の最下層もしくは最上層を接地電極とすることで、この接地電極と各配線パターン及びインダクタパターンとの距離関係に応じて並列共振回路のインダクタンス値を適宜調整可能となる。
〔2〕別の観点による実施の形態に係る電子装置は、第1配線層(LY1)と、前記第1配線層の下層に配置された第2配線層(LY2)と、前記第2配線層の下層に配置された第3配線層(LY3)と、前記第3配線層の下層に配置された第4配線層(LY4)とを含んだ複数配線層基板によって実現される。そして、当該電子装置は、前記第1配線層内に略ループ状の線路として形成され、一端が第1ノード(Nin)となる第1配線パターン(MS31)と、前記第2配線層内に略ループ状の線路として形成され、一端が第2ノード(Nout)となる第2配線パターン(MS32)と、前記第3配線層内でプレーン状に形成された第3配線パターン(MS33)と、前記第4配線層内でプレーン状に形成された第4配線パターン(MS34)と、前記第1配線パターンの他端と前記第2配線パターンの他端とを電気的に接続する第1ビアホール導体(VH12b)と、第2ビアホール導体および第3ビアホール導体とを備える。ここで、前記第3配線パターンと前記第4配線パターンは、互いに対向する面を含み、前記第3配線パターンと前記第4配線パターンの一方は、前記第2ビアホール導体(VH13bまたはVH24b)を介して前記第1ノードに電気的に接続され、前記第3配線パターンと前記第4配線パターンの他方は、前記第3ビアホール導体(VH24bまたはVH13b)を介して前記第2ノードに電気的に接続され、前記第1配線層(LY1)と前記第2配線層(LY2)は、互いに隣接した配線層となっている(図5参照)。
ここで、より具体的な実施の形態による電子装置は、前記第3配線パターン(MS33)が前記第2ビアホール導体(VH13b)を介して前記第1ノード(Nin)に電気的に接続され、前記第4配線パターン(MS34)が前記第3ビアホール導体(VH24b)を介して前記第2ノード(Nout)に電気的に接続されている(図5参照)。
また、より好適な実施の形態による電子装置は、前記第1〜前記第4配線パターンを上層から平面的に見た場合のそれぞれの占有領域(AA31〜AA34)が、いずれか一つの占有領域(AA31またはAA32)がその他の占有領域を包含する関係となっている(図7参照)。
更に、他の好適な実施の形態による電子装置は、前記複数配線層基板の最下層が、接地電極となっている(図6参照)。
更に、他の好適な実施の形態による電子装置は、前述したような電子装置が、帯域遮断フィルタ(LPF_HB、LPF_LB、ANT_FIL、RX_FIL)に含まれている(図8参照)。
更に、他の好適な実施の形態による電子装置は、前述したような電子装置が、前記複数配線層基板内に形成された高調波減衰用の帯域遮断フィルタ(LPF_HB、LPF_LB、ANT_FIL、RX_FIL)に含まれ、前記複数配線層基板上には、電力増幅回路を含む第1半導体チップ(PA_CP)と、アンテナスイッチ回路(ANT_SW)を含む第2半導体チップとが実装され、前記帯域遮断フィルタは、前記アンテナスイッチ回路に接続されている(図1および図8参照)。
以上のように、別の観点による実施の形態に係る電子装置は、複数配線基板を用い、第1配線層での第1配線パターンと、この第1配線層と隣接する第2配線層での第2配線パターンをインダクタンス成分を持つ形状で形成し、更にその下層となる第3配線層と第4配線層で容量パターンを形成した構成となっている。そして、この第1配線パターンの一端は、入力または出力ノードとされると共に、前述した容量パターンの一端に接続され、第2配線パターンの一端は、出力または入力ノードとされると共に、前述した容量パターンの他端に接続される。また、第1配線パターンの他端は、第2配線パターンの他端か、又はその他の層に形成したインダクタパターンを介して第2配線パターンの他端に接続される。すなわち、この電子装置は、並列共振回路として機能する。
このように、互いに隣接する2つの配線層に入力ノードおよび出力ノードを形成することで、前述した内容と同様にこれらのノード間の容量値を増加させることが可能となる。また、この入力ノードおよび出力ノードを第3および第4配線層で形成した容量パターンに接続することで、更に容量値を増大させることができる。これによって、小型な又は低コストな並列共振回路を実現でき、これを高周波モジュールのフィルタ回路等に適用することで当該モジュールの小型化又は低コスト化が実現可能となる。なお、更に小型化等を図るためには、第1配線パターン、第2配線パターンおよび容量パターンを上層から平面的に見た場合のそれぞれの占有領域を、いずれか一つの占有領域がその他の占有領域を包含する関係にするとよい。また、複数配線基板の最下層を接地電極とすることで、この接地電極と第1および第2配線パターンとの距離が長くなるため、並列共振回路のインダクタンス値を十分に確保することが可能となる。
〔3〕更に別の観点による実施の形態に係る電子装置は、第1配線層および前記第1配線層と異なる第2配線層を含んだ複数配線層基板と、前記複数配線層基板上に配置された、電力増幅回路(PA_HB)を含んだ半導体チップと、前記第1配線層(LY2)内に形成され、前記電力増幅回路の出力と容量性結合した接地電圧用の第1配線(MS72)と、前記第2配線層(LY3)内に形成され、前記電力増幅回路の入力と容量性結合した接地電圧用の第2配線とを有するものとなっている(図10参照)。
ここで、より好適な実施の形態による電子装置は、前記複数配線層基板における前記半導体チップの下部に位置する領域に、それぞれの配線層がビアホール導体で電気的に接続されることで一体の接地電圧領域とみなされるサーマルビア(TV)の形成領域が備わり、前記第1配線が、前記第1配線層内で前記サーマルビアの形成領域に接続され、前記第2配線が、前記第2配線層内で前記サーマルビアの形成領域に接続されている(図10参照)。
また、他の好適な実施の形態による電子装置は、前記第1配線および前記第2配線が、複数のビアホール導体(VHm)を介して電気的に接続されている(図10参照)。
更に、他の好適な実施の形態による電子装置は、前記第1配線層が、前記第2配線層の上層に配置されている(図10参照)。
更に、他の好適な実施の形態による電子装置は、前記電力増幅回路が、複数段のトランジスタによって構成され、前記複数段のトランジスタの全ての段数が同一の半導体チップ(PA_CP)で形成されている(図17参照)。
以上のように、更に別の観点による電子装置は、電力増幅回路を含んだ半導体チップが実装された複数配線層基板を備え、その第1配線層内に電力増幅回路の出力と容量性結合した接地電圧用の第1配線が形成され、第2配線層内に電力増幅回路の入力と容量性結合した接地電圧用の第2配線が形成された構成となっている。これによって、電力増幅回路の出力から入力に帰還するリターン電流が低減され、電子装置(高周波モジュール)の小型化が実現可能となる。また、このリターン電流の低減によって、電力増幅回路内の各段のトランジスタを1つの半導体チップで形成した場合でも誤動作等の不具合がなくなり、高周波モジュールの小型化が実現可能となる。
〔4〕本発明の代表的な実施の形態に係るRFモジュールは、RF電力増幅器(HPA)と、出力整合回路(12c)と、方向性結合器(13)と、高調波除去フィルタ(14)とを含む。前記RF電力増幅器の出力増幅信号(Pout)は前記出力整合回路の入力端子に供給され、前記出力整合回路の出力端子のRF信号は前記方向性結合器の主線路を介して前記高調波除去フィルタの入力端子に供給される。前記方向性結合器の副線路からの検出信号(Vcpl)は、前記RF電力増幅器(HPA)の利得制御ユニット(17)の信号入力端子に供給される。前記高調波除去フィルタの出力端子のRF信号は、アンテナ(16)に伝達可能とされている(図19参照)。
前記実施の形態によれば、RF電力増幅器の出力増幅信号(Pout)の高調波成分が方向性結合器(13)の副線路と利得制御ユニット(17)との間の信号配線、方向性結合器(13)の副線路および主線路に伝達されたとしても、方向性結合器(13)の主線路とアンテナ(16)との間には高調波除去フィルタ(14)が接続されている。従って、RF電力増幅器の出力の高レベルの高調波成分が方向性結合器の副線路と利得制御ユニットとの間の信号配線、方向性結合器の副線路および主線路を介してアンテナに伝達されることを回避することができる。
好適な実施の形態によるRFモジュールは、前記高調波除去フィルタの前記出力端子の前記RF信号が一方の端子に供給され、他方の端子のRF信号が前記アンテナ(16)に伝達可能なアンテナスイッチ(15)を更に含む。
前記好適な実施の形態によれば、高機能RFモジュールを提供することが可能となる。
好適な実施の形態によるRFモジュールでは、前記高調波除去フィルタの前記出力端子の前記RF信号はDCカットコンデンサ(Cdc)を介して前記アンテナスイッチの前記一方の端子に供給される。
前記好適な実施の形態によれば、前記出力整合回路と前記方向性結合器と前記高調波除去フィルタとからなる信号経路の位相回転の調整が容易となり、また前記アンテナスイッチでの歪を低減することが可能となる。また、前記高調波除去フィルタの前記出力端子の前記DCカットコンデンサにより、方向性結合器の方向性結合度の調整も容易にすることが可能となる。
より好適な実施の形態によるRFモジュールでは、前記RF電力増幅器は、多段増幅器(10a、11a、12a)と、前記利得制御ユニットにより制御され前記多段増幅器の利得を制御するバイアス回路(10b、11b、12c)とを含む。
具体的な実施の形態によるRFモジュールでは、前記出力整合回路は前記RF電力増幅器の前記出力増幅信号(Pout)を生成する出力インピーダンスと前記アンテナ(16)のインピーダンスとの差による信号反射を低減するものである。
前記具体的な実施の形態によれば、インピーダンス不整合による電力効率の低下を低減することが可能となる。
より具体的な実施の形態によるRFモジュールでは、前記多段増幅器と前記バイアス回路と前記利得制御ユニットとは半導体集積回路チップに形成されている。
更に具体的な実施の形態によるRFモジュールでは、前記方向性結合器は主線路と副線路との間に容量素子が接続されたマイクロカップラーである。
〔5〕別の観点による実施の形態に係るRFモジュール(100)は、第1RF電力増幅器(HPA1)と、第1出力整合回路(22c)と、第1方向性結合器(23)と、第1高調波除去フィルタ(24)と、第2RF電力増幅器(HPA2)と、第2出力整合回路(12c)と、第2方向性結合器(13)と、第2高調波除去フィルタ(14)とを含む。
前記第1RF電力増幅器は第1周波数帯域RF信号(Rfin_LB)を増幅するように構成され、前記第2RF電力増幅器は前記第1周波数帯域RF信号よりも高い周波数の第2周波数帯域RF信号(Rfin_HB)を増幅するように構成されている。
前記第1RF電力増幅器の第1出力増幅信号(Pout_LB)は前記第1出力整合回路の入力端子に供給され、前記第1出力整合回路の出力端子の第1RF信号は前記第1方向性結合器の主線路を介して前記第1高調波除去フィルタの入力端子に供給される。前記第1方向性結合器の副線路からの第1検出信号(Vcpl_LB)は、前記第1RF電力増幅器のための第1利得制御ユニット(27)の第1信号入力端子に供給される。前記第1高調波除去フィルタの出力端子の第1RF信号は、アンテナ(16)に伝達可能とされている。
前記第2RF電力増幅器の第2出力増幅信号(Pout_HB)は前記第2出力整合回路の入力端子に供給され、前記第2出力整合回路の出力端子の第2RF信号は前記第2方向性結合器の主線路を介して前記第2高調波除去フィルタの入力端子に供給される。前記第2方向性結合器の副線路からの第2検出信号(Vcpl_HB)は、前記第2RF電力増幅器のための第2利得制御ユニット(17)の第2信号入力端子に供給される。前記第2高調波除去フィルタの出力端子の第2RF信号は、前記アンテナに伝達可能とされている(図20参照)。
前記実施の形態によれば、マルチバンド対応のRF電力増幅器の出力の高レベルの高調波成分が方向性結合器の副線路と利得制御ユニットとの間の信号配線、方向性結合器の副線路および主線路を介してアンテナに伝達されることを回避することができる。
好適な実施の形態によるRFモジュールは、前記第1高調波除去フィルタの前記出力端子の前記第1RF信号がアンテナスイッチ(15)の第1入力端子に供給され、前記第2高調波除去フィルタの前記出力端子の前記第2RF信号が前記アンテナスイッチの第2入力端子に供給される。前記アンテナスイッチの出力端子のRF信号は、前記アンテナ(16)に伝達可能である。
好適な実施の形態によるRFモジュールでは、前記第1高調波除去フィルタの前記出力端子の前記第1RF信号は、第1DCカットコンデンサ(Cdc)を介して前記アンテナスイッチの前記第1入力端子に供給される。前記第2高調波除去フィルタの前記出力端子の前記第2RF信号は、第2DCカットコンデンサ(Cdc)を介して前記アンテナスイッチの前記第2入力端子に供給される。
好適な実施の形態によるRFモジュールは、前記第1RF電力増幅器と、前記第2RF電力増幅器と、前記第1利得制御ユニットと、前記第2利得制御ユニットとは半導体集積回路チップに形成されている。
前記半導体集積回路チップは、実質的に4角形のチップの形状を有している。前記チップは、互いに対向して略平行な第1辺(Sd1)と第2辺(Sd2)とを有する。前記チップは、前記第1辺と前記第2辺とに接続され前記第1辺と前記第2辺と略直角に配置された第3辺(Sd3)と、前記第3辺に対向して前記第3辺と略平行な第4辺(Sd4)とを更に有する。
前記第1RF電力増幅器の前記第1出力増幅信号(Pout_LB)は前記チップの前記第1辺から導出され、前記第2RF電力増幅器の前記第2出力増幅信号(Pout_HB)は前記チップの前記第2辺から導出される。前記第1方向性結合器(23)の前記副線路からの前記第1検出信号(Vcpl_LB)は、前記チップの前記第3辺から前記第1RF電力増幅器のための前記第1利得制御ユニット(27)の前記第1信号入力端子に導入される。前記第2方向性結合器(13)の前記副線路からの前記第2検出信号(Vcpl_HB)は、前記チップの前記第3辺から前記第2RF電力増幅器のための第2利得制御ユニット(17)の第2信号入力端子に導入される(図20、図21参照)。
前記好適な実施の形態によれば、前記第1出力増幅信号の前記チップの前記第1辺の導出点と前記第1検出信号の前記チップの前記第3辺の導入点との距離を、大きくすることができる。前記第2出力増幅信号の前記チップの前記第2辺の導出点と前記第2検出信号の前記チップの前記第3辺の導入点との距離を大きくすることができる。従って、利得制御ユニットの信号入力端子に伝達される出力増幅信号の高調波成分のレベルを低減することができる。
より好適な実施の形態によるRFモジュールでは、前記第1出力増幅信号(Pout_LB)の前記第1辺の導出点と前記第1検出信号(Vcpl_LB)の前記第3辺の導入点との間に前記第2検出信号(Vcpl_HB)の前記第3辺の導入点が配置されている。前記第2出力増幅信号(Pout_HB)の前記第2辺の導出点と前記第2検出信号(Vcpl_HB)の前記第3辺の導入点との間に前記第1検出信号(Vcpl_LB)の前記第3辺の導入点が配置されている(図20、図21参照)。
前記より好適な実施の形態によれば、利得制御ユニットの信号入力端子に伝達される出力増幅信号の高調波成分のレベルを更に低減することができる。
他のより好適な実施の形態によるRFモジュールでは、前記第1出力増幅信号(Pout_LB)の前記第1辺の導出点と前記第1検出信号(Vcpl_LB)の前記第3辺の導入点との間に接地電圧(GND)に接続される第1接地配線(402)が前記第3辺に接続されている。前記第2出力増幅信号(Pout_HB)の前記第2辺の導出点と前記第2検出信号(Vcpl_HB)の前記第3辺の導入点との間に前記接地電圧(GND)に接続される第2接地配線(404)が前記第3辺に接続されている。(図21参照)。
