JP2008192225A - 追記型２層構成光記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】Ｂｉを主成分として含有する薄膜（Ｒｅ層）を記録層とする簡易で単純な層構成を有し、高密度記録が可能で、高感度、高ＰＲＳＮＲ、高反射率の追記型２層構成光記録媒体の提供。
【解決手段】レーザ光入射側から、少なくとも、第一情報層、中間層、第二情報層をこの順に有し、第一情報層は、レーザ光照射側から順に、少なくとも、Ｂｉを主成分として含有する薄膜（第一Ｒｅ層）、第一誘電体層、Ｔｉ酸化物を含む層が積層されており、第二情報層は、レーザ光照射側から順に、少なくとも、Ｂｉを主成分として含有する薄膜（第二Ｒｅ層）、第二誘電体層が積層形成されている追記型２層構成光記録媒体。
【選択図】図１

Description

本発明は、青色レーザ光波長領域でも高密度の記録が可能な追記型（ＷＯＲＭ：Ｗｒｉｔｅ Ｏｎｃｅ Ｒｅａｄ Ｍａｎｙ）光記録媒体に係り、特に、少なくとも、第一情報層、中間層及び第二情報層を有する追記型２層構成光記録媒体に関するものである。

レーザ光ビームの照射により記録可能な光記録媒体としてＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ等の追記型光記録媒体がある。これらの光記録媒体はＣＤ−ＲＯＭ又はＤＶＤ−ＲＯＭと再生互換性があり、小規模の配布媒体や保存用の媒体として使用されている。しかし、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒは現在、有機色素を用いた媒体が主流であり、低コストで大量生産が行われている。追記型光記録媒体を無機記録層で実現する場合には、層数が多くなるとコストが上昇し商品としてのメリットが無くなるため、できるだけ層数の少ない追記型光記録媒体が提案されてきた。追記型光記録媒体には穴あけタイプ、相変化タイプ、合金化タイプなどがあり、コストの面からは穴あけ記録方式が有望であるが、Ｃ／Ｎが低くなってしまうという問題があった。これは穴を開けたピット部分において溶融した膜がピット内に水玉のようになって残ったり、周辺部に盛り上がったりすることが原因であった。また、穴あけ記録方式では層構成は１層となるため、通常使用されてきた記録膜ではＲＯＭの高い反射率に対応できず規格外製品となってしまっていた。

穴あけ記録材料としてはＴｅとＡｕ又はＡｇの化合物があるが（特許文献１〜２など）、これらの材料の沸点は１０００℃以上であり、非常に感度が低い光記録媒体であった。
融点まで温度を上昇させればよい相変化タイプに比べ、穴あけ記録方式では記録のために沸点以上まで温度を上げる大きな熱量を必要としている。そのため、相変化タイプに比べて大きなレーザパワーを必要とし、高線速記録となると半導体レーザのパワーが足りなくなる。従って、より高感度な記録膜が要求されている。
特許文献３には、４００℃以下の温度で揮発性成分を遊離する第一の層の上に耐腐食性金属層を形成し、記録感度を高める試みをした発明が開示されているが、反射率を高めることは目的とされておらず、ＲＯＭ互換とはなり得ない。また、耐腐食性金属をＡｕ、Ａｇなどとしているが、これらは熱伝導率が極めて高く、加熱したエネルギーが拡散により逃げるため、結果的に効果は低く、高線速記録には不適当であった。

また、合金化方式としては、特許文献４に、Ｇｅ、Ｓｉ、Ｓｎの何れかの元素からなる層と、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｕの何れかの元素からなる層にレーザ光を照射し、この二層を合金化させて記録する方法が提案されているが、ｌｏｗ ｔｏ ｈｉｇｈ記録となり、ＲＯＭ互換とはなり得なかった。
また、特許文献５には、ＩｎとＴｅの合金で相変化タイプの記録層を成膜する発明が開示されており、組成比をＩｎ：Ｔｅ＝２：１〜１：１又は２：３〜２：５としているが、この発明では成膜時の状態が非晶質であり反射率が低いため初期化処理が必要である。そのため工程が増えコストの増大を招いていた。

また、特許文献６には、Ａｇ−Ｚｎからなる第一の層（相変化合金薄膜）と、Ｔｅ、Ｓｅ、Ｓから選ばれる一種類を主成分とする第二の層（低融点薄膜）を設け、二つの層の拡散により記録を行なう発明が開示されているが、反射率を高めるために第一の層を３０〜７０ｎｍ、第二の層を５０〜１５０ｎｍと厚くしており、生産時のタクト及びコストに不利となっていた。また、膜厚を厚くすることにより反射率を大きく上げているが、本発明者らの調査では、反射率が高く吸収率が小さすぎるため熱吸収が記録膜上で殆ど起こらず、感度が非常に悪いということが分かった。このためＤＶＤなどの速い線速を求められる媒体には使用できない。また、ＡｇとＴｅ、Ｓｅなどは非常に反応性が高く、読み取りレーザ光を照射するだけで、又は媒体を放置するだけで、二つの層の反応が起こり反射率は低下した。
また、特許文献７には、第１層が主にＩｎからなる薄膜、第２層が周期表の５Ｂ、６Ｂ族元素を含む薄膜からなり、２層間の反応又は合金化による反射率変化を伴う媒体が開示されているが、この媒体も特許文献６の発明と同様に、ＩｎとＴｅなどの反応性が高いため非常に不安定であった。
上記した諸々の問題が、層数の少ない無機材料からなる記録層を有する追記型光記録媒体の普及に大きな障害となっていた。

また、以前に本発明者らは青色領域のレーザ光による追記型光記録媒体に関する発明の出願をした（特許文献８）。その内容について簡潔に述べると以下のようになる。
即ち、この先願発明は、従来、光吸収機能による熱発生層であり且つ分解・変質に起因した屈折率（複素屈折率の実部）変化による記録層として機能していた有機材料薄膜の代りに、無機層である主に酸化ビスマスからなる記録層（Ｒｅ層）を設けた点に特徴がある。先願明細書には、その媒体層構成が重要であることが記載されており、それを最適化することにより大きな有用性を見出したものである。本発明者らは主に酸化ビスマスからなる記録層を青色レーザ対応の追記型光記録媒体に適用し、非常に優れた記録再生特性が得られることを確認している。

