JP2008205480A - 光センサ、光センサの読取方法、マトリクス型光センサ回路および電子機器 - Google Patents
光センサ、光センサの読取方法、マトリクス型光センサ回路および電子機器 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】スイッチングトランジスタの寄生容量の影響を少なくして、受光素子の出力を反映した値をより正確に得る。
【解決手段】走査線131と読出線121との交差部に設けられるセル回路100は、入射光量に応じて流れる電流が変化するフォトダイオード112と、ゲートがフォトダイオード112のカソードに接続され、ソースが走査線131に接続され、ドレインが読出線121に接続されたTFT114とを有する。走査線131が選択される初期化期間では、フォトダイオード112は順バイアスとなり、TFT114のゲートを所定の電圧に初期化する。
【選択図】図1
【解決手段】走査線131と読出線121との交差部に設けられるセル回路100は、入射光量に応じて流れる電流が変化するフォトダイオード112と、ゲートがフォトダイオード112のカソードに接続され、ソースが走査線131に接続され、ドレインが読出線121に接続されたTFT114とを有する。走査線131が選択される初期化期間では、フォトダイオード112は順バイアスとなり、TFT114のゲートを所定の電圧に初期化する。
【選択図】図1
Description
本発明は、読出線を介してフォトダイオードのような受光素子の出力を読み取る技術に関する。
近年、携帯電話や個人向携帯端末(Personal Digital Assistance)などの電子機器に、液晶素子や有機EL素子などをマトリクス状に配列させた表示パネルが広く用いられている。この表示パネルは、日光のように極めて明るい状態から夜間のように外光がほとんどない状態まで様々な環境下で使用される。このため、外光にかかわらず表示素子の明るさや画質が一定であると、ある条件では見易いが、他の条件では非常に見辛くなってしまう、という不具合が発生する。そこで、このような表示パネルでは、外光を検出するとともに、その検出結果に合わせて明るさや画質を制御するのが望ましい、と考えられる。
このような制御において、外光の検出にはフォトダイオードのような受光素子が用いられるが、受光素子を表示パネルとは別に設けると、電子機器において受光素子を実装するスペースが余計に必要となったり、受光素子において外光を検出するための開口部を設ける必要が生じたりするなどの問題が生じる。
このような制御において、外光の検出にはフォトダイオードのような受光素子が用いられるが、受光素子を表示パネルとは別に設けると、電子機器において受光素子を実装するスペースが余計に必要となったり、受光素子において外光を検出するための開口部を設ける必要が生じたりするなどの問題が生じる。
この問題を解消する策としては、表示パネルにおける画素をスイッチングするトランジスタと共通プロセスによって、受光素子と、当該受光素子を選択するためのトランジスタとの組を形成して、表示パネル自体で外光を検出する技術が考えられる。具体的には、走査線と読出線との交差部分に受光素子とトランジスタとの組を配置させるとともに、いずれか1つの走査線を選択して、選択した走査線に位置する組のトランジスタをオンさせ、当該組の受光素子の出力を、読出線を介し読み取る技術が考えられる。
この技術では、走査線の選択に伴うノイズが読出線に混入して光量検出の精度を低下させるので、当該ノイズを検出するとともに、検出したノイズを反転し読出線に供給することによって、当該読出線に現れるノイズを相殺する技術も提案されている(特許文献1参照)。
この技術では、走査線の選択に伴うノイズが読出線に混入して光量検出の精度を低下させるので、当該ノイズを検出するとともに、検出したノイズを反転し読出線に供給することによって、当該読出線に現れるノイズを相殺する技術も提案されている(特許文献1参照)。
しかしながら、表示パネルにおいてトランジスタや配線を形成すると、様々な部分、特にトランジスタのゲートや読出線に多くの容量が寄生する。このため、受光素子の出力信号を読み取る際に、ゲート容量や読出線において寄生容量に対する充放電のために、読取側で受光素子の出力を正確に抽出することができない、といった問題が生じた。
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、寄生容量の影響を少なくして、受光素子の出力を反映した値を正確に得ることが可能な光センサ、光センサの読取方法、マトリクス型光センサ回路および電子機器を提供することにある。
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、寄生容量の影響を少なくして、受光素子の出力を反映した値を正確に得ることが可能な光センサ、光センサの読取方法、マトリクス型光センサ回路および電子機器を提供することにある。
上記目的を達成するために本発明に係る光センサは、走査線と読出線とに対応して設けられた光センサであって、両端子間に流れる電流が入射光量に応じて変化する受光素子と、ゲートが前記受光素子の一端に接続され、ソースまたはドレインの一方が前記走査線に接続され、ソースまたはドレインの他方が前記読出線に接続されたトランジスタとを有し、前記走査線が選択される初期化期間において前記ゲートに所定の初期化電圧が印加され、当該初期化電圧の印加が解除された後、前記読出線の電圧に基づいて前記受光光量に応じた結果を出力することを特徴とする。この構成によれば、読み取りの前に、トランジスタのゲートに初期化電圧を印加して初期化するので、当該トランジスタのゲートに寄生する容量の影響を少なくすることができる。
本発明に係る光センサにおいて、前記初期化電圧の印加が解除されてから、前記読出線の電圧が予め設定されたしきい値電圧に達するまでの時間を前記受光光量に応じた結果として出力する構成としても良い。
本発明に係る光センサにおいて、前記受光光量に応じた結果として出力する前に、前記読出線に所定の電圧を印加する第1スイッチング素子を有する構成としても良い。この構成によれば、当該読出線に寄生する容量の影響も少なくすることができる。
本発明に係る光センサにおいて、前記受光素子は、前記初期化期間では順バイアスとなって、前記トランジスタのゲートに前記初期化電圧を印加する一方、前記初期化期間終了後では逆バイアスとなるダイオード素子である構成が好ましい。この構成では、順バイアスされた受光素子によりトランジスタのゲートに電圧が印加されて初期化されるので、構成の簡易化を図ることができる。
本発明に係る光センサにおいて、前記初期化電圧の印加が解除されてから、前記読出線の電圧が予め設定されたしきい値電圧に達するまでの時間を前記受光光量に応じた結果として出力する構成としても良い。
本発明に係る光センサにおいて、前記受光光量に応じた結果として出力する前に、前記読出線に所定の電圧を印加する第1スイッチング素子を有する構成としても良い。この構成によれば、当該読出線に寄生する容量の影響も少なくすることができる。
