JP2008174767A - Tool for film deposition - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、被成膜体に成膜パターンを形成する成膜用治具に関する。 The present invention relates to a film forming jig for forming a film forming pattern on a film forming body.
従来、薄型の圧電素板の形状加工を行う際に、フォトリソグラフィ法を用いるのが一般的であった。すなわち、圧電素板全体に蒸着やスパッタリング等によって金属膜を形成し、該金属膜全体にレジスト膜を形成する。次に、該レジスト膜を所望のパターンで露光現像してレジストマスクを形成する。その後、エッチング処理により、前記所望のパターンに圧電素板を加工する。最後に圧電素板上に残った金属膜とレジスト膜を剥離除去する。しかし、上記のようなフォトリソグラフィ法を採用した場合、使用する機器が増加し、製造工程が煩雑になるという問題を有していた。そこで、フォトリソグラフィ法に替えて蒸着やスパッタリングによって圧電素板を簡便に加工する方法が考案された。例えば、特許文献1では、圧電振動子に使用する圧電素板を製造する方法において、板厚の薄い振動部分の周囲に、前記振動部分より板厚の厚い補強部分を有する圧電素板を加工する方法が開示されている。この圧電素板のエッチング工程では、圧電素板上に蒸着によって金属膜を形成し、圧電素板のうち金属膜が覆っていない部分をエッチング処理する方法が記載されている。特許文献1では、該金属膜を成膜する際に、成膜用治具が用いられている。
特許文献1の成膜用治具は、具体的には、複数個の圧電素板を収納するためのスペーサと、該スペーサーの表裏両面に配置され、圧電素板の振動部分を被覆するパターンを有するマスクを備える。前記マスクは、圧電素板より僅かに大きい円孔部と、圧電素板の振動部分を被覆する被覆部と、円孔部外縁と被覆部とを結ぶ橋部とで構成されている。
Conventionally, a photolithography method has been generally used when processing a shape of a thin piezoelectric element plate. That is, a metal film is formed on the entire piezoelectric element plate by vapor deposition or sputtering, and a resist film is formed on the entire metal film. Next, the resist film is exposed and developed with a desired pattern to form a resist mask. Thereafter, the piezoelectric element plate is processed into the desired pattern by an etching process. Finally, the metal film and the resist film remaining on the piezoelectric element plate are peeled and removed. However, when the photolithography method as described above is employed, there is a problem that the number of devices used increases and the manufacturing process becomes complicated. Therefore, a method has been devised in which the piezoelectric element plate is simply processed by vapor deposition or sputtering instead of the photolithography method. For example, in Patent Document 1, in a method of manufacturing a piezoelectric element plate used for a piezoelectric vibrator, a piezoelectric element plate having a reinforcing part thicker than the vibrating part is processed around a vibrating part having a thin plate thickness. A method is disclosed. In this etching process of the piezoelectric element plate, a method is described in which a metal film is formed on the piezoelectric element plate by vapor deposition, and a portion of the piezoelectric element plate that is not covered with the metal film is etched. In Patent Document 1, a film forming jig is used when forming the metal film.
Specifically, the film forming jig disclosed in Patent Document 1 includes a spacer for housing a plurality of piezoelectric element plates, and a pattern that is disposed on both the front and back surfaces of the spacer and covers the vibrating portion of the piezoelectric element plate. Having a mask. The mask includes a circular hole portion that is slightly larger than the piezoelectric element plate, a covering portion that covers the vibrating portion of the piezoelectric element plate, and a bridge portion that connects the outer edge of the circular hole portion and the covering portion.
上記の成膜用治具は、圧電素板(以下、被成膜体という)にスペーサ及びマスクが装着された状態で、被覆部により被成膜体の振動部分を覆うとともに、被覆部に連結する橋部が被成膜体の一部を覆っている。
これにより、成膜用治具は、被覆部及び橋部で覆われた部分を除いて、蒸着によって被成膜体に金属膜の成膜パターンを形成することができる。
The film-forming jig covers the vibrating part of the film-forming body with the covering part and is connected to the covering part in a state where the spacer and the mask are attached to the piezoelectric base plate (hereinafter referred to as the film-forming body). The bridge portion covers a part of the film formation target.