最近では、書き換え可能な追記型光記録媒体の記録容量を増大する観点から、片面２層構成の提案がなされている（例えば、特許文献９〜１０、非特許文献１等参照）。
本発明者らが開発を行っているＲｅ層を有する追記型光記録媒体はＢｉの結晶化を主体とした記録原理を有するが、高感度で反射率が適切な媒体を得るためには、その媒体設計が非常に重要となる。
しかしながら、前記特許文献８のＲｅ層のＢｉは結晶化速度が速いため、マークを横方向に広げないためにも速やかに隣接する反射層などに熱を逃がしてやる必要がある。即ち、Ｂｉは急冷構造を取ることが必要な材料であり、記録層片面２層型のような反射層の薄い構造では、微小なマーク形成が困難になるという問題がある。

熱を逃がすための熱拡散層を設けた発明としては、特許文献１１などがあるが、これらの発明は相変化型の書き換え可能な情報記録媒体（所謂ＲＷ）に関するものである。ＲＷ媒体は相変化型の記録層に何度も記録再生を行うことを目的とした層構成を持っており、レーザ照射による加熱とその後の冷却によって、結晶状態と非晶質状態との間で相変化し、急速加熱後に急冷すると非晶質となり、徐冷すると結晶化する性質を情報の記録、消去、再生に応用したものである。しかしながら、本発明のようにＢｉを主成分として含有する記録層を有する追記型２層構成光記録媒体は一度だけの記録を目的としており、再記録はできない材料構成と膜構成が要求され、その最適とされる層構成が異なるため、ＲＷ媒体の発明に係る知見を単純に応用することはできない。

比較的熱伝導率が高く光吸収率の小さい窒化物又は炭化物などを用いて、反射層が担っていた熱拡散機能を補助する層（熱拡散層）を反射層の上に更に設けて急冷構造に近づけるやり方が、単層相変化型情報記録媒体（特許文献１２）、及び２層相変化型情報記録媒体（特許文献１３）などで提案されている。この方法は第一情報層を構成する反射層を薄くした場合に発生する前述のような欠点を解消するのに有効な方法であると考えられる。
しかしながら、これら窒化物又は炭化物などの材料は、応力が大きいために形成された熱拡散層にクラックを生じやすく、その結果、熱拡散層を設けた光記録媒体について、充分なオーバーライト特性が得られないという問題がある。また、炭化物材料は、とりわけ短波長側での吸収が大きく、青紫色レーザを用いるＢｌｕ−ｒａｙ Ｄｉｓｋシステムのような次世代のシステムでは、第一情報層の光透過率を大きくすることが出来ないと言う問題が生じる。

Ｔｉ酸化物については、特許文献１４に、多層情報記録媒体の誘電体層として酸化チタンを用いた例が開示されている。
また、青色レーザを用いた情報記録媒体に酸化チタンを用いた例としては特許文献１５〜１６がある。これらの発明では第一情報層の反射層として酸化チタンを用いている。
しかし、酸化チタンのみで第一情報層の反射層を形成すると、その厚みは６０ｎｍ又は１２０ｎｍといった厚いものになり、第二情報層の感度を悪くする結果をもたらす。また、酸化チタンのスパッタレートは非常に遅いため（１〜２ｎｍ／ｓ）、量産する際に、前述のような厚い膜をスパッタすることは殆ど不可能であるため、薄い酸化チタンを形成させる必要がある。しかし、薄い酸化チタンでは充分な反射率が得られなかった。

特開昭６０−１７９９５２号公報 特開昭６０−１７９９５３号公報 特開昭５７−１５７７９０号公報 特開平４−２２６７８４号公報 特開平１−１６２２４７号公報 特許第２９４８８９９号公報 特開平１１−３４５０１号公報 特開２００６−１９２８８５号公報 特開２００３−２００６６３号公報 特開２００３−２０３３８３号公報 特開２００６−８５８３１号公報 特開平８−５０７３９号公報 特開２０００−２２２７７７号公報 国際公開２００４／０５５８００号パンフレット 特開平１１−２８３２７８号公報 特開２００２−５６５７４号公報 Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ ｏｎ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｍｅｍｏｒｙ ２００３（ＩＳＯＭ ２００３）予稿集ｐ．７４

本発明は、上述したような従来の問題に鑑み、Ｂｉを主成分として含有する薄膜（Ｒｅ層）を記録層とする簡易で単純な層構成を有し、高密度記録が可能で、高感度、高ＰＲＳＮＲ、高反射率の追記型２層構成光記録媒体の提供を目的とする。

