JP2008184563A - 高アスペクト比構造物用の樹脂組成物 - Google Patents
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- FNNPRKHZFKTITK-TWGQIWQCSA-N CCC(C(/C=C\C=C)C(C(C)CC=C1)=C1O)O Chemical compound CCC(C(/C=C\C=C)C(C(C)CC=C1)=C1O)O FNNPRKHZFKTITK-TWGQIWQCSA-N 0.000 description 1
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Abstract
【解決手段】少なくともオキセタン環1つ又は2つがエーテル結合を介してビフェニルに結合した特定のオキセタン樹脂と、エポキシ樹脂とを含むことを特徴とする樹脂組成物。
【選択図】図1
Description
少なくとも下記化学式1又は化学式2
ことを特徴とする請求項1に記載の樹脂組成物である。
ことを特徴とする請求項1に記載の樹脂組成物である。
ことを特徴とする請求項1に記載の樹脂組成物である。
ことを特徴とする成形物である。
ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールADジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールGジグリシジルエーテル、テトラメチルビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールヘキサフルオロアセトンジグリシジルエーテル、ビスフェノールCジグリシジルエーテル等のビスフェノール型エポキシ樹脂;
ジブロモメチルフェニルグリシジルエーテル、ジブロモフェニルグリシジルエーテル、ブロモメチルフェニルグリシジルエーテル、ブロモフェニルグリシジルエーテル、ジブロモメタクレシジルグリシジルエーテル、ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂等のブロム化エポキシ樹脂;等が挙げられる。
ジアリールヨードニウム塩タイプとして、Photoinitiator2074(ローディア社製)、イルガキュア250(チバスペシャリティーケミカルズ社製)、CI−5102(日本曹達社製)、WPI−113、WPI−116(和光純薬社製);などを挙げることができる。
化合物1を40%、化合物2を10%、ビスフェノール型のエポキシ樹脂(エピコート815、ジャパンエポキシレジン社製)を48%、脂環式のエポキシ樹脂(UVR−6110、ダウ・ケミカル社製)を2%混合したものに、トリアリールスルホニウム塩系の光カチオン重合開始剤(UVI−6992、ダウ・ケミカル社製)を1.5%加え、混合してUV硬化型樹脂を調製した。
化合物1を50%、ビスフェノール型のエポキシ樹脂(エピコート815、エポキシレンジジャパン社製)を48%、脂環式のエポキシ樹脂(UVR−6105、ダウ・ケミカル社製)を2%混合したものに、トリアリールスルホニウム塩系の光カチオン重合開始剤(UVI−6992、ダウ・ケミカル社製)を1.5%加え混合して、UV硬化型樹脂を調製した。
化合物2を40%、ビスフェノール型のエポキシ樹脂(エピコート815、エポキシレンジジャパン社製)を58%、脂環式のエポキシ樹脂(UVR−6110、ダウ・ケミカル社製)を2%混合したものにトリアリールスルホニウム塩系の光カチオン重合開始剤(UVI−6992、ダウ・ケミカル社製)を2.0%加え混合してUV硬化型樹脂を調製した。
化合物2を40%、ビスフェノール型のエポキシ樹脂(エピコート815、エポキシレンジジャパン社製)を58%、脂肪族のエポキシ樹脂ジグリシジルエーテルを2%混合したものにトリアリールスルホニウム塩系の光カチオン重合開始剤(UVI−6992、ダウ・ケミカル社製)を2.0%加え混合してUV硬化型樹脂を調製した。
1,2−ポリブタジエンジメタクリレートと2−ヒドロキシエチルメタクリレートを70:30(wt%)で混ぜた収縮率10.4%の樹脂に、イルガキュア184(チバスペシャリティーケミカルズ社製)を3.0%混ぜた樹脂を用い、実施例1と同様に成形し、約45mW/cm2の照度で230秒、積算で10000mJ/cm2以上になるようにUV照射し、離型した。ベース厚は、5μm以下にできたが、ヒケが発生し型のパターンをきれいに転写することができなかった。
1,2−ポリブタジエンジメタクリレートと2−ヒドロキシプロピルメタクリレートを70:30(wt%)で混ぜた収縮率10.0%の樹脂に、イルガキュア184(チバスペシャリティーケミカルズ社製)を3.0%混ぜた樹脂を用い、実施例1と同様に成形し、約5mW/cm2の照度で、200秒照射し、その後、約45mW/cm2の照度で200秒照射し、積算で10000mJ/cm2以上になるようにUV照射し離型した。