Thereby, the film-forming jig can form a film-forming pattern of the metal film on the film-formed body by vapor deposition, except for the portions covered with the covering portion and the bridge portion.
しかしながら、成膜用治具は、被覆部を保持する橋部を有することから、橋部の下に金属膜が形成されず、したがって、被成膜体に、枠状又はリング状に全周が繋がっている成膜パターンを形成することができない。 However, since the film-forming jig has a bridge portion that holds the covering portion, a metal film is not formed under the bridge portion. Therefore, the entire circumference of the film-forming body is in a frame shape or a ring shape. The connected film formation pattern cannot be formed.
本発明は、上記の課題に着目し、枠状又はリング状に全周が繋がっている成膜パターンを形成することを可能とした成膜用治具を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a film forming jig capable of forming a film forming pattern in which the entire circumference is connected in a frame shape or a ring shape, paying attention to the above-mentioned problems.
上記課題を解決するために、本発明に係る成膜用治具は、少なくとも一方の面に被成膜体を配置することが可能で、且つ埋め込まれた磁石により磁力を有するベース部材と、前記ベース部材の前記一方の面上であって、前記ベース部材に埋め込まれた磁石の磁力により引き付けられる位置に配置される磁性体のマスク部材と、を備え、前記ベース部材に被成膜体を配置したとき、前記ベース部材と前記マスク部材との間に被成膜体が介在することが可能であり、前記マスク部材は、平面視して、被成膜体よりも外形が小さく、被成膜体の一部が、該マスク部材から全周にわたり露出していることを特徴とする。 In order to solve the above problems, a film forming jig according to the present invention is capable of disposing a film forming body on at least one surface, and has a base member having magnetic force by an embedded magnet, A magnetic mask member disposed on the one surface of the base member and at a position attracted by the magnetic force of the magnet embedded in the base member, and the film-forming body is disposed on the base member. In this case, a film-forming body can be interposed between the base member and the mask member, and the mask member has a smaller outer shape than the film-forming body when seen in a plan view. A part of the body is exposed from the mask member over the entire circumference.
上記によれば、成膜用治具は、マスク部材を、ベース部材の少なくとも一方の面の、ベース部材の磁力により引き付けられる位置に、被成膜体の一部が、平面視して、マスク部材の外側の全周にわたり露出し、且つ、ベース部材との間に被成膜体が介在するように配置可能である。
これにより、成膜用治具は、マスク部材が、ベース部材の磁力によりベース部材に保持されることから、従来のような橋部がなくても、被成膜体の一部が、平面視で、マスク部材の外側の全周にわたり露出するように、マスク部材を配置することができる。
これにより、従来の成膜用治具では、橋部に覆われて成膜できない部分が生じて、被成膜体に枠状又はリング状に全周が繋がっている成膜パターンを形成することができなかったが、本発明の成膜用治具では、被成膜体に枠状又はリング状に成膜パターンを形成することができる。
また、成膜用治具は、マスク部材がベース部材の磁力により被成膜体を介してベース部材に引き付けられることにより、マスク部材の被成膜体からの浮き上がりを防止することができる。これにより、成膜用治具は、被成膜体に輪郭ボケのない成膜パターンを形成することができる。
According to the above, the film-forming jig is configured such that a part of the film formation object is in a plan view at a position where the mask member is attracted by the magnetic force of the base member on at least one surface of the base member. It can be arranged such that it is exposed over the entire outer periphery of the member and the film-deposited body is interposed between it and the base member.
As a result, in the film-forming jig, the mask member is held on the base member by the magnetic force of the base member. Thus, the mask member can be arranged so as to be exposed over the entire outer periphery of the mask member.