上記課題は、次の１）〜１２）の発明によって解決される。
１） レーザ光入射側から、少なくとも、第一情報層、中間層、第二情報層をこの順に有し、第一情報層は、レーザ光照射側から順に、少なくとも、Ｂｉを主成分として含有する薄膜（第一Ｒｅ層）、第一誘電体層、Ｔｉ酸化物を含む層が積層されており、第二情報層は、レーザ光照射側から順に、少なくとも、Ｂｉを主成分として含有する薄膜（第二Ｒｅ層）、第二誘電体層が積層形成されていることを特徴とする追記型２層構成光記録媒体。
２） 第一情報層が第一反射層を有することを特徴とする１）記載の追記型２層構成光記録媒体。
３） 第二情報層が第二反射層を有することを特徴とする１）又は２）記載の追記型２層構成光記録媒体。
４） 第一反射層の膜厚Ｔ１とＴｉ酸化物を含む層の膜厚Ｔ２が、Ｔ２／Ｔ１＝０．４〜１．５の範囲にあることを特徴とする２）又は３）記載の追記型２層構成光記録媒体。
５） 第一誘電体層の膜厚ｔ１と第二誘電体層の膜厚ｔ２が、ｔ２／ｔ１＝０．７〜１．５の範囲にあることを特徴とする１）〜４）の何れかに記載の追記型２層構成光記録媒体。
６） 第一Ｒｅ層の膜厚が５〜２５ｎｍ、第一誘電体層の膜厚が１０〜３０ｎｍであり、第二Ｒｅ層の膜厚が５〜２５ｎｍ、第二誘電体層の膜厚が１０〜３０ｎｍであることを特徴とする１）〜５）の何れかに記載の追記型２層構成光記録媒体。
７） 第一Ｒｅ層と第一基板の間に、典型元素を含む化合物を主成分とする層（典型元素を含む化合物層）が積層形成されていることを特徴とする１）〜６）の何れかに記載の追記型２層構成光記録媒体。
８） 典型元素を含む化合物層の典型元素がＺｎ、Ｉｎ、Ａｌ及びＳｎの中から選ばれる１種以上の元素であることを特徴とする７）記載の追記型２層構成光記録媒体。
９） 典型元素を含む化合物層の膜厚が１０〜７０ｎｍであることを特徴とする７）又は８）記載の追記型２層構成光記録媒体。
１０） Ｔｉ酸化物を含む層の熱伝導率の値がバルクの状態で６〜９．５（Ｗ／ｍＫ）の範囲にあることを特徴とする１）〜９）の何れかに記載の追記型２層構成光記録媒体。
１１） Ｒｅ層が、Ｂｉ酸化物を主成分とするものであることを特徴とする請求項１〜１０の何れかに記載の追記型２層構成光記録媒体。
１２） Ｒｅ層が、Ａｌ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｓｃ、Ｉｎ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｍｏ、Ｖ、Ｎｂ及びＢの中から選ばれる一種以上の元素Ｍを含有することを特徴とする１）〜１１）の何れかに記載の追記型２層構成光記録媒体。

以下、上記本発明について詳しく説明する。
本発明の追記型２層構成光記録媒体は、基本的な層構成として、第一情報層、第二情報層共に、レーザ光照射側から、少なくとも、Ｂｉを主成分として含有する薄膜（Ｒｅ層）と誘電体層が順次積層されている。ここで、Ｂｉを主成分として含有するとは、Ｒｅ層の組成においてＢｉが必須成分であると共に、酸素を除いた構成元素全体のうち、Ｂｉが３０原子％以上を占めることを意味する。例えばＲｅ層がＢｉ、Ｆｅ、Ｏ（酸素）からなる場合、ＢｉとＦｅの合計量のうち、Ｂｉが３０原子％以上を占めることを意味する。

また、誘電体層の材料は、屈折率、熱伝導率、化学的安定性、機械的強度、密着性等に留意して決定される。一般的には、透明性が高く高融点である金属や半導体の酸化物、硫化物、窒化物、炭化物やＣａ、Ｍｇ、Ｌｉ等のフッ化物を用いることができる。
上記観点及びＲｅ層との整合性を考慮すると、好ましい結果をもたらす低熱伝導率の材料としては、ＺｎＳ、ＺｎＯ、ＴａＳ_２及び希土類硫化物から選択される少なくとも１種を５０〜９０モル％含み、かつ、融点又は分解点が１０００℃以上の耐熱性化合物を含む複合誘電体が望ましい。
上記融点又は分解点が１０００℃以上の耐熱化合物材料としては、例えばＭｇ、Ｃａ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｙｂ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｐｂ等の酸化物、窒化物又は炭化物、Ｃａ、Ｍｇ、Ｌｉ等のフッ化物が挙げられる。特に好ましいのは、ＺｎＳとＳｉＯ_２の混合物である。なお、上記酸化物、硫化物、窒化物、炭化物、フッ化物は必ずしも化学量論的組成をとる必要はなく、屈折率等の制御のために組成を制御したり、混合して用いることも有効である。

Ｒｅ層は本発明の光記録媒体において、主たる光吸収機能を担う層である。
Ｒｅ層は、正常分散を示す材料よりなり、有機材料のように、ある波長範囲内に大きな吸収帯を有する材料ではないため、複素屈折率の波長依存性が小さい。従って、レーザ光の個体差や、環境温度の変化等による記録再生波長の変動に対し、記録感度、変調度、ジッタ、エラー率といったような記録特性や、反射率等が大きく変化するという従来の問題を大幅に解消することができる。
従来公知の追記型光記録媒体においては、有機材料薄膜が記録層と光吸収層の機能を兼用しているため、記録再生波長に対して、大きな屈折率ｎと比較的小さな吸収係数ｋを有することが有機材料の必須条件とされ、そのため有機材料を分解させる温度まで到達させるには、比較的、膜厚を厚く形成する必要があった。また、相変化型の光記録媒体については、基板の溝深さを非常に深くする必要があった。
しかし、本発明者らが鋭意検討した結果、本発明１のような層構成とすることにより、ジッタ、ＰＲＳＮＲが向上することを見出した。なお、ＰＲＳＮＲ（Ｐａｒｔｉａｌ Ｒｅｓｐｏｎｓｅ Ｓｉｇｎａｌ ｔｏ Ｎｏｉｓｅ Ｒａｔｉｏ）は、再生信号のＳ／Ｎ及び実際の再生波形と理論的なＰＲ波形線形成を同時に表現できる指標で、ディスクのビット誤り率の推定を行うために必要な指標の一つである。再生波形から得られる振幅情報を特殊処理して目標とする信号を作り出し、実際の再生信号との差をＰＲＳＮＲとして規格化している。ＰＲＳＮＲは、大きいほど良好な信号特性を示しており、一般にエラー率を実用的な範囲に留めるためには１５以上の値が必要である。

本発明では、Ｒｅ層を用いた媒体を記録層片面２層型にするため、第一反射層を無くすか又はその膜厚を、十分に光が透過するまで薄くしなければならない。一方、前述したようにＢｉは結晶化速度が速いため、マークを横方向に広げないためにも速やかに隣接する反射層などに熱を逃がしてやる必要がある。即ち、急冷構造を取ることが必要な材料であり、反射層が無いか又はその膜厚が薄い構造では微小なマーク形成が困難になるという問題がある。
また、第二情報層が記録再生できるように、用いるレーザ光波長での吸収率が小さいことも望まれる。情報の記録再生に用いるレーザ光の波長において、消衰係数は０．５以下が望ましく、０．３以下がより好ましい。消衰係数が０．５よりも大きいと第一情報層での吸収率が増大し、第二情報層の記録再生が困難になる。