本発明に係る光センサにおいて、前記受光素子は、前記初期化期間では順バイアスとなって、前記トランジスタのゲートに前記初期化電圧を印加する一方、前記初期化期間終了後では逆バイアスとなるダイオード素子である構成が好ましい。この構成では、順バイアスされた受光素子によりトランジスタのゲートに電圧が印加されて初期化されるので、構成の簡易化を図ることができる。
本発明に係る光センサにおいて、前記初期化期間にてオンして、前記トランジスタをダイオード接続させるとともに、前記トランジスタのゲートに、当該トランジスタのしきい値電圧に応じた電圧を印加する第2スイッチング素子を有する構成としても良い。この構成によれば、トランジスタのしきい値電圧特性の影響も少なくすることができる。
この第2スイッチング素子は、走査線に供給される電圧レベルに応じてオンまたはオフする構成が好ましい。
本発明に係る光センサにおいて、前記読出線に一端が接続された容量と、前記初期化期間にて容量の両端を短絡させる第3スイッチング素子とを有し、当該初期化電圧の印加が解除された後において、前記容量の他端に現れる電圧を前記測定結果として出力する構成としても良い。
また、上記光センサは、光センサの読取方法としても概念することができる。
この第2スイッチング素子は、走査線に供給される電圧レベルに応じてオンまたはオフする構成が好ましい。
本発明に係る光センサにおいて、前記読出線に一端が接続された容量と、前記初期化期間にて容量の両端を短絡させる第3スイッチング素子とを有し、当該初期化電圧の印加が解除された後において、前記容量の他端に現れる電圧を前記測定結果として出力する構成としても良い。
また、上記光センサは、光センサの読取方法としても概念することができる。
上記目的を達成するために本発明に係るマトリクス型光センサ回路は、複数の走査線と複数の読出線とに対応して設けられたセル回路と、複数の走査線のうち、初期化期間では一の走査線を選択し、続く検出期間では走査線のすべてを非選択とし、次の初期化期間では別の走査線を選択する走査回路と、選択された走査線に位置する光センサの出力信号を、検出期間における読出線の電圧または前記読出線に流れる電流を読み取る読取回路とを有し、前記セル回路の各々は、両端子間に流れる電流が入射光量に応じて変化する受光素子と、ゲートが前記受光素子の一端に接続され、ソースまたはドレインの一方が前記走査線に接続され、ソースまたはドレインの他方が前記読出線に接続されたトランジスタとを有することを特徴とする。この構成によれば、上記光センサと同様にして、トランジスタのゲートに寄生する容量の影響を少なくすることができる。
また、本発明に係る電子機器は、前記光センサ、または、前記マトリクス光センサ回路を有するので、表示パネル内に作り込むことが容易となる。
また、本発明に係る電子機器は、前記光センサ、または、前記マトリクス光センサ回路を有するので、表示パネル内に作り込むことが容易となる。
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
<第1実施形態>
まず、本発明の第1実施形態に係る光センサについて説明する。図1は、この光センサの要部構成を示す図である。
この図に示される光センサ10に含まれるセル回路100は、例えば図3(a)に示されるように、液晶パネルや有機ELパネルの基板上において、表示領域50の外側周縁に位置する額縁52の四隅のうちの2箇所に設けられたものである。ここで、表示領域50とは、表示に寄与する画素の配列領域である。なお、この表示パネルは、TFTで画素をスイッチングするアクティブマトリクス型であるが、その構成については、本発明と特に関係ないので説明を省略する。
まず、本発明の第1実施形態に係る光センサについて説明する。図1は、この光センサの要部構成を示す図である。
この図に示される光センサ10に含まれるセル回路100は、例えば図3(a)に示されるように、液晶パネルや有機ELパネルの基板上において、表示領域50の外側周縁に位置する額縁52の四隅のうちの2箇所に設けられたものである。ここで、表示領域50とは、表示に寄与する画素の配列領域である。なお、この表示パネルは、TFTで画素をスイッチングするアクティブマトリクス型であるが、その構成については、本発明と特に関係ないので説明を省略する。
さて、図1において、セル回路100は、走査線131と読出線121との交差部に対応して設けられ、フォトダイオード112およびTFT114を有する。このうち、TFT(トランジスタ)114はpチャネル型であり、上記表示パネルにおいて画素をスイッチングするTFTと同一プロセスにて形成されたものである。このTFT114のドレイン(D)は、走査信号Scan-iが供給される走査線131に接続される一方、TFT114のソース(S)は、読出線121に接続されている。なお、走査信号Scanのサフィックス(-i)の意味については後述する。
一方、TFT114のゲートは、フォトダイオード112のカソードに接続されている。このフォトダイオード112は例えばPIN型であり、TFT114や、上記表示パネルにおいて画素をスイッチングするTFTと共通プロセスにて形成される。また、フォトダイオード112のアノードは、走査線131に接続されている。
一方、TFT114のゲートは、フォトダイオード112のカソードに接続されている。このフォトダイオード112は例えばPIN型であり、TFT114や、上記表示パネルにおいて画素をスイッチングするTFTと共通プロセスにて形成される。また、フォトダイオード112のアノードは、走査線131に接続されている。
なお、説明の便宜上、TFT114のゲート(フォトダイオード112のカソード)をノードNと表記するとともに、このノードNに寄生する容量を、図1において破線で示されるようにCbと表すことにする。
また、フォトダイオード112は受光素子の一例であり、受光光量に応じて流れる電流が変化する素子であれば適用可能である。
また、フォトダイオード112は受光素子の一例であり、受光光量に応じて流れる電流が変化する素子であれば適用可能である。
一方、読出線121の一端は、電圧計123およびスイッチ125の一端に接続されている。ここで、読出線121は、表示パネルに形成されているので、容量が寄生する。図1では、この寄生容量が破線のCaで示されている。
電圧計123は、電圧の基準となる電位Gndと読出線121の電位差(電圧)を計測して、その計測結果Read-jを、図示しない制御系に出力するものである。なお、計測結果Read-jのサフィックス(-j)の意味については後述する。
スイッチ125(第1スイッチング素子)は、制御信号RstがHレベルの場合のみ一端および他端間においてオンするものであり、当該他端は電圧V1を供給する基準電圧源125の正極端子に接続されている。
なお、基準電圧源125の負極端子は電位Gndに接地されている。また、制御信号Rstは、図示しない構成から供給され、走査信号Scan-iが電圧V1(Hレベル)となった場合に、Hレベルとなる。
電圧計123は、電圧の基準となる電位Gndと読出線121の電位差(電圧)を計測して、その計測結果Read-jを、図示しない制御系に出力するものである。なお、計測結果Read-jのサフィックス(-j)の意味については後述する。