As a result, in the conventional film forming jig, there is a portion that cannot be formed by being covered with the bridge portion, and a film forming pattern in which the entire periphery is connected in a frame shape or a ring shape is formed on the film forming target. However, in the film forming jig of the present invention, the film forming pattern can be formed in a frame shape or a ring shape on the film forming target.
Moreover, the film-forming jig can prevent the mask member from being lifted from the film-forming body by the mask member being attracted to the base member via the film-forming body by the magnetic force of the base member. Thereby, the film-forming jig can form a film-forming pattern having no outline blur on the film-forming target.
上記の発明に係る成膜用治具は、前記マスク部材が、前記ベース部材に埋め込まれた磁石と前記マスク部材との間に発生した磁力によりその位置を固定されていることを特徴とする。 In the film forming jig according to the above invention, the position of the mask member is fixed by a magnetic force generated between the magnet embedded in the base member and the mask member.
上記の発明に係る成膜用治具は、前記ベース部材が、埋め込まれた磁石により磁力を有するベース板と、前記被成膜体が位置決めされて配置されるガイド板とを有し、前記マスク部材は、前記ベース板に埋め込まれた磁石と当該マスク部材との間に発生した磁力により位置を固定されていることを特徴とする。 In the film-forming jig according to the invention, the base member includes a base plate having a magnetic force by an embedded magnet, and a guide plate on which the film-formed body is positioned and arranged, and the mask The position of the member is fixed by a magnetic force generated between the magnet embedded in the base plate and the mask member.
上記によれば、成膜用治具のベース部材は、ベース板と、被成膜体が位置決めされて配置されるガイド板とを備える。これにより、成膜用治具は、被成膜体をベース部材の所定の位置に正確に位置決めして配置することができる。
また、成膜用治具は、ガイド板をベース板から一旦引き離すことで、ベース板の磁力によりガイド板及び被成膜体を介してベース板に引き付けられているマスク部材に働く磁力が無くなることから、被成膜体に、マスク部材を容易に着脱させることが可能となる。
According to the above, the base member of the film forming jig includes the base plate and the guide plate on which the film formation target body is positioned. Thereby, the film-forming jig can accurately position and arrange the film-forming body at a predetermined position of the base member.
In addition, the film forming jig once removes the guide plate from the base plate so that the magnetic force acting on the mask member attracted to the base plate via the guide plate and the film formation body is eliminated by the magnetic force of the base plate. Therefore, the mask member can be easily attached to and detached from the deposition target.
上記の発明に係る成膜用治具は、さらにマスクガイド板とマスク保持板とを有するマスクガイド治具を備え、前記マスクガイド板は前記マスク部材を位置決めする位置決め部を有し、前記マスク保持板は埋め込まれた磁石により磁力を有し、前記マスク部材を磁力により保持することを特徴とする。 The film-forming jig according to the present invention further includes a mask guide jig having a mask guide plate and a mask holding plate, the mask guide plate having a positioning portion for positioning the mask member, and the mask holding The plate has a magnetic force by an embedded magnet, and the mask member is held by the magnetic force.
上記によれば、成膜用治具は、マスクガイド治具によりマスク部材を所定の位置に正確に位置決めして配置することができる。 According to the above, the film-forming jig can be positioned with the mask member accurately positioned at a predetermined position by the mask guide jig.
以下、本発明に係る成膜用治具の実施形態について、被成膜体としての水晶ウエハに、蒸着やスパッタリングなどにより、金属膜などの成膜パターンを形成する成膜用治具を例にとり、説明する。 Hereinafter, with respect to embodiments of a film forming jig according to the present invention, a film forming jig for forming a film forming pattern such as a metal film on a quartz wafer as a film forming object by vapor deposition or sputtering is taken as an example. ,explain.