しかし、本発明１のようにＴｉ酸化物を含む層を設ければ、反射層の薄い構造においても急冷構造を確保でき、微小なマークを形成させることが出来るようになり、ＰＲＳＮＲの大幅な改善が可能となる。更に、Ｔｉ酸化物は誘電体の中でも特に屈折率が高いので、反射層を無くすことも可能である。Ｔｉ酸化物のように屈折率が高く微小なマークを形成するのに充分な熱伝導率を有する誘電体は殆どない。
Ｔｉ酸化物を含む層の材料としては、Ｔｉ酸化物のみでもよいが、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３などを配合して用いてもよい。Ｔｉ酸化物の配合割合は、屈折率を充分高くするため７０モル％以上、好ましくは９０モル％以上とする。
また、Ｔｉ酸化物を含む層は熱拡散層の機能も有するので、その熱伝導率の値がバルク（１ｍｍ以上の厚みを持つサンプル）の状態で６〜９．５（Ｗ／ｍＫ）であることが好ましい。なお、本発明者らは熱伝導率をレーザフラッシュ法により測定した。測定試料の形状は縦１２ｍｍ、横２ｍｍ、厚さ１ｍｍであり、試料表面をカーボンスプレーで黒化処理したものを用いた。

追記型２層構成光記録媒体においては、第一情報層に記録できる特性を保持しながら、第二情報層に記録再生できるだけの光を適量透過させる能力を有する必要があるので、反射層を設ける場合には、反射層の膜厚とＴｉ酸化物を含む層の膜厚とのバランスが非常に重要である。本発明者らは、第一反射層の膜厚Ｔ１とＴｉ酸化物を含む層の膜厚Ｔ２を、Ｔ２／Ｔ１＝０．４〜１．５の範囲とすることにより、第一情報層と第二情報層の記録再生特性のバランスを取り、両情報層において良好な信号特性と感度が実現できることを見出した。Ｔ２／Ｔ１が０．４よりも小さいと、第一情報層の反射率が上昇しすぎて第二情報層へ到達する光が少なくなり、第二情報層の感度、ＰＲＳＮＲ値の悪化を招く。また、Ｔ２／Ｔ１が１．５よりも大きいと、第一情報層の透過率が高くなりすぎて第一情報層の感度、ＰＲＳＮＲの悪化を招く。
また、Ｔ１が８〜２５ｎｍの範囲にある場合、Ｔ２を１０〜２５ｎｍとすることにより、反射層の薄い構造においても急冷構造を確保することができ、微小なマークを形成させることが出来るようになり、ＰＲＳＮＲの大幅な改善が可能となる。
前述のようなＢｉの性質から急冷構造が重要であるが、Ｔ１が８〜２５ｎｍの範囲にある場合、Ｔ２が１０ｎｍよりも薄いと、反射層の薄い構造では微小なマーク形成が困難となり、信号特性が急激に悪化する。また、Ｔ２が２５ｎｍよりも厚いと、４０５ｎｍのレーザの透過率が高くなり、第一情報層の感度とＰＲＳＮＲが悪化する。

また、第一誘電体層の膜厚ｔ１と第二誘電体層の膜厚ｔ２を、ｔ２／ｔ１＝０．７〜１．５の範囲にあるようにすれば、第一情報層の透過率と第二情報層の反射率とのバランスが最適となり、両情報層において良好な記録特性（感度、ＰＲＳＮＲ、反射率）が得られる。ｔ２／ｔ１が０．７未満では、第一情報層の反射率が高くなり透過率が低くなるため、第二情報層の感度が非常に悪くなる。ｔ２／ｔ１が１．５よりも大きいと、第二情報層の反射率が大幅に上昇し、やはり第二情報層の感度が著しく悪化し、ＰＲＳＮＲも悪化する。即ち、第一情報層と第二情報層の誘電体層の膜厚比を最適化することにより、両情報層において、高感度、高ＰＲＳＮＲ、高反射率の特性を比較的簡素な層構成で実現できる。

また、第一Ｒｅ層の膜厚が５〜２５ｎｍ、第一誘電体層の膜厚が１０〜３０ｎｍ、第二Ｒｅ層の膜厚が５〜２５ｎｍ、第二誘電体層の膜厚が１０〜３０ｎｍとなるように各層の膜厚を選択すれば、第一情報層の透過率と第二情報層の反射率とのバランスが最適となり、両情報層において良好な記録特性（感度、ＰＲＳＮＲ、反射率）が得られる。第一情報層の各膜厚が上記限定範囲を外れると、第一情報層の透過率が低下し、第二情報層の感度が著しく悪化し、ＰＲＳＮＲも悪化する。第二情報層の各膜厚が上記限定範囲を外れると、第二情報層の反射率が著しく上昇し、第二情報層の感度とＰＲＳＮＲが悪化する。
即ち、第一情報層及び第二情報層の各層の膜厚を最適化することにより、両情報層において、高感度、高ＰＲＳＮＲ、高反射率の特性を比較的簡素な層構成で実現できる。

また、第一Ｒｅ層と第一基板の間に、典型元素を含む化合物を主成分とする層（典型元素を含む化合物層）を積層することが望ましい。ここで主成分とは、材料全体の３０モル％以上を占めることを意味するが、通常は上記化合物のみを用いる。
通常、基板は水分や酸素を含んでおり、また水分や酸素を透過しやすいので、記録層などが接している場合、これを酸化して特性を悪化させるが、典型元素を含む化合物層を設けると、水分や酸素を遮断して保存特性を向上させる効果が得られる。また、耐環境試験特性における安定性が大きく向上する。しかも、本典型元素を含む化合物層を用いても、反射率を低下させるなどの悪影響を及ぼさないことも特徴の一つである。
典型元素としてはＺｎ、Ｉｎ、Ａｌ及びＳｎの中から選ばれる一種以上の元素が好ましく、典型元素を含む化合物の例としては、ＺｎＳ、ＺｎＳＳｉＯ_２、ＩｎＯ_２、ＳｎＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＡｌＮ、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）などが挙げられる。
更に、第二情報層のレーザ入射面側にも典型元素を含む化合物層を設けても良い。これにより、第二情報層の安定性が増すことが期待される。
典型元素を含む化合物層の膜厚は、１０〜７０ｎｍとすることが望ましい。膜厚が１０ｎｍ未満では水分や酸素の透過を充分に防ぐことができず第一Ｒｅ層の劣化を招き、７０ｎｍを超えると製膜に時間がかかりタクトが長くなったり、製膜の熱によって基板や溝が変形するなどの弊害をもたらす上に、記録特性が著しく劣化する。

