JP2018066987A - Annular film formation method, annular film formation tool, and annular film formation mask - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form an annular thin film on a film formation object.SOLUTION: Masks (21 to 24) having a magnetic material or a magnet at least partially are disposed on one face of film formation objects (11 to 14). At the same time, magnets or magnetic bodies (31 to 34) that act with the magnetic material or the magnet of the masks (21 to 24) are disposed in the vicinity of the other face of film formation objects (11 to 14) and the masks (21 to 24) are made to come in contact with the film formation objects (11 to 14). Under such a state, a film formation material is deposited on aside of a face where the masks (21 to 24) of the film formation objects (11 to 14) are provided.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、環状成膜方法環状成膜具および環状成膜用マスクに関する。   The present invention relates to an annular film forming method and an annular film forming tool and an annular film forming mask.

撮像機器のレンズには、不要な光の入射やレンズ系内での多重反射を防止するため、有効径内に設けられる反射防止膜に加え、有効径の外側に、遮光膜が設けられる。   The lens of the imaging device is provided with a light shielding film outside the effective diameter in addition to the antireflection film provided within the effective diameter in order to prevent unnecessary light from entering and multiple reflection in the lens system.

このような遮光膜は、レンズの中央部を除いて、外側だけに形成する必要がある。有効径が大きく高価なレンズであれば、手作業により膜材を塗布するウェットプロセスも可能である。一方、携帯機器等に搭載される小型カメラのレンズは、形状が小さいため手作業による塗布は困難であり、高コストになってしまう。   Such a light shielding film needs to be formed only on the outer side except for the central portion of the lens. If the lens has a large effective diameter and is expensive, a wet process in which the film material is applied manually is also possible. On the other hand, a small camera lens mounted on a portable device or the like has a small shape, so that it is difficult to apply by hand, resulting in high cost.

また、ウェットプロセスでは、膜厚制御性が悪く、1μm以上の膜厚が必要になる。このため、厚く堆積された膜の応力により樹脂レンズの面形状が変化するなどし、撮画像へ悪影響を及ぼしてしまう。   Further, in the wet process, the film thickness controllability is poor, and a film thickness of 1 μm or more is required. For this reason, the surface shape of the resin lens changes due to the stress of the thickly deposited film, which adversely affects the captured image.

低コストで大量に生産するには、レンズの有効径内に遮光膜材料が堆積しないようにマスクで遮蔽した状態で、真空プロセスにより膜厚制御性良く遮光膜材料を堆積させることが望ましい。   For mass production at low cost, it is desirable to deposit the light-shielding film material with good film thickness controllability by a vacuum process in a state where it is shielded with a mask so that the light-shielding film material is not deposited within the effective diameter of the lens.

特開2015-225102号公報JP 2015-225102 A

真空プロセスで遮光膜を成膜する場合、遮光膜の成膜エリアが環状であるため、従来は、成膜エリア外周側と内周側を架橋するブリッジを形成して、内周側のマスクを保持する必要があった。この場合、従来の機械加工では、マスク本体とブリッジおよび外周部とを同一平面上にしか形成できず、ブリッジ幅をできるだけ細くしても、ブリッジ部分に遮光膜を成膜することはできなかった。一方、3D造形を利用することで、ブリッジをレンズから浮いた状態とし、成膜材料を回り込ませることで、環状の成膜エリア全面に膜を堆積させることができる。しかし、それでもなお、ブリッジによる影の影響は避けられず、均一膜の形成には限界があった。また、ブリッジを含むマスク形状が複雑化することで、マスクの製作難易度および製作コストが共に高く、生産性が低い課題があった。   When forming a light-shielding film by a vacuum process, since the film-forming area of the light-shielding film is annular, conventionally, a bridge that bridges the outer peripheral side and inner peripheral side of the film-forming area is formed, and a mask on the inner peripheral side is formed. It was necessary to hold. In this case, in the conventional machining, the mask body, the bridge, and the outer peripheral portion can be formed only on the same plane, and even if the bridge width is made as narrow as possible, a light shielding film cannot be formed on the bridge portion. . On the other hand, by using 3D modeling, it is possible to deposit a film on the entire surface of the annular film-forming area by bringing the bridge from the lens and entraining the film-forming material. However, the influence of the shadow due to the bridge is unavoidable, and there is a limit to the formation of a uniform film. Further, since the shape of the mask including the bridge is complicated, there is a problem that both the manufacturing difficulty and the manufacturing cost of the mask are high and the productivity is low.