具体的な実施の形態によるRFモジュールでは、前記第1接地配線(402)は、前記第3辺の近傍で前記第2検出信号(Vcpl_HB)の前記導入点と前記第1検出信号(Vcpl_LB)の前記導入点との間に配置されている。前記第2接地配線(404)は、前記第3辺の近傍で前記第1検出信号(Vcpl_LB)の前記導入点と前記第2検出信号(Vcpl_HB)の前記導入点との間に配置されている(図21参照)。
更に具体的な実施の形態によるRFモジュールでは、前記第1周波数帯域RF信号(Rfin_LB)はGSM850とGSM900とのRF送信信号であり、前記第2周波数帯域RF信号(Rfin_HB)はDCS1800とPCS1900とのRF送信信号である(図23参照)。
最も具体的な実施の形態によるRFモジュールでは、前記第1方向性結合器と前記第2方向性結合器とは主線路と副線路との間に容量素子が接続されたマイクロカップラーによりそれぞれ構成されている。
《実施の形態の説明》
次に、実施の形態について更に詳述する。以下の実施の形態においては便宜上その必要があるときは、複数のセクションまたは実施の形態に分割して説明するが、特に明示した場合を除き、それらは互いに無関係なものではなく、一方は他方の一部または全部の変形例、詳細、補足説明等の関係にある。また、以下の実施の形態において、要素の数等(個数、数値、量、範囲等を含む)に言及する場合、特に明示した場合および原理的に明らかに特定の数に限定される場合等を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも良い。
さらに、以下の実施の形態において、その構成要素(要素ステップ等も含む)は、特に明示した場合および原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必ずしも必須のものではないことは言うまでもない。同様に、以下の実施の形態において、構成要素等の形状、位置関係等に言及するときは、特に明示した場合および原理的に明らかにそうでないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似または類似するもの等を含むものとする。このことは、上記数値および範囲についても同様である。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一の部材には原則として同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。また、以下においては、本発明の実施の形態による電子装置の一例として、共振回路や、この共振回路を含む高周波モジュールの構成および動作などについて説明を行う。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1による高周波モジュールにおいて、その構成の一例を示すブロック図である。本実施の形態1の高周波モジュール(高周波電力増幅モジュール)は、例えば、携帯電話機などの移動体通信機器で用いられ、ロウバンドの周波数帯とハイバンドの周波数帯の両方に対応してものとなっている。例えば、ロウバンドには、GSM(Global System for Mobile Communication)850又はGSM900等が該当し、ハイバンドには、GSM1800又はGSM1900等が該当する。ここで、GSMとは、デジタル携帯電話に使用されている無線通信方式の規格をいう。GSMには、使用する電波の周波数帯が4つあり、900MHz帯(880〜960MHz)をGSM900又は単にGSMという。また、1800MHz帯(1710〜1880MHz)をGSM1800又はDCS1800若しくはPCN、1900MHz帯(1850〜1990MHz)をGSM1900又はDCS1900若しくはPCS(Personal Communication Services)という。なお、GSM1900は主に北米で使用されている。また、北米ではその他に850MHz帯(824〜894MHz)のGSM850を使用する場合もある。
図1に示す高周波モジュールRF_MDLは、1個の多層配線基板で実現され、多層配線基板上には、パワーアンプ回路(電力増幅回路、高周波電力増幅回路)等が形成された半導体チップPA_CPと、アンテナスイッチ回路ANT_SWが形成された半導体チップとが実装される。また、RF_MDLには、SMD(Surface Mount Device)部品や多層配線基板の配線パターンを用いて、出力整合回路MN_LB,MN_HB、カプラ回路(方向性結合器)CPL_LB,CPL_HB、および各種フィルタ回路LPF_LB,LPF_HB,ANT_FIL,ESD_FIL,RX_FIL1,RX_FIL2が形成される。
半導体チップPA_CPは、パワーアンプ回路PA_LB,PA_HBと、制御回路CTLを備えている。PA_LBは、図示しない変調回路等を介して外部入力端子Pin_LBに入力されたGSM850やGSM900といったロウバンドの信号を増幅する。この増幅された信号は、出力整合回路MN_LB、カプラ回路CPL_LBおよびロウパスフィルタ回路LPF_LBを順に介してアンテナスイッチ回路ANT_SWの端子P1に伝送される。MN_LBは、例えば特性インピーダンス50Ω等にインピーダンス整合を行う回路であり、CPL_LBは、MN_LBを介したPA_LBの出力電力値を検出し、その検出信号DS_LBをPA_CP内の制御回路CTLに出力する回路である。ロウパスフィルタ回路LPF_LBは、CPL_LBを介したPA_LBの出力信号から、高調波信号(例えば2次高調波(2HD)および3次高調波(3HD)等)を減衰させる回路である。LPF_LBは、特定の帯域を通過させるバンドパスフィルタ(BPF)や特定の帯域を減衰させるバンドエリミネーションフィルタ(帯域除去フィルタ、BEF)であってもよい。
一方、PA_HBは、図示しない変調回路等を介して外部入力端子Pin_HBに入力されたGSM1800やGSM1900といったハイバンドの信号を増幅する。この増幅された信号は、出力整合回路MN_HB、カプラ回路CPL_HBおよびロウパスフィルタ回路(又はBPF若しくはBEF)LPF_HBを順に介してANT_SWの端子P2に伝送される。MN_HBは、例えば特性インピーダンス50Ω等にインピーダンス整合を行う回路であり、CPL_HBは、MN_HBを介したPA_HBの出力電力値を検出し、その検出信号DS_HBをPA_CP内のCTLに出力する回路である。LPF_HBは、CPL_HBを介したPA_HBの出力信号から、高調波(例えば2次高調波(2HD)および3次高調波(3HD)等)を減衰させる回路である。
半導体チップPA_CP内の制御回路CTLは、外部制御入力端子CS1に対する図示しないベースバンド回路からの制御信号や、前述した検出信号DS_LB,DS_HBを受けて、PA_LB,PA_HBやANT_SWを制御する。ベースバンド回路からの制御信号には、例えば携帯電話と基地局との間の距離に基づいて生成されるPA_LB,PA_HBに対する出力電力レベルの指定信号や、送受信の処理内容に応じて生成されるANT_SWに対するスイッチの切り替え信号などが含まれる。CTLは、この出力電力レベルの指定信号や検出信号DS_LB,DS_HBに基づいてPA_LB,PA_HBのゲインを制御し、このスイッチの切り替え信号に基づいてANT_SWを制御する。
ANT_SWは、前述したCTLからの制御信号に応じて、アンテナ端子P0に対して端子P1〜P4のいずれかを接続する回路である。アンテナ端子P0は、アンテナフィルタ回路ANT_FILおよびESDフィルタ回路ESD_FILを介して外部アンテナ端子ANTに接続され、このANTに図示しないアンテナが接続される。ANT_FILは、主にANT_SWから生じる高調波の減衰やアンテナからの受信信号に含まれる高調波の減衰などを行う。ESD_FILは、主にアンテナからの受信信号に対してESD(Electro Static Discharge)上問題となる帯域(例えば400MHz帯や500MHz帯など)の除去を行う。
また、ANT_SWの端子P3は、受信フィルタ回路RX_FIL1を介して外部出力端子RX_LBに接続され、ANT_SWの端子P4は、受信フィルタ回路RX_FIL2を介して外部出力端子RX_HBに接続される。RX_LBには、アンテナから受信したロウバンドの信号が伝送され、RX_HBには、アンテナから受信したハイバンドの信号が伝送され、これらの信号は、図示しない復調回路等に出力される。RX_FIL1は、アンテナから受信したロウバンドの信号に対して高調波の減衰を行い、RX_FIL2は、アンテナから受信したハイバンドの信号に対して高調波の減衰を行う。
このような複数のバンドに対応した高周波モジュールでは、1つのバンドに対応した高周波モジュールよりも大型になってしまうため、半導体チップのサイズに加えて、各種フィルタ回路などをより小面積で又は低コストで形成することが求められる。ここで、多層配線基板の小型化(薄膜化)や低コスト化を図るためには、例えば、広く用いられている4層や5層程度の積層構造を備えたセラミック基板などを用いることが望ましい。この場合、この4層や5層以内で、図1の各種フィルタ回路(LPF_LB,LPF_HB,ANT_FIL,ESD_FIL,RX_FIL1,RX_FIL2)や出力整合回路(MN_LB,MN_HB)をどれだけ小型に形成できるかが重要となる。図1の各種フィルタや出力整合回路内には、インダクタとコンデンサからなる並列共振回路が含まれる場合が多く、このような並列共振回路をSMD部品を用いずに小型で形成できれば、高周波モジュールの小型化または低コスト化に有益となる。
このような並列共振回路は、例えば、図2に示すような構成で実現可能となる。図2は、本発明の実施の形態1の共振回路において、その構成例を示すものであり、(a)は斜視図、(b)は(a)の各層を示す平面図である。図2(a),(b)に示す共振回路は、例えば、第1配線層LY1及びその下層に順に積層された第2配線層LY2〜第4配線層LY4を含む4層の多層配線基板を用いて実現される。なお、LY4の裏面は、接地電極となっている。
LY1〜LY4には、それぞれ、線路を略ループ状に約1周させた形状からなる配線パターンMS21〜MS24が形成される。MS21の一端は信号入力ノードNinとなり、他端は自身のループの中心部に形成されたビアホール導体VH13aを介してMS23に接続される。MS23は、一端が自身のループの中心部に形成されたビアホール導体VH13aを介して前述したMS21に接続され、他端が自身のループの角部に形成されたビアホール導体VH34aを介してMS24に接続される。
MS24は、一端が自身のループの角部に形成されたビアホール導体VH34aを介して前述したMS23に接続され、他端が自身のループの脇に形成されたビアホール導体VH24aを介してMS22に接続される。MS22は、一端が自身のループの脇に形成されたビアホール導体VH24aを介して前述したMS24に接続され、他端が信号出力ノードNoutとなる。したがって、NinからNoutに向けて信号を伝送した場合、各配線パターンMS21〜MS24においては反時計回りのループで信号が伝送され、MS21〜MS24はインダクタとして機能することになる。なお、NinとNoutは逆にすることも可能である。また、MS23およびMS24の各線路において、一部蛇行した形状を設けているのは線路長を長くし、インダクタンス値を大きくするためである。
ここで、図2の構成全体としては、等価的にインダクタ(コイル)Lm1とコンデンサ(キャパシタ、容量)Cm1からなる並列共振回路LC1として機能する。そして、この並列共振回路LC1の主要な特徴は、例えば次のような点にある。まず1点目は、配線の引き回しによって、信号入力ノードNinと信号出力ノードNout間の容量成分を増加させていることである。図3(a)は、図2の並列共振回路LC1の簡易的な等価回路図であり、図3(b)は、その比較例として、特許文献1の図8に示されるスパイラルインダクタLc1の簡易的な等価回路図である。
図3(a)に示す並列共振回路LC1では、第1配線層LY1の信号入力ノードNinが、順に、LY1のインダクタL1、第3配線層LY3のインダクタL3、第4配線層LY4のインダクタL4、および第2配線層LY2のインダクタL2を介して信号出力ノードNoutに接続される。L1〜L4は、それぞれ、図2の配線パターンMS21〜MS24に対応するものである。また、NinとNoutの間には、LY1とLY2の間の層間容量となるコンデンサC1が接続され、LY2とLY3の間、LY3とLY4の間、LY4と裏面の間にも、それぞれ、層間容量となるコンデンサC2、C3、C4が接続される。
一方、図3(b)に示すスパイラルインダクタLc1では、LY1のNinが、順に、LY1のインダクタL11、LY2のインダクタL12、LY3のインダクタL13、およびLY4のインダクタL14を介してNoutに接続される。また、LY1とLY2の間、LY2とLY3の間、LY3とLY4の間、LY4と裏面の間には、それぞれ、層間容量となるコンデンサC11、C12、C13、C14が接続される。なお、図3(a),(b)において、より厳密には、例えば図3(a)のL3とL4の接点N1などに、ビアホール導体に伴うインダクタや抵抗が挿入され、またこれと並列にLY3とLY4の層間容量に伴うコンデンサが挿入されるが、ここでは、簡易的にビアホール導体を配線で表し、これに応じてコンデンサも省略している。これは、図3(a),(b)における他のビアホール導体の存在箇所でも同様である。
この等価回路から判るように、図3(a)では、NinとNoutを互いに隣接する層で形成することで、この間の容量結合(即ちコンデンサC1に対応)を効率的に行い、加えて配線を引き回すことで、LY1〜LY4の全てのインダクタンス成分がNinとNout間のインダクタンス成分として寄与するように構成している。一方、図3(b)では、インダクタンス成分の寄与に関しては図3(a)と同様であるが、NinとNout間の容量結合が複数の直列接続のコンデンサ(例えばC11とC13)を介して行われるため、NinとNout間の容量結合が弱くなってしまう。したがって、図3(a)のような配線の引き回しを用いることで、図3(b)と比べてNinとNout間の容量値を増加させることが可能となり、小型な又は低コストな共振回路を実現可能となる。
2点目は、MS21とMS22の線路幅はほぼ同一であり、MS23とMS24の線路幅もほぼ同一であるが、MS21とMS22の最大線路幅が、MS23とMS24の最大線路幅よりも太く形成されることである。これによって、MS21〜MS24に渡ってインダクタンス成分を形成できると共に、互いに層を挟んで対向するように形成されたMS21およびMS22によりNinとNout間の容量値を更に増大させることが可能となる。
3点目は、MS21とMS22をLY4の裏面の接地電極から離れた層(LY1,LY2)に設置することで、LY3やLY4などに形成した場合と比べて大きなインダクタンス値を実現できることである。一般に、接地面上に設けられた配線パターンのインダクタンスは、接地面により生じる影像電流の影響により小さくなるため、配線パターンの接地面からの距離を離すほど大きくできる。従って、このような構成にすることで、単位面積あたりのインダクタンス値が最大化されるため、所望のインダクタンス値を得るために必要な面積を最小にでき、共振回路を小型化できる。なお、MS21〜MS24各部のインダクタンス値のバランスによっては、MS23とMS24をLY4の裏面の接地電極から離れた層(LY1,LY2)に設置して、MS23とMS24によるインダクタンス値を最大化した方が、より効果的に共振回路の共振周波数を下げる、もしくは共振周波数を変えずに面積を小型化できる場合があるため、そのような場合にはMS21〜MS24が設置される層の順番を図2とは逆にしてやるとよい。
そして、4点目は、図2の各配線パターンMS21〜MS24が、表面から見た場合の投影面積が小さくなるように形成されたことである。言い換えれば、MS21〜MS24のそれぞれの配線パターンの占有領域を表面側から投影した場合に、いずれか1つの配線パターンに対応する占有領域が、他の配線パターンに対応する占有領域を包含する関係となっている。図4は、図2の主要部を透過的に見た場合の構成例を示す斜視図である。
