JP2008209376A - 処理槽ユニットおよびサンプル処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】サンプルが設置される処理槽22は、槽本体部24と、当該槽本体部24に対して開閉自在の蓋部26と、を備える。この蓋部26は、さらに、ノズル通過を許容するノズル用小孔38a,38bが形成された固定蓋30と、ノズル用小孔38a,38bに対応したシャッタ開口が形成されるとともに固定蓋30に対して移動可能なシャッタ体32と、を備える。このシャッタ体32の内部には、断熱材が充填されており、十分な断熱構成となっている。そのため、シャッタ体32を介しての処理槽内外での熱交換が防止され、処理槽内の温度変化、湿度変化を防止できる。
【選択図】図1
Description
まず、カセット48の構成について説明する。図3は、カセット48の斜視図、図4は他の方向からみたカセット48の斜視図である。また、図5は、図3におけるB−B断面図である。このカセット48は、サンプルを担持したプレート46(図3〜図5では図示せず)を収容するサンプル容器である。このカセット48は、カセット台50に対して着脱自在であり、1回の処理ごとに交換可能なディスポーザブルタイプのサンプル容器である。カセット48は、上面視略長方形の箱状、あるいは、船状であり、耐薬性や耐熱性に優れた樹脂などからなる。このカセット48は、図3等から明らかなとおり、大きな凹部が形成されており、この凹部内がサンプルを収容する収容空間72となる。この収容空間72の長手方向の一端には、上側に向かって傾斜したテーパ74が形成されている。このテーパ74は、プレート46の出し入れを容易にするとともに、後述する進退バー54が当接した際に、当該進退バー54を上方に案内する役割も果たす。
次に、流動制御機構52の構成について説明する。図6(a)は流動制御機構52の側面図、図6(b)は流動制御機構52の正面図である。この流動制御機構52は、カセット48の長手方向に進退する進退バー54を備えており、当該進退バー54の進退によりカセット48に供給された液体を強制的に流動させる。進退バー54は、カセット48の短手方向(進退方向に直交する方向)に長尺な略丸棒である。この進退バー54は、本体部54aと、当該本体部54aの両側に位置して本体部54aより大径の大径部54bと、に大別される。この進退バー54をプレート46上に配した際には、大径部54bはプレート46上面に接触するが、大径部54bより小径の本体部54aとプレート46との間に僅かな間隙が形成される。この間隙は、後述するプローブ液を展開する際に当該プローブ液を保持する空間、液体保持空間となる。また、進退バー54の両端には、先端に近づくほど断面積が小さくなる略錘状の錘状部54cが形成されている。両端をかかる形状としているのは、この進退バー54を移動軸56にセットする際に、進退バー54の端部がカセット48の周縁に干渉しても、当該進退バー54をスムーズにカセット48内に落ち込ませるためである。また、この錘状部54cは、進退バー54による液体の保持性と、進退バー54からの液体の液離れ性という相反する二つの性能を向上させるためであるが、これについては後に詳説する。
次に、この流動制御機構52によるカセット48の内部における液体の流動制御の動作について説明する。図7は、進退バー54による流動制御の内容を示す図であり、カセット48周辺の横断面図である。また、図8は、進退バー54の動きを示す図であり、カセット周辺の縦断面図である。図7、図8では、支持段部82など、微小な部材の作用を明確にするために、各部の縮尺を実際とは代えて図示している。また、図8では、理解を容易にするために支持段部82の図示を省略している。
次に、カセット台50について説明する。図9は、カセット台50の上面図である。このカセット台50は、複数(本実施形態では10個)のカセット48が設置されるサンプルトレイであり、処理槽22に対して着脱自在となっている。具体的には、このカセット台50は、処理槽22の内部に立脚する載置柱92(図2参照)に載置されるが、必要に応じて、当該載置柱92から取り外すことができる。したがって、ユーザは、当該カセット台50へのカセット48の設置やカセット台50からのカセット48の取り外しなどといった複雑な作業は、処理槽22の外側の広い空間で行うことができ、ユーザの作業性を向上できる。
次に保湿機構について図1、図2を参照して説明する。保湿機構は、保湿液を貯留する保湿トレイ60を備えている。この保湿トレイ60は、伝熱性材料、例えば、アルミなどからなる深皿状部材で、処理槽22の底部に載置、換言すれば、カセット台50の下側に載置される。この保湿トレイ60は、伝熱性部材として機能する伝熱フレーム70を介してペルチェユニット64に接続されている。ペルチェユニット64は、温度調整手段を構成するユニットで、加熱および冷却が可能となっている。このペルチェユニット64で加熱が行われると、当該ペルチェユニット64で生じた熱が伝熱部材である伝熱フレーム70を通じて保湿トレイ60に伝達される。そして、この伝熱により、保湿トレイ60内の保湿液が加熱され蒸気が生じ、処理槽22の内部が加湿される仕組みとなっている。そして、この加湿により、サンプルの乾燥や変質が防止され、好適な状態でサンプル処理を行うことができる。
次に、温度調整機構について図1、図2を参照して説明する。温度調整機構は、処理槽22の蓋部26の内部に設けられた蓋側ヒータ62と、処理槽22の槽本体部24の底部に設けられたペルチェユニット64、および、ペルチェユニット64と処理槽22内部とを接続する伝熱部材と、で構成される。このうち、蓋側ヒータ62については、後述する[処理槽]において詳説するため、ここでの詳説は省略する。