スイッチ125(第1スイッチング素子)は、制御信号RstがHレベルの場合のみ一端および他端間においてオンするものであり、当該他端は電圧V1を供給する基準電圧源125の正極端子に接続されている。
なお、基準電圧源125の負極端子は電位Gndに接地されている。また、制御信号Rstは、図示しない構成から供給され、走査信号Scan-iが電圧V1(Hレベル)となった場合に、Hレベルとなる。
次に、上記構成による光センサ10の動作について説明する。図2は、この動作を説明するための各部の電圧波形図である。
この図に示されるように光センサ10では、まず、初期化期間において、走査信号Scan-iがHレベルとなる。このため、フォトダイオード112は順バイアスとなる。ここで、フォトダイオード112の順バイアス方向のしきい値電圧をVthphで表すと、ノードN(TFT114のゲート、フォトダイオード112のカソード)には、Hレベルに相当する電圧V1からしきい値電圧Vthphを減じた電圧(V1−Vthph)が初期化電圧として印加される。なお、この初期化電圧(V1−Vthph)は、寄生容量Cbによって保持される。
一方、初期化期間において走査信号Scan-iがHレベルになると、制御信号RstもHレベルとなるので、スイッチ125がオンする。このため、読出線121も電圧V1となる。
この図に示されるように光センサ10では、まず、初期化期間において、走査信号Scan-iがHレベルとなる。このため、フォトダイオード112は順バイアスとなる。ここで、フォトダイオード112の順バイアス方向のしきい値電圧をVthphで表すと、ノードN(TFT114のゲート、フォトダイオード112のカソード)には、Hレベルに相当する電圧V1からしきい値電圧Vthphを減じた電圧(V1−Vthph)が初期化電圧として印加される。なお、この初期化電圧(V1−Vthph)は、寄生容量Cbによって保持される。
一方、初期化期間において走査信号Scan-iがHレベルになると、制御信号RstもHレベルとなるので、スイッチ125がオンする。このため、読出線121も電圧V1となる。
次に、初期化期間が終了して、走査信号Scan-iがLレベルとなって電位Gndに変化すると、フォトダイオード112は逆バイアスとなる。このため、フォトダイオード112には、受光光量に応じた電流が流れて、容量Cbに蓄積された電荷がリークする結果、ノードNは、初期化電圧(V1−Vthph)から低下する。この際、フォトダイオード112への入射光量が多くなるにつれて、ノードNの電圧低下率が大きくなる。
ノードNの電圧が低下するにつれて、pチャネルTFT114のソース・ドレイン間の抵抗が小さくなる。このため、読出線121には、容量Caによって保持された電荷が読出線121→TFT114→走査線131という経路でリークするので、読出線121は、電圧V1から、フォトダイオード112への受光光量が多いほど、時間的に速く低下することになる。
したがって、初期化期間後における読出線121の電圧変化を解析することで、フォトダイオード112への入射光量を反映した値を取得することができる。例えば制御系において、計測結果Read-jと予め設定したしきい値電圧Vthとの大小関係を比較するとともに、初期化期間終了後から、電圧Read-jがしきい値電圧Vthに達するまでの時間を計測することにより、フォトダイオード112への入射光量を反映した値を取得することができる。そして、制御系は、取得した値に応じて、画素の明るさや画質を調整することによって、使用環境に応じて表示パネルの特性を適切に制御することが可能となる。
ノードNの電圧が低下するにつれて、pチャネルTFT114のソース・ドレイン間の抵抗が小さくなる。このため、読出線121には、容量Caによって保持された電荷が読出線121→TFT114→走査線131という経路でリークするので、読出線121は、電圧V1から、フォトダイオード112への受光光量が多いほど、時間的に速く低下することになる。
したがって、初期化期間後における読出線121の電圧変化を解析することで、フォトダイオード112への入射光量を反映した値を取得することができる。例えば制御系において、計測結果Read-jと予め設定したしきい値電圧Vthとの大小関係を比較するとともに、初期化期間終了後から、電圧Read-jがしきい値電圧Vthに達するまでの時間を計測することにより、フォトダイオード112への入射光量を反映した値を取得することができる。そして、制御系は、取得した値に応じて、画素の明るさや画質を調整することによって、使用環境に応じて表示パネルの特性を適切に制御することが可能となる。
本実施形態では、初期化期間においてTFT114のゲートに初期化電圧(V1−Vthph)を印加した後に、フォトダイオード112の受光光量に応じた出力を当該ゲートに入力するので、TFT114の寄生容量Cbによる影響を受けにくい。同様に、初期化期間において読出線121を電圧V1にプリチャージした後に、フォトダイオード112の受光光量に応じた出力を読み取るようにしているので、読出線121の寄生容量Caによる影響も受けないで、フォトダイオード112への入射光量を反映した値を正確に取得することができる。
すなわち、受光光量が刻々と変化するような環境下において一定周期で繰り返し計測するような場合、初期化しない構成では各計測タイミングにおいて、ゲートは容量Cbによって、読出線121は容量Caによって、それぞれ何らかの電圧に保持されているので、初期状態が確定せず、充放電に伴う電圧変化を正確に計測できない。これに対して本実施形態では、ゲート電圧、読出線121の電圧状態を、それぞれ初期化期間において確定させてから、フォトダイオード112の受光光量に応じた出力を読み取るようにしているので、容量Ca、Cbが寄生しても、その影響を受けにくいのである。
すなわち、受光光量が刻々と変化するような環境下において一定周期で繰り返し計測するような場合、初期化しない構成では各計測タイミングにおいて、ゲートは容量Cbによって、読出線121は容量Caによって、それぞれ何らかの電圧に保持されているので、初期状態が確定せず、充放電に伴う電圧変化を正確に計測できない。これに対して本実施形態では、ゲート電圧、読出線121の電圧状態を、それぞれ初期化期間において確定させてから、フォトダイオード112の受光光量に応じた出力を読み取るようにしているので、容量Ca、Cbが寄生しても、その影響を受けにくいのである。
なお、上述した実施形態では、初期化期間に読出線121を電圧V1としたが、予め定められた電圧でさえあれば良いので、電圧V1に限られる必要はない。
また、表示パネルに対して光センサ10は、図3(a)に示されるほか、例えば図3(b)に示されるように、額縁52において均等に複数配置したり、図3(c)に示されるように、表示領域50における四隅のうち2箇所以上に配置したりしても良い。
また、表示パネルに対して光センサ10は、図3(a)に示されるほか、例えば図3(b)に示されるように、額縁52において均等に複数配置したり、図3(c)に示されるように、表示領域50における四隅のうち2箇所以上に配置したりしても良い。