(第1の実施形態)
《構成》
図1は、第1の実施形態の成膜用治具の概略構成を示す構成図である。図1(a)は、展開斜視図、図1(b)は、図1(a)のA−A線での断面図である。なお、構成を分かり易くするために、図1は、水晶ウエハがセットされている状態を表している。
(First embodiment)
"Constitution"
FIG. 1 is a configuration diagram illustrating a schematic configuration of a film forming jig according to the first embodiment. FIG. 1A is a developed perspective view, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. For easy understanding of the configuration, FIG. 1 shows a state in which a crystal wafer is set.
図1に示すように、第1の実施形態の成膜用治具1は、ベース部材20、マスク部材30、磁石21から構成されている。
ベース部材20は、片面に磁石21が埋め込まれている。これにより、ベース部材20は、磁力を有する。
As shown in FIG. 1, the film forming jig 1 according to the first embodiment includes a
The
図1(b)に示すように、ベース部材20の一方の面22には、被成膜体としての水晶ウエハ10が配置される。
なお、磁石21は、ベース部材20の両面に埋め込まれていてもよい。また、水晶ウエハ10は、ベース部材20の磁石21側の面に配置されてもよく、ベース部材20の両面に配置されてもよい。
As shown in FIG. 1B, a
The
マスク部材30は、磁性体で構成され、例えば、磁性を有する種類のステンレススチールからなり、ベース部材20の一方の面22上であって、ベース部材20の磁力により引き付けられる位置に配置される。ベース部材20に配置された水晶ウエハ10は、ベース部材20とマスク部材30との間に介在する。水晶ウエハ10とマスク部材30は、ベース部材20に埋め込まれた磁石21とマスク部材30との間に発生した磁力によりその位置を固定されている。
マスク部材30は、平面視して、水晶ウエハ10よりも外形が小さく、水晶ウエハ10の一部が、マスク部材30から全周にわたり露出している。
The
The
なお、マスク部材30の外形の大きさは、後述の、水晶ウエハ10に形成される成膜パターンの形状により決められる。
また、水晶ウエハ10がベース部材20の両面に配置されたとき、マスク部材30をベース部材20の両側に配置し、それぞれの水晶ウエハ10がマスク部材30とベース部材20との間に介在するように構成する。
Note that the size of the outer shape of the
Further, when the
《作用・効果》
ここで、第1の実施形態の成膜用治具1の作用及び効果を、水晶ウエハ10の加工方法における成膜パターンの形成工程に沿って説明する。
《Action ・ Effect》
Here, the operation and effect of the film forming jig 1 of the first embodiment will be described along the film forming pattern forming process in the processing method of the
図2は、成膜用治具を用いた水晶ウエハへの成膜パターンの形成工程を示す断面図である。図3は、成膜パターンを形成後の水晶ウエハの斜視図である。
図2(a)に示すように、まず、ベース部材20の一方の面22に、水晶ウエハ10を配置する。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a film forming pattern forming process on a quartz wafer using a film forming jig. FIG. 3 is a perspective view of the crystal wafer after the film formation pattern is formed.
As shown in FIG. 2A, first, the
水晶ウエハ10は、予め所定の形状、厚さ、表面状態に形成しておく。本実施形態の場合には、水晶ウエハ10は、約100μm程度の厚さで、表面は鏡面加工がされている。なお、水晶ウエハ10の厚さ、表面状態は、これに限定するものではなく、用途に応じて適宜設定される。
The
ついで、図2(b)に示すように、水晶ウエハ10の上に、マスク部材30を、平面視して水晶ウエハ10の一部がマスク部材30の全周にわたり所定の幅で露出するように配置する。
この状態で、マスク部材30は、ベース部材20に埋め込まれた磁石21の磁力によりベース部材20の一方の面22に引き付けられ、固定されている。
Next, as shown in FIG. 2B, the
In this state, the
ついで、図示しない蒸着装置やスパッタリング装置などにより、成膜用治具1の上からCr/Auなどの金属膜を成膜して、成膜パターンを形成する。 Next, a metal film such as Cr / Au is formed on the film forming jig 1 by a vapor deposition apparatus or a sputtering apparatus (not shown) to form a film forming pattern.