Ｒｅ層にはＢｉ酸化物を主成分とする材料を用いることが望ましい。ここで、主成分とは、Ｒｅ層に含まれるＢｉの量が前述した条件を満足するように用いることを意味する。
Ｂｉ酸化物をＲｅ層の材料として用いることにより、極めて良好なＰＲＳＮＲを得ることができ、かつ反射率の向上を図ることができる。このような層は、Ｒｅ層を製膜する際のターゲットをＢｉ酸化物又はＢｉ合金酸化物とするか、Ｂｉ又はＢｉ合金をアルゴンと酸素の混合雰囲気中でスパッタする等の手段を用いることにより製膜できる。
更に、Ｒｅ層には、Ａｌ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｓｃ、Ｉｎ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｍｏ、Ｖ、Ｂ、及びＮｂの中から選ばれる一種以上の元素Ｍを含有させることが望ましい。元素Ｍを含有させることにより青色波長の光に対して良好な記録を行うことができる。
未記録状態の結晶構造と記録マークの結晶構造が異なるようにすることにより変調度を得ることは、従来から相変化記録などで行われていたが、本発明では、２種類以上の酸化物の結晶が混在する状態で記録マークを形成することにより、記録マークと未記録部の屈折率差などがより大きくなり、大きな変調度が得られる。更に、それぞれの酸化物の結晶だけでなく単体元素の結晶を存在させることで、より大きな効果が得られる。また、異なる元素又は結晶構造の結晶が混在することで、結晶の成長を抑えることができる。即ち、二つ以上の異なる元素及び／又は結晶構造の結晶からなる記録マークは、大きく成長して広がってしまうことが抑制され、小さい記録マークを形成することができる。

中間層は記録再生のために照射する光の波長における光吸収が小さいことが好ましく、材料としては、成形性、コストの点で樹脂が好適であり、紫外線硬化樹脂、遅効性樹脂、熱可逆性樹脂などを用いることができる。また、光ディスク貼り合わせ用の両面テープ（例えば日東電工社製の粘着シートＤＡ−８３２１）なども用いることができる。
中間層は、記録再生を行う際に、ピックアップが第一情報層と第二情報層とを識別して光学的に分離できるようにするものであり、その厚さは１０〜７０μｍが好ましい。
基板の材料としては、熱的、機械的に優れた特性を有し、基板側から（基板を通して）記録再生が行われる場合には光透過特性にも優れたものであれば、特に限定されるものではない。その具体例としては、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、非晶質ポリオレフィン、セルロースアセテート、ポリエチレンテレフタレート等が挙げられるが、ポリカーボネートや非晶質ポリオレフィンが好適である。
基板の厚さは、用途により適宜設定することができ、特に限定されない。

反射層の材料は、再生光の波長で反射率の充分高いものが好ましい。
例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｐｄ等の金属を単独で、又は合金として用いることができる。特にＡｕ、Ａｌ、Ａｇは反射率が高く、反射層の材料として好適である。また、これらの金属を主成分として他の元素を含んでいても良く、他の元素としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属及び半金属を挙げることができる。中でもＡｇを主成分とするものは、コストが安く高反射率が得やすいので特に好適である。
また、金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。

反射層の膜厚は、第一反射層では８〜２５ｎｍ、第二反射層では５０〜２００ｎｍが好適である。
反射層を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。
反射層にＡｇ等を用いた場合、ＺｎＳＳｉＯ_２層を隣接させて積層するとＺｎＳＳｉＯ_２中のＳがＡｇと徐々に反応し、特性の悪化や反射率の減少などを招く可能性がある。よって、反射層と誘電体層の間に硫化防止層と呼ばれる層を設けてもよい。硫化防止層の材料としては、例えばＳｉＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯ_３、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３などの酸化物、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＡｌＮ、ＴｉＮなどの窒化物、ＳｉＣなどの炭化物が挙げられるが、一般によく用いられているのはＳｉＣである。

図１に本発明の追記型２層構成光記録媒体の基本的層構成を示す。但し、第一反射層、第二反射層、典型元素を含む化合物層はなくてもよい。
各層の膜厚は、通常、第一Ｒｅ層を５〜２５ｎｍ、好ましくは１０〜１５ｎｍ、第一誘電体層を１０〜３０ｎｍ、好ましくは１３〜２５ｎｍ、第一反射層を８〜２５ｎｍ、好ましくは１０〜１５ｎｍ、Ｔｉ酸化物を含む層を１０〜２５ｎｍ、好ましくは１２〜２０ｎｍ、第二Ｒｅ層を５〜２５ｎｍ、好ましくは１０〜１５ｎｍ、第二誘電体層を１０〜３０ｎｍ、好ましくは１３〜２５ｎｍ、第二反射層を５０〜２００ｎｍ、好ましくは６０〜９０ｎｍとする。
また、基板の上（基板の内側の面上）や反射層の下（通常は反射層と誘電体層の間）に、反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のために公知の無機系又は有機系の上引層、下引層あるいは接着層を設けてもよい。