本発明は、このような課題を解決し、単純な構成で精度の高い環状薄膜を成膜することのできる環状成膜方法、環状成膜具および環状成膜用マスクを提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve such problems and to provide an annular film forming method, an annular film forming tool, and an annular film forming mask capable of forming an annular thin film with a simple structure and high accuracy. To do.

本発明の第一の側面によると、成膜対象物に環状の薄膜を形成する環状薄膜形成方法において、少なくとも一部に磁性材料または磁石を有するマスクを成膜対象物の一方の面に配置すると共に、成膜対象物の他方の面の近傍にマスクの磁性材料または磁石に作用する磁石または磁性体を配置してマスクを成膜対象物に接触させ、その状態で、成膜対象物の前記一方の面に成膜材料を堆積させることを特徴とする環状成膜方法が提供される。   According to the first aspect of the present invention, in a method for forming an annular thin film on a film formation target, a mask having a magnetic material or a magnet at least partially is disposed on one surface of the film formation target. In addition, a magnet or a magnetic body acting on the magnet is disposed in the vicinity of the other surface of the film formation object to bring the mask into contact with the film formation object, and in this state, the film formation object An annular film forming method is provided, wherein a film forming material is deposited on one surface.

本発明の第二の側面によると、環状の薄膜を形成しようとする成膜対象物の一方の面に配置されるマスクと、前記一方の面と逆側から成膜対象物を保持するホルダと、を備え、マスクはその少なくとも一部に磁性材料または磁石を有し、ホルダには、マスクの磁性材料または磁石と作用してマスクを成膜対象物の所定の位置に配置する磁石または磁性体が設けられることを特徴とする環状成膜具が提供される。   According to the second aspect of the present invention, a mask disposed on one surface of a film formation target for forming an annular thin film, and a holder for holding the film formation target from the opposite side of the one surface The mask has a magnetic material or magnet in at least a part thereof, and the holder acts on the mask magnetic material or magnet to place the mask at a predetermined position on the film formation target. An annular film-forming tool is provided.

ホルダに設けられる磁石または磁性体は、成膜対象物に向かって磁力が1点に集中する形状であることが望ましく、具体的には、球形、棒状、あるいは少なくとも成膜対象物側が半球状であることが望ましい。この場合、ホルダは、成膜対象物の中心とホルダの磁石または磁性体の磁力が集中する点とが一致するように磁石または磁性体と成膜対象物とを保持する構造であることが望ましい。   The magnet or magnetic body provided in the holder preferably has a shape in which the magnetic force is concentrated at one point toward the film formation target. Specifically, the shape is spherical, rod-shaped, or at least the hemisphere on the film formation target side. It is desirable to be. In this case, it is desirable that the holder has a structure that holds the magnet or the magnetic body and the film formation target so that the center of the film formation target matches the point where the magnetic force of the magnet or magnetic body of the holder is concentrated. .

マスクには、その少なくとも中央に、磁性材料または磁石が配置される。   A magnetic material or a magnet is disposed at least in the center of the mask.

マスクには、磁性材料が、成膜対象物の成膜対象面と平行な面内の少なくとも1方向に沿って設けられてもよい。この場合、ホルダには、NおよびSの2つの磁極が、マスクの磁性材料の長さに対応する間隔で設けられる。マスクに設けられる磁性材料は、成膜対象面と平行な面内に実質的に円形に設けられ、ホルダの2つの磁極の間隔は、その円形の直径に対応していることが望ましい。ここで「実質的に」とは、実用上許容される場合に、完全な円形からずれた楕円あるいは多角形でも良いことを意味する。   The mask may be provided with a magnetic material along at least one direction in a plane parallel to the film formation target surface of the film formation target. In this case, the holder is provided with two magnetic poles of N and S at intervals corresponding to the length of the magnetic material of the mask. The magnetic material provided on the mask is provided in a substantially circular shape in a plane parallel to the film formation target surface, and the distance between the two magnetic poles of the holder preferably corresponds to the diameter of the circle. Here, “substantially” means that it may be an ellipse or a polygon deviated from a perfect circle when practically acceptable.