図4に示すように、MS21〜MS24の実質的な占有領域は、それぞれ、AA21〜AA24となる。そして、このAA21〜AA24を表面側から投影して見た場合に、例えばAA21内にAA22〜AA24が含有される関係となる。なお、ここでは、AA21〜AA24の占有領域が等しい関係になっており、A21の全てにAA22〜AA24の全てが含有されることになる。占有領域の大きさ(すなわち投影面積)(A21×A22)は、特に限定させるものではないが、例えば1mm×1mm程度である。これによって、例えば、特許文献3(図7(b)で後述)に示されるように、各配線パターンをずらして形成するような場合に比べて小面積で並列共振回路を実現できる。
なお、ここでは、前述したように多層基板のコスト低減のため4層基板での構成例を示したが、基板の層数やビアホール導体による引き回し方はその要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。例えば、図2を変更して第1配線層から第4配線層、第3配線層、第2配線層の順番で配線を引き回すことも可能である。また、例えば、3層基板を用いた場合、第1配線層および第2配線層にMS1等のような線路幅が太い配線パターンを形成し、第3層配線層にMS3等のような線路幅が細い配線パターンを形成し、この第3配線層の配線パターンの一端を第1配線層に、他端を第2配線層に接続すればよい。
また、5層基板を用いる場合には、例えば、第1配線層および第2配線層にMS1等のような線路幅が太い配線パターンを形成し、第3層配線層〜第5配線層で螺旋を描くようにMS3等のような線路幅が細い配線パターンを形成し、第3配線層の線路パターンの一端を第1配線層に、第5配線層の線路パターンの一端を第2配線層に接続すればよい。さらに、多層配線基板のコストが問題なければ、6層以上の多層配線基板に対しても同様に適用可能である。
以上、本実施の形態1により、共振回路およびそれを含んだ高周波モジュールの小型化又は低コスト化が実現可能となる。
(実施の形態2)
本実施の形態2では、図1における各種フィルタ回路や出力整合回路で用いられる図2とは異なる共振回路の構成例について説明する。図5は、本発明の実施の形態2による共振回路において、その構成例を示すものであり、(a)は斜視図、(b)は(a)の各層を示す平面図である。図5(a),(b)に示す共振回路は、図2と同様に、例えば、第1配線層LY1〜第4配線層LY4を含む4層の多層配線基板を用いて実現され、LY4の裏面は、接地電極となっている。
LY1,LY2には、それぞれ、線路を略ループ状に約1周させた形状からなる配線パターンMS31,MS32が形成される。LY3,LY4には、それぞれ、プレーン状の形状からなる配線パターン(電極パターン)MS33,MS34が形成される。MS31の一端は信号入力ノードNinとなり、この信号入力ノードNinは、更に、自身のループの中心部に形成されたビアホール導体VH13bを介してMS33に接続される。一方、MS31の他端は、自身のループの角部に形成されたビアホール導体VH12bを介してMS32に接続される。
MS32は、一端が自身のループの角部に形成されたビアホール導体VH12bを介して前述したMS31に接続され、他端が、信号出力ノードNoutになると共に自身のループの他の角部に形成されたビアホール導体VH24bを介してMS34に接続される。また、MS33とMS34は、互いに層を挟んで対向するように形成されている。したがって、NinからNoutに向けて信号を伝送した場合、MS31とMS32においては反時計回りのループで信号が伝送されることになり、MS31とMS32はインダクタとして機能する。また、これに加えて、NinとNoutには、MS33とMS34によって容量が形成されるため、図5の構成例は、全体として等価的にインダクタLm2およびコンデンサCm2からなる並列共振回路LC2として機能する。なお、NinとNoutは逆にすることも可能である。
図6は、図5の並列共振回路LC2の簡易的な等価回路図である。図6において、LY1のNinは、順に、LY1のインダクタL5、LY2のインダクタL6を介してNoutに接続される。L5,L6は、それぞれ、図5の配線パターンMS31,MS32に対応するものである。また、NinとNoutの間には、図5のLY3のMS33とLY4のMS34に対応するコンデンサC7が接続され、LY1とLY2の間、LY2とLY3の間、LY4と裏面の間には、それぞれ、層間容量となるコンデンサC5、C6、C8が接続される。なお、前述した図3の等価回路と同様に、ビアホール導体関連の表示は省略している。
このような構成において、本実施の形態2の共振回路の主要な特徴は、例えば次のような点にある。まず1点目は、実施の形態1と同様にNinとNoutを互いに隣接した層で形成したことによる容量値(図6のC5に対応)の増大に加え、MS33とMS34によって更に容量値(図6でC5と並列接続されるC7に対応)を増大させていることである。また、2点目、3点目も、実施の形態1で説明したように、インダクタ(MS31およびMS32)を接地面から離れた層に設置していることや、投影面積が小さくなるように構成したことが挙げられる。
この3点目の投影面積に関し、図7を用いて説明する。図7(a)は、図5の主要部を透過的に見た場合の構成例を示す斜視図であり、図7(b)は、その比較例となる構成を示す斜視図である。図7(b)に示す比較例となる共振回路LCc2は、前述した特許文献3の構成例を反映したものとなっている。図7(a)に示すように、図5におけるMS31〜MS34の実質的な占有領域は、それぞれ、AA31〜AA34となる。そして、このAA31〜AA34を表面側から投影して見た場合に、例えばAA31内にAA32〜AA34が含有される関係となる。占有領域の大きさ(すなわち投影面積)(A31×A32)は、特に限定させるものではないが、例えば1mm×1mm程度である。
一方、比較例においては、図7(b)に示すように、インダクタパターンの実質的な占有領域がAA41,AA42となっており、コンデンサパターンの実質的な占有領域がAA43,AA44となっている。したがって、このAA41〜AA44を表面側から投影して見た場合に、例えばAA41内にAA43は含有されない関係となる。この場合、投影面積が増大してしまうが、図7(a)(図5)のような構成を用いることで、並列共振回路の小型化が実現可能となる。
ところで、図2の構成例と図5の構成例の比較として、それぞれを同一の面積および同一の層数で形成すると、図5の構成例は、図2の構成例と比較して、MS31とMS32の2層分でインダクタンス成分を実現することになるためインダクタンス値が小さくなる。また、容量値も、MS33とMS34がAA33とAA34による狭い投影面積内に形成されるため小さくなる。したがって、図5の構成例による共振周波数は、図2の構成例による共振周波数に比べて大きくなることから、図5の構成例は、例えば、図1のハイバンドに対応したフィルタ回路等に用いるとよい。
なお、図5の構成例においても、図2の構成例の場合と同様に、基板の層数やビアホール導体による引き回し方はその要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。例えば、5層基板を用いる場合には、第1配線層→第3配線層→第2配線層の引き回しで螺旋を描くようにMS31等のような配線パターンを形成し、第4配線層と第5配線層でMS33等のようなプレーン状の配線パターンを形成する。そして、第1配線層の線路パターンの一端を第4配線層に、第2配線層の線路パターンの一端を第5配線層に接続すればよい。図5の構成例の場合、基板の層数がどのようであっても、インダクタを形成する配線パターンを、容量を形成するプレーン状の配線パターンよりも接地電極から離れた層に設置することで、単位面積あたりのインダクタンス値を最大化でき、所望のインダクタンス値を得るために必要な面積を最小にでき、共振回路を小型化できる。
以上、本実施の形態2により、共振回路およびそれを含んだ高周波モジュールの小型化又は低コスト化が実現可能となる。
(実施の形態3)
本実施の形態3では、図1の高周波モジュールに図2の並列共振回路LC1や図5の並列共振回路LC2を適用した場合の詳細な構成例について説明する。図8は、本発明の実施の形態3による高周波モジュールにおいて、その構成例を示す回路図である。図8に示す高周波モジュールでは、図1で述べたように、ロウバンド用のパワーアンプ回路PA_LBの出力が出力整合回路MN_LB、カプラ回路CPL_LB、ロウパスフィルタ回路LPF_LBおよびコンデンサCs13を介してアンテナスイッチ回路ANT_SWに伝送される。ここで、半導体チップに形成されるPA_LBの出力は、ポンディングワイヤ等を介して配線基板に形成されるMN_LBに接続される。また、Cs13は、直流カット用のコンデンサであり、例えばSMD部品によって形成される。
PA_LBは、例えば3個のパワートランジスタを従属接続にした3段構成のアンプ回路となっている。MN_LBは、例えば、伝送線路LN1〜LN3と、LN1〜LN3のそれぞれの出力と接地電圧GNDの間に設けられたコンデンサCs1〜Cs3とを含む3段構成のロウパスフィルタ型の整合回路となっている。Cs1〜Cs3は、例えばSMD部品である。LN1〜LN3は、PA_LBの出力側から順に直列接続される。Cs1は、一端がLN1の出力に接続され、他端がインダクタLi1を介してGNDに接続される。Cs2,Cs3も同様に、それぞれ、一端がLN2,LN3に接続され、他端がインダクタLi2,Li3を介してGNDに接続される。なお、Li1〜Li3は、例えば、ビアホール導体等に該当する寄生インダクタである。
CPL_LBは、それぞれ電磁結合するように形成された主線路と副線路を含み、主線路の一端がLN3の出力に接続され、他端がLPF_LBに接続される。副線路は、一端が終端抵抗(例えば50Ω)に、他端がPA_LBと同一半導体チップに形成された電力検出回路DET_LBにポンディングワイヤ等を介して接続される。
LPF_LBは、前述したCPL_LBの主線路の一端とコンデンサCs13の一端と間に設けられた並列共振回路と、この並列共振回路の両端とGNDの間にそれぞれ接続された2つの直列共振回路から構成される。並列共振回路は、インダクタLi9およびコンデンサCs9からなる。直列共振回路の一方は、前述したCPL_LBの主線路の一端から順に接続されたコンデンサCs8とインダクタLi8からなり、直列共振回路の他方は、前述したCs13の一端から順に接続されたコンデンサCs10とインダクタLi10からなる。Cs8〜Cs10は、例えばSMD部品で形成され、Li8〜Li10は、配線基板の内蔵回路(ビアホール導体や伝送線路)によって形成される。このLPF_LBは、PA_LBから出力されたロウバンド信号に対して、例えばその2次高調波(2HD)、3次高調波(3HD)および7次高調波(7HD)を減衰させる。
一方、このロウバンド側の構成と同様に、ハイバンド側では、ハイバンド用のパワーアンプ回路PA_HBの出力が出力整合回路MN_HB、カプラ回路CPL_HB、ロウパスフィルタ回路LPF_HBおよびコンデンサCs14を介してアンテナスイッチ回路ANT_SWに伝送される。ここで、PA_HBの出力は、ポンディングワイヤ等を介してMN_HBに接続される。また、Cs14は、直流カット用のコンデンサであり、例えばSMD部品によって形成される。
PA_HBも、PA_LBと同様に、例えば3個のパワートランジスタを従属接続にした3段構成のアンプ回路となっている。MN_HBは、例えば、伝送線路LN4〜LN7と、LN4〜LN7のそれぞれの出力とGNDの間に設けられたコンデンサCs4〜Cs7とを含む4段構成のロウパスフィルタ型の整合回路となっている。Cs4〜Cs7は、例えばSMD部品である。LN4〜LN7は、PA_HBの出力側から順に直列接続される。Cs4は、一端がLN4の出力に接続され、他端がインダクタLi4を介してGNDに接続される。Cs5,Cs6,Cs7も同様に、それぞれ、一端がLN5,LN6,LN7に接続され、他端がインダクタLi5,Li6,Li7を介してGNDに接続される。Li4〜Li7は、例えば、ビアホール導体等に該当する寄生インダクタである。
CPL_HBは、それぞれ電磁結合するように形成された主線路と副線路を含み、主線路の一端がLN7の出力に接続され、他端がLPF_HBに接続される。副線路は、一端が終端抵抗(例えば50Ω)に、他端がPA_HB(およびPA_LB)と同一半導体チップに形成された電力検出回路DET_HBにポンディングワイヤ等を介して接続される。
LPF_HBは、前述したCPL_HBの主線路の一端とコンデンサCs14の一端と間に設けられた並列共振回路と、この並列共振回路の一端(Cs14側)とGNDの間に接続された直列共振回路から構成される。並列共振回路は、インダクタLi11およびコンデンサCs11からなる。直列共振回路は、前述したCs14の一端から順に接続されたコンデンサCs12とインダクタLi12からなる。Cs11,Cs12は、例えばSMD部品で形成され、Li11,Li12は、配線基板の内蔵回路によって形成される。このLPF_HBは、PA_HBから出力されたハイバンド信号に対して、例えばその2次高調波(2HD)、3次高調波(3HD)を減衰させる。
アンテナスイッチ回路ANT_SWのアンテナ端子P0は、順に、アンテナフィルタ回路ANT_FIL、ESDフィルタ回路ESD_FIL、コンデンサCs16を介して外部アンテナ端子ANTに接続される。Cs16(ここでは8.2pF)は、直流カット用のコンデンサであり、例えばSMD部品で形成される。また、ANTとGNDの間には、例えばSMD部品からなるインピーダンス調整用のインダクタLs(ここでは15nH)が接続される。
ANT_FILは、P0とCs16の一端との間に接続された並列共振回路と、P0とGNDの間に接続されたインピーダンス調整用のコンデンサCs15を備えている。Cs15(ここでは0.5pF)は、例えばSMD部品で形成される。一方、並列共振回路は、インダクタLi13とコンデンサCi1からなり、ここに実施の形態2で示した図5の並列共振回路LC2が用いられる。この並列共振回路は、1mm×1mmの回路面積で実現され、Li13のインダクタンス値は、例えば3.5nHであり、Ci1の容量値は、例えば0.25pFである。これによって、ハイバンド信号の3次高調波(3HD)となる5.4GHz前後の信号を減衰させる。このANT_FILは、主に、ANT_SWを介すことで生じるハイバンド信号の3HDの減衰と、アンテナから受信したハイバンド信号に対する3HDの減衰とを行う。
ESD_FILは、Cs16の一端からGNDに向けて順に直列接続されたコンデンサCs15とインダクタLi14を備えている。Cs15は、例えばSMD部品によって形成され、13pFの容量値を備える。Li14は、配線基板の内蔵回路によって形成され、12nHのインダクタンス値を備える。ESD_FILは、主に、アンテナからの受信信号に対してESD対策上問題となる400MHz前後の信号を減衰させる。
ANT_SWの端子P3は、順に、直流カット用のコンデンサCs17と受信フィルタ回路RX_FIL1を介して外部出力端子RX_LBに接続される。Cs17(ここでは7.4pF)は、例えばSMD部品で形成される。
RX_FIL1は、Cs17の一端とRX_LBの間に接続され、インダクタLi15とコンデンサCi2からなる並列共振回路を備えている。ここで、この並列共振回路に、実施の形態1で示した図2の並列共振回路LC1が用いられる。この並列共振回路は、1mm×1mmの回路面積で実現され、Li15のインダクタンス値は、例えば5.6nHであり、Ci2の容量値は、例えば0.6pFである。これによって、ロウバンド信号の3次高調波(3HD)となる2.7GHz前後の信号を減衰させる。すなわち、このRX_FIL1は、アンテナから受信したロウバンド信号に対する3HDの減衰を行う。