反射層上や、その他の構成層間に適宜保護層を設けてもよい。保護層の材料としては、外力から保護する機能を有するものであれば、従来公知の材料を何れも適用できる。
有機材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等が挙げられる。また、無機材料としては、ＳｉＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＭｇＦ_２、ＳｎＯ_２等が挙げられる。
保護層の形成方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法等の塗布法、スパッタ法、化学蒸着法等が用いられるが、特にスピンコート法が好ましい。
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂からなる保護層は、樹脂を適当な溶剤に溶解した塗布液を塗布し乾燥することによって形成することができる。
紫外線硬化性樹脂からなる保護層は、樹脂をそのまま又は適当な溶剤に溶解した塗布液を塗布し、紫外線光を照射して硬化させることによって形成できる。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートなどのアクリレート系樹脂を適用できる。
これらの材料は単独で用いても混合して用いても良いし、１層だけでなく多層膜にして用いても良い。
保護層の膜厚は、一般に０．１〜１００μｍとするが、特に３〜３０μｍが好ましい。

本発明によれば、Ｒｅ層を記録層とする追記型２層構成光記録媒体において、Ｔｉ酸化物を含む層を用いることにより第一情報層の記録特性を改善できる。その結果、簡易で単純な層構成を有し、高密度記録が可能で、高感度、高ＰＲＳＮＲ、高反射率の追記型２層構成光記録媒体を提供できる。

以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。

（実施例１）
＜追記型２層構成光記録媒体の作製＞
表面にトラックピッチ０．４０μｍ、溝深さ２１ｎｍの案内溝を有する直径１２０ｍｍ、厚さ０．５９ｍｍのポリカーボネート樹脂製の第一基板と第二基板を用意した。
次に、Ｂａｌｚｅｒｓ社製の枚葉スパッタ装置を用いて、第一基板上に、ＺｎＳＳｉＯ_２（８０：２０モル％）からなる膜厚４０ｎｍの典型元素を含む化合物層、Ｂｉ_２Ｏ_３からなる膜厚２０ｎｍの第一Ｒｅ層、ＺｎＳ・ＳｉＯ_２（８０：２０モル％）からなる膜厚２０ｎｍの第一誘電体層、ＴｉＯ_２からなる膜厚１５ｎｍの層を順次製膜することにより、第一情報層を作製した。
同様にして、第二基板上に、ＺｎＳ・ＳｉＯ_２（８０：２０モル％）からなる膜厚２０ｎｍの第二誘電体層、Ｂｉ_２Ｏ_３からなる膜厚２０ｎｍの第二Ｒｅ層を順次製膜することにより、第二情報層を作製した。
次に、第一情報層の膜面上に紫外線硬化樹脂（日本化薬株式会社 ＤＶＤ００３）を含む塗布液をスピンコートにより塗布し、同様にして第二基板上に紫外線硬化樹脂を塗布した後、減圧雰囲気下で貼り合わせた。その後、第一基板側から紫外線光を照射し紫外線硬化樹脂を硬化させて厚さ２５μｍの中間層を形成した。
以上のようにして、第一基板、第一情報層、中間層、第二情報層、第二基板がこの順に積層された追記型２層構成光記録媒体を作製した。

本実施例では更に、ＴｉＯ_２からなる層にＳｉＯ_２を混合させて熱伝導率を変化させ、それを測定した。そして、これらの材料を用いた上記層構成の追記型２層構成光記録媒体を作製し、ＰＲＳＮＲと感度＝最適記録パワー（Ｐｗ）を測定した。ＰＲＳＮＲは、パルステック社製ＯＤＵ−１０００を評価機として用い、レーザ波長４０５ｎｍ、ＮＡ０．６、クロック周波数６４．８ＭＨｚで、６．６１ｍ／ｓの線速度で基板を回転させ、ランダムパターンを書き込んで評価した。感度は、同じ評価機を用い、消去パワーを３ｍＷに固定し、記録パワーを媒体毎に振って（変化させて）、最も良好なＰＲＳＮＲ値を示す記録パワーを求め、感度＝Ｐｗ（ｍＷ）として示した。なお、これらの評価では、ＨＤ ＤＶＤ−Ｒ規格（ＰＲＳＮＲが１５以上、感度が１３ｍＷ以下）を満たさない場合を規格外とした。また、前述した方法で測定したＴｉＯ_２のみの場合の熱伝導率は、９．５（Ｗ／ｍＫ）であり、このときの第一情報層、第二情報層のＰＲＳＮＲは、それぞれ２１、２４、感度は、それぞれ１２．６、１２．２である。参考までに、ＳｉＯ_２の熱伝導率は、１．３８（Ｗ／ｍＫ）である。また、ＨＤ ＤＶＤ−Ｒ規格とは、ＤＶＤ Ｓｐｅｃｉｆｉｃａｔｉｏｎｓ ｆｏｒ Ｈｉｇｈ Ｄｅｎｓｉｔｙ Ｒｅｃｏｒｄａｂｌｅ Ｄｉｓｃ ｆｏｒ Ｄｕａｌ Ｌａｙｅｒ（ＨＤ ＤＶＤ−Ｒ ｆｏｒ ＤＬ）ＰＨＹＳＩＣＡＬ ＳＰＥＣＩＦＩＣＡＴＩＯＮＳ Ｖｅｒ． ２．０のことである。
結果を図２、図３に示すが、この図から分かるように熱伝導率が６（Ｗ／ｍＫ）未満ではＰＲＳＮＲは１５に近づき、更に低い熱伝導率では１５を割って悪化した。これは熱が充分に拡散せず微小なピットを形成し難くなっているためと推測される。また、熱伝導率が９．５（Ｗ／ｍＫ）を超えると、第一情報層の感度が悪化した。これは放熱が大きすぎてピット形成に必要なエネルギーが失われていることを示す。熱伝導率が６〜９．５の範囲ならば、サンプルのばらつきを考慮しても充分合格とみなすことができる。