マスクは、成膜対象物が樹脂製である場合、少なくとも成膜対象物に接触する面の一部が、樹脂であることが望ましい。   When the film formation target is made of resin, it is desirable that at least a part of the surface in contact with the film formation target is resin.

マスクは、周辺部が成膜対象物に密着する形状であって、成膜材料の堆積方向が成膜対象物に対して斜め方向であっても成膜できるように、周辺部に向かって薄くなるテーパ形状であることが望ましい。あるいは、マスクは、その全体が平坦に形成されていてもよい。   The mask has a shape in which the peripheral portion is in close contact with the film formation target, and the mask is thinned toward the peripheral portion so that film formation can be performed even when the deposition direction of the film formation material is oblique to the film formation target. The taper shape is desirable. Alternatively, the entire mask may be formed flat.

本発明の第三の側面によると、成膜対象物に環状の薄膜を形成するためのマスクであって、成膜対象物を保持するホルダに設けられた磁石または磁性体と作用するように、少なくとも一部に磁性材料または磁石を有することを特徴とする環状薄膜形成用マスクが提供される。   According to the third aspect of the present invention, it is a mask for forming an annular thin film on a film formation target, and acts with a magnet or a magnetic body provided on a holder that holds the film formation target. There is provided a mask for forming an annular thin film characterized by having a magnetic material or a magnet at least partially.

本発明の第四の側面によると、成膜対象物に環状の薄膜を形成するためのマスクであって、成膜対象物を保持するホルダに設けられたNおよびSの2つの磁極と作用するように、磁性材料が成膜対象物の成膜対象面と平行な面内の少なくとも1方向に沿って設けられていることを特徴とする環状薄膜形成用マスクが提供される。   According to the fourth aspect of the present invention, it is a mask for forming an annular thin film on a film formation target, and acts with two magnetic poles N and S provided on a holder for holding the film formation target. Thus, an annular thin film forming mask is provided in which the magnetic material is provided along at least one direction in a plane parallel to the film formation target surface of the film formation target.

本発明は、特に樹脂レンズへの遮光膜の成膜への利用に適するが、それに限定されるものではなく、環状の薄膜を形成するどのような分野でも広く利用できる。   The present invention is particularly suitable for use in forming a light-shielding film on a resin lens, but is not limited thereto, and can be widely used in any field for forming an annular thin film.

本発明によると、単純な構成で精度の高い環状薄膜を成膜することができる。成膜対象物として樹脂レンズを用い、マスクとしてレンズ面の形状に合わせ適正化されたものを用いることで、樹脂レンズの有効径の外側に高い形状精度で遮光膜を形成することができる。   According to the present invention, a highly accurate annular thin film can be formed with a simple configuration. By using a resin lens as a film formation target and using a mask that has been optimized according to the shape of the lens surface, a light shielding film can be formed with high shape accuracy outside the effective diameter of the resin lens.