最後に処理槽22について説明する。図1、図2に図示するとおり、処理槽22は、サンプルを保温状態で保持する槽であり、槽本体部24と蓋部26とに大別される。槽本体部24は、サンプルが配される保温空間28を形成する凹部を備えている。この槽本体部24の内側面は、伝熱材料例えばアルミなどからなり、ペルチェユニット64で生じた熱を保湿トレイ60や処理槽22の内部に伝達する伝熱フレーム70を構成する。この伝熱フレーム70は、既述したとおり、ペルチェユニット64に物理的に接続されている。また、槽本体部24の外側面と内側面との間には、断熱部材(図1、図2において砂目で図示)が充填されており、当該処理槽22の保温性を確保している。
以上の説明から明らかなとおり、本実施形態によれば、処理槽の蓋部にノズル通過用の小孔と当該小孔を開閉するシャッタ体とを設けるとともに、このシャッタ体を断熱構成としているため、処理槽内部の保温空間の温度変化、湿度変化を抑えることができ、理想的な環境下でサンプル処理ができる。その結果、より適切なサンプル処理が可能となる。
Claims (12)
- ノズルを介しての試薬供給を含む所定の処理が施されるサンプルを保温状態で保持する処理槽ユニットであって、
サンプルが配される保温空間を形成する凹部を備え、断熱構成の本体部と、
本体部に対して開閉自在であって、開放時にはサンプルの取り出しが可能であり、閉鎖時には前記保温空間を密閉状態に保つ蓋部と、
前記保温空間内の温度を調整する温度調整手段と、
を備え、
前記蓋部は、
前記ノズルの通過を許容する1以上のノズル用小孔が形成された固定蓋と、
前記1以上のノズル用小孔それぞれに対応して1以上の開口が形成され、前記固定蓋に対して移動することで前記ノズル用小孔を開閉するシャッタ体であって、断熱構成のシャッタ体と、
を備えることを特徴とする処理槽ユニット。 - 請求項1に記載の処理槽ユニットであって、
前記固定蓋は、
前記シャッタ体より外側に配されて外部に露出する外ケースと、
伝熱材料からなり、前記シャッタ体より内側に配されて前記保温空間内に露出する内ケースと、
を備えることを特徴とする処理槽ユニット。 - 請求項1または2に記載の処理槽ユニットであって、
前記シャッタ体は、断熱材からなる断熱層と、前記断熱層より内側に配された伝熱材料からなる伝熱層と、を備えることを特徴とする処理槽ユニット。 - 請求項1から3のいずれか1項に記載の処理槽ユニットであって、
前記シャッタ体は、前記1以上の開口それぞれの近傍に形成され、結露により付着した液体を貯留する結露用凹部を備えることを特徴とする処理槽ユニット。 - 請求項1から4のいずれか1項に記載の処理槽ユニットであって、
前記蓋体は、温度調整手段を構成し、保温空間内を加熱する加熱手段を備えることを特徴とする処理槽ユニット。 - 請求項5に記載の処理槽ユニットであって、
前記固定蓋が、伝熱材料からなるとともに前記シャッタ体より内側に配されて前記保温空間内に露出する内ケースを有する場合、
前記加熱手段は、前記内ケースに設置されることを特徴とする処理槽ユニット。 - 請求項5または6に記載の処理槽ユニットであって、
前記加熱手段は、前記1以上のノズル用小孔の全てを囲むべく配置されることを特徴とする処理槽ユニット。 - 請求項1から7のいずれか1項に記載の処理槽ユニットであって、さらに、
前記保温空間を保湿する保湿手段を備え、
前記保湿手段は、
前記サンプルの下側に配され、前記温度調整手段での加熱により蒸気を発生する保湿液を貯留する保湿トレイと、
前記温度調整手段で発生した熱を前記保湿トレイに伝達する伝熱部材と、
を備えることを特徴とする処理槽ユニット。 - 請求項8に記載の処理槽ユニットであって、さらに、
サンプルが収容された複数のサンプル容器が設置されるカセット台を備え、
前記カセット台は、前記蒸気の通過を許容する複数の蒸気孔を備えることを特徴とする処理槽ユニット。 - 請求項9に記載の処理槽ユニットであって、
前記蒸気孔は、互いに隣接するサンプル容器の間に位置するべく、各サンプル容器の配置ピッチと等ピッチで形成されることを特徴とする処理槽ユニット。 - 請求項1から10のいずれか1項に記載の処理槽ユニットであって、
前記温度調整手段は、
熱源および冷却源の少なくとも一方として機能する温度調整源と、
伝熱材料からなり、前記保温空間内に配されたサンプルの周囲を囲むべく配された伝熱フレームであって、前記温度調整源に物理的に接続された伝熱フレームと、
を備えることを特徴とする処理槽ユニット。 - サンプルを保温状態で保持する処理槽ユニットと、前記処理槽ユニットで保持されたサンプルに少なくとも液体の供給を行うノズル装置と、を備えたサンプル処理装置であって、
前記処理槽ユニットは、
サンプルが配される保温空間を形成する凹部を備え、断熱構成の本体部と、
本体部に対して開閉自在であって、開放時にはサンプルの取り出しが可能であり、閉鎖時には前記保温空間を密閉状態に保つ蓋部と、
前記保温空間内の温度を調整する温度調整手段と、
を備え、
前記蓋部は、
前記ノズルの通過を許容する1以上のノズル用小孔が形成された固定蓋と、
前記1以上のノズル用小孔それぞれに対応して1以上の開口が形成され、前記固定蓋に対して移動することで前記ノズル用小孔を開閉するシャッタ体であって、断熱構成のシャッタ体と、
を備えることを特徴とするサンプル処理装置。
Priority Applications (1)
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