（実施例２）
第一誘電体層とＴｉＯ_２からなる層の間に、Ａｇからなる膜厚２０ｎｍの第一反射層を設け、第二基板上と第二誘電体層の間に、Ａｇからなる膜厚８０ｎｍの第二反射層を設けた点以外は、実施例１と同様にして追記型２層構成光記録媒体を作製した（図１参照）。
そして、第一反射層の膜厚Ｔ１とＴｉＯ_２からなる層の膜厚Ｔ２を振って、Ｔ２／Ｔ１の割合を様々に変化させ、ＰＲＳＮＲ及び感度を実施例１と同様にして測定した。具体的には第一反射層の膜厚を８〜２５ｎｍの範囲で変化させ、それぞれについてＴ２を振ってＴ２／Ｔ１を求めた。
結果を図４、図５に示すが、この図から分るように、Ｔ２／Ｔ１が０．４よりも小さいと、第一情報層の反射率が上昇しすぎて第二情報層へ到達する光が少なくなり、第二情報層の感度、ＰＲＳＮＲの悪化を招いた。また、Ｔ２／Ｔ１が１．５よりも大きいと、第一情報層の透過率が高くなりすぎて第一情報層の感度、ＰＲＳＮＲの悪化を招いた。
Ｔ２／Ｔ１が０．４〜１．５の範囲ならば、サンプルのばらつきを考慮しても充分合格とみなすことができる。
また、上記範囲を満たす場合のＴｉＯ_２からなる層の膜厚Ｔ２は１０〜２５ｎｍであり、第一反射層が８〜１５ｎｍと薄い構造においても急冷構造を確保することができ、微小なマークを形成させることが出来るようになりＰＲＳＮＲの大幅な改善が可能となった。
前述のようなＢｉの性質から急冷構造が重要であるが、Ｔ１が８〜２５ｎｍの範囲にある場合、ＴｉＯ_２からなる層の膜厚が１０ｎｍよりも薄いと、第一反射層の薄い構造では微小なマーク形成が困難となり、信号特性が急激に悪化した。また、２５ｎｍよりも厚いと、熱の拡散が多すぎる現象が生じて第一情報層のＰＲＳＮＲと感度が悪化した。

（実施例３）
第一誘電体層の膜厚ｔ１と第二誘電体層の膜厚ｔ２をそれぞれ振った点以外は、実施例１と同様にして追記型２層構成光記録媒体を作製し、実施例１と同様にしてＰＲＳＮＲ及び感度を測定した。
結果を図６、図７に示すが、これらの図から分るように、ｔ２／ｔ１＝０．７〜１．５の範囲において、第一情報層と第二情報層の両層で良好なＰＲＳＮＲと感度を示した。しかし、これらの範囲を外れると、徐々にＰＲＳＮＲ及び感度が悪化し、特に第二情報層のＰＲＳＮＲ及び感度が規格値を外れてしまった。これは主にＺｎＳＳｉＯ_２のｎ、ｋと、その膜厚との関係から、反射率が高くなり過ぎて記録できる最適値から逸脱することに起因する。また、その他に、ＺｎＯ又はＴａＯ_２を５０〜９０モル％含んだＳｉＯ_２との複合誘電体層においても同様の結果を得た。
ｔ２／ｔ１が０．７〜１．５の範囲ならば、サンプルのばらつきを考慮しても充分合格とみなすことができる。

（実施例４）
典型元素を含む化合物層の膜厚を１０〜７０ｎｍ、第一Ｒｅ層の膜厚を５〜２５ｎｍ、ＺｎＳＳｉＯ_２層の膜厚を１０〜３０ｎｍとし、第二Ｒｅ層の膜厚を５〜２５ｎｍ、ＺｎＳＳｉＯ_２層の膜厚を１０〜３０ｎｍとした点以外は、実施例１と同様にして追記型２層構成光記録媒体を作製し、実施例１と同様にしてＰＲＳＮＲ及び感度を測定すると共に、反射率も測定した。
その結果、これらの媒体は、ＰＲＳＮＲ２０〜３０という値を示し、感度も９〜１１ｍＷでの書き込みができるなど良好な特性を示した。また、反射率についてもＨＤ ＤＶＤ−Ｒ規格４．５％以上を満たす５〜７％という良好な値を示した。
なお、反射率が上昇すれば感度が悪化し、記録の際には、より大きなパワーを導入する必要があるが、大きなパワーで記録を行うと隣接マーク又は隣接トラックへ大きな影響を及ぼすことになる。これに起因してＰＲＳＮＲが劣化するものと考えられる。

（実施例５）
Ｒｅ層のＢｉ_２Ｏ_３に、Ａｌ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｓｃ、Ｉｎ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｍｏ、Ｖ、Ｎｂ及びＢの中から選ばれる一種以上の元素Ｍを含有させた点以外は、実施例１と同様にして追記型２層構成光記録媒体を作製し、実施例１と同様にして評価した結果を表１に示す。
表１から分るように、これらの元素を添加することにより、実施例１に比べて、多くの場合において、更にＰＲＳＮＲ及び感度（Ｐｗ）を改善でき、全ての場合に、少なくとも第一情報層の感度を改善できた。

（実施例６）
典型元素を含む化合物層の膜厚を０ｎｍ、１０ｎｍ、７０ｎｍ、８０ｎｍとした点以外は、実施例１と同様にして追記型２層構成光記録媒体を作製し、８０℃（湿度８５％）の恒温槽で保存試験を行った。各保存時間ごとに実施例１と同様にして第一情報層のＰＲＳＮＲを測定した結果を図８に示す。
図８から分るように、典型元素を含む化合物層がある媒体の第一情報層は良好な保存試験結果を得た。しかし、典型元素を含む化合物層が８０ｎｍになると、信号特性（ＰＲＳＮＲ）は規格値の下限１５すれすれとなった。その原因は、典型元素を含む化合物層の光学特性ｎ、ｋ値に応じて、各層の膜厚に最適な組み合わせがあるが、８０ｎｍでは、その最適な膜厚の組み合わせからずれてしまい、第一情報層において良好な特性が得られなくなってしまったことによると考えられる。
また、典型元素を含む化合物層の材料をＩｎＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２に変えた場合でも上記とほぼ同様の結果が確認された。