ついで、マスク部材30を取り外した後、ベース部材20から水晶ウエハ10を取り外す。
上記の形成工程により、図3に示すように、水晶ウエハ10は、マスク部材30で覆われていた中央部分12の外側に、枠状に全周が繋がっている成膜パターン11が形成されている。
Next, after removing the
Through the above formation process, as shown in FIG. 3, the
上述したように、第1の実施形態の成膜用治具1は、水晶ウエハ10に、枠状の成膜パターン11を形成することができる。
また、第1の実施形態の成膜用治具1は、マスク部材30が、ベース部材20の一方の面22に引き付けられていることにより、マスク部材30が、水晶ウエハ10から浮き上がらず、水晶ウエハ10に、輪郭ボケのない成膜パターン11を形成することができる。
As described above, the film forming jig 1 of the first embodiment can form the frame-shaped
Further, in the film forming jig 1 of the first embodiment, the
上記の成膜用治具1により、水晶ウエハ10に形成された成膜パターン11を用いて、例えば、以下のような水晶ウエハ10のエッチング加工が可能となる。
図4は、エッチング加工工程の水晶ウエハを示すものであり、図4(a)は、エッチング前の断面図、図4(b)はエッチング後の断面図である。
For example, the following
4A and 4B show a crystal wafer in an etching process, where FIG. 4A is a cross-sectional view before etching, and FIG. 4B is a cross-sectional view after etching.
図4(a)に示すように、まず、前述の方法を用いて水晶ウエハ10上に、成膜パターン11を形成する。その後、水晶ウエハ10の各面のうち、成膜パターン11が形成された面以外にCr/Au膜などの耐食膜13を形成する。
これにより、水晶ウエハ10の中央部分12を除き、水晶ウエハ10を、成膜パターン11及び耐食膜13によりマスクした状態となる。
As shown in FIG. 4A, first, a
As a result, the
ついで、水晶ウエハ10を、フッ酸、又はフッ酸とフッ化アンモニウムなどのエッチング液に浸漬して、中央部分12を、数10μm〜数μmの厚みになるまでエッチングする。
これにより、図4(b)に示すように、水晶ウエハ10の中央部分12を、数10μm〜数μmの厚さまでエッチングすることができる。本実施形態では、中央部分12の厚みが4μm〜8μmになるように水晶ウエハ10をエッチングする。また、水晶ウエハ10の壁面15は、前述したように、成膜パターン11にボケがなく、その輪郭14がシャープに形成されていることにより、略平滑にエッチングされている。
Next, the
Thereby, as shown in FIG.4 (b), the
ついで、水晶ウエハ10をストリップ液に浸漬して、成膜パターン11、耐食膜13を剥離し、剥離後、水晶ウエハ10を純水などで洗浄し、乾燥を行う。
これにより、中央部分12の厚さが薄い水晶ウエハ10を得ることができる。
Next, the
Thereby, it is possible to obtain the
(第2の実施形態)
次に、第2の実施形態の成膜用治具について、図面を参照して説明する。
図5は、第2の実施形態の成膜用治具の概略構成を示す構成図である。図5(a)は、展開斜視図、図5(b)は、図5(a)のB−B線での断面図である。なお、この図5では、構成を分かり易くするために、水晶ウエハがセットされている状態を表している。また、第1の実施形態との共通部分には同じ符号を附している。
(Second Embodiment)
Next, a film forming jig according to a second embodiment will be described with reference to the drawings.
FIG. 5 is a configuration diagram showing a schematic configuration of the film forming jig of the second embodiment. FIG. 5A is a developed perspective view, and FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG. 5A. FIG. 5 shows a state in which a crystal wafer is set for easy understanding of the configuration. Also, the same reference numerals are given to common parts with the first embodiment.