ANT_SWの端子P4は、順に、受信フィルタ回路RX_FIL2と直流カット用のコンデンサCs19を介して外部出力端子RX_HBに接続される。Cs19(ここでは8pF)は、例えばSMD部品で形成される。RX_FIL2は、P4からGNDに向けて順に直列接続されたコンデンサCs18とインダクタLi16を備えている。Cs18は、例えばSMD部品によって形成され、10pFの容量値を備える。Li16は、配線基板の内蔵回路によって形成され、9nHのインダクタンス値を備える。RX_FIL2は、ここではANT_FILによってハイバンド信号の3HDを減衰させているため、RX_FIL1と異なりESD対策用のフィルタ回路を備えている。このRX_FIL2は、ESD対策上問題となる400MHz前後の信号を減衰させる。
以上のように、図8の高周波モジュールでは、ロウバンド信号およびハイバンド信号に対する3次高調波(3HD)の減衰用として、図2および図5に示したような、SMD部品を用いずに且つ小面積で実現可能で並列共振回路LC1,LC2を用いている。これによって、高周波モジュールの小型化又は低コスト化が実現可能となる。なお、ここでは、ハイバンド信号に対応して図5の構造を用い、ロウバンド信号に対応して、図5の構造よりも低い共振周波数を実現可能な図2の構造を用いているが、必要とされる回路定数を実現できる限り、特にこの組み合わせに限定されるものではない。
また、ここでは、図2および図5の並列共振回路LC1,LC2を、3次高調波(3HD)の減衰用として用いているが、勿論、2次高調波(2HD)の減衰用やそれ以外のn(n≧4)次高調波の減衰用として用いることもできる。すなわち、例えば図8の回路例では、LPF_LBやLPF_HBなどに適用することも可能である。本実施の形態3において3次高調波(3HD)の減衰用のみに適用しているのは、3HD減衰用のフィルタ回路が配線基板の製造ばらつきに伴う特性変動に対して十分なマージンを備えているからである。つまり、実際上、配線基板の製造ばらつきが生じた場合に、その影響をSMD部品のパラメータによって補正するような場合があるが、その必要性が低いためである。
また、図8におけるインダクタLi15およびコンデンサCi2に該当する図2の並列共振回路LC1は、前述したように図3(a)の等価回路で表すことができる。この場合の各回路素子のパラメータ値を算出したところ、L1、L2、L3、L4は、それぞれ、概算値として0.8nH、0.8nH、2.0nH、2.0nH程度を備える。また、C1、C2、C3、C4は、それぞれ、概算値として0.4pF、0.1pF、0.1pF、0.1pF程度を備える。ここから判るように、図2のMS21とMS22により、十分なインダクタンス成分(L1,L2)と、十分な容量成分(C1)を実現できる。
一方、図8におけるインダクタLi13およびコンデンサCi1に該当する図5の並列共振回路LC2は、前述したように図6の等価回路で表すことができる。この場合の各回路素子のパラメータ値を算出したところ、L5、L6は、それぞれ、概算値として1.7nH、1.7nH程度を備える。また、C5、C6、C7、C8は、それぞれ、概算値として0.05pF、0.05pF、0.15pF、0.15pF程度を備える。
このように、図5の並列共振回路LC2は、図2の並列共振回路LC1と比較すると、インダクタンス値および容量値が小さくなるが、高調波を減衰させるのに十分な定数を実現できる。また、前述した等価回路から判るように、図5のLC2は、図2のLC1と比べて構成要素となるパラメータ(回路素子)の数が少ないため、前述した配線基板等のばらつきに対する影響が少なくなることが考えられる。
以上、本実施の形態3により、共振回路およびそれを含んだ高周波モジュールの小型化又は低コスト化が実現可能となる。
(実施の形態4)
本実施の形態4では、図1の高周波モジュールを小型化した際に生じる恐れがあるリターンパスの問題を解決する方式を示す。まず、リターンパスの問題について図9を用いて説明する。図9は、本発明の前提として検討した高周波モジュールにおいて、そのパワーアンプ回路周りの構成例を示す回路図である。
図9に示す高周波モジュールRF_MDLc1は、実施の形態3で示した図8の回路例の中から、ハイバンド信号用のパワーアンプ回路PA_HBとその出力整合回路MN_HBの部分を抽出したものである。以降、図8と重複する部分に関しての説明は省略する。図9の高周波モジュールRF_MDLc1は、その配線基板の構造として、通常、PA_HBが形成される半導体チップの直下の各配線層(LY2〜LY4)に接地電極パターンが形成され、この各接地電極パターンや裏面の接地電極がそれぞれビアホール導体で接続されることで、最も安定した接地電圧GNDの領域が形成される。この領域は、一般的にサーマルビアTVの形成領域と呼ばれる。
一方、例えば、PA_HBの出力に接続された出力整合回路MN_HBc1では、PA_HBの出力電力がコンデンサCs4〜Cs7(特にCs4)とインダクタLi4〜Li7(特にLi4)を介してLY3の接地電極パターンに流れ込む。なお、この接地電極パターンはLY3でサーマルビアTVの形成領域に接続され、さらにビアホール導体を介して裏面の接地電極にも接続される。また、Cs4〜Cs7は、例えば、第1配線層LY1にSMD部品として実装され、Li4〜Li7は、このLY1とLY3を接続するビアホール導体に該当する。
ところで、図8の回路例には図示していないが、PA_HBに含まれる、それぞれ従属接続された3段のパワートランジスタの各出力ノードには、例えば図9に示すようなバイアス回路BCが接続されている。BCでは、一般的に、バイアス電圧Vccがチョークコイルなどと呼ばれる高周波遮断用のインダクタを介してパワートランジスタの各出力(すなわち次段への入力)に供給されると共に、このVccと接地電圧GNDの間にデカップリングコンデンサなどと呼ばれる高周波的な接地用のコンデンサが設けられる。図9において、このチョークコイルが、伝送線路LN61〜LN65やインダクタLs2に該当し、デカップリングコンデンサが、コンデンサCd1〜Cd3に該当する。
ここで、Cd1〜Cd3は、例えば、LY1にSMD部品として実装され、その一端がVccに接続され、他端がLY1とLY3の間を接続するビアホール導体(インダクタ)VH1〜VH3を介してLY3の接地電極パターンに接続される。したがって、図9の矢印で示すように、PA_HBの出力電流が容量性結合(Cs4〜Cs7(特にCs4))を介してLY3の接地電極パターンに流れ込み、更に、この接地電極パターンから、容量性結合(Cd1〜Cd3)を介してパワートランジスタの入力に帰還される経路が形成される。この経路はリターンパスRPと呼ばれる。
なお、図9の回路例では、バイアス回路BCを介したリターンパスRPを示したが、その他にも、図示はしないが、例えば、パワートランジスタの各段の間に挿入された整合回路を介したリターンパスなども存在する。すなわち、例えば、1段目のパワートランジスタの出力を一旦ボンディングワイヤで配線基板上に引き出し、配線基板上でインピーダンス整合を行った後、再びボンディングワイヤを介して2段目のパワートランジスタの入力に戻すような場合もあり、このような場合における配線基板上の整合回路もリターンパスとなり得る。リターンパスは、前述したように発振現象などを引き起こし、誤動作等の原因となる。ただし、図9において、例えば、出力整合回路MN_HBc1とバイアス回路BC等の距離を十分に確保できればこのような問題は低減されるが、逆に小型化が困難となる。
そこで、小型化を図ると共にリターンパスの問題を解決するためには、例えば図10のような構成を用いるとよい。図10は、本発明の実施の形態4による高周波モジュールにおいて、そのパワーアンプ回路周りの構成例を示す回路図である。図10に示す高周波モジュールRF_MDLaは、図9の構成例と比較して、LY2でインダクタ(ビアホール導体)Li4,Li5とサーマルビアTVの形成領域を接続する配線パターンMS72が加わり、更に、このMS72とLY3の接地電極パターンとを接続する複数のビアホール導体(インダクタ)VHmが加わったことが特徴となっている。なお、MS72には、ライン状の配線パターンを用いている。
このような構成によると、TVの形成領域に対応するGNDを基準として、ビアホール導体Li4,Li5とMS72との接点電位VAが、Li4,Li5とLY3の接地電極パターンとの接点電位VBよりも高くなるため、LY2でMS72からTVに向かう方向に多くの電流が流れることになる。この際に、バイアス回路BCはLY3の接地電極パターンに接続されているため、このLY2に流れる電流が直接的に流れることはない。また、ビアホール導体Li4,Li5を介してLY3の接地電極パターンにも若干電流が流れるが、この電流も、LY3の接地電極パターンがMS72と複数のVHmによって接続されているため、TVの形成領域の方向に向けて流れ易くなる。このようなことから、LY3の接地電極パターンに接続されたバイアス回路BC側には電流が殆ど流れず、リターンパスの問題を解決可能となる。さらに、MS72とLY3の接地電極パターンとを複数のVHmで接続することで、MS72のインダクタンス成分の影響を低減し、出力整合回路MNの特性にズレが生じるような事態を防止することも可能となる。
図11は、本発明の実施の形態4による高周波モジュールにおいて、そのパワーアンプ回路周りの配線基板の構成例を示すものであり、(a)は比較対象として図9の構成に対応するレイアウト図、(b)は図10の構成に対応するレイアウト図である。図12は、本発明の実施の形態4による高周波モジュールにおいて、図10の構成に対応する配線基板の構成例を示すものであり、(a)は配線基板全体を透過的に見た場合の斜視図、(b)はそのパワーアンプ回路周りを拡大した斜視図、(c)は(b)から第1配線層を省略した斜視図である。
図11(a),(b)においては、第1配線層LY1、第2配線層LY2および第3配線層LY3に対応するレイアウトパターンの一部がそれぞれ示されている。図11(a)に示すように、出力整合回路MNとバイアス回路BCは、ほぼ同様の位置に配置される。図9の構成(比較例)では、図11(a)に示すように、LY2でMNからサーマルビアTVの形成領域に接続する配線パターンはなく、LY3の接地電極パターンにおいて、ビアホール導体を介したMNのGNDとビアホール導体を介したBCのGNDとがそれぞれ接続されている。一方、図10の構成(本実施の形態)では、図11(b)および図12(a)〜(c)に示すように、LY2において、MNからTVの形成領域に接続される配線パターンMS72が設けられ、このMS72は、複数のビアホール導体VHmを介してLY3の接地電極パターンにも接続されている。
図13は、図9の構成(比較例)と図10の構成でリターンゲイン値を評価した結果であり、(a)は図9の構成の結果を示すグラフ、(b)は図10の構成の結果を示すグラフである。図13に示すように、図9の高周波モジュールRF_MDLc1では、1.5GHz前後で15dB程度のリターンゲインがあり、これによって発振現象が生じてしまう。一方、図10の高周波モジュールRF_MDLaでは、広い帯域(0〜4GHz)に渡って0dBを超えるリターンゲインがなく、発振現象が生じない。
図14〜図16は、図9の構成(比較例)と図10の構成で電流密度の解析を行った結果であり、図14は、第1配線層LY1での解析結果、図15は、第2配線層LY2での解析結果、図16は、第3配線層LY3での解析結果を示すものである。なお、図14〜図16では、3段目のパワーアンプ回路PAから電力が出力された場合で、1段目(1st)のパワートランジスタ(Tr)の入力に向けたリターン電流と、2段目(2nd)のTrの入力に向けたリターン電流と、3段目(3rd)のTrの入力に向けたリターン電流とをそれぞれ個別に解析している。
まず、図14に示すLY1の解析結果において、左側には比較例となる図9の高周波モジュールRF_MDLc1の結果が示されており、右側には本実施の形態となる図10の高周波モジュールRF_MDLaの結果が示されている。この図から判るように、図10の高周波モジュールRF_MDLaでは、図9の高周波モジュールRF_MDLc1に比べて、特に1st Trへのリターン電流と3rd Trへのリターン電流が大きく低減されている。次に、図15に示すLY2の解析結果において、図10の高周波モジュールRF_MDLaでは、前述した配線パターンMS72を介してTVの形成領域側に向けて多くの電流が流れていることが判る。なお、図9の高周波モジュールRF_MDLc1では、このような配線パターンを備えていないため、図15に該当する結果は存在しない。
最後に、図16に示すLY3の解析結果において、左側には比較例となる図9の高周波モジュールRF_MDLc1の結果が示されており、右側には本実施の形態となる図10の高周波モジュールRF_MDLaの結果が示されている。この図から判るように、図10の高周波モジュールRF_MDLaでは、図9の高周波モジュールRF_MDLc1に比べて、特に1st Trへのリターン電流と3rd Trへのリターン電流が大きく低減されている。以上のことから、図10の高周波モジュールRF_MDLaを用いることで入力に向けたリターン電流を大幅に低減可能であることが判る。
図17は、図10の構成例の好適な適用例について説明するための概略図であり、(a)、(b)はそれぞれ異なる構成例を示すものである。例えば、図17(b)の高周波モジュールRF_MDLc2に示すように、パワーアンプ回路を構成する3段構成のパワートランジスタ(Tr)に対して3段目(最終段)を別の半導体チップで形成および実装するような場合がある。すなわち、ロウバンドおよびハイバンドに対応する1段目と2段目のTrを1つの半導体チップPA_CPc1で形成し、ロウバンドに対応する3段目のTrを別の半導体チップPA_CPc2で形成し、ハイバンドに対応する3段目のTrを更に別の半導体チップPA_CPc3で形成する場合である。
この場合、この3つの半導体チップPA_CPc1〜PA_CPc3がそれぞれRF_MDLc2上に実装される。そうすると、3段目のTrの出力から1段目または2段目のTrの入力までの距離が離れるため、前述したようなリターンパスの問題を容易に回避可能となる。しかしながら、このような構成では、高周波モジュールRF_MDLc2が大型化し、コストも増大するなどの弊害がある。
そこで、小型化又は低コスト化を図るためには、図17(a)の高周波モジュールRF_MDLのように、3段のTrを1つの半導体チップPA_CPで形成することが望ましい。ただし、そうすると、3段目のTrの出力から1段目または2段目のTrの入力までの距離が短くなり、リターンパスの問題がより顕在化してくる。このような場合に、図10の構成例を用いると、リターンパスの問題が解決でき、高周波モジュールの小型化又は低コスト化が実現可能となる。
以上、本実施の形態4により、リターンパスの問題が抑制され、これによって高周波モジュールの小型化又は低コスト化が実現可能となる。
(実施の形態5)
<RFモジュール>
図19は、本発明の実施の形態5によるRFモジュールの回路構成を示す図である。図19のRFモジュールが図18のRFモジュールと基本的に相違するのは、出力整合回路12cと方向性結合器(CPL)13と高調波除去フィルタ(LPF)14との接続順序である。
従って、本発明の実施の形態5の図19のRFモジュールによれば、次のような利点を有する。すなわち、図19でRF電力増幅器HPAの出力増幅信号Poutの高調波成分が、方向性結合器13の副線路と利得制御ユニット17との間の信号配線、方向性結合器13の副線路および主線路に伝達されたと仮定する。そうと仮定しても、方向性結合器13の主線路とアンテナ16との間には高調波除去フィルタ14が接続されている。従って、RF電力増幅器HPAの出力の高レベルの高調波成分が方向性結合器13の副線路と利得制御ユニット17との間の信号配線、方向性結合器13の副線路および主線路を介してアンテナ16に伝達されることを回避することができる。
図19のRFモジュールは、RF電力増幅器HPAと、最終段の出力整合回路12cと、方向性結合器(CPL)13と、高調波除去フィルタ(LPF)14と、アンテナスイッチ(ANT_SW)15とを含んでいる。アンテナスイッチ15は、RFモジュール外部で、携帯電話のアンテナ(ANT)16に接続される。
