JP2008190979A - 電磁解析装置およびそのプログラム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】解析範囲設定手段10で、解析空間の範囲を設定して、分散粒子設定手段12で、解析空間の範囲内に粒子が分散して存在する量を表す分散指標値と、前記粒子の大きさと、前記粒子を構成する物質の特性値と、前記粒子の周囲の空間に存在する物質の特性値とを設定する。計算モデル生成手段14で、分散粒子設定手段12で設定された大きさおよび物質の特性値を有する粒子を、前記分散指標値に対応するように前記解析空間内のランダムな位置に配置した計算モデル200を生成し、電磁解析手段20で計算モデル200に従って電磁解析する。
【選択図】図1
Description
解析空間の範囲を設定する解析範囲設定手段と、
該設定された解析空間の範囲内に粒子が分散して存在する量を表す分散指標値と、前記粒子の大きさと、前記粒子を構成する物質の特性値と、前記粒子の周囲の空間に存在する物質の特性値とを設定する分散粒子設定手段と、
該分散粒子設定手段で設定された大きさおよび物質の特性値を有する粒子を、前記分散指標値に対応するように前記粒子の周囲の空間に存在する物質の特性値を有する解析空間内のランダムな位置に配置した計算モデルを生成する計算モデル生成手段と、
前記計算モデルに従って電磁解析する電磁解析手段とを備えたことを特徴とするものである。
解析空間の範囲を設定する解析範囲設定手段と、
前記解析空間の範囲内に粒子が分散して存在する量を表す分散指標値と、粒子の大きさと、粒子を構成する物質の特性値と、粒子の周囲の空間に存在する物質の特性値とを設定する分散粒子設定手段と、
該分散粒子設定手段で設定された大きさおよび物質の特性値を有する粒子を、前記分散指標値に対応するように前記粒子の周囲の空間に存在する物質の特性値を有する解析空間内のランダムな位置に配置した計算モデルを生成する計算モデル生成手段と、
前記計算モデルに従って電磁解析する電磁解析手段として機能させることを特徴とするものである。
該粒子間距離入力手段により入力された前記粒子間の距離により前記配置する粒子間の距離が大きくなるように粒子を配置するものであってもよい。
該粒子間距離入力手段により入力された前記粒子間の距離により前記配置する粒子間の距離が小さくなるように粒子を配置するものであってもよい。
2.周囲屈折率 n1 1.33
3.粒子屈折率 n2 0.47+2.15i
4.粒子直径 φ 50nm
5.粒子濃度 α 0.01
次に、解析範囲201の指定をするが、図3に示すように、2点P0=(x0, y0, z0) =(0,0,0)、P1=(x1, y1, z1) =(5μm,5μm,5μm)を入力した場合には、解析範囲設定手段10では、P0、P1を対角とする立方体5μm3の範囲を解析範囲201として設定する(S102)。
= 0.01*(5μm)3/{(4/3)π0.0253}μm3
= 約19099個
N個中のM番目の粒子の中心座標を、図4に示すように、解析範囲201中のランダムな座標(xm,ym,zm)で与える。(xm,ym,zm)はプログラムの乱数発生器により発生させた乱数を用いて下式のように求める(S104)。
ym=y0+random_number*(y1-y0)
zm=z0+random_number*(z1-z0)
random_number:0〜1の間の一様乱数
しかし、1番目から粒子の位置を順に求めていくが、M番目の粒子とM-1番目までの粒子の中心座標間の距離を計算して、中心座標間の距離が粒子の径φ以下の位置に他の粒子が存在する場合には、再度別の乱数を用いてM番目の中心座標値を求めて空間的に粒子が重ならないように配置する。これを繰り返して、解析範囲201内にN個の粒子を配置する。
・x0<xi<x1、y0<yj<y1、z0<zk<z1
・sqrt((xi-xm)2+(yj-ym) 2+(zk-zm) 2)<(φ/2) m=1〜N
上の2つの条件を満たす場合には、その格子の屈折率をn2とし、上の条件のみを満たす場合には、n1とする。上記の操作を繰返し、計算モデル200を生成して計算モデル記憶手段18に記憶する(S105)。
粒子平均直径 φave
粒子直径分散量 Δφ
を与えて、粒子を平均直径と直径分散量に応じて、粒子の直径を変えたモデルを生成するようにしてもよい。
各粒子の中心座標の位置に加え、プログラムの乱数発生機能を用いて、ボックス=ミューラー法で粒子径を正規分布でランダムに与える。
p,q:0〜1の一様乱数
また、前述と同様にそれまでに設定した粒子と空間的に重なる場合には、粒子が重ならないように中心座標の位置と粒子径を与えなおして、N個の粒子の中心座標、粒子径に基き、FDTD計算の離散格子上の屈折率分布を与えて計算モデル200を生成する。
粒子間距離 d
を追加で指定させることにより粒子間距離入力手段16で粒子間の距離を入力して、計算モデル生成手段14では、この粒子間距離d以下に粒子が存在しないような計算モデルを生成してもよい。前述と同様に、M番目の粒子の中心座標(xm,ym,zm)をランダムに与え、(M-1)番目までの粒子の中心座標(xm,ym,zm)との中心間距離が、図5に示すように(φ+d)未満の場合には座標を再設定する。dを大きな値に設定するほど、粒子が空間中に分散して配置した計算モデル200を生成することができる。
粒子間距離 d
を追加で指定させることにより粒子間距離入力手段16で粒子間の距離を入力して、計算モデル生成手段14では、一定数の粒子(例N/2)をランダムに配置した後に、M-1番目までの粒子の中心間距離との最小値が、φ未満もしくは、(φ+d)以上の場合に、座標を再設定して、ある程度粒子が凝集した状態の計算モデルを生成するようにしてもよい。この場合、粒子間距離dを小さく設定するほど、より凝集した状態の計算モデルを作成することができる。
10 解析範囲設定手段
12 分散粒子設定手段
14 計算モデル生成手段
16 粒子間距離入力手段
18 計算モデル記憶手段
20 電磁解析手段
22 計算結果表示手段
24 確認表示手段
200 計算モデル
201 解析範囲
Claims (6)
- 解析空間の範囲を設定する解析範囲設定手段と、
該設定された解析空間の範囲内に粒子が分散して存在する量を表す分散指標値と、前記粒子の大きさと、前記粒子を構成する物質の特性値と、前記粒子の周囲の空間に存在する物質の特性値とを設定する分散粒子設定手段と、