20…樹脂組成物、21…成形物、22…構造物、23…ベース部
30…基材
40…ホットプレート
Claims (10)
- 前記R1、R2、R3は、それぞれエチル基である
ことを特徴とする請求項1に記載の樹脂組成物。 - 前記オキセタン樹脂と前記エポキシ樹脂の割合が30:70〜70:30であることを特徴とする請求項1に記載の樹脂組成物。
- 請求項1に記載の樹脂組成物に含まれるエポキシ樹脂は、少なくとも脂肪族エポキシ樹脂または脂環式エポキシ樹脂のいずれか一方、もしくは両方を含んでいることを特徴とする樹脂組成物。
- 前記樹脂組成物は、さらにビスフェノールA型エポキシ樹脂を含んでいることを特徴とする請求項4記載の樹脂組成物。
- 前記樹脂組成物は、
光カチオン重合開始剤を含む
ことを特徴とする請求項1に記載の樹脂組成物。 - 硬化物の屈折率ndが1.55以上であること
ことを特徴とする請求項1に記載の樹脂組成物。 - 請求項1〜7のいずれか一項に記載の樹脂組成物を使って成形した成形物であって、
構造物本体とその脇に形成されたベース部とからなり、
前記ベース部の厚さは、前記構造物本体の高さの1/10以下である
ことを特徴とする成形物。 - 請求項1〜7のいずれか一項に記載の樹脂組成物を使って成形した成形物であって、
構造物本体とその脇に形成されたベース部とからなり、
前記ベース部の厚さは、10μm以下である
ことを特徴とする成形物。 - 請求項1〜7のいずれか一項に記載の樹脂組成物を使って成形した光学素子。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014185180A1 (ja) * | 2013-05-17 | 2014-11-20 | 日東電工株式会社 | 光学部品用光硬化型樹脂組成物およびそれを用いた光学部品、並びに光学部品の製法 |
CN105934690A (zh) * | 2014-03-31 | 2016-09-07 | 日东电工株式会社 | 光学部件用树脂组合物及使用该树脂组合物制造的光学部件 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001031665A (ja) * | 1999-07-15 | 2001-02-06 | Toagosei Co Ltd | オキセタン環を有するビフェニル誘導体 |
WO2005085317A1 (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Toagosei Co., Ltd. | 紫外線硬化型組成物 |
JP2008015420A (ja) * | 2006-07-10 | 2008-01-24 | Nikon Corp | 光学素子製造方法 |
-
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001031665A (ja) * | 1999-07-15 | 2001-02-06 | Toagosei Co Ltd | オキセタン環を有するビフェニル誘導体 |
WO2005085317A1 (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Toagosei Co., Ltd. | 紫外線硬化型組成物 |
JP2008015420A (ja) * | 2006-07-10 | 2008-01-24 | Nikon Corp | 光学素子製造方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014185180A1 (ja) * | 2013-05-17 | 2014-11-20 | 日東電工株式会社 | 光学部品用光硬化型樹脂組成物およびそれを用いた光学部品、並びに光学部品の製法 |
JP2014224205A (ja) * | 2013-05-17 | 2014-12-04 | 日東電工株式会社 | 光学部品用光硬化型樹脂組成物およびそれを用いた光学部品、並びに光学部品の製法 |
CN105209516A (zh) * | 2013-05-17 | 2015-12-30 | 日东电工株式会社 | 光学部件用光固化型树脂组合物及使用该树脂组合物制造的光学部件、以及光学部件的制法 |
CN105934690A (zh) * | 2014-03-31 | 2016-09-07 | 日东电工株式会社 | 光学部件用树脂组合物及使用该树脂组合物制造的光学部件 |
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