<第2実施形態>
次に、本発明の第2実施形態に係る光センサについて、図4を参照して説明する。
この図に示されるセル回路100が、図1に示した第1実施形態と相違する点は、主に、第1にTFT118(第2スイッチング素子)を有する点と、第2に給電線142を有する点とである。まず、第1の相違点について説明すると、TFT118のドレインは、ノードNに接続される一方、TFT118のソースは給電線142に接続され、TFT118のゲートは走査線131に接続されている。次に、第2の相違点について説明すると、給電線142は、電源電圧の低位側電圧Vssを給電するものであり、TFT114のドレインが接続されている。
また、フォトダイオード112のアノードは一定電圧にバイアスされる一方、ノードNと給電線142との間に容量Ccが電気的に介挿される。
他については、第1実施形態と同様な構成となっている。
次に、本発明の第2実施形態に係る光センサについて、図4を参照して説明する。
この図に示されるセル回路100が、図1に示した第1実施形態と相違する点は、主に、第1にTFT118(第2スイッチング素子)を有する点と、第2に給電線142を有する点とである。まず、第1の相違点について説明すると、TFT118のドレインは、ノードNに接続される一方、TFT118のソースは給電線142に接続され、TFT118のゲートは走査線131に接続されている。次に、第2の相違点について説明すると、給電線142は、電源電圧の低位側電圧Vssを給電するものであり、TFT114のドレインが接続されている。
また、フォトダイオード112のアノードは一定電圧にバイアスされる一方、ノードNと給電線142との間に容量Ccが電気的に介挿される。
他については、第1実施形態と同様な構成となっている。
次に、上記構成による光センサ10の動作について説明する。図5は、この動作を説明するための各部の電圧波形図である。
まず、初期化期間において、走査信号Scan-iがHレベルとなるので、TFT118がオンする結果、TFT114がダイオード接続となる。一方、読出線121は、初期化期間では第1実施形態と同様に、電圧V1に初期化される。このため、電流が読出線121→TFT114→給電線142という経路で流れるので、ノードNは、フォトダイオード112の受光光量とはほぼ関係なく、電圧V1からTFT114のしきい値電圧Vthpを差し引いた電圧(V1−Vthp)となる。第2実施形態では、この電圧(V1−Vthp)が初期化電圧となる。そして、ノードNの電圧(V1−Vthp)は、容量Ccによって保持される。
まず、初期化期間において、走査信号Scan-iがHレベルとなるので、TFT118がオンする結果、TFT114がダイオード接続となる。一方、読出線121は、初期化期間では第1実施形態と同様に、電圧V1に初期化される。このため、電流が読出線121→TFT114→給電線142という経路で流れるので、ノードNは、フォトダイオード112の受光光量とはほぼ関係なく、電圧V1からTFT114のしきい値電圧Vthpを差し引いた電圧(V1−Vthp)となる。第2実施形態では、この電圧(V1−Vthp)が初期化電圧となる。そして、ノードNの電圧(V1−Vthp)は、容量Ccによって保持される。
次に、初期化期間が終了して、走査信号Scan-iがLレベルになると、TFT118がオフするので、フォトダイオード112には、受光光量に応じた電流が流れて、容量Ccに蓄積された電荷がリークする結果、ノードNは、初期化電圧(V1−Vthp)から低下する。
ここで、ノードNの電圧が低下するにつれて、pチャネルTFT114のソース・ドレイン間の抵抗が小さくなる。このため、読出線121には、容量Caによって保持された電荷が読出線121→TFT114→給電線142という経路でリークするので、読出線121は、電圧V1から、フォトダイオード112への受光光量が多いほど、時間的に速く低下することになる。
したがって、第2実施形態においても、初期化期間後における読出線121の電圧変化を解析することで、フォトダイオード112への入射光量を反映した値を取得することができる。
ここで、ノードNの電圧が低下するにつれて、pチャネルTFT114のソース・ドレイン間の抵抗が小さくなる。このため、読出線121には、容量Caによって保持された電荷が読出線121→TFT114→給電線142という経路でリークするので、読出線121は、電圧V1から、フォトダイオード112への受光光量が多いほど、時間的に速く低下することになる。
したがって、第2実施形態においても、初期化期間後における読出線121の電圧変化を解析することで、フォトダイオード112への入射光量を反映した値を取得することができる。
さらに、第2実施形態では、TFT114のゲートを、電圧(V1−Vthp)から、すなわちTFT114のしきい値電圧Vthpを反映させた電圧から電圧変化させているので、TFT114のしきい値電圧Vthpが、読出線121における電圧変化に影響を与えない。
この点について詳述すると、初期化期間終了後の、ある時刻におけるノードNの電圧低下分をΔVとしたとき、当該時刻におけるノードNの電圧Vgは、次式のように表すことができる。
Vg=V1−Vthp−ΔV ……(a)
この点について詳述すると、初期化期間終了後の、ある時刻におけるノードNの電圧低下分をΔVとしたとき、当該時刻におけるノードNの電圧Vgは、次式のように表すことができる。
Vg=V1−Vthp−ΔV ……(a)
一方、TFT114のソース・ドレイン間に流れる電流Iは、ノードNの電圧Vgで定まり、次のように示される。
I=(β/2)(V1−Vg−Vthp)2……(b)
なお、この式においてβは、TFT114の利得係数である。
式(b)に式(a)を代入して整理すると、
I=(β/2)(ΔV)2……(c)
となる。この式(c)に示されるように、初期化期間後においてTFT114に流れる電流Iは、TFT114のしきい値Vthpに依存することなく、電圧変化分ΔVのみによって定まることになる。したがって、読出線121における電圧は、TFT114のしきい値Vthpに依存しないで、電圧変化分ΔV(すなわち、フォトダイオード112の受光光量)のみによって変化するので、セル回路100を複数設ける場合に、TFT114のしきい値電圧Vthp特性のバラツキによる影響を少なくすることが可能となる。
I=(β/2)(V1−Vg−Vthp)2……(b)
なお、この式においてβは、TFT114の利得係数である。
式(b)に式(a)を代入して整理すると、
I=(β/2)(ΔV)2……(c)
となる。この式(c)に示されるように、初期化期間後においてTFT114に流れる電流Iは、TFT114のしきい値Vthpに依存することなく、電圧変化分ΔVのみによって定まることになる。したがって、読出線121における電圧は、TFT114のしきい値Vthpに依存しないで、電圧変化分ΔV(すなわち、フォトダイオード112の受光光量)のみによって変化するので、セル回路100を複数設ける場合に、TFT114のしきい値電圧Vthp特性のバラツキによる影響を少なくすることが可能となる。