本発明の実施形態に係る環状成膜具を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the cyclic | annular film-forming tool which concerns on embodiment of this invention. 成膜対象物の一例として樹脂レンズの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of a resin lens as an example of the film-forming target object. 樹脂レンズの別の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows another example of a resin lens. 図2の樹脂レンズの一方の面に対して用いられるマスクの種々の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the various examples of the mask used with respect to one surface of the resin lens of FIG. 図2の樹脂レンズの他方の面に対して用いられるマスクの例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the example of the mask used with respect to the other surface of the resin lens of FIG. 図3の樹脂レンズの一方の面に対して用いられるマスクの種々の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the various examples of the mask used with respect to one surface of the resin lens of FIG. 図3の樹脂レンズの他方の面に対して用いられるマスクの種々の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the various examples of the mask used with respect to the other surface of the resin lens of FIG. マスクの別の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows another example of a mask. マスクのさらに別の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows another example of a mask. マスクのさらに別の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows another example of a mask. フィルム状のマスクの構成例を示す断面図であり、磁性材料をマスクの中央だけに設けた例を示す。It is sectional drawing which shows the structural example of a film-form mask, and shows the example which provided the magnetic material only in the center of the mask. フィルム状のマスクの別の構成例を示す断面図であり、磁性材料をマスク全面に設けた例を示す。It is sectional drawing which shows another structural example of a film-form mask, and shows the example which provided the magnetic material in the mask whole surface. 図1に示す実施形態の変形例であり、直径の小さい磁石を用いた例を示す断面図である。It is a modification of the embodiment shown in FIG. 1, and is a cross-sectional view showing an example using a magnet having a small diameter. 図1に示す実施形態の変形例であり、棒状の磁石を用いた例を示す断面図である。It is a modification of embodiment shown in FIG. 1, and is sectional drawing which shows the example using a rod-shaped magnet. 図1に示す実施形態の変形例であり、両端が球形の円柱磁石を用いた例を示す断面図である。It is a modification of embodiment shown in FIG. 1, and is sectional drawing which shows the example using a cylindrical magnet with both ends spherical. 図1に示す実施形態の変形例を示す断面図であり、ホルダ内にNおよびSの2つの磁極を配置した例を示す。It is sectional drawing which shows the modification of embodiment shown in FIG. 1, and shows the example which has arrange | positioned two magnetic poles of N and S in a holder. 図16に示す例のさらなる変形例を示す断面図であり、NおよびSの2つの磁極を1つの磁石で実現した例を示す。FIG. 17 is a cross-sectional view showing a further modification of the example shown in FIG. 16 and shows an example in which two magnetic poles of N and S are realized by one magnet. 図16に示す例のさらなる変形例を示す断面図であり、マスクとして平坦なものを用いた例を示す。It is sectional drawing which shows the further modification of the example shown in FIG. 16, and shows the example using a flat thing as a mask. 図17に示す例のさらなる変形例を示す断面図であり、マスクとして平坦なものを用いた例を示す。It is sectional drawing which shows the further modification of the example shown in FIG. 17, and shows the example using a flat thing as a mask.

図1は本発明実施形態に係る環状成膜具を示す断面図である。ここでは、携帯機器用の小型カメラの樹脂レンズの有効径の外側に遮光膜を成膜するための構成を例に説明する。   FIG. 1 is a sectional view showing an annular film forming tool according to an embodiment of the present invention. Here, a configuration for forming a light shielding film on the outside of the effective diameter of a resin lens of a small camera for portable devices will be described as an example.

この環状成膜具は、環状の薄膜を形成しようとする成膜対象物であるレンズ11〜14のそれぞれ一方の面に配置されるマスク21〜24と、マスク21〜24が配置された面の逆側からレンズ11〜14を保持するホルダ40とを備える。ここで、マスク21〜24はその少なくともその一部に磁性材料または磁石を有し、ホルダ40には、マスク21〜24の磁性材料または磁石と作用してマスクを21〜24成膜対象物の所定の位置に配置する磁石または磁性体として、磁石31〜34が設けられる。磁石31〜34は、ホルダ40のレンズ11〜14とは逆側に設けられた穴に嵌め込まれ、カバー50により固定される。   This annular film-forming tool includes masks 21 to 24 arranged on one surface of each of lenses 11 to 14 which are film formation objects on which an annular thin film is to be formed, and surfaces on which the masks 21 to 24 are arranged. And a holder 40 that holds the lenses 11 to 14 from the opposite side. Here, the masks 21 to 24 have magnetic materials or magnets at least in part thereof, and the holders 40 act on the magnetic materials or magnets of the masks 21 to 24 so that the masks 21 to 24 are formed. Magnets 31 to 34 are provided as magnets or magnetic bodies arranged at predetermined positions. The magnets 31 to 34 are fitted into holes provided on the side opposite to the lenses 11 to 14 of the holder 40 and are fixed by the cover 50.