<RFモジュール内のモノリシック半導体集積回路>
RF電力増幅器HPAはモノリシック半導体集積回路のチップに構成され、初段増幅器10a、初段バイアス回路10b、第1段間整合回路10c、次段増幅器11a、次段バイアス回路11b、第2段間整合回路11c、最終段増幅器12a、最終段バイアス回路12b、利得制御ユニット17を含む。初段増幅器10aの初段RF入力端子にはRF増幅信号RFinが供給され、初段増幅器10aの初段RF増幅出力信号は第1段間整合回路10cを介して次段増幅器11aの次段RF入力端子に供給される。次段増幅器11aの次段RF増幅出力信号は、第2段間整合回路11cを介して最終段増幅器12aの最終段RF入力端子に供給される。
モノリシック半導体集積回路のシリコンチップには、初段増幅器10a、次段増幅器11a、最終段増幅器12aを構成するLD(Lateral Diffused)構造MOSのパワーMOSFETが形成されている。第1段間整合回路10cは、初段増幅器10aの比較的高い出力インピーダンスと次段増幅器11aの比較的低い出力インピーダンスとの差による信号反射を低減する。第2段間整合回路11cは、次段増幅器11aの比較的低い出力インピーダンスと最終段増幅器12aの更に低い出力インピーダンスとの差による信号反射を低減する。第1段間整合回路10cと第2段間整合回路11cとは、シリコンチップ上に形成されたスパイラルインダクタやMIM(金属・絶縁膜・金属)積層容量等のオンチップ受動素子により構成されている。
<RFモジュール内のディスクリート素子>
RF電力増幅器HPAの最終段増幅器12aの最終段RF増幅出力信号Poutは、モノリシック半導体集積回路のチップ外部の最終段の出力整合回路12cを介して方向性結合器(CPL)13の主線路の一端に接続されている。出力整合回路12cは最終段増幅器12aの極めて低い出力インピーダンス(数Ω程度)と方向性結合器13、アンテナ16の比較的高い入力インピーダンス(50Ω程度)との差による信号反射を低減する。出力整合回路12cは、RFモジュールの多層配線基板に形成されたマイクロ波伝送線TRL1、TRL2、TRL3、容量C1、C2、C3、インダクタL1、L2、L3等のディスクリート受動素子により構成されている。方向性結合器(CPL)13の主線路と副線路とは、RFモジュールの多層配線基板に形成された多層配線により構成されている。
方向性結合器(CPL)13の主線路の他端のRF信号は、高調波除去フィルタ(LPF)14のRF信号入力端子に供給される。高調波除去フィルタ(LPF)14はRF信号入力端子に供給されるRF信号の基本周波数成分を極めて小さな減衰率でRF信号出力端子に伝達するが、2倍高調波、3倍高調波、4倍高調波等の高調波成分は大きな減衰率で減衰する。従って、高調波除去フィルタ14は、ロウパスフィルタ(LPF)として動作する。高調波除去フィルタ14のインダクタL5と容量C5の並列接続の並列共振周波数f5は2倍高調波と略等しく設定されている。並列共振周波数f5でのインダクタL5と容量C5の並列接続の高いインピーダンスにより、2倍高調波は大きな減衰率で減衰される。高調波除去フィルタ14のインダクタL4と容量C4の直列接続の直列共振周波数f4は3倍高調波と略等しく設定されている。並列共振周波数f4でのインダクタL4と容量C4の直列接続の低いインピーダンスにより、3倍高調波は大きな減衰率で減衰される。高調波除去フィルタ14のインダクタL6と容量C6の直列接続の直列共振周波数f6は4倍高調波と略等しく設定されている。並列共振周波数f6でのインダクタL6と容量C6の直列接続の低いインピーダンスにより、4倍高調波は大きな減衰率で減衰される。
高調波除去フィルタ14のRF信号出力端子のRF信号はアンテナスイッチ15の一端に供給され、アンテナスイッチ15の他端はアンテナ16の一端に接続される。高調波除去フィルタ14の出力端子のRF信号はDCカットコンデンサCdcを介してアンテナスイッチ15の一方の端子に供給される。RF電力増幅器HPAの最終段増幅器12aの最終段RF増幅出力信号Poutは、RF信号成分と伴にDC電圧成分も含む。高調波除去フィルタ14のDCカットコンデンサCdcは、最終段RF増幅出力信号PoutのDC電圧成分がアンテナスイッチ15とアンテナ16とに伝達されるのを回避する。高調波除去フィルタ14の出力端子とアンテナスイッチ15との間に配置されたDCカットコンデンサCdcにより、出力整合回路12cと方向性結合器13と高調波除去フィルタ14とからなる信号経路の位相回転の調整が容易となり、アンテナスイッチ15での歪も低減されることが、本発明者等の検討により明らかとされた。
また、方向性結合器13の副線路の一端と他端とは、終端抵抗RtとRF電力増幅器HPAの利得制御ユニット17の検出電圧入力端子とにそれぞれ接続される。利得制御ユニット17には、RFアナログ信号処理半導体集積回路を経由してベースバンド信号処理ユニットからの利得制御信号Vrampと方向性結合器13からの検出電圧Vcplとが供給される。尚、利得制御信号Vrampのレベルは基地局と携帯電話との距離に比例するものであり、RF電力増幅器HPAからアンテナ16に供給されるRF送信信号RFoutのレベルが利得制御信号Vrampのレベルにより制御されることができる。利得制御ユニット17は、利得制御信号Vrampのレベルに方向性結合器13からの検出電圧Vcplのレベルが追従するように、RF電力増幅器HPAの利得を制御することによりAPC動作を行う。このAPCは、利得制御ユニット17により制御された初段バイアス回路10b、次段バイアス回路11b、最終段バイアス回路12bによる初段増幅器10a、初段増幅器10a、最終段増幅器12aの利得制御により実行される。
(実施の形態6)
<マルチバンドの送信を可能とするRFモジュール>
図20は、本発明の実施の形態6によるRFモジュールの回路構成を示す図である。このRFモジュールは、GSM850、GSM900、DCS1800、PCS1900のマルチバンドの送信を可能とするものである。そのため第1周波数帯域RF信号Rfin_LBが第1RF電力増幅器HPA1により増幅され、第2周波数帯域RF信号Rfin_HBが第2RF電力増幅器HPA2により増幅される。第1周波数帯域RF信号Rfin_LBはGSM850とGSM900とのRF送信信号であり、第2周波数帯域RF信号Rfin_HBはDCS1800とPCS1900とのRF送信信号である。
尚、GSM850のRF送信信号の周波数は824MHz〜849MHzであり、GSM900のRF送信信号の周波数は880MHz〜915MHzである。尚、DCS1800のRF送信信号の周波数は1710MHz〜1780MHzであり、PCS1900のRF送信信号の周波数は1850MHz〜1910MHzである。
図20のRFモジュール100では、第1RF電力増幅器HPA1と第2RF電力増幅器HPA2とは半導体集積回路チップIC_Chipの上に形成されている。チップIC_Chipの周辺のRFモジュール100の配線基板には、第1出力整合回路22c、第1方向性結合器23、第1高調波除去フィルタ24、第2出力整合回路12c、第2方向性結合器13、第2高調波除去フィルタ14、アンテナスイッチ15が形成されている。
チップIC_Chipは、実質的に4角形のチップの形状を有している。チップIC_Chipは、互いに対向して略平行な第1辺Sd1と第2辺Sd2とを有する。チップIC_Chipは、第1辺Sd1と第2辺Sd2とに接続され第1辺Sd1と第2辺Sd2と略直角に配置された第3辺Sd3と、第3辺Sd3に対向して第3辺Sd3と略平行な第4辺Sd4とを更に有する。
第1RF電力増幅器HPA1の第1出力増幅信号Pout_LBはチップIC_Chipの第1辺Sd1から導出され、第2RF電力増幅器HPA2の第2出力増幅信号Pout_HBはチップIC_Chipの第2辺Sd2から導出される。
第1方向性結合器23の副線路からの第1検出信号Vcpl_LBは、チップIC_Chipの第3辺Sd3から第1RF電力増幅器HPA1のための第1利得制御ユニット27の第1信号入力端子に導入される。第2方向性結合器13の副線路からの第2検出信号Vcpl_HBは、チップIC_Chipの第3辺Sd3から第2RF電力増幅器のための第2利得制御ユニット17の第2信号入力端子に導入される。
第1出力増幅信号Pout_LBのチップIC_Chipの第1辺Sd1の導出点と第1検出信号Vcpl_LBのチップIC_Chipの第3辺Sd3の導入点との距離を、大きくすることができる。第2出力増幅信号Pout_HBのチップIC_Chipの第2辺Sd2の導出点と第2検出信号Vcpl_HBのチップIC_Chipの第3辺Sd3の導入点との距離を、大きくすることができる。従って、利得制御ユニット27、17の信号入力端子Vcpl_LB、Vcpl_HBに伝達される出力増幅信号Pout_LB、Pout_HBの高調波成分のレベルを低減することができる。
更に、図20に示すように、第1出力増幅信号Pout_LBの第1辺Sd1の導出点と第1検出信号Vcpl_LBの第3辺Sd3の導入点との間に第2検出信号Vcpl_HBの第3辺Sd3の導入点が配置されている。同様に、第2出力増幅信号Pout_HBの第2辺Sd2の導出点と第2検出信号Vcpl_HBの第3辺Sd3の導入点との間に第1検出信号Vcpl_LBの第3辺Sd3の導入点が配置されている。従って、利得制御ユニット27、17の信号入力端子Vcpl_LB、Vcpl_HBに伝達される出力増幅信号Pout_LB、Pout_HBの高調波成分のレベルを更に低減することができる。
<チップ周辺のRFモジュールの配線>
図21は、図20のRFモジュール100のチップIC_Chipの周辺の配線の様子を示す図である。図21(A)はその様子を示す平面図であり、図21(B)はその様子を示す斜視図である。
図21(A)に示すように、第1出力増幅信号Pout_LBの第1辺Sd1の導出点と第1検出信号Vcpl_LBの第3辺Sd3の導入点との間に接地電圧GNDに接続された第1接地ボンディングワイヤー線402が第3辺Sd3に接続されている。第1辺Sd1の第1出力増幅信号Pout_LBの導出点から第1利得制御ユニット27の第1検出信号Vcpl_LBの導入点に接続されたボンディングワイヤー線401へ、破線に示す第1出力増幅信号Pout_LBの高調波結合信号パスHD_LB_SPが存在している。第1接地ボンディングワイヤー線402は、結合信号パスHD_LB_SPを介した第1出力増幅信号Pout_LBの導出点から第1検出信号Vcpl_LBの導入点への信号クロストークを有効に低減することができる。また、第2出力増幅信号Pout_HBの第2辺Sd2の導出点と第2検出信号Vcpl_HBの第3辺Sd3の導入点との間に接地電圧GNDに接続された第2接地ボンディングワイヤー線404が第3辺Sd3に接続されている。第2辺Sd2の第2出力増幅信号Pout_HBの導出点から第2利得制御ユニット17の第2検出信号Vcpl_HBの導入点に接続されたボンディングワイヤー線405へ、破線に示す第2出力増幅信号Pout_HBの高調波結合信号パスHD_HB_SPが存在している。第2接地ボンディングワイヤー線404は、結合信号パスHD_HB_SPを介した第2出力増幅信号Pout_HBの導出点から第2検出信号Vcpl_HBの導入点への信号クロストークを有効に低減することができる。
尚、図21(A)において、チップIC_Chipの第3辺Sd3の左側の6個の正方形は、ボンディングワイヤー線400…406に接続されるチップIC_Chip上のボンディングパッドを示している。また、チップIC_Chipの第3辺Sd3の右側の6個の長方形は、ボンディングワイヤー線400…406に接続されるRFモジュール100の配線基板表面の配線領域を示している。
図21(B)の斜視図は、第2接地ボンディングワイヤー線404が第2辺Sd2の第2出力増幅信号Pout_HBの導出点から第3辺Sd3の第2検出信号Vcpl_HBの導入点への結合信号パスHD_HB_SPを介した信号クロストークを有効に低減することを立体的に示している。ボンディングワイヤー線400…406は、チップIC_Chipの4辺の周辺で比較的高くて長い配線距離を持っている。第1利得制御ユニット27の第1検出信号Vcpl_LBの導入点に接続されたボンディングワイヤー線401の左右の接地ボンディングワイヤー線400、402は、有害な信号クロストークを有効に低減する。同様に、第2利得制御ユニット17の第2検出信号Vcpl_HBの導入点に接続されたボンディングワイヤー線405の左右の接地ボンディングワイヤー線404、406も、有害な信号クロストークを有効に低減する。
(実施の形態7)
<マルチバンドの送信を可能とする具体的なRFモジュール>
図22は、本発明の実施の形態7による具体的なRFモジュールの回路構成を示す図である。図22に示した具体的なRFモジュールが図20に示したRFモジュールと基本的に相違するのは、アンテナスイッチ15である。
図22に示した具体的なRFモジュールでは、アンテナスイッチ15はGSM850、GSM900、DCS1800、PCS1900のマルチバンドのTDMA(時分割マルチプルアクセス)方式の送信スロットと受信スロットとを切り換える機能を実行する。すなわち、アンテナスイッチ15は、送信スロットでは、第1RF送信信号Tx_LBと第2RF送信信号Tx_LHのいずれかを選択してアンテナ16に供給する。第1RF送信信号Tx_LBは第1RF電力増幅器HPA1の第1出力増幅信号Pout_LBに基づくGSM850、GSM900のRF送信信号であり、第2RF送信信号Tx_LHは第2RF電力増幅器HPA2の第2出力増幅信号Pout_HBに基づくDCS1800、PCS1900のRF送信信号である。
また、アンテナスイッチ15は、受信スロットでは、アンテナ16で受信されたRF受信信号を、第1RF受信信号端子Rx_LBと第2RF受信信号端子Rx_LHの選択された信号端子に伝達する。第1RF受信信号端子Rx_LBのRF受信信号はGSM850、GSM900のRF受信信号であり、第2RF受信信号端子Rx_LHのRF受信信号はDCS1800、PCS1900のRF受信信号である。
尚、図22に示した具体的なRFモジュールで、アンテナスイッチ15の共通入出力端子には、ロウパスフィルタLPF_ANTとトラップフィルタTrap12と容量C13とインダクタL13とが接続されている。ロウパスフィルタLPF_ANTは、DCS1800、PCS1900のハイバンドの3倍高調波を減衰するように、容量C10、C11、インダクタL11により構成されている。トラップフィルタTrap12は、RF信号中の比較的低い周波数から直流付近までの外部サージ電圧を吸収するように、容量C12、インダクタL12により構成されている。
アンテナスイッチ15と第1RF受信信号端子Rx_LBとの間には、ロウパスフィルタLPF_Rx_LBが接続されている。ロウパスフィルタLPF_Rx_LBは、GSM850、GSM900のローバンドの3倍高調波を減衰するように、容量C20、C21、C22、インダクタL21により構成されている。
アンテナスイッチ15と第2RF受信信号端子Rx_HBとの間には、トラップフィルタTrap31が接続されている。トラップフィルタTrap31は、RF信号中の比較的低い周波数から直流付近までの外部サージ電圧を吸収するように、容量C31、インダクタL31により構成されている。
<携帯電話>
図23は、図22に示したRFモジュール(100)と高周波アナログ信号処理半導体集積回路(RF_IC)とベースバンド信号処理LSI(BB_LSI)とを搭載した携帯電話の構成を示すブロック図である。
同図に示されたRFモジュール(RF_ML)100は、アンテナスイッチ15、半導体チップIC_Chip、第1出力整合回路22c、第1方向性結合器23、第1高調波除去フィルタ24、第2出力整合回路12c、第2方向性結合器13、第2高調波除去フィルタ14を含む。アンテナスイッチ15はアンテナスイッチマイクロウェーブモノリシック半導体集積回路(ANT_SW)15により構成され、半導体チップIC_ChipはRF電力増幅器HPA1、HPA2を含んでいる。