なお、上述した第1および第2実施形態では、TFT114をpチャネル型としたが、nチャネル型としても良い。TFT114をnチャネル型とする場合には、ソース、ドレインの接続先が入れ替えられる。
<第3実施形態>
次に、本発明の第3実施形態に係る光センサについて、図6を参照して説明する。
この図に示されるセル回路100が、図4に示した第2実施形態と相違する点は、主に、第1に、給電線142に替えて、補助走査信号Vread-iが供給される補助走査線141が設けられている点と、第2に、読出線121の一端に差電圧出力回路150が設けられている点とである。なお、本実施形態では、TFT114をnチャネル型としてある。
第2の相違点について説明すると、差電圧出力回路150は、容量Cd、スイッチ125、152(第3スイッチング素子)およびアンプ154を含む構成である。このうち、容量Cdの一端は、読出線121の一端およびスイッチ125の一端にそれぞれに接続されている。一方、容量Cdの他端は、スイッチ152の一端およびアンプ154の入力端にそれぞれ接続されている。スイッチ125、152は、制御信号RstがHレベルになったときに、ともにオンするものであり、両者の他端は電位Gndに共通接地されている。すなわち、スイッチ125のオンにより読出線121が接地電位Gndに初期化されるとともに、スイッチ152のオンにより容量Cdに蓄積された電荷がクリアされる構成となっている。
アンプ154は、容量Cdの他端に現れる電圧を増幅し差電圧Dif-jとして出力するものである。
他については、第2実施形態と同様な構成となっている。
次に、本発明の第3実施形態に係る光センサについて、図6を参照して説明する。
この図に示されるセル回路100が、図4に示した第2実施形態と相違する点は、主に、第1に、給電線142に替えて、補助走査信号Vread-iが供給される補助走査線141が設けられている点と、第2に、読出線121の一端に差電圧出力回路150が設けられている点とである。なお、本実施形態では、TFT114をnチャネル型としてある。
第2の相違点について説明すると、差電圧出力回路150は、容量Cd、スイッチ125、152(第3スイッチング素子)およびアンプ154を含む構成である。このうち、容量Cdの一端は、読出線121の一端およびスイッチ125の一端にそれぞれに接続されている。一方、容量Cdの他端は、スイッチ152の一端およびアンプ154の入力端にそれぞれ接続されている。スイッチ125、152は、制御信号RstがHレベルになったときに、ともにオンするものであり、両者の他端は電位Gndに共通接地されている。すなわち、スイッチ125のオンにより読出線121が接地電位Gndに初期化されるとともに、スイッチ152のオンにより容量Cdに蓄積された電荷がクリアされる構成となっている。
アンプ154は、容量Cdの他端に現れる電圧を増幅し差電圧Dif-jとして出力するものである。
他については、第2実施形態と同様な構成となっている。
次に、上記構成による光センサ10の動作について説明する。図7は、この動作を説明するための各部の電圧波形図である。
まず、初期化期間において、走査信号Scan-iがHレベルになると、TFT118がオンする結果、TFT114がダイオード接続となる。また、初期化期間では、補助走査信号Vread-iがHレベルになるので、スイッチ125、152がオンする。このため、読出線121は、電位Gndに初期化されるとともに、容量Cdに蓄積された電荷もクリアされる。したがって、アンプ154の出力である差電圧Dif-jは、この電荷のクリアにしたがって電位Gndに低下する。
さらに、補助走査信号Vread-iがHレベルになることにより、電流が補助走査線141→TFT114→読出線121という経路で流れるので、ノードNは、フォトダイオード112の受光光量とはほぼ関係なく、TFT114のしきい値電圧Vthnとなる。
まず、初期化期間において、走査信号Scan-iがHレベルになると、TFT118がオンする結果、TFT114がダイオード接続となる。また、初期化期間では、補助走査信号Vread-iがHレベルになるので、スイッチ125、152がオンする。このため、読出線121は、電位Gndに初期化されるとともに、容量Cdに蓄積された電荷もクリアされる。したがって、アンプ154の出力である差電圧Dif-jは、この電荷のクリアにしたがって電位Gndに低下する。
さらに、補助走査信号Vread-iがHレベルになることにより、電流が補助走査線141→TFT114→読出線121という経路で流れるので、ノードNは、フォトダイオード112の受光光量とはほぼ関係なく、TFT114のしきい値電圧Vthnとなる。
次に、初期化期間が終了すると、走査信号Scan-i、制御信号RstがともにLレベルになるが、補助走査信号Vread-iはHレベルを維持する。
走査信号Scan-iがLレベルになることによってTFT118がオフするとともに、制御信号RstがLレベルになることによってスイッチ125、152がオフする。一方、補助走査信号Vread-iがHレベルを維持するので、TFT114のソース・ドレイン間の導通状態は、ノードNの電圧に応じて定められることになる。ここで、ノードNの電圧は、フォトダイオード112への受光光量が多いほど低くなって、TFT114のソース・ドレイン間の抵抗値を大きくさせることになる。
読出線121は、電位Gndに初期化された後に、TFT114のソース・ドレイン間の抵抗値に応じてHレベルの補助走査信号Vread-iに引っ張られるので、フォトダイオード112への受光光量が多いほど電圧上昇率が低くなる。容量Cdの他端には、この電圧変化に応じた電圧が現れて、この電圧を差電圧Dif-jとしてアンプ154が出力することになる。
走査信号Scan-iがLレベルになることによってTFT118がオフするとともに、制御信号RstがLレベルになることによってスイッチ125、152がオフする。一方、補助走査信号Vread-iがHレベルを維持するので、TFT114のソース・ドレイン間の導通状態は、ノードNの電圧に応じて定められることになる。ここで、ノードNの電圧は、フォトダイオード112への受光光量が多いほど低くなって、TFT114のソース・ドレイン間の抵抗値を大きくさせることになる。
読出線121は、電位Gndに初期化された後に、TFT114のソース・ドレイン間の抵抗値に応じてHレベルの補助走査信号Vread-iに引っ張られるので、フォトダイオード112への受光光量が多いほど電圧上昇率が低くなる。容量Cdの他端には、この電圧変化に応じた電圧が現れて、この電圧を差電圧Dif-jとしてアンプ154が出力することになる。
したがって、初期化期間終了後において補助走査信号Vread-jがHレベルの期間に出力される差電圧Dif-jは、TFT114のゲートに寄生する容量(図6では図示省略)や、読出線121に寄生する容量Caによる保持された電圧の影響をほぼ受けずに出力される。また、第3実施形態でも、初期化期間後においてTFT114のソース・ドレイン間に流れる電流は、第2実施形態と同様にTFT114のしきい値電圧Vthnに依存しないので、差電圧Dif-jも、TFT114のしきい値電圧Vthp特性のバラツキによる影響を受けにくい。このため、例えばセル回路100を複数設ける場合に、TFT114のしきい値電圧Vthpのバラツキをキャンセルして、差電圧Dif-jの出力特性をセル回路毎に揃えることが可能となる。