マスク21〜24として、この実施形態では、全体が磁性材料製のもの、例えばプラスチック材料に磁性材料を分散させたものを用いる。また、磁石31〜34として、この実施形態では、球形のボールマグネットを使用する。磁石31〜34として球形のものを用いることで、中央で磁束密度が高くなり、周辺部はマスク21〜24から距離も大きくなり磁力が弱くなるので、マスク21〜24の中心位置を正確に磁石31〜34の中心位置に一致させることができる。レンズ11〜14に接触したマスク21〜24は、外部から何らかの力により位置がずれることがあっても、その中心が磁石31〜34の中心に一致するように戻り、その位置が安定に維持される。   In this embodiment, the masks 21 to 24 are made of a magnetic material, for example, a plastic material in which a magnetic material is dispersed. Moreover, as this magnet 31-34, a spherical ball magnet is used in this embodiment. Since spherical magnets are used as the magnets 31 to 34, the magnetic flux density is increased at the center, and the distance from the masks 21 to 24 is increased and the magnetic force is weakened at the periphery. It can be made to correspond to the center position of 31-34. Even if the positions of the masks 21 to 24 that are in contact with the lenses 11 to 14 are shifted from the outside due to some force, the masks 21 to 24 are returned so that the centers thereof coincide with the centers of the magnets 31 to 34, and the positions are stably maintained. The

成膜は、真空プロセスにより行われる。すなわち、マスク21〜24をレンズ11〜14の一方の面に配置すると共に、成膜対象物の他方の面の近傍に磁石31〜34を配置してマスク21〜24をレンズ11〜14に接触させ、その状態で、レンズ11〜14のマスク21〜24が配置された側の面に、成膜材料を堆積させる。   Film formation is performed by a vacuum process. That is, the masks 21 to 24 are disposed on one surface of the lenses 11 to 14, and the magnets 31 to 34 are disposed in the vicinity of the other surface of the film formation target to contact the masks 21 to 24 with the lenses 11 to 14. In this state, a film forming material is deposited on the surface of the lenses 11 to 14 on the side where the masks 21 to 24 are arranged.

実用的な真空プロセスでは、真空槽内にドーム形状の回転ホルダが設けられ、この回転ホルダに、図1に示す状態の環状成膜具が多数取り付けられる。そして、回転ホルダの回転中心とはずれた位置の蒸着源から、成膜材料が蒸着される。回転ホルダが回転することで、各成膜対象物(レンズ11〜14)の蒸発源との位置関係が変化し、各成膜対象物に均等に成膜が施される。このとき、成膜対象物への成膜材料の堆積方向は変化し、垂直に堆積する成分はわずかである。このため、マスク21〜24はそれぞれ、周辺部がレンズ11〜14に密着する形状であって、成膜材料の堆積方向が成膜対象物に対して斜め方向であっても成膜できるように、周辺部に向かって薄くなるテーパ形状であることが望ましい。   In a practical vacuum process, a dome-shaped rotary holder is provided in a vacuum chamber, and a large number of annular film forming tools in the state shown in FIG. 1 are attached to the rotary holder. And the film-forming material is vapor-deposited from the vapor deposition source of the position shifted from the rotation center of the rotary holder. By rotating the rotary holder, the positional relationship of each film formation target (lenses 11 to 14) with the evaporation source changes, and the film formation target is evenly formed. At this time, the deposition direction of the film-forming material on the film-forming target changes, and there are few components that are vertically deposited. Therefore, each of the masks 21 to 24 has a shape in which the peripheral portion is in close contact with the lenses 11 to 14 so that the deposition can be performed even when the deposition direction of the deposition material is oblique to the deposition target. The taper shape is preferably thinner toward the periphery.