携帯電話の送受信用アンテナANT16には、RFモジュール(RF_ML)100のアンテナスイッチMMIC(ANT_SW)15の共通の入出力端子I/Oが接続されている。ベースバンド信号処理LSI(BB_LSI)からの制御信号B.B_Cntは、高周波アナログ信号処理半導体集積回路(RF_IC)(以下RFIC)を経由してRFモジュール(RF_ML)100に供給される。送受信用アンテナ16から共通の入出力端子I/Oへの高周波信号の流れは携帯電話の受信動作RXとなり、共通の入出力端子I/Oから送受信用アンテナ16への高周波信号の流れは携帯電話の送信動作TXとなる。
RFIC(RF_IC)は、ベースバンド信号処理LSI(BB_LSI)からの送信ベースバンド信号Tx_BBSの高周波送信信号への周波数アップコンバージョンを行う。また、RFIC(RF_IC)は、逆に送受信用アンテナANTで受信された高周波受信信号の受信ベースバンド信号Rx_BBSへの周波数ダウンコンバージョンを行う。受信ベースバンド信号Rx_BBは、ベースバンド信号処理LSI(BB_LSI)に供給される。
RFモジュール(RF_ML)100のアンテナスイッチMMIC(ANT_SW)15は共通の入出力端子I/Oと送信端子Tx1、Tx2、受信端子Rx1、Rx2のいずれかの端子の間で信号経路を確立して、受信動作RXと送信動作TXとのいずれかを行う。このアンテナスイッチMMIC(ANT_SW)15は受信動作RXと送信動作TXとのいずれかのために確立した信号経路以外の信号経路のインピーダンスを極めて高い値に設定することで、必要なアイソレーションが得られるものである。
尚、ベースバンド信号処理LSI(BB_LSI)は図示されていない外部不揮発性メモリと図示されていないアプリケーションプロセッサとに接続されている。アプリケーションプロセッサは、図示されていない液晶表示装置と図示されていないキー入力装置とに接続され、汎用プログラムやゲームを含む種々のアプリケーションプログラムを実行することができる。携帯電話等のモバイル機器のブートプログラム(起動イニシャライズプログラム)、オペレーティングシステムプログラム(OS)、ベースバンド信号処理LSIの内部のディジタルシグナルプロセッサ(DSP)によるGSM方式等の受信ベースバンド信号に関する位相復調と送信ベースバンド信号に関する位相変調のためのプログラム、種々のアプリケーションプログラムは、外部不揮発性メモリに格納されることができる。
ベースバンド信号処理LSI(BB_LSI)からの送信ベースバンド信号Tx_BBSがGSM850またはGSM900の送信周波数バンドに周波数アップコンバージョンされるべき場合を想定する。尚、GSM850のRF送信信号の周波数は824MHz〜849MHzであり、GSM900のRF送信信号の周波数は880MHz〜915MHzである。この場合には、RFICの送信信号処理ユニットTx_SPUは送信ベースバンド信号Tx_BBSからこの送信周波数バンドへの周波数アップコンバージョンを行って、高周波送信信号RF_Tx1が生成される。この送信周波数バンドの高周波送信信号RF_Tx1は、RFモジュールRF_MLのRF高出力電力増幅器HPA1で電力増幅され、ロウパスフィルタ12cを経由してアンテナスイッチMMIC(ANT_SW)15の送信端子Tx1に供給される。送信端子Tx1に供給されたGSM850またはGSM900の高周波送信信号RF_Tx1は、共通の入出力端子I/Oを介して送受信用アンテナ(ANT)16から送信されることができる。
送受信用アンテナ(ANT)16で受信されたGSM850またはGSM900の高周波受信信号RF_Rx1は、アンテナスイッチMMIC(ANT_SW)15の共通の入出力端子I/Oに供給される。尚、GSM850のRF受信信号の周波数は869MHz〜894MHzであり、GSM900のRF受信信号の周波数は925MHz〜960MHzである。アンテナスイッチ15の受信端子Rx1から得られるこの受信周波数バンドの高周波受信信号RF_Rx1は表面弾性波フィルタSAW1を介してRFICの低雑音増幅器LNA1で増幅され、その後、受信信号処理ユニットRx_SPUに供給される。受信信号処理ユニットRx_SPUでは、GSMの高周波受信信号GSM_Rxから受信ベースバンド信号Rx_BBSへの周波数ダウンコンバージョンが行われる。
GSM850またはGSM900の送受信モードでは、アンテナスイッチ15は制御信号B.B_Cntに応答して共通の入出力端子I/Oと送信端子Tx1との接続による高周波送信信号RF_Tx1の送信と共通の入出力端子I/Oとの受信端子Rx1との接続による高周波受信信号RF_Rx1の受信とを時分割で行う。
ベースバンド信号処理LSI(BB_LSI)からの送信ベースバンド信号Tx_BBSがDCS1800またはPCS1900の送信周波数バンドに周波数アップコンバージョンされるべき場合を想定する。尚、DCS1800のRF送信信号の周波数は1710MHz〜1780MHzであり、PCS1900のRF送信信号の周波数は1850MHz〜1910MHzである。この場合には、RFICの送信信号処理ユニットTx_SPUは送信ベースバンド信号Tx_BBSをこの送信周波数バンドへの周波数アップコンバージョンを行って、この送信周波数バンドの高周波送信信号RF_Tx2が生成される。この送信周波数バンドの高周波送信信号RF_Tx2は、RFモジュール100のRF高出力電力増幅器HPA2で電力増幅され、ロウパスフィルタ22cを経由してアンテナ15の送信端子Tx2に供給される。送信端子Tx2に供給されたDCS1800またはPCS1900の高周波送信信号RF_Tx2は、共通の入出力端子I/Oを介して送受信用アンテナ(ANT)16から送信されることができる。
送受信用アンテナ(ANT)16で受信されたDCS1800またはPCS1900の高周波受信信号RF_Rx2は、アンテナスイッチ15の共通の入出力端子I/Oに供給される。尚、DCS1800のRF受信信号の周波数は1805MHz〜180MHzであり、PCS1900のRF受信信号の周波数は1930MHz〜1990MHzである。アンテナスイッチ15の受信端子Rx2から得られるDCS1800またはPCS1900の高周波受信信号RF_Rx2は表面弾性波フィルタSAW2を介してRFICの低雑音増幅器LNA2で増幅され、その後、受信信号処理ユニットRx_SPUに供給される。受信信号処理ユニットRx_SPUでは、DCS1800またはPCS1900の高周波受信信号RF_Rx2から受信ベースバンド信号Rx_BBSへの周波数ダウンコンバージョンが行われる。
DCS1800またはPCS1900の送受信モードでは、アンテナスイッチ15は制御信号B.B_Cntに応答して共通の入出力端子I/Oと送信端子Tx2との接続による高周波送信信号RF_Tx2の送信と共通の入出力端子I/Oとの受信端子Rx2との接続による高周波受信信号RF_Rx2の受信とを時分割で行う。
<アンテナスイッチMMIC>
図24は、図22に示したRFモジュールのアンテナスイッチ15を構成するアンテナスイッチマイクロウェーブモノリシック半導体集積回路(MMIC)300を示す回路図である。
図24に示したアンテナスイッチMMIC(300)は共通の入出力端子I/O(301)と送信端子Tx1(306)、Tx2(307)、受信端子Rx1(308)、Rx2(309)、Rx3(308´)、Rx4(309´)のいずれかの端子の間で信号経路を確立して、受信動作RXと送信動作TXとのいずれかを行う。このアンテナスイッチMMIC(300)は受信動作RXと送信動作TXとのいずれかのために確立した信号経路以外の信号経路のインピーダンスを極めて高い値に設定することで、必要なアイソレーションを得るものである。アンテナスイッチの分野では、共通の入出力端子I/O(301)はシングルポール(Single Pole)と呼ばれる。また、送信端子Tx1(306)、Tx2(307)、受信端子Rx1(308)、Rx2(309)、Rx3(308´)、Rx4(309´)の合計6個の端子は6スロー(6 throw)と呼ばれる。従って、図23のアンテナスイッチMMIC(300)は、シングルポール6スロー(SP6T; Single Pole 6 throw)型のスイッチである。
アンテナスイッチMMIC(300)は、6個の高周波スイッチ302、303、304、305、304´、305´を含む。
第1送信スイッチ302は共通の入出力端子I/O(301)と第1送信端子Tx1(306)との間を接続することにより、第1送信端子Tx1(306)から共通の入出力端子I/O(301)への第1送信信号の経路を確立する。第2送信スイッチ303は共通の入出力端子I/O(301)と第2送信端子Tx2(307)との間を接続することにより、第2送信端子Tx2(307)から共通の入出力端子I/O(301)への第2送信信号の経路を確立する。
第1受信スイッチ304は共通の入出力端子I/O(301)と第1受信端子Rx1(308)との間を接続することにより、共通の入出力端子I/O(301)から第1受信端子Rx1(308)への第1受信信号の経路を確立する。第2受信スイッチ305は共通の入出力端子I/O(301)と第2受信端子Rx2(309)との間を接続することにより、共通の入出力端子I/O(301)から第2受信端子Rx2(309)への第2受信信号の経路を確立する。第3受信スイッチ304´は共通の入出力端子I/O(301)と第3受信端子Rx1(308´)との間を接続することにより、共通の入出力端子I/O(301)から第3受信端子Rx1(308´)への第3受信信号の経路を確立する。第4受信スイッチ305´は共通の入出力端子I/O(301)と第4受信端子Rx2(309´)との間を接続することにより、共通の入出力端子I/O(301)から第4受信端子Rx2(309´)への第4受信信号の経路を確立する。
また、図24ではSP6T型スイッチであるアンテナスイッチでは、第1受信スイッチ304と第3受信スイッチ304´とを並列接続しており、第2受信スイッチ305と第4受信スイッチ305´とを並列接続しているので、SP6T型スイッチは実質的にSP4T型スイッチとなる。スイッチの並列接続により、受信モードでの信号損失を低減することが可能となる。
尚、6個の高周波スイッチ302、303、304、305、304´、305´を構成する高周波スイッチQtx1、Qtx2、Qrx1、Qrx2、Qrx3、Qrx4としては、低いオン抵抗を持つヘテロ接合構造のHEMT(High Electron Mobility Transistor)が使用されている。
更に、第1送信スイッチ302は第1DCブースト回路DC_BC1を含み、第2送信スイッチ303は第2DCブースト回路DC_BC1を含んでいる。
第1送信スイッチ302の第1DCブースト回路DC_BC1は第1RF電力増幅器HPA1から送信端子Tx1(306)に供給される高レベルの第1RF送信信号に応答して、第1送信制御端子310に供給される略3ボルトDC制御電圧を昇圧する。昇圧により第1DCブースト回路DC_BC1から生成された略5ボルトの高レベルの昇圧出力電圧が、第1送信スイッチ302のFETQtx1のゲートに供給される。
その結果、第1送信スイッチ302のFETQtx1のオン抵抗Ronを著しく低減することができ、送信動作時のRF送信信号の信号損失を低減することが可能となる。また、略5ボルトの高レベルの昇圧出力電圧によって、共通の入出力端子I/O(301)の電圧も、略4ボルトの高レベルとなる。他のスイッチ303、304、305、304´、305´のFETQtx2、Qrx1、Qrx2、Qrx3、Qrx4のゲートは、略ゼロボルトの低電圧とされている。これらのFETQtx2、Qrx1、Qrx2、Qrx3、Qrx4のゲート・ソース間容量は極めて小さな値となり、アンテナスイッチMMIC(300)の高調波歪を著しく低減することが可能となる。
第2送信スイッチ303の第2DCブースト回路DC_BC2は第2RF電力増幅器HPA2から送信端子Tx2(307)に供給される高レベルの第2RF送信信号に応答して、第2送信制御端子311に供給される略3ボルトDC制御電圧を昇圧する。昇圧により第2DCブースト回路DC_BC2から生成された略5ボルトの高レベルの昇圧出力電圧が、第2送信スイッチ303のFETQtx2のゲートに供給される。
その結果、第2送信スイッチ303のFETQtx2のオン抵抗Ronを著しく低減することができ、送信動作時のRF送信信号の信号損失を低減することが可能となる。また、略5ボルトの高レベルの昇圧出力電圧によって、共通の入出力端子I/O(301)の電圧も、略4ボルトの高レベルとなる。他のスイッチ302、304、305、304´、305´のFETQtx1、Qrx1、Qrx2、Qrx3、Qrx4のゲートは、略ゼロボルトの低電圧とされている。これらのFETQtx1、Qrx1、Qrx2、Qrx3、Qrx4のゲート・ソース間容量は極めて小さな値となり、アンテナスイッチMMIC(300)の高調波歪を著しく低減することが可能となる。
以上本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づいて具体的に説明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは言うまでもない。
例えば、第1、第2RF電力増幅器HPA1、HPA2の初段増幅器10a、20a、次段増幅器11a、21a、最終段増幅器12a、22aを構成するパワートランジスタはLD構造のシリコンパワーMOSFETに限定されるものではない。このパワートランジスタを、GaAsやInP等の化合物半導体のMESFETやHEMTのNチャンネルの電界効果トランジスタに置換することもでき、さらにはGaAs、InGaAsやシリコン・ゲルマニュームを用いたNPN型HBT(ヘテロバイポーラトランジスタ)に置換することもできる。
また、出力整合回路12c、22cのマイクロ波伝送線TRL1、TRL2、TRL3、容量C1、C2、C3、インダクタL1、L2、L3等は、RFモジュール内のディスクリート素子に限定されるものではない。これらの部品は、GaAs半導体基板、ガラス絶縁基板、低温焼成セラミック絶縁基板、エポキシ絶縁基板等の上に集積化されることができる。すなわち、容量やインダクタを絶縁基板等の上に集積化した集積受動デバイス(Integrated Passive Device)を、利用することができる。
また、図24のアンテナスイッチMMIC(300)の高周波スイッチで、FETQtx1、Qtx2、Qrx1、Qrx2、Qrx3、Qrx4を、HEMTトランジスタからNチャンネルのデプレッション型の絶縁ゲートMOSトランジスタに置換することができる。尚、この時には、共通の入出力端子I/Oには、略4ボルトのバイアス電圧を供給する。携帯電話のシステムが略3ボルトの単一電源電圧を使用している場合には、3ボルトの単一電源電圧を略4ボルトのバイアス電圧に昇圧するチャージポンプ回路等の昇圧回路が図24のアンテナスイッチMMIC(300)の内部に含まれている。
更に、図20や図22のRFモジュール100において、第1方向性結合器23と第2方向性結合器13とをそれぞれマイクロカップラーに置換することができる。マイクロカップラーとは、主線路と副線路との間に容量素子が接続されたものである。マイクロカップラーでは、容量素子を介しての主線路と副線路との間の容量結合が通常の電磁気結合に付加されるので、主線路と副線路の配線距離を通常の1/4波長(λ/4)よりも短くすることが可能となる。その結果、第1方向性結合器23と第2方向性結合器13とをマイクロカップラーとすることにより、図20や図22のRFモジュール100を小型化することができる。
本発明の一実施の形態による電子装置および高周波モジュールは、特に、携帯電話機等に用いられるマルチバンド対応の高周波電力増幅モジュールに適用して有益な技術であり、これに限らず、例えば各種共振器や、又はそれを含む無線通信機器などを含めて様々な機器に対して広く適用可能である。