《構成》
図5に示すように、第2の実施形態の成膜用治具101は、ベース部材120、マスク部材30、マスクガイド治具130から構成されている。
ベース部材120は、ベース板121、ガイド板122、複数の磁石123から構成されている。
ベース板121は、ガイド板122側の面に複数の磁石123が埋め込まれている。これにより、ベース板121は、磁力を有している。
"Constitution"
As shown in FIG. 5, the
The
The
ガイド板122は、水晶ウエハ10を位置決めするために、水晶ウエハ10の外形寸法より僅かに大きい凹部124が形成されている。水晶ウエハ10は、この凹部124に配置されることによって、位置決めされる。
The
マスク部材30は、第1の実施形態と同様に、磁性体で構成され、例えば、磁性を有する種類のステンレススチールからなり、磁石123の磁力により引き付けられる位置に配置される。
As in the first embodiment, the
なお、マスク部材30を配置する際には、マスクガイド治具130が用いられている。
マスクガイド治具130は、マスクガイド板131、マスク保持板132、磁石134から構成されている。
Note that a
The
マスクガイド板131は、マスク部材30を位置決めするために、マスク部材30の外形寸法より僅かに大きい、位置決め部としての凹部133が形成されている。
凹部133は、マスクガイド板131のうち、ガイド板122の凹部124と対向する面に形成される。
In order to position the
The
マスク保持板132は、マスクガイド板131に対向する面に複数の磁石134が埋め込まれている。これにより、マスク保持板132は、磁力を有している。
マスク保持板132は、その磁力により、マスクガイド板131の凹部133に配置されたマスク部材30を引き付け保持する。
The
The
これにより、ガイド板122に水晶ウエハ10が配置されたとき、マスクガイド板131は、平面視して、水晶ウエハ10の一部がマスク部材30から全周にわたり露出するように、マスク部材30を位置決めすることができる。
Thereby, when the
《作用・効果》
ここで、第2の実施形態の成膜用治具101の作用及び効果を、第1の実施形態と同様に、水晶ウエハ10の加工方法における成膜パターン11の形成工程に沿って説明する。
《Action ・ Effect》
Here, the operation and effect of the
図6及び図7は、成膜用治具を用いた水晶ウエハへの成膜パターンの形成工程を説明する断面図である。なお、図6及び図7では、成膜の際に成膜用治具に付着する成膜材料は省略してある。
図6(a)に示すように、まず、ベース部材120の凹部124に、水晶ウエハ10を載置する。凹部124により、水晶ウエハ10は位置決めされる。
6 and 7 are cross-sectional views illustrating a film forming pattern forming process on a quartz wafer using a film forming jig. Note that in FIGS. 6 and 7, a film forming material attached to the film forming jig during film formation is omitted.
As shown in FIG. 6A, first, the
ついで、マスクガイド板131の凹部133にマスク部材30を配置し、マスクガイド板131上に磁石134が埋め込まれたマスク保持板132を配置する。その後、図6(b)に示すように、ベース部材120上にマスクガイド治具130を載置する。マスク部材30は、マスクガイド板131を介して、マスク保持板132の磁力に引き付けられている。
Next, the
ついで、マスクガイド治具130のマスク保持板132を取り外す。これにより、図6(c)に示すように、マスク部材30には、マスク保持板132の磁力が働かなくなる。そのため、マスク部材30はベース板121の磁力のみに引き付けられて水晶ウエハ10に当接する。
これで、マスク部材30は、平面視して、水晶ウエハ10の一部がマスク部材30から全周にわたり露出する位置に正確に配置される。
Next, the
Thus, the
ついで、マスクガイド治具130のマスクガイド板131を取り外して、マスク部材30及び水晶ウエハ10の一部を露出させる。
Next, the
ついで、図6(d)に示すように、図示しない蒸着装置やスパッタリング装置などにより、成膜用治具101の上からCr/Auなどの金属膜を成膜して、成膜パターン11を形成する。
これにより、成膜パターン11は、水晶ウエハ10のうち、マスク部材30で覆われた部分の外側の全周にわたって形成される。
Next, as shown in FIG. 6D, a
Thereby, the film-forming
また、マスク部材30が水晶ウエハ10及びガイド板122を介してベース部材120に引き付けられていることにより、マスク部材30が水晶ウエハ10から浮き上がらず、成膜パターン11は、マスク部材30との境界部分が輪郭ボケのない状態で形成される。
Further, since the
ついで、図7(a)に示すように、マスクガイド治具130を、再びベース部材120の上に載置する。
Next, as shown in FIG. 7A, the