なお、補助走査信号Vread-iがLレベルである期間では、電流が上記経路にしたがって流れないので、第3実施形態では、読出禁止期間となる。
また、第3実施形態では、TFT114をnチャネル型としたが、pチャネル型としても良い。
なお、補助走査信号Vread-iがLレベルである期間では、電流が上記経路にしたがって流れないので、第3実施形態では、読出禁止期間となる。
また、第3実施形態では、TFT114をnチャネル型としたが、pチャネル型としても良い。
<第4実施形態>
上述した第1〜第3実施形態では、説明の便宜上、セル回路100を単数としたが、実際には複数個である方が、実用的である。そこで、第4実施形態として、セル回路100を複数個設けたマトリクス型光センサ回路について説明することにする。図8は、このマトリクス型光センサ回路の構成を示すブロック図である。
この図に示されるように、マトリクス型光センサ回路20では、複数本の走査線131が横方向(X方向)に延接される一方、複数本の読出線121が図において縦方向(Y方向)に延設されている。そして、これらの走査線131と読出線121との交差の各々に対応するようにセル回路100がそれぞれ設けられている。
ここで説明の便宜上、本実施形態では、走査線131の本数(行数)を「m」とし、読出線121の本数(列数)を「n」として、セル回路100が、縦m行×横n列のマトリクス状に配列する構成を想定する。ただし、本発明をこの配列に限定する趣旨ではない。
上述した第1〜第3実施形態では、説明の便宜上、セル回路100を単数としたが、実際には複数個である方が、実用的である。そこで、第4実施形態として、セル回路100を複数個設けたマトリクス型光センサ回路について説明することにする。図8は、このマトリクス型光センサ回路の構成を示すブロック図である。
この図に示されるように、マトリクス型光センサ回路20では、複数本の走査線131が横方向(X方向)に延接される一方、複数本の読出線121が図において縦方向(Y方向)に延設されている。そして、これらの走査線131と読出線121との交差の各々に対応するようにセル回路100がそれぞれ設けられている。
ここで説明の便宜上、本実施形態では、走査線131の本数(行数)を「m」とし、読出線121の本数(列数)を「n」として、セル回路100が、縦m行×横n列のマトリクス状に配列する構成を想定する。ただし、本発明をこの配列に限定する趣旨ではない。
なお、セル回路100は、上述した第1〜第3実施形態のいずれでも適用可能であるが、ここでは、第3実施形態のセル回路100(図6参照)を適用した構成を想定する。したがって、1行〜m行の走査線131の各々に対応するように、補助走査線141がそれぞれ設けられている。
走査回路24は、1行ずつ走査線131を選択するとともに、選択した走査線131に対して、Hレベルの走査信号を供給するとともに、この選択に同期した補助走査信号を、補助走査線141に供給するほか、この選択に同期した制御信号Rstを出力するものである。ここで、説明の便宜上、i行目(iは、1≦i≦mを満たす整数であり、行を一般化して説明するためのもの)の走査線131に供給される走査信号をScan-iと表記する。同様に、i行目の補助走査線141に供給される補助走査信号をVread-iと表記する。
一方、読出線121の各一端には、差電圧出力回路150が設けられるとともに、上記制御信号Rstが供給されている。ここで、説明の便宜上、j列目(jは、1≦j≦nを満たす整数であり、列を一般化して説明するためのもの)の読出線121の差電圧出力回路150から出力される差電圧が、図8においてDif-jと表記されている。読取回路26は、各読出線121に対応する差電圧出力回路150から出力される差電圧Dif-1、Dif-2、Dif-3、…、Dif-nを読み取って、図示が省略された制御系に出力する構成となっている。
なお、この構成において制御信号Rstは、走査信号Scan-1、Scan-2、Scan-3、…、Scan-mの論理和信号に相当する。
なお、この構成において制御信号Rstは、走査信号Scan-1、Scan-2、Scan-3、…、Scan-mの論理和信号に相当する。
次に、このような構成されたマトリクス型光センサ回路20の動作について説明する。図9は、マトリクス型光センサ回路20の動作を説明するためのタイミングチャートである。
この図に示されるように、走査回路24は、1行〜m行の走査線131を、一定間隔を置いて順番に1本ずつ選択して、選択した走査線131に対しHレベルの走査信号を供給するとともに、走査線131の選択後、当該走査線131に対応する補助走査線141への補助走査信号を、次の走査線131を選択するまでHレベルとする。
したがって、このマトリクス型光センサ回路20では、走査線131の選択時においてTFT114のゲートと読出線121とが初期化されるとともに、初期化後に読出線121の電圧を検出する動作が、各行のセル回路100について順番に時分割的に実行されることになる。
この図に示されるように、走査回路24は、1行〜m行の走査線131を、一定間隔を置いて順番に1本ずつ選択して、選択した走査線131に対しHレベルの走査信号を供給するとともに、走査線131の選択後、当該走査線131に対応する補助走査線141への補助走査信号を、次の走査線131を選択するまでHレベルとする。
したがって、このマトリクス型光センサ回路20では、走査線131の選択時においてTFT114のゲートと読出線121とが初期化されるとともに、初期化後に読出線121の電圧を検出する動作が、各行のセル回路100について順番に時分割的に実行されることになる。
なお、この第4実施形態では、第3実施形態に係るセル回路100(図6参照)をマトリクス状に配列したが、第1実施形態に係るセル回路100(図1参照)を適用する場合には、補助走査線141および差電圧出力回路150や、これらに付帯する構成が不要となる。また、第2実施形態に係るセル回路100(図4参照)を適用する場合には、補助走査線141を電位一定の給電線142とすれば良く、差電圧出力回路150や、これに付帯する構成が不要となる。
ところで、上述した各実施形態においてセル回路100には、受光光量をセンシングする機能しか有していなかったが、表示パネルの画素の機能を含むように構成しても良い。
例えば、図10に示されるように、セル回路100に、液晶素子180と、当該液晶素子に保持される電圧を書き込むためのTFT170とを含ませても良い。ここで、液晶素子180は、良く知られているように、画素毎に個別化された画素電極と、各画素にわたって共通であって一定の電圧LCcomが印加された共通電極とによって液晶を挟持し、両電極間の電圧実効値に応じて反射光量または透過光量が変化する構成となっている。また、nチャネル型のTFT170のゲートは、走査線131に接続され、ソースはデータ線172に接続され、ドレインは液晶素子180の画素電極に接続されている。なお、給電線142には、電圧Vcomが印加されている。