本発明の実施の形態1による高周波モジュールにおいて、その構成の一例を示すブロック図である。 本発明の実施の形態1による共振回路において、その構成例を示すものであり、(a)は斜視図、(b)は(a)の各層を示す平面図である。 本発明の実施の形態1の共振回路を説明するものであり、(a)は図2の簡易的な等価回路図、(b)はその比較例となる一般的なスパイラルインダクタの簡易的な等価回路図である。 図2の主要部を透過的に見た場合の構成例を示す斜視図である。 本発明の実施の形態2による共振回路において、その構成例を示すものであり、(a)は斜視図、(b)は(a)の各層を示す平面図である。 図5の並列共振回路の簡易的な等価回路図である。 本発明の実施の形態2の共振回路を説明するものであり、図7(a)は、図5の主要部を透過的に見た場合の構成例を示す斜視図であり、図7(b)は、その比較例となる構成を示す斜視図である。 本発明の実施の形態3による高周波モジュールにおいて、その構成例を示す回路図である。 本発明の前提として検討した高周波モジュールにおいて、そのパワーアンプ回路周りの構成例を示す回路図である。 本発明の実施の形態4による高周波モジュールにおいて、そのパワーアンプ回路周りの構成例を示す回路図である。 本発明の実施の形態4による高周波モジュールにおいて、そのパワーアンプ回路周りの配線基板の構成例を示すものであり、(a)は比較対象として図9の構成に対応するレイアウト図、(b)は図10の構成に対応するレイアウト図である。 本発明の実施の形態4による高周波モジュールにおいて、図10の構成に対応する配線基板の構成例を示すものであり、(a)は配線基板全体を透過的に見た場合の斜視図、(b)はそのパワーアンプ回路周りを拡大した斜視図、(c)は(b)から第1配線層を省略した斜視図である。 図9の構成(比較例)と図10の構成でリターンゲイン値を評価した結果であり、(a)は図9の構成の結果を示すグラフ、(b)は図10の構成の結果を示すグラフである。 図9の構成(比較例)と図10の構成で電流密度の解析を行った結果である。 図9の構成(比較例)と図10の構成で電流密度の解析を行った結果である。 図9の構成(比較例)と図10の構成で電流密度の解析を行った結果である。 図10の構成例の好適な適用例について説明するための概略図であり、(a)、(b)はそれぞれ異なる構成例を示すものである。 本発明に先立った開発の期間中に本発明者等によって検討されたRFモジュールの回路構成を示す図である。 本発明の実施の形態5によるRFモジュールの回路構成を示す図である。 本発明の実施の形態6によるRFモジュールの回路構成を示す図である。 図20のRFモジュールのチップの周辺の配線の様子を示す図である。 本発明の実施の形態7による具体的なRFモジュールの回路構成を示す図である。 図22に示したRFモジュールと高周波アナログ信号処理半導体集積回路とベースバンド信号処理LSIとを搭載した携帯電話の構成を示すブロック図である。 図22に示したRFモジュールのアンテナスイッチを構成するアンテナスイッチマイクロウェーブモノリシック半導体集積回路を示す回路図である。
符号の説明
RF_MDL 高周波モジュール
PA_CP 半導体チップ
PA パワーアンプ回路
CTL 制御回路
MN 出力整合回路
CPL カプラ回路
LPF ロウパスフィルタ回路
P0 アンテナ端子
P1〜P4 端子
ANT_SW アンテナスイッチ回路
RX_FIL 受信フィルタ回路
ANT_FIL アンテナフィルタ回路
ESD_FIL ESDフィルタ回路
Pin 外部入力端子
RX 外部出力端子
CS1 外部制御入力端子
ANT 外部アンテナ端子
LY 配線層
MS 配線パターン
Nin 信号入力ノード
Nout 信号出力ノード
LC 並列共振回路
L インダクタ
C コンデンサ
VH ビアホール導体
DET 検出回路
LN 伝送線路
TV サーマルビア
BC バイアス回路
AA 占有領域
HPA RF電力増幅器
10a 初段増幅器
10b 初段バイアス回路
10c 第1段間整合回路
11a 次段増幅器
11b 次段バイアス回路
11c 次段間整合回路
12a 最終段増幅器
12b 最終段バイアス回路
12c 出力整合回路
13 方向性結合器
14 高調波除去フィルタ
15 アンテナスイッチ
16 アンテナ
17 利得制御ユニット
HPA1 第1RF電力増幅器
22c 第1出力整合回路
23 第1方向性結合器
24 第1高調波除去フィルタ
27 第1利得制御ユニット
HPA2 第2RF電力増幅器
12c 第2出力整合回路
13 第2方向性結合器
14 第2高調波除去フィルタ
17 第2利得制御ユニット
100 RFモジュール
IC_Chip チップ
Sd1 第1辺
Sd2 第2辺
Sd3 第3辺
Sd4 第4辺
300 アンテナスイッチMMIC

Claims (35)

  1. 第1配線層と、前記第1配線層の下層に配置された第2配線層と、前記第2配線層の下層に配置された第3配線層とを含んだ複数配線層基板に形成され、
    前記第1配線層が一定幅以上の線幅の略ループ状の線路を含むように形成され、信号を入力もしくは出力される第1ノードを一端に有する第1配線パターンと、
    前記第2配線層が前記一定幅以上の線幅の略ループ状の線路を含むように形成され、信号を出力もしくは入力される第2ノードを一端に有する第2配線パターンと、
    前記第3配線層が前記一定幅より狭い線幅の略ループ状の線路を含むように形成された、もしくは前記第3配線層とさらに下層の配線層に渡って前記一定幅より狭い線幅の複数の略ループ状の線路を含むように形成された第3配線パターンと、
    前記第1配線パターンの他端と前記第3配線パターンの一端とを電気的に接続する第1ビアホール導体と、
    前記第2配線パターンの他端と前記第3配線パターンの他端とを電気的に接続する第2ビアホール導体とを備え、
    前記第1配線パターン、前記第2配線パターン、および前記第3配線パターンは、互いに重なるように形成され、前記第1配線パターンと前記第2配線パターンとの重なり面積が、前記第2配線パターンと前記第3配線パターンとの重なり面積より大きいことを特徴とする電子装置。
  2. 請求項1記載の電子装置において、
    前記第1配線パターンの前記一端、前記第2配線パターンの前記一端および前記第3配線パターンの前記他端は、それぞれ配線パターンの外周部に設けられ、
    前記第1配線パターンの前記他端、および前記第3配線パターンの前記一端は、それぞれ配線パターンのループ内部に設けられたことを特徴とする電子装置。
  3. 請求項1記載の電子装置において、
    前記複数配線層基板は、前記第3配線パターン下に下層配線層、もしくは前記第1配線層上に上層配線層を有し、
    前記下層配線層もしくは前記上層配線層が接地電位に接続される接地電極となっていることを特徴とする電子装置。
  4. 請求項1記載の電子装置において、
    前記複数配線層基板は、更に、前記第3配線層の下層に配置された第4配線層を含み、
    前記第3配線パターンは、前記第3配線層で形成された略ループ状の第1線路と前記第4配線層で形成された略ループ状の第2線路を含み、
    前記第1線路の一端は、前記第3配線パターンの一端であり、
    前記第2線路の他端は、前記第3配線パターンの他端であり、
    前記第1線路の他端は、第3ビアホール導体によって前記第2線路の一端と電気的に接続されることを特徴とする電子装置。
  5. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の電子装置において、
    前記電子装置は、共振回路を構成し、
    前記第1配線パターンと前記第2配線パターンとで構成される容量素子を含み、
    前記第3配線パターンで構成されるインダクタを含む電子装置。
  6. 第1配線層と、前記第1配線層の下層に配置された第2配線層と、前記第2配線層の下層に配置された第3配線層とを含んだ複数配線層基板に形成され、
    前記第1配線層が一定幅以上の線幅の略ループ状の線路を含むように形成され、信号を入力もしくは出力される第1ノードを一端に有する第1配線パターンと、
    前記第2配線層が前記一定幅以上の線幅の略ループ状の線路を含むように形成され、信号を出力もしくは入力される第2ノードを一端に有する第2配線パターンと、
    前記第3配線層が前記一定幅より狭い線幅の略ループ状の線路を含むように形成された、もしくは前記第3配線層とさらに下層の配線層に渡って前記一定幅より狭い線幅の複数の略ループ状の線路を含むように形成された第3配線パターンと、
    前記第1配線パターンの他端と前記第3配線パターンの一端とを電気的に接続する第1ビアホール導体と、
    前記第2配線パターンの他端と前記第3配線パターンの他端とを電気的に接続する第2ビアホール導体とを備え、
    前記第1配線パターン、前記第2配線パターン、および前記第3配線パターンは、互いに重なるように形成され、前記第1配線パターンと前記第2配線パターンとの重なり面積が、前記第2配線パターンと前記第3配線パターンとの重なり面積より大きい電子装置と、
    入力された信号を増幅して出力する電力増幅回路を含み、前記複数配線層基板上に実装された第1半導体チップと、
    前記電力増幅回路の出力を受けるアンテナスイッチ回路を含み、前記複数配線層基板上に実装され、前記電子装置の前記第1ノードもしくは前記第2ノードのいずれか一方と接続された第2半導体チップとを備えるRFモジュール。
  7. 第1配線層と、前記第1配線層の下層に配置された第2配線層と、前記第2配線層の下層に配置された第3配線層と、前記第3配線層の下層に配置された第4配線層とを含んだ複数配線層基板に形成され、
    前記第1配線層が略ループ状の線路を含むように形成され、信号を入力もしくは出力される第1ノードを一端に有する第1配線パターンと、
    前記第2配線層が略ループ状の線路を含むように形成され、信号を入力もしくは出力される第2ノードを一端に有する第2配線パターンと、
    前記第3配線層が板状に形成された第3配線パターンと、
    前記第4配線層が板状に形成された第4配線パターンとを備え、
    前記第1配線パターンの他端と前記第2配線パターンの他端とは、第1ビアホール導体を介して電気的に接続され、
    前記第3配線パターンと前記第4配線パターンは、互いに対向するように配置され、
    前記第3配線パターンと前記第4配線パターンの一方のパターンは、第2ビアホール導体を介して前記第1ノードに電気的に接続され、
    前記第3配線パターンと前記第4配線パターンの他方のパターンは、第3ビアホール導体を介して前記第2ノードに電気的に接続され、
    前記第1配線パターン、前記第2配線パターン、前記第3配線パターン、および前記第4配線パターンは、互いに重なるように形成され、前記第3配線パターンと前記第4配線パターンとの重なり面積が、前記第2配線パターンと前記第3配線パターンとの重なり面積より大きいことを特徴とする電子装置。
  8. 請求項7記載の電子装置において、
    前記第3配線パターンおよび前記第4配線パターンは、前記第1配線パターンもしくは前記第2配線パターンの外周より内側に配置されていることを特徴とする電子装置。
  9. 請求項7記載の電子装置において、
    前記複数配線層基板は、前記第4配線層下に第5配線層、もしくは第1配線層上に第6配線層を有し、
    前記第5配線層もしくは前記第6配線層が接地電位に接続される接地電極となっていることを特徴とする電子装置。
  10. 請求項7記載の電子装置において、
    前記第3配線パターンは、前記第2ビアホール導体を介して前記第1ノードに電気的に接続され、
    前記第4配線パターンは、前記第3ビアホール導体を介して前記第2ノードに電気的に接続されることを特徴とする電子装置。
  11. 請求項10記載の電子装置において、
    前記第1配線パターンの前記一端および前記他端と、前記第2配線パターンの前記一端および前記他端と、前記第1ビアホール導体と、前記第3ビアホール導体とが、前記第3配線パターンの外周より外側に設けられたことを特徴とする電子装置。
  12. 請求項7〜11のいずれか1項に記載の電子装置において、
    前記電子装置は、共振回路を構成し、
    前記第1配線パターンと前記第2配線パターンで構成されるインダクタを含み、
    前記第3配線パターンと前記第4配線パターンとで構成される容量素子を含む電子装置。
  13. 第1配線層と、前記第1配線層の下層に配置された第2配線層と、前記第2配線層の下層に配置された第3配線層と、前記第3配線層の下層に配置された第4配線層とを含んだ複数配線層基板に形成され、
    前記第1配線層が略ループ状の線路を含むように形成され、信号を入力もしくは出力される第1ノードを一端に有する第1配線パターンと、
    前記第2配線層が略ループ状の線路を含むように形成され、信号を入力もしくは出力される第2ノードを一端に有する第2配線パターンと、
    前記第3配線層が板状に形成された第3配線パターンと、
    前記第4配線層が板状に形成された第4配線パターンとを備え、
    前記第1配線パターンの他端と前記第2配線パターンの他端とは、第1ビアホール導体を介して電気的に接続され、
    前記第3配線パターンと前記第4配線パターンは、互いに対向するように配置され、
    前記第3配線パターンと前記第4配線パターンの一方のパターンは、第2ビアホール導体を介して前記第1ノードに電気的に接続され、
    前記第3配線パターンと前記第4配線パターンの他方のパターンは、第3ビアホール導体を介して前記第2ノードに電気的に接続され、
    前記第1配線パターン、前記第2配線パターン、前記第3配線パターン、および前記第4配線パターンは、互いに重なるように形成され、前記第3配線パターンと前記第4配線パターンとの重なり面積が、前記第2配線パターンと前記第3配線パターンとの重なり面積より大きい電子装置と、
    入力された信号を増幅して出力する電力増幅回路を含み、前記複数配線層基板上に実装された第1半導体チップと、
    前記電力増幅回路の出力を受けるアンテナスイッチ回路を含み、前記複数配線層基板上に実装され、前記電子装置の前記第1ノードもしくは前記第2ノードのいずれか一方と接続された第2半導体チップとを備えるRFモジュール。
  14. 第1配線層と、前記第1配線層の下層に配置された第2配線層と、前記第2配線層の下層に配置された第3配線層と、前記第3配線層の下層に配置された第4配線層とを含んだ複数配線層基板に形成され、
    前記第1配線層に形成され、信号を入力もしくは出力される第1ノードを一端に有する配線パターン1と、前記第2配線層に形成され、信号を出力もしくは入力される第2ノードを一端に有する配線パターン2と、前記第3配線層、もしくは前記第3配線層とさらに下層の配線層に渡って形成される配線パターン3とを備える第1共振回路と、
    前記第1配線層に形成され、信号を入力もしくは出力される第3ノードを一端に有する配線パターン4と、前記第2配線層に形成され、信号を出力もしくは入力される第4ノードを一端に有する配線パターン5と、前記第3配線層に形成される配線パターン6と、前記第4配線層に形成される配線パターン7とを備える第2共振回路と、
    入力された信号を増幅して出力する電力増幅回路を含み、前記複数配線層基板上に実装された第1半導体チップと、
    前記電力増幅回路の出力を受けるアンテナスイッチ回路を含み、前記複数配線層基板上に実装され、前記第1共振回路の前記第1ノードもしくは前記第2ノードのいずれか一方、および前記第2共振回路の前記第3ノードもしくは前記第4ノードのいずれか一方と接続された第2半導体チップとを備え、
    前記第1共振回路の前記配線パターン1と前記配線パターン2で形成される容量の容量値が、前記第2共振回路の前記配線パターン6と前記配線パターン7で形成される容量の容量値より大きく、
    前記第1共振回路には、第1周波数の信号が入力され、前記第2共振回路には、前記第1周波数よりも高い周波数の第2周波数の信号が入力されることを特徴とするRFモジュール。
  15. 請求項14記載のRFモジュールにおいて、
    前記配線パターン1および前記配線パターン2と、前記配線パターン6および前記配線パターン7は、互いに重なるように形成され、
