JP2008203182A - エッジ検出装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】透過照明された検出対象物を結像光学系を介してラインセンサにより撮像し、このラインセンサの出力レベルを所定の閾値で弁別して前記ラインセンサの画素セル配列方向における前記検出対象物のエッジ位置を検出するものであって、前記ラインセンサから読み出される出力信号に対するゲインおよび/またはバイアスを可変設定すると共に、ゲインおよび/またはバイアスが可変設定された前記出力信号のレベルを、互いに異なる複数の閾値にてそれぞれ弁別して前記検出対象物における複数箇所(保護フィルムとウェハ)のエッジ位置を並列に検出する。
【選択図】図2
Description
特にラインセンサの出力を信号処理する信号処理手段において、前記ラインセンサから読み出される出力信号に対するゲインおよび/またはバイアスを可変設定すると共に、ゲインおよび/またはバイアスが可変設定された前記出力信号のレベルを、互いに異なる複数の閾値にてそれぞれ弁別して前記検出対象物における複数箇所のエッジ位置、例えばウェハのエッジ位置とその表面に貼付された保護フィルムのエッジ位置とを並列に検出することを特徴としている。
ちなみに保護フィルムの種類に応じて、増幅器の動作を規定する複数のゲインとバイアス、弁別器に設定する複数の弁別閾値、およびラインセンサからの信号読み出し方向を指定する情報をセットとしてメモリに記憶しておき、これらの制御パラメータをメモリから選択的に読み出して前述した信号処理手段の動作条件を制御することで、簡易にしかも効率的にエッジ検出処理を実行することが可能となる。
図1は本発明に係るエッジ検出装置における光学系の概略構成を模式的に示す図で、Aは検出対象物を示している。この検出対象物Aは、例えばその表面に保護フィルムFを貼付した半導体ウェハWからなる。検出対象物Aを透過照明する光源1は、例えば所定の配列ピッチで並べられた複数の発光ダイオード2と、これらの発光ダイオード2の前面に設けられた乳白色の拡散板3とからなり、いわゆる波長帯域の広い拡散光の面光源を形成している。前述した検出対象物Aは上記光源1の前面側に位置付けられ、拡散光により透過照明されてエッジ検出に供せられる。
5 結増光学レンズ
10 信号処理回路
11 増幅器
12,12a,12b 弁別器
13a,13b エッジ位置検出手段
14 ゲイン・バイアス設定手段(第1の制御手段)
15 閾値設定手段(第2の制御手段)
16 スキャン方向制御手段(第3の制御手段)
17 メモリ
18 セレクタ
Claims (6)
- 透過照明された検出対象物を結像光学系を介して撮像するラインセンサと、このラインセンサの出力レベルを弁別して前記ラインセンサの画素セル配列方向における前記検出対象物のエッジ位置を検出する信号処理手段とを備えたエッジ検出装置であって、
前記信号処理手段は、前記ラインセンサから読み出される出力信号に対するゲインおよび/またはバイアスを可変設定すると共に、ゲインおよび/またはバイアスが可変設定された前記出力信号のレベルを、互いに異なる複数の閾値にてそれぞれ弁別して前記検出対象物における複数のエッジ位置を並列に検出することを特徴とするエッジ検出装置。 - 前記信号処理手段は、前記ラインセンサの出力信号を増幅する増幅器と、この増幅器を介して得られる前記ラインセンサからの信号出力レベルを弁別する弁別器と、前記ラインセンサからの信号読み出し位置に応じた前記弁別器による弁別結果から前記検出対象物のエッジ位置を検出するエッジ位置検出手段とを備えると共に、
前記増幅器のゲインおよび/またはバイアスを可変設定する第1の制御手段、および前記弁別器に設定する弁別閾値を可変設定する第2の制御手段の少なくとも一つを備えたものである請求項1に記載のエッジ検出装置。 - 前記信号処理手段は、更に前記ラインセンサからの信号読み出し方向を変更する第3の制御手段を備えたものである請求項2に記載のエッジ検出装置。
- 前記信号処理手段は、前記増幅器の動作を規定する複数のゲインとバイアス、前記弁別器に設定する複数の弁別閾値、および前記ラインセンサからの信号読み出し方向を指定する情報を、エッジ位置検出用の制御パラメータとして記憶するメモリを有し、
このメモリに記憶された制御パラメータを、その種別毎にそれぞれ選択的に用いてエッジ位置の検出処理を繰り返し実行して前記検出対象物における複数のエッジ位置を検出するものである請求項2に記載のエッジ検出装置。 - 前記メモリは、検出対象物の種別とその検出対象物におけるエッジ位置の検出対象とに応じて前記増幅器の動作を規定するゲインとバイアス、前記弁別器に設定する弁別閾値、および前記ラインセンサからの信号読み出し方向を指定する情報を、制御パラメータの組として記憶するものである請求項4に記載のエッジ検出装置。
- 前記検出対象物は、その表面に保護フィルムを貼付したウェハであって、
前記信号処理手段は、上記保護フィルムのエッジ位置と前記ウェハのエッジ位置とを検出するものである請求項1に記載のエッジ検出装置。
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2007
- 2007-02-22 JP JP2007042061A patent/JP2008203182A/ja active Pending
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