例えば、図10に示されるように、セル回路100に、液晶素子180と、当該液晶素子に保持される電圧を書き込むためのTFT170とを含ませても良い。ここで、液晶素子180は、良く知られているように、画素毎に個別化された画素電極と、各画素にわたって共通であって一定の電圧LCcomが印加された共通電極とによって液晶を挟持し、両電極間の電圧実効値に応じて反射光量または透過光量が変化する構成となっている。また、nチャネル型のTFT170のゲートは、走査線131に接続され、ソースはデータ線172に接続され、ドレインは液晶素子180の画素電極に接続されている。なお、給電線142には、電圧Vcomが印加されている。
ここで、図10に示されるセル回路100では、表示モードと受光量検出モードとが排他的に実行され、表示モードにあって、走査線131がHレベルになると、TFT170がオンして、データ線172に供給されたデータ信号Dataの電圧が液晶素子180の画素電極に書き込まれて、当該液晶素子の反射光量または透過光量が当該電圧に応じて変化する。
また、受光量検出モードにあって、走査線131がHレベルになると、TFT170がオンして、データ線172に供給された初期化電圧がTFT114のゲートに印加される一方、走査線131がLレベルになると、TFT114のゲートは、フォトダイオード112への受光光量に応じた電圧となって、当該電圧に応じた電圧が読出線121に現れる構成となっている。
また、受光量検出モードにあって、走査線131がHレベルになると、TFT170がオンして、データ線172に供給された初期化電圧がTFT114のゲートに印加される一方、走査線131がLレベルになると、TFT114のゲートは、フォトダイオード112への受光光量に応じた電圧となって、当該電圧に応じた電圧が読出線121に現れる構成となっている。
また、例えば図11に示されるようなセル回路100としても良い。
この図に示される構成では、TFT114のゲート(ノードN)と、第1走査線135との間に、TFT119が介挿されて、当該TFT119のゲートが第2走査線136に接続されるとともに、読出線121が図10におけるデータ線172の機能を兼用した構成となっている。
そして、この構成においても、表示モードと受光量検出モードとが排他的に実行される。このうち、表示モードにあって、第1走査線135と第2走査線136とがともにHレベルとなると、TFT114、119がともにオンして、読出線121に供給されたデータ信号Dataの電圧が液晶素子180の画素電極に書き込まれて、当該液晶素子の反射光量または透過光量が当該電圧に応じて変化する。
また、受光量検出モードにあっては、第2走査線136がHレベルになると、TFT119がオンして、読出線121に供給された初期化電圧がTFT114のゲートに印加されて初期化される一方、第2走査線136がLレベルになると、TFT114のゲートは、フォトダイオード112への受光光量に応じた電圧となって、当該電圧に応じた電圧が読出線121に現れる構成となっている。
この図に示される構成では、TFT114のゲート(ノードN)と、第1走査線135との間に、TFT119が介挿されて、当該TFT119のゲートが第2走査線136に接続されるとともに、読出線121が図10におけるデータ線172の機能を兼用した構成となっている。
そして、この構成においても、表示モードと受光量検出モードとが排他的に実行される。このうち、表示モードにあって、第1走査線135と第2走査線136とがともにHレベルとなると、TFT114、119がともにオンして、読出線121に供給されたデータ信号Dataの電圧が液晶素子180の画素電極に書き込まれて、当該液晶素子の反射光量または透過光量が当該電圧に応じて変化する。
また、受光量検出モードにあっては、第2走査線136がHレベルになると、TFT119がオンして、読出線121に供給された初期化電圧がTFT114のゲートに印加されて初期化される一方、第2走査線136がLレベルになると、TFT114のゲートは、フォトダイオード112への受光光量に応じた電圧となって、当該電圧に応じた電圧が読出線121に現れる構成となっている。
なお、マトリクス状に配置するすべてのセル回路を、図10や図11に示されるようなセル回路100(すなわち、受光光量をセンシングする機能とともに、表示パネルの画素の機能を含ませるセル回路100)とする必要はない。例えば、マトリクス状に配置するすべてのセル回路については、液晶素子180のような画素の機能を持たせる一方で、受光光量をセンシングするための機能については、数〜数百個の画素に対して1つの割合で持たせる構成としても良い。このように構成すると、受光光量をセンシングする機能のために、画素の開口率が低下することを防止することができる。
また、液晶素子180に代えて、有機EL素子や、無機EL素子、フィールド・エミッション(FE)素子、LEDなどの他の発光素子、さらには、電気泳動素子、エレクトロ・クロミック素子などを表示素子として用いても良い。
次に、上述した光センサ10を有する表示パネルを表示部として用いた電子機器について説明する。図12は、この電子機器の一例たる携帯電話の構成を示す斜視図である。
この図において、携帯電話1100は、複数の操作ボタン1102のほか、受話口1104、送話口1106とともに、表示部として、上述した光センサ10を有する表示パネル40を備えるものである。
このような構成によれば、表示パネル内に光センサを作り込むことができるので、別途の開口部や受光素子を設けるための実装スペースが不要となる。
また、表示パネル40として、受光光量をセンシングする機能と表示パネルの画素の機能とを有するセル回路100をマトリクス型に配列させたマトリクス型光センサ回路20を用いても良い。このようなマトリクス型光センサ回路20を用いると、表示領域の一部にのみ光が照射された場合であっても、表示領域の明るさや画質が各領域に均等となるように制御することが可能となる。
この図において、携帯電話1100は、複数の操作ボタン1102のほか、受話口1104、送話口1106とともに、表示部として、上述した光センサ10を有する表示パネル40を備えるものである。
このような構成によれば、表示パネル内に光センサを作り込むことができるので、別途の開口部や受光素子を設けるための実装スペースが不要となる。
また、表示パネル40として、受光光量をセンシングする機能と表示パネルの画素の機能とを有するセル回路100をマトリクス型に配列させたマトリクス型光センサ回路20を用いても良い。このようなマトリクス型光センサ回路20を用いると、表示領域の一部にのみ光が照射された場合であっても、表示領域の明るさや画質が各領域に均等となるように制御することが可能となる。