該分散粒子設定手段で設定された大きさおよび物質の特性値を有する粒子を、前記分散指標値に対応するように前記粒子の周囲の空間に存在する物質の特性値を有する解析空間内のランダムな位置に配置した計算モデルを生成する計算モデル生成手段と、
前記計算モデルに従って電磁解析する電磁解析手段とを備えたことを特徴とする電磁解析装置。 - 前記計算モデル生成手段が、前記配置した粒子を配置する位置を乱数によって発生した値を用いて決定するものであることを特徴とする請求項1記載の電磁解析装置。
- 前記計算モデル生成手段が、前記配置した粒子間の距離を入力する粒子間距離入力手段を有し、
該粒子間距離入力手段により入力された前記粒子間の距離により前記配置する粒子間の距離が大きくなるように粒子を配置するものであることを特徴とする請求項1または2記載の電磁解析装置。 - 前記計算モデル生成手段が、前記配置した粒子間の距離を入力する粒子間距離入力手段を有し、
該粒子間距離入力手段により入力された前記粒子間の距離により前記配置する粒子間の距離が小さくなるように粒子を配置するものであることを特徴とする請求項1または2記載の電磁解析装置。 - 前記物質の特性値が屈折率であることを特徴とする請求項1〜4いずれか記載の電磁解析装置。
- コンピュータを、
解析空間の範囲を設定する解析範囲設定手段と、
前記解析空間の範囲内に粒子が分散して存在する量を表す分散指標値と、粒子の大きさと、粒子を構成する物質の特性値と、粒子の周囲の空間に存在する物質の特性値とを設定する分散粒子設定手段と、
該分散粒子設定手段で設定された大きさおよび物質の特性値を有する粒子を、前記分散指標値に対応するように前記粒子の周囲の空間に存在する物質の特性値を有する解析空間内のランダムな位置に配置した計算モデルを生成する計算モデル生成手段と、
前記計算モデルに従って電磁解析する電磁解析手段として機能させるプログラム。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014008237A (ja) * | 2012-06-29 | 2014-01-20 | Fujifilm Corp | 光学シミュレーション装置および方法並びにプログラム |
JP2015162221A (ja) * | 2014-02-28 | 2015-09-07 | 横浜ゴム株式会社 | 不均質材料のシミュレーションモデルの作成方法、不均質材料のシミュレーション方法、及びプログラム |
KR102282130B1 (ko) * | 2020-05-22 | 2021-07-26 | 서울대학교산학협력단 | 미세구조의 분산도 분석 방법 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5890963B2 (ja) * | 2011-03-17 | 2016-03-22 | 富士通株式会社 | データ保存プログラム及びデータ保存方法 |
JP6586637B2 (ja) * | 2015-12-25 | 2019-10-09 | 富士通株式会社 | 物理量分布計算プログラム、物理量分布計算方法、および情報処理装置 |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63241364A (ja) * | 1987-03-30 | 1988-10-06 | Hitachi Ltd | モンテカルロ法を用いた希薄流の流れ解析方法 |
JPH05158911A (ja) * | 1991-07-12 | 1993-06-25 | Hitachi Ltd | 粒子シミュレーションプログラム生成方法 |
JPH07282120A (ja) * | 1994-04-11 | 1995-10-27 | Hitachi Ltd | 粒子シミュレーション方法 |
JPH10258541A (ja) * | 1997-03-21 | 1998-09-29 | Sharp Corp | 荷電粒子飛翔解析装置 |
JP2000088698A (ja) * | 1998-09-08 | 2000-03-31 | Canon Inc | 媒体に対する粒子の透過確率を計算する数値計算装置 |
JP2002080406A (ja) * | 2000-09-04 | 2002-03-19 | Ricoh Co Ltd | 分子シミュレーション方法 |
JP2003114316A (ja) * | 2001-10-05 | 2003-04-18 | Japan Science & Technology Corp | 光学素子 |
JP2003337919A (ja) * | 2002-05-21 | 2003-11-28 | Olympus Optical Co Ltd | 電磁場シミュレーション法、その装置及びその記録媒体 |
JP2005069709A (ja) * | 2003-08-26 | 2005-03-17 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 波動光学シミュレーション方法 |
JP2005122354A (ja) * | 2003-10-15 | 2005-05-12 | Ricoh Co Ltd | 粒子挙動計算方法及び該方法を実行するためのプログラムを格納したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
JP2005252009A (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Renesas Technology Corp | 粒子シミュレーション方法、プログラム及び粒子シミュレーション装置 |
JP2006157001A (ja) * | 2004-11-15 | 2006-06-15 | Agilent Technol Inc | 集積導波路及び集積導波路を設計する方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6665849B2 (en) * | 1999-06-09 | 2003-12-16 | Interuniversitair Microelektronica Centrum Vzw | Method and apparatus for simulating physical fields |
