JP2008211145A - フォトマスク洗浄方法及びフォトマスク洗浄装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】洗浄液を用いてフォトマスクを洗浄するフォトマスクの洗浄方法であって、純水中にオゾンガスからなるナノバブルが生成された洗浄液を作製する工程と、前記洗浄液にフォトマスクを浸漬しフォトマスクを洗浄する工程と、を具備することを特徴とするフォトマスクの洗浄方法である。さらに洗浄装置100は、少なくともオゾンガスボンベ10と、純水中にナノバブルを生成させる洗浄液作成槽20と、純水にナノバブルが生成された洗浄液が満たされた洗浄槽30とで構成されている。
【選択図】図1
Description
また、EUV光は窒素や水分によっても吸収されてしまい、従来の透過タイプのフォトマスクは使用できないため、反射タイプのフォトマスクが用いられる。以上のようにEUVリソグラフィーでは、今までのリソグラフィーとは顕著に異なるため、洗浄など周辺技術の早急な対応が求められている。
各洗浄工程後には、超純水によるリンスを行い、最後にIPA蒸気乾燥を行って全洗浄工程が終了する。
また、アンモニア過水にによる洗浄は、硫酸過水と同様に硫酸アンモニウムの原因となることが懸念され、さらに金属酸化膜等をエッチングする性質を持っているため、光学特性の低下やマスク表面の粗さを増大に繋がる。
しかし、この方法ではマスク表面に付着している有機物は取り除くことはできない。有機物系の汚れを除去するためには硫酸過水等の薬液を用いた洗浄工程が必要となり、欠陥の原因となるような成分がマスク表面に残留する可能性がある。よって、有機物およびパーティクルどちらについても薬液を使用しないで洗浄できる技術が求められている。
純水中にオゾンガスからなるナノバブルが生成された洗浄液を作製する工程と、
前記洗浄液にフォトマスクを浸漬しフォトマスクを洗浄する工程と、を具備することを特徴とするフォトマスク洗浄方法としたものである。
さらに、リンス工程が不要になり、洗浄工程に費やす時間を短縮でき、フォトマスクの洗浄効率及び洗浄歩留まりを向上させることができる。
図1は、本発明のフォトマスク洗浄装置の一実施例を示す概略構成図である。
フォトマスク洗浄装置100は、オゾンガスボンベ10と、純水中にオゾンガスからなるナノバブルを生成させる洗浄液作成槽20と、純水にナノバブルが生成された洗浄液が満たされた洗浄槽30とから構成されている。
洗浄液のオゾン濃度は高いほど有機物に対する洗浄効果が向上するが、通常は1ppm〜100ppmが好適である。
純水としては、超純水が望ましい。
また、ナノバブルは純水中において浮力をほとんど受けないため、液体中に滞在する時間が長く、また、液面ではじけて消滅するようなことがない。
さらに、泡の表面電荷により強い電場を形成しており、活性が高く、マスク表面に付着したパーティクルや有機物等の汚染成分に対して高い洗浄効果を有する。
気圧のジェットによる洗浄効果も期待できる。
洗浄槽30では、洗浄液中にフォトマスクを浸漬し、フォトマスクの洗浄を行う。この際、洗浄液供給用バルブ52と循環用バルブ53は開放し、洗浄槽30内に洗浄液が滞留しないように循環させる。
流量は洗浄槽30の大きさにもよるが、300mm×300mm×300mm程度の洗浄槽の場合は、1L/min〜30L/min範囲が好ましい。
洗浄時間はフォトマスクの汚染レベルにより変化するが、出荷前の最終洗浄に用いる場合は通常5分〜60分程度である。
また、洗浄で薬液を使用していないため、リンス工程が必要ない。洗浄終了後のフォトマスクは、濡れた状態で乾燥工程用装置へ導入され、IPAベーパー乾燥等を用いて乾燥する。
まず、オゾンガスボンベ10よりオゾンガス供給用バルブ51及び配管41を介して超純水中にオゾンガスを供給し、気液混合せん断方式を用いてナノバブルを発生させてオゾン濃度が80ppmの洗浄液を洗浄液作成槽20内に作製した。
ここで、洗浄槽30内のオゾンガスからなるナノバルブが生成された洗浄液の一部は、循環バルブ53、配管43及び配管44を介して10L/minの流量で循環した。
異物検査装置(M2350:レーザーテック社製)により測定を行った結果、90nm以上の異物はゼロであった。
範囲内にとどまった。
20……洗浄液作成槽
30……洗浄槽
41、42、43、44……配管
51……オゾンガス供給用バルブ
52……洗浄液供給用バルブ
53……洗浄液循環用バルブ
54……廃液用バルブ
100……洗浄装置
Claims (2)
- 洗浄液を用いてフォトマスクを洗浄するフォトマスクの洗浄方法であって、
純水中にオゾンガスからなるナノバブルが生成された洗浄液を作製する工程と、
前記洗浄液にフォトマスクを浸漬しフォトマスクを洗浄する工程と、を具備することを特徴とするフォトマスク洗浄方法。 - 少なくともオゾンガスボンベ(10)と、純水中にナノバブルを生成させる洗浄液作製槽(20)と、純水にナノバブルが生成された洗浄液が満たされた洗浄槽(30)とで構成されていることを特徴とするフォトマスク洗浄装置。
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