ついで、ベース部材120のベース板121を取り外す。これにより、図7(b)に示すように、マスク部材30は、ベース板121の磁力が働かなくなることから、マスク保持板132の磁力により、マスクガイド板131の凹部133に引き付けられる。
Next, the
ついで、ガイド板122からマスクガイド治具130を取り外す。これにより、マスク部材30は、マスク保持板132に引き付けられた状態で、水晶ウエハ10上から取り外される。したがって、マスク部材30を取り外すのに、マスクガイド治具130以外の治具は必要なく、マスク部材30を容易に取り外すことができる。そして、図7(c)に示すように、成膜パターン11が形成された水晶ウエハ10が露出する。
ついで、べ−ス部材120のガイド板122の凹部124から水晶ウエハ10を取り出す。
Next, the
Next, the
上記の形成工程により、水晶ウエハ10には、図3に示すように、マスク部材30で覆われていた中央部分12の外側に、枠状に全周が繋がっている成膜パターン11が形成されている。
As a result of the above-described forming process, the
上述したように、第2の実施形態の成膜用治具101は、第1の実施形態と同様に、水晶ウエハ10に、枠状の成膜パターン11を形成することができる。
また、第2の実施形態の成膜用治具101は、第1の実施形態と同様に、水晶ウエハ10に、輪郭ボケのない成膜パターン11を形成することができる。
As described above, the
Further, the
さらに、第2の実施形態の成膜用治具101は、ベース部材120のガイド板122により、水晶ウエハ10を、ベース部材120に正確に位置決めして配置することが可能である。
また、第2の実施形態の成膜用治具101は、マスクガイド治具130を用いることにより、マスク部材30を、水晶ウエハ10に対向する位置に正確に位置決めして配置することが可能である。
Furthermore, in the
In addition, the
以上、本発明の好適実施例について詳細に説明したが、当業者に明らかなように、本発明はその技術的範囲内において上記実施例に様々な変更・変形を加えて実施することができる。
例えば、第2の実施形態の成膜用治具101は、マスクガイド治具130を用いて、マスク部材30を水晶ウエハ10に着脱させたが、これに限定するものではなく、マスクガイド治具130を用いずに、マスク部材30を直接水晶ウエハ10に着脱させてもよい。
The preferred embodiments of the present invention have been described in detail above. However, as will be apparent to those skilled in the art, the present invention can be implemented by adding various changes and modifications to the above embodiments within the technical scope thereof.
For example, in the
このとき、水晶ウエハを着脱する前に、ベース板121からガイド板122を一旦取り外す。すると、マスク部材30に働く磁力が働かなくなり、マスク部材30を容易に着脱させることができる。
At this time, the
なお、第2の実施形態では、単体の水晶ウエハ10及び単体のマスク部材30の場合を例示したが、これに限定するものではなく、複数の水晶ウエハ10及び複数のマスク部材30を用いてもよい。
これによれば、成膜用治具101は、複数の水晶ウエハ10の各々に成膜パターン11を一括して形成することができる。
In the second embodiment, the case of the
According to this, the film-forming
また、第1、第2の実施形態では、水晶ウエハ10及びマスク部材30の外形形状は方形だが、製造方法や用途などに応じて円形、楕円形、多角形などの外形形状が適宜設定される。
In the first and second embodiments, the
また、第1、第2の実施形態では、被成膜体を水晶ウエハ10としたが、これに限定するものではなく、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム、石英、シリコン、ホウケイ酸ガラスなどとしてもよい。
In the first and second embodiments, the deposition target is the
本発明の成膜用治具によって製造した薄型の水晶ウエハは、光学部品に加工することができる。例えば、液晶プロジェクタに適用し、高視野角フィルムとして用いることができる。
また、本発明の成膜用治具によって製造した薄型の水晶ウエハは、水晶振動子に用いることができる。例えば、厚みすべりモードで振動する振動片に加工することが可能である。
A thin quartz wafer manufactured by the film-forming jig of the present invention can be processed into an optical component. For example, it can be applied to a liquid crystal projector and used as a high viewing angle film.