US7257518B2 (en) * | 2001-02-28 | 2007-08-14 | Felix Alba Consultants, Inc. | Fundamental method and its hardware implementation for the generic prediction and analysis of multiple scattering of waves in particulate composites |
WO2004034030A2 (en) * | 2002-10-11 | 2004-04-22 | Mcgarth Terrence S | An axial atomic model for determination of elemental particle field structure and energy levels |
JP2004279292A (ja) | 2003-03-18 | 2004-10-07 | Ricoh Co Ltd | 電磁界解析装置と電磁界解析方法及び記録媒体 |
US7541818B2 (en) * | 2005-07-07 | 2009-06-02 | Panasonic Corporation | Method and apparatus of electromagnetic measurement |
JP4984586B2 (ja) * | 2006-03-17 | 2012-07-25 | 富士通株式会社 | 電磁界シミュレータ、及び電磁界シミュレートプログラム |
-
2007
- 2007-02-05 JP JP2007025056A patent/JP2008190979A/ja active Pending
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Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63241364A (ja) * | 1987-03-30 | 1988-10-06 | Hitachi Ltd | モンテカルロ法を用いた希薄流の流れ解析方法 |
JPH05158911A (ja) * | 1991-07-12 | 1993-06-25 | Hitachi Ltd | 粒子シミュレーションプログラム生成方法 |
JPH07282120A (ja) * | 1994-04-11 | 1995-10-27 | Hitachi Ltd | 粒子シミュレーション方法 |
JPH10258541A (ja) * | 1997-03-21 | 1998-09-29 | Sharp Corp | 荷電粒子飛翔解析装置 |
JP2000088698A (ja) * | 1998-09-08 | 2000-03-31 | Canon Inc | 媒体に対する粒子の透過確率を計算する数値計算装置 |
JP2002080406A (ja) * | 2000-09-04 | 2002-03-19 | Ricoh Co Ltd | 分子シミュレーション方法 |
JP2003114316A (ja) * | 2001-10-05 | 2003-04-18 | Japan Science & Technology Corp | 光学素子 |
JP2003337919A (ja) * | 2002-05-21 | 2003-11-28 | Olympus Optical Co Ltd | 電磁場シミュレーション法、その装置及びその記録媒体 |
JP2005069709A (ja) * | 2003-08-26 | 2005-03-17 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 波動光学シミュレーション方法 |
JP2005122354A (ja) * | 2003-10-15 | 2005-05-12 | Ricoh Co Ltd | 粒子挙動計算方法及び該方法を実行するためのプログラムを格納したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
JP2005252009A (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Renesas Technology Corp | 粒子シミュレーション方法、プログラム及び粒子シミュレーション装置 |
JP2006157001A (ja) * | 2004-11-15 | 2006-06-15 | Agilent Technol Inc | 集積導波路及び集積導波路を設計する方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014008237A (ja) * | 2012-06-29 | 2014-01-20 | Fujifilm Corp | 光学シミュレーション装置および方法並びにプログラム |
JP2015162221A (ja) * | 2014-02-28 | 2015-09-07 | 横浜ゴム株式会社 | 不均質材料のシミュレーションモデルの作成方法、不均質材料のシミュレーション方法、及びプログラム |
KR102282130B1 (ko) * | 2020-05-22 | 2021-07-26 | 서울대학교산학협력단 | 미세구조의 분산도 분석 방법 |
KR20210144613A (ko) * | 2020-05-22 | 2021-11-30 | 서울대학교산학협력단 | 미세구조의 분산도 분석 방법 |
KR102368510B1 (ko) | 2020-05-22 | 2022-02-25 | 서울대학교산학협력단 | 미세구조의 분산도 분석 방법 |
Also Published As
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---|---|
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US7970589B2 (en) | 2011-06-28 |
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