    前記第1共振回路の前記配線パターン1と前記配線パターン2との重なり面積が、前記第2共振回路の前記配線パターン6と前記配線パターン7との重なり面積より大きいことを特徴とするRFモジュール。
  16. 第1配線層と、前記第1配線層の下層に配置された第2配線層と、前記第2配線層の下層に配置された第3配線層と、前記第3配線層の下層に配置された第4配線層とを含んだ複数配線層基板に形成され、
    前記第1配線層に形成され、信号を入力もしくは出力される第1ノードを一端に有する配線パターン1と、前記第2配線層に形成され、信号を出力もしくは入力される第2ノードを一端に有する配線パターン2と、前記第3配線層、もしくは前記第3配線層とさらに下層の配線層に渡って形成される配線パターン3とを備え、
    前記配線パターン1の他端は、前記配線パターン3の一端と電気的に接続され、
    前記配線パターン3の他端は、前記配線パターン2の他端と電気的に接続される第1共振回路と、
    前記第1配線層に形成され、信号を入力もしくは出力される第3ノードを一端に有する配線パターン4と、前記第2配線層に形成され、信号を出力もしくは入力される第4ノードを一端に有する配線パターン5と、前記第3配線層に板状に形成される配線パターン6と、前記第4配線層に板状に形成される配線パターン7とを備え、
    前記配線パターン4の他端は、前記配線パターン5の他端と電気的に接続され、
    前記配線パターン6は、前記配線パターン4の一端の前記第3ノードと電気的に接続され、
    前記配線パターン7は、前記配線パターン5の一端の前記第4ノードと電気的に接続される第2共振回路と、
    入力された信号を増幅して出力する電力増幅回路を含み、前記複数配線層基板上に実装された第1半導体チップと、
    前記電力増幅回路の出力を受けるアンテナスイッチ回路を含み、前記複数配線層基板上に実装され、前記第1共振回路の前記第1ノードもしくは前記第2ノードのいずれか一方、および前記第2共振回路の前記第3ノードもしくは前記第4ノードのいずれか一方と接続された第2半導体チップとを備え、
    前記第1共振回路の前記配線パターン1と前記配線パターン2で形成される容量の容量値が、前記第2共振回路の前記配線パターン6と前記配線パターン7で形成される容量の容量値よりも大きく、
    前記第1共振回路には、第1周波数の信号が入力され、前記第2共振回路には、前記第1周波数よりも高い周波数の第2周波数の信号が入力されることを特徴とするRFモジュール。
  17. 請求項16記載のRFモジュールにおいて、
    前記配線パターン1および前記配線パターン2と、前記配線パターン6および前記配線パターン7は、互いに重なるように形成され、
    前記第1共振回路の前記配線パターン1と前記配線パターン2との重なり面積が、前記第2共振回路の前記配線パターン6と前記配線パターン7との重なり面積より大きいことを特徴とするRFモジュール。
  18. 第1配線層を含んだ複数配線層基板に形成される共振回路において、
    配線層が略ループ状の線路を含むように形成された配線パターンを含み、
    前記配線パターンは、蛇行するように形成されていることを特徴とする電子装置。
  19. RF電力増幅器と、出力整合回路と、方向性結合器と、高調波除去フィルタとを含み、
    前記RF電力増幅器の出力増幅信号は、前記出力整合回路の入力端子に供給され、
    前記出力整合回路の出力端子のRF信号は、前記方向性結合器の主線路を介して前記高調波除去フィルタの入力端子に供給され、
    前記方向性結合器の副線路からの検出信号は、前記RF電力増幅器の利得制御ユニットの信号入力端子に供給され、
    前記高調波除去フィルタの出力端子のRF信号は、アンテナに伝達可能とされているRFモジュール。
  20. 請求項19記載のRFモジュールにおいて、
    前記高調波除去フィルタの前記出力端子の前記RF信号が一方の端子に供給され、他方の端子のRF信号が前記アンテナに伝達可能なアンテナスイッチを更に含むことを特徴とするRFモジュール。
  21. 請求項20記載のRFモジュールにおいて、
    前記高調波除去フィルタの前記出力端子の前記RF信号は、DCカットコンデンサを介して前記アンテナスイッチの前記一方の端子に供給されることを特徴とするRFモジュール。
  22. 請求項19記載のRFモジュールにおいて、
    前記RF電力増幅器は、多段増幅器と、前記利得制御ユニットにより制御され前記多段増幅器の利得を制御するバイアス回路とを含むことを特徴とするRFモジュール。
  23. 請求項19記載のRFモジュールにおいて、
    前記出力整合回路は、前記RF電力増幅器の前記出力増幅信号を生成する出力インピーダンスと前記アンテナのインピーダンスとの差による信号反射を低減するものであることを特徴とするRFモジュール。
  24. 請求項22記載のRFモジュールにおいて、
    前記多段増幅器と前記バイアス回路と前記利得制御ユニットとは半導体集積回路チップに形成されていることを特徴とするRFモジュール。
  25. 請求項19記載のRFモジュールにおいて、
    前記方向性結合器は、主線路と副線路との間に容量素子が接続されたマイクロカップラーであることを特徴とするRFモジュール。
  26. 第1RF電力増幅器と、第1出力整合回路と、第1方向性結合器と、第1高調波除去フィルタと、第2RF電力増幅器と、第2出力整合回路と、第2方向性結合器と、第2高調波除去フィルタとを含み、
    前記第1RF電力増幅器は、第1周波数帯域RF信号を増幅するように構成され、前記第2RF電力増幅器は、前記第1周波数帯域RF信号よりも高い周波数の第2周波数帯域RF信号を増幅するように構成され、
    前記第1RF電力増幅器の第1出力増幅信号は、前記第1出力整合回路の入力端子に供給され、前記第1出力整合回路の出力端子の第1RF信号は、前記第1方向性結合器の主線路を介して前記第1高調波除去フィルタの入力端子に供給され、前記第1方向性結合器の副線路からの第1検出信号は、前記第1RF電力増幅器のための第1利得制御ユニットの第1信号入力端子に供給され、前記第1高調波除去フィルタの出力端子の第1RF信号は、アンテナに伝達可能とされ、
    前記第2RF電力増幅器の第2出力増幅信号は、前記第2出力整合回路の入力端子に供給され、前記第2出力整合回路の出力端子の第2RF信号は、前記第2方向性結合器の主線路を介して前記第2高調波除去フィルタの入力端子に供給され、前記第2方向性結合器の副線路からの第2検出信号は、前記第2RF電力増幅器のための第2利得制御ユニットの第2信号入力端子に供給され、前記第2高調波除去フィルタの出力端子の第2RF信号は、前記アンテナに伝達可能とされているRFモジュール。
  27. 請求項26記載のRFモジュールにおいて、
    前記第1高調波除去フィルタの前記出力端子の前記第1RF信号がアンテナスイッチの第1入力端子に供給され、前記第2高調波除去フィルタの前記出力端子の前記第2RF信号が前記アンテナスイッチの第2入力端子に供給され、前記アンテナスイッチの出力端子のRF信号は、前記アンテナに伝達可能であることを特徴とするRFモジュール。
  28. 請求項27記載のRFモジュールにおいて、
    前記第1高調波除去フィルタの前記出力端子の前記第1RF信号は、第1DCカットコンデンサを介して前記アンテナスイッチの前記第1入力端子に供給され、前記第2高調波除去フィルタの前記出力端子の前記第2RF信号は、第2DCカットコンデンサを介して前記アンテナスイッチの前記第2入力端子に供給されることを特徴とするRFモジュール。
  29. 請求項26記載のRFモジュールにおいて、
    前記第1RF電力増幅器と、前記第2RF電力増幅器と、前記第1利得制御ユニットと、前記第2利得制御ユニットとは半導体集積回路チップに形成され、
    前記半導体集積回路チップは、実質的に4角形のチップの形状を有しており、
    前記チップは、互いに対向して略平行な第1辺と第2辺と、前記第1辺と前記第2辺とに接続され前記第1辺と前記第2辺と略直角に配置された第3辺と、前記第3辺に対向して前記第3辺と略平行な第4辺とを有するものであり、
    前記第1RF電力増幅器の前記第1出力増幅信号は、前記チップの前記第1辺から導出され、前記第2RF電力増幅器の前記第2出力増幅信号は、前記チップの前記第2辺から導出され、
    前記第1方向性結合器の前記副線路からの前記第1検出信号は、前記チップの前記第3辺から前記第1RF電力増幅器のための前記第1利得制御ユニットの前記第1信号入力端子に導入され、前記第2方向性結合器の前記副線路からの前記第2検出信号は、前記チップの前記第3辺から前記第2RF電力増幅器のための前記第2利得制御ユニットの前記第2信号入力端子に導入されることを特徴とするRFモジュール。
  30. 請求項29記載のRFモジュールにおいて、
    前記第1出力増幅信号の前記第1辺の導出点と前記第1検出信号の前記第3辺の導入点との間に前記第2検出信号の前記第3辺の導入点が配置され、前記第2出力増幅信号の前記第2辺の導出点と前記第2検出信号の前記第3辺の導入点との間に前記第1検出信号の前記第3辺の導入点が配置されていることを特徴とするRFモジュール。
  31. 請求項29記載のRFモジュールにおいて、
    前記第1出力増幅信号の前記第1辺の導出点と前記第1検出信号の前記第3辺の導入点との間に接地電圧に接続される第1接地配線が前記第3辺に接続され、前記第2出力増幅信号の前記第2辺の導出点と前記第2検出信号の前記第3辺の導入点との間に前記接地電圧に接続される第2接地配線が前記第3辺に接続されていることを特徴とするRFモジュール。
  32. 請求項30記載のRFモジュールにおいて、
    前記第1出力増幅信号の前記第1辺の導出点と前記第1検出信号の前記第3辺の導入点との間に接地電圧に接続される第1接地配線が前記第3辺に接続され、前記第2出力増幅信号の前記第2辺の導出点と前記第2検出信号の前記第3辺の導入点との間に前記接地電圧に接続される第2接地配線が前記第3辺に接続されていることを特徴とするRFモジュール
  33. 請求項32記載のRFモジュールにおいて、
    前記第1接地配線は前記第3辺の近傍で前記第2検出信号の前記導入点と前記第1検出信号の前記導入点との間に配置され、前記第2接地配線は前記第3辺の近傍で前記第1検出信号の前記導入点と前記第2検出信号の前記導入点との間に配置されていることを特徴とするRFモジュール
  34. 請求項28記載のRFモジュールにおいて、
    前記第1周波数帯域RF信号はGSM850とGSM900とのRF送信信号であり、前記第2周波数帯域RF信号はDCS1800とPCS1900とのRF送信信号であることを特徴とするRFモジュール。
  35. 請求項28記載のRFモジュールにおいて、
    前記第1方向性結合器と前記第2方向性結合器とは主線路と副線路との間に容量素子が接続されたマイクロカップラーによりそれぞれ構成されていることを特徴とするRFモジュール。
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011061355A (ja) * 2009-09-08 2011-03-24 Nec Corp 多帯域対応高周波電力モニタ回路
WO2014061448A1 (ja) * 2012-10-17 2014-04-24 株式会社村田製作所 高周波モジュール
JP2016042697A (ja) * 2014-08-13 2016-03-31 スカイワークス ソリューションズ, インコーポレイテッドSkyworks Solutions, Inc. フロントエンドモジュール、無線周波数装置、およびフロントエンドモジュールを作製するための方法
US20160149551A1 (en) * 2014-11-20 2016-05-26 Murata Manufacturing Co., Ltd. Electronic component
WO2018216447A1 (ja) * 2017-05-23 2018-11-29 京セラ株式会社 移動体、回路モジュール、無線通信モジュール、および不要輻射対策方法
JP2019186926A (ja) * 2018-04-13 2019-10-24 エヌエックスピー ユーエスエイ インコーポレイテッドNXP USA,Inc. 組み合わせローパス・ハイパス段間回路を備えたハイブリッド電力増幅器回路またはシステムおよびその動作方法
JPWO2021192125A1 (ja) * 2020-03-26 2021-09-30
WO2021215041A1 (ja) * 2020-04-24 2021-10-28 株式会社村田製作所 パワーアンプモジュール及び通信装置
WO2022118763A1 (ja) * 2020-12-02 2022-06-09 株式会社村田製作所 高周波モジュール及び通信装置

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102217515B1 (ko) * 2019-05-20 2021-02-19 한화시스템 주식회사 고출력 전력 증폭기 및 그 제어 방법
KR102300989B1 (ko) * 2019-05-20 2021-09-10 한화시스템 주식회사 고출력 전력 증폭 모듈의 출력 전력 측정 방법

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011061355A (ja) * 2009-09-08 2011-03-24 Nec Corp 多帯域対応高周波電力モニタ回路
WO2014061448A1 (ja) * 2012-10-17 2014-04-24 株式会社村田製作所 高周波モジュール
US9337797B2 (en) 2012-10-17 2016-05-10 Murata Manufacturing Co., Ltd. High frequency module
JP2016042697A (ja) * 2014-08-13 2016-03-31 スカイワークス ソリューションズ, インコーポレイテッドSkyworks Solutions, Inc. フロントエンドモジュール、無線周波数装置、およびフロントエンドモジュールを作製するための方法
US9948264B2 (en) * 2014-11-20 2018-04-17 Murata Manufacturing Co., Ltd. Electronic component
JP2016100719A (ja) * 2014-11-20 2016-05-30 株式会社村田製作所 電子部品
US20160149551A1 (en) * 2014-11-20 2016-05-26 Murata Manufacturing Co., Ltd. Electronic component
WO2018216447A1 (ja) * 2017-05-23 2018-11-29 京セラ株式会社 移動体、回路モジュール、無線通信モジュール、および不要輻射対策方法
JP2019186926A (ja) * 2018-04-13 2019-10-24 エヌエックスピー ユーエスエイ インコーポレイテッドNXP USA,Inc. 組み合わせローパス・ハイパス段間回路を備えたハイブリッド電力増幅器回路またはシステムおよびその動作方法
JPWO2021192125A1 (ja) * 2020-03-26 2021-09-30
JP7214039B2 (ja) 2020-03-26 2023-01-27 三菱電機株式会社 高周波フィルタ
WO2021215041A1 (ja) * 2020-04-24 2021-10-28 株式会社村田製作所 パワーアンプモジュール及び通信装置
WO2022118763A1 (ja) * 2020-12-02 2022-06-09 株式会社村田製作所 高周波モジュール及び通信装置

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