The thin quartz wafer manufactured by the film-forming jig of the present invention can be used for a quartz crystal resonator. For example, it can be processed into a vibrating piece that vibrates in a thickness-slip mode.
1…成膜用治具、10…被成膜体としての水晶ウエハ、11…成膜パターン、20…べース部材、21…磁石、22…べース部材の一方の面、30…マスク部材、101…成膜用治具、120…べース部材、121…ベース板、122…ガイド板、123…磁石、124…ガイド板の凹部、130…マスクガイド治具、131…マスクガイド板、132…マスク保持板、133…マスクガイド板の位置決め部としての凹部、134…磁石。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Jig for film-forming, 10 ... Quartz wafer as film-forming body, 11 ... Film-forming pattern, 20 ... Base member, 21 ... Magnet, 22 ... One side of base member, 30 ... Mask 101: Jig for film formation, 120 ... Base member, 121 ... Base plate, 122 ... Guide plate, 123 ... Magnet, 124 ... Recessed portion of guide plate, 130 ... Mask guide jig, 131 ... Mask guide plate , 132... Mask holding plate, 133... Concave portion as a positioning portion of the mask guide plate, 134.
Claims (4)
少なくとも一方の面に被成膜体を配置することが可能で、且つ埋め込まれた磁石により磁力を有するベース部材と、
前記ベース部材の前記一方の面上であって、前記ベース部材に埋め込まれた磁石の磁力により引き付けられる位置に配置される磁性体のマスク部材と、を備え、
前記ベース部材に被成膜体を配置したとき、前記ベース部材と前記マスク部材との間に被成膜体が介在することが可能であり、
前記マスク部材は、平面視して、被成膜体よりも外形が小さく、被成膜体の一部が、該マスク部材から全周にわたり露出していることを特徴とする成膜用治具。 In a film-forming jig for forming a film-forming pattern on a film-forming body,
A base member capable of disposing a film-forming body on at least one surface and having magnetic force by an embedded magnet;
A magnetic mask member disposed on the one surface of the base member at a position attracted by the magnetic force of a magnet embedded in the base member;
When the deposition target is disposed on the base member, the deposition target can be interposed between the base member and the mask member;
The mask member has an outer shape smaller than that of the deposition target in plan view, and a part of the deposition target is exposed from the mask member over the entire circumference. .
前記被成膜体が位置決めされて配置されるガイド板とを有し、
前記マスク部材は、前記ベース板に埋め込まれた磁石と当該マスク部材との間に発生した磁力により位置を固定されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の成膜用治具。 The base member includes a base plate having a magnetic force by an embedded magnet;
A guide plate on which the deposition target is positioned and arranged,
The film forming jig according to claim 1, wherein the position of the mask member is fixed by a magnetic force generated between the magnet embedded in the base plate and the mask member.
前記マスクガイド板は前記マスク部材を位置決めする位置決め部を有し、
前記マスク保持板は埋め込まれた磁石により磁力を有し、前記マスク部材を磁力により保持することを特徴とする成膜用治具。 The film forming jig according to any one of claims 1 to 3, further comprising a mask guide jig having a mask guide plate and a mask holding plate,
The mask guide plate has a positioning part for positioning the mask member,
The film-forming jig, wherein the mask holding plate has a magnetic force by an embedded magnet and holds the mask member by the magnetic force.
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