（実施例７）
本実施例では、ブルーレイ方式の追記型２層構成光記録媒体の作製方法とその効果について述べる。
表面にトラックピッチ０．３２μｍ、溝深さ２１ｎｍの案内溝を有する直径１２０ｍｍ、厚さ１．１ｍｍのポリカーボネート樹脂製の第二基板を用意した。
次に、Ｂａｌｚｅｒｓ社製の枚葉スパッタ装置を用いて、第二基板上に、Ａｇからなる膜厚８０ｎｍの第二反射層、ＺｎＳ・ＳｉＯ_２（８０：２０モル％）からなる膜厚２０ｎｍの第二誘電体層、Ｂｉ_２Ｏ_３からなる膜厚２０ｎｍの第二Ｒｅ層を順次製膜し第二情報層を形成した。
次に、第二情報層の膜面上に紫外線硬化樹脂（日本化薬株式会社 ＤＶＤ００３）を含む塗布液をスピンコートし、光透過性のスタンパを減圧雰囲気下で貼り合わせ、光透過性のスタンパ側から紫外線光を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させた後、光透過性のスタンパを剥がして第二基板と同様な溝を持つ厚さ２５μｍの中間層を形成した。
次に、その溝を付けた中間層上に、ＴｉＯ_２からなる膜厚５０ｎｍの層、Ａｇからなる膜厚１５ｎｍの第一反射層、ＺｎＳ・ＳｉＯ_２（８０：２０モル％）からなる膜厚２０ｎｍの第一誘電体層、Ｂｉ_２Ｏ_３からなる膜厚２０ｎｍの第一Ｒｅ層、ＺｎＳ・ＳｉＯ_２（８０：２０モル％）からなる膜厚４０ｎｍの典型元素を含む化合物層を順次製膜することにより、第一情報層を作製した。
次に、第一情報層上に、厚さ０．０９ｍｍのポリカーボネート樹脂製カバーフィルムを紫外線硬化樹脂により貼り合わせ、紫外線を照射し硬化させてカバー層とした。
以上のようにして、カバー層、第一情報層、中間層、第二情報層、第二基板がこの順に積層されたブルーレイ方式の追記型２層構成光記録媒体を作製した（図９参照）。
ブルーレイの評価においては、レーザ光波長：４０５ｎｍ、対物レンズの開口数：０．８５、クロック周波数６６ＭＨｚで、４．９２ｍ／ｓの線速度で基板を回転させ、ランダムパターンを書き込んで評価した。これらの記録マークについて、ジッタを測定した。
その結果、ジッタは５．２％となりＢＤ−Ｒ ＤＬ規格（Ｔｅｓｔ Ｓｐｅｃｉｆｉｃａｔｉｏｎｓ ｆｏｒ Ｂｌｕ−ｒａｙ ＤｉｓｃＲｅｃｏｒｄａｂｌｅ Ｍｅｄｉａ Ｖｅｒ．１．１）の規格値６．５％以下を満足することが確認された。

本発明の追記型２層構成光記録媒体の基本的層構成を示す図。 ＴｉＯ_２を含む層の熱伝導率とＰＲＳＮＲの関係を示す図。 ＴｉＯ_２を含む層の熱伝導率と感度（Ｐｗ）の関係を示す図。 Ｔ２／Ｔ１とＰＲＳＮＲの関係を示す図。 Ｔ２／Ｔ１と感度（Ｐｗ）の関係を示す図。 ｔ２／ｔ１とＰＲＳＮＲの関係を示す図。 ｔ２／ｔ１と感度（Ｐｗ）の関係を示す図。 実施例６の保存試験の結果を示す図。 実施例７のブルーレイ方式の追記型２層構成光記録媒体の層構成を示す図。

Claims (12)

1. レーザ光入射側から、少なくとも、第一情報層、中間層、第二情報層をこの順に有し、第一情報層は、レーザ光照射側から順に、少なくとも、Ｂｉを主成分として含有する薄膜（第一Ｒｅ層）、第一誘電体層、Ｔｉ酸化物を含む層が積層されており、第二情報層は、レーザ光照射側から順に、少なくとも、Ｂｉを主成分として含有する薄膜（第二Ｒｅ層）、第二誘電体層が積層形成されていることを特徴とする追記型２層構成光記録媒体。
2. 第一情報層が第一反射層を有することを特徴とする請求項１記載の追記型２層構成光記録媒体。
3. 第二情報層が第二反射層を有することを特徴とする請求項１又は２記載の追記型２層構成光記録媒体。
4. 第一反射層の膜厚Ｔ１とＴｉ酸化物を含む層の膜厚Ｔ２が、Ｔ２／Ｔ１＝０．４〜１．５の範囲にあることを特徴とする請求項２又は３記載の追記型２層構成光記録媒体。
5. 第一誘電体層の膜厚ｔ１と第二誘電体層の膜厚ｔ２が、ｔ２／ｔ１＝０．７〜１．５の範囲にあることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の追記型２層構成光記録媒体。
6. 第一Ｒｅ層の膜厚が５〜２５ｎｍ、第一誘電体層の膜厚が１０〜３０ｎｍであり、第二Ｒｅ層の膜厚が５〜２５ｎｍ、第二誘電体層の膜厚が１０〜３０ｎｍであることを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載の追記型２層構成光記録媒体。
7. 第一Ｒｅ層と第一基板の間に、典型元素を含む化合物を主成分とする層（典型元素を含む化合物層）が積層形成されていることを特徴とする請求項１〜６の何れかに記載の追記型２層構成光記録媒体。
8. 典型元素を含む化合物層の典型元素がＺｎ、Ｉｎ、Ａｌ及びＳｎの中から選ばれる１種以上の元素であることを特徴とする請求項７記載の追記型２層構成光記録媒体。
9. 典型元素を含む化合物層の膜厚が１０〜７０ｎｍであることを特徴とする請求項７又は８記載の追記型２層構成光記録媒体。
10. Ｔｉ酸化物を含む層の熱伝導率の値がバルクの状態で６〜９．５（Ｗ／ｍＫ）の範囲にあることを特徴とする請求項１〜９の何れかに記載の追記型２層構成光記録媒体。
11. Ｒｅ層が、Ｂｉ酸化物を主成分とするものであることを特徴とする請求項１〜１０の何れかに記載の追記型２層構成光記録媒体。
12. Ｒｅ層が、Ａｌ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｓｃ、Ｉｎ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｍｏ、Ｖ、Ｎｂ及びＢの中から選ばれる一種以上の元素Ｍを含有することを特徴とする請求項１〜１１の何れかに記載の追記型２層構成光記録媒体。