なお、電子機器としては、図12の携帯電話の他にも、デジタルスチルカメラや、テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等などが挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、上述したマトリクス型光センサ回路20が適用可能なのは言うまでもない。また、直接画像や文字などを表示する電子機器の表示部に限られず、被感光体に光を照射することにより間接的に画像もしくは文字を形成するために用いられる印刷機器の光源、例えばLEDプリンタのラインヘッドに適用してもよい。
10…光センサ、20…マトリクス型光センサ回路、40…表示パネル、50…表示領域、100…セル回路、112…フォトダイオード、114…TFT(トランジスタ)、118…TFT(第2スイッチング素子)、125…スイッチ(第1スイッチング素子)、121…読出線、131…走査線、141…補助走査線、150…差電圧検出回路、152…スイッチ(第3スイッチング素子)、1100…デジタルスチルカメラ。
Claims (10)
- 走査線と読出線とに対応して設けられた光センサであって、
両端子間に流れる電流が入射光量に応じて変化する受光素子と、
ゲートが前記受光素子の一端に接続され、ソースまたはドレインの一方が前記走査線に接続され、ソースまたはドレインの他方が前記読出線に接続されたトランジスタと
を有し、
前記走査線が選択される初期化期間において前記ゲートに所定の初期化電圧が印加され、
当該初期化電圧の印加が解除された後、前記読出線の電圧に基づいて前記受光光量に応じた結果を出力する
ことを特徴とする光センサ。 - 前記初期化電圧の印加が解除されてから、前記読出線の電圧が予め設定されたしきい値電圧に達するまでの時間を前記受光光量に応じた結果として出力する
ことを特徴とする請求項1に記載の光センサ。 - 前記受光光量に応じた結果として出力する前に、前記読出線に所定の電圧を印加する第1スイッチング素子を有する
ことを特徴とする請求項1に記載の光センサ。 - 前記受光素子は、
前記初期化期間では順バイアスとなって、前記トランジスタのゲートに前記初期化電圧を印加する一方、
前記初期化期間終了後では逆バイアスとなるダイオード素子である
ことを特徴とする請求項1に記載の光センサ。 - 前記初期化期間にてオンして、前記トランジスタをダイオード接続させるとともに、前記トランジスタのゲートに、当該トランジスタのしきい値電圧に応じた電圧を印加する第2スイッチング素子を有する
ことを特徴とする請求項1に記載の光センサ。 - 前記第2スイッチング素子は、走査線に供給される電圧レベルに応じてオンまたはオフする
ことを特徴とする請求項5に記載の光センサ。 - 前記読出線に一端が接続された容量と、
前記初期化期間にて容量の両端を短絡させる第3スイッチング素子と
を有し、
当該初期化電圧の印加が解除された後において、前記容量の他端に現れる電圧を前記測定結果として出力する
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の光センサ。 - 読出線と走査線とに対応して設けられ、
両端子間に流れる電流が入射光量に応じて変化する受光素子と、
ゲートが前記受光素子の一端に接続され、ソースまたはドレインの一方が前記走査線に接続され、ソースまたはドレインの他方が前記読出線に接続されたトランジスタと
を有する光センサの読取方法であって、
前記走査線が選択される初期化期間において前記ゲートに所定の初期化電圧を印加し、
当該初期化電圧の印加を解除した後、前記読出線の電圧に基づいて前記受光光量に応じた結果を出力する
ことを特徴とする光センサの読取方法。 - 複数の走査線と複数の読出線とに対応して設けられたセル回路と、
複数の走査線のうち、初期化期間では一の走査線を選択し、続く検出期間では走査線のすべてを非選択とし、次の初期化期間では別の走査線を選択する走査回路と、
選択された走査線に位置する光センサの出力信号を、検出期間における読出線の電圧または前記読出線に流れる電流を読み取る読取回路と
を有し、
前記セル回路の各々は、
両端子間に流れる電流が入射光量に応じて変化する受光素子と、
ゲートが前記受光素子の一端に接続され、ソースまたはドレインの一方が前記走査線に接続され、ソースまたはドレインの他方が前記読出線に接続されたトランジスタと
を有することを特徴とするマトリクス型光センサ回路。 - 請求項1に記載の光センサ、または、請求項9に記載のマトリクス光センサ回路を有する
ことを特徴とする電子機器。
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008063757A Withdrawn JP2008205480A (ja) | 2008-03-13 | 2008-03-13 | 光センサ、光センサの読取方法、マトリクス型光センサ回路および電子機器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008205480A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110782820A (zh) * | 2019-11-13 | 2020-02-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 光学感测电路、像素驱动电路及驱动方法、显示面板 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05276442A (ja) * | 1992-03-30 | 1993-10-22 | Hamamatsu Photonics Kk | 残像積分固体撮像デバイス |
JP2001308306A (ja) * | 2000-04-21 | 2001-11-02 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置およびその駆動方法 |
-
2008
- 2008-03-13 JP JP2008063757A patent/JP2008205480A/ja not_active Withdrawn
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05276442A (ja) * | 1992-03-30 | 1993-10-22 | Hamamatsu Photonics Kk | 残像積分固体撮像デバイス |
JP2001308306A (ja) * | 2000-04-21 | 2001-11-02 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置およびその駆動方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN110782820A (zh) * | 2019-11-13 | 2020-02-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 光学感测电路、像素驱动电路及驱动方法、显示面板 |
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