図2は成膜対象物の一例を示す断面図であり、図3は別の例を示す断面図である。図2および図3は共に、樹脂レンズの構造を示す。これらの図において、筐体に保持される部分を含むレンズの外径をφ1、有効径をφ2−1,φ2−2で表す。有効径φ2−1,φ2−2の外側に遮光膜を施す。図では単純化のため有効径φ2−1,φ2−2のすぐ外側を遮光エリアとして示すが、現実には、遮光エリアは有効径φ2−1,φ2−2から少し離れて設けられる。レンズの最外周は、筐体により隠れる部分であり、遮光は不要である。有効径、遮光エリアの内径および外径はそれぞれ、一般にはレンズの両側で異なる。したがって、マスク21〜24の直径は、レンズ11〜14のそれぞれに対して、その遮光エリアの内径に合わせておく必要がある。   FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating an example of a film formation target, and FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating another example. 2 and 3 both show the structure of the resin lens. In these drawings, the outer diameter of the lens including the portion held by the housing is represented by φ1, and the effective diameter is represented by φ2-1 and φ2-2. A light shielding film is applied outside the effective diameters φ2-1 and φ2-2. In the figure, for the sake of simplicity, the immediate outside of the effective diameters φ2-1 and φ2-2 is shown as a light shielding area, but in reality, the light shielding areas are provided a little away from the effective diameters φ2-1 and φ2-2. The outermost periphery of the lens is a portion hidden by the housing, and light shielding is unnecessary. The effective diameter, the inner diameter and the outer diameter of the light shielding area are generally different on both sides of the lens. Therefore, the diameters of the masks 21 to 24 need to be matched with the inner diameter of the light shielding area for each of the lenses 11 to 14.

図4は、図2の樹脂レンズの一方の面に対して用いられるマスクの種々の例を示す断面図である。これらの例は、図1にレンズ11およびマスク21として示したものと同等またはその変形である。図4(A)は、マスクを21aとして示しているが、図1のマスク21と同等のものである。このマスク21aは、レンズ11の凹面に合わせて凸形状となっており、周辺部が、レンズ11に接する形状となっている。この例では、マスク21aのレンズ11とは反対側に、四角で示す部分が設けられている。これは、製造上および取り扱い上の理由によるもので、成膜そのものに関連するものではない。以下の例も同様である。図4(B)に示すマスク21bは、レンズ11に面する側が平坦となっている。図4(C)に示すマスク21cは、マスク21bの中央に凸部を設けたものである。この凸部は、磁石からの磁力が集中し、位置決め精度を高めることができる。図4(D)に示すマスク21dは、周辺部に突出部が設けられている。図4(E)に示すマスク21eは、図4(D)示すマスク21dの中央部に、マスク21cと同様の凸部を設けたものである。   4 is a cross-sectional view showing various examples of a mask used for one surface of the resin lens of FIG. These examples are the same as those shown as the lens 11 and the mask 21 in FIG. FIG. 4A shows the mask as 21a, which is equivalent to the mask 21 of FIG. The mask 21 a has a convex shape in accordance with the concave surface of the lens 11, and the peripheral portion is in contact with the lens 11. In this example, a square portion is provided on the opposite side of the mask 21a from the lens 11. This is due to manufacturing and handling reasons and is not related to film formation itself. The same applies to the following examples. In the mask 21b shown in FIG. 4B, the side facing the lens 11 is flat. A mask 21c shown in FIG. 4C is provided with a convex portion at the center of the mask 21b. This convex portion concentrates the magnetic force from the magnet, and can increase the positioning accuracy. A mask 21d shown in FIG. 4D is provided with a protrusion at the periphery. A mask 21e shown in FIG. 4E is obtained by providing a convex portion similar to the mask 21c at the center of the mask 21d shown in FIG.

図5は、図2の樹脂レンズの他方の面に対して用いられるマスクの例を示す断面図である。これらの例は、図1にレンズ12およびマスク22として示したものと同等またはその変形である。図5(A)は、マスクを22aとして示しているが、図1のマスク22と同等のものである。このマスク22aは、レンズ12の凸面に合わせて凹形状となっており、周辺部が、レンズ12に接する形状となっている。図5(B)に示すマスク22bは、マスク21dと同等の形状をもち、レンズ12に面する面が平坦であって、周辺部に突出部が設けられている。   FIG. 5 is a cross-sectional view showing an example of a mask used for the other surface of the resin lens of FIG. These examples are equivalent to or modifications of those shown as lens 12 and mask 22 in FIG. FIG. 5A shows the mask as 22a, which is equivalent to the mask 22 of FIG. The mask 22 a has a concave shape in accordance with the convex surface of the lens 12, and a peripheral portion has a shape in contact with the lens 12. The mask 22b shown in FIG. 5B has the same shape as the mask 21d, the surface facing the lens 12 is flat, and a protrusion is provided at the periphery.

図6は、図3の樹脂レンズの一方の面に対して用いられるマスクの種々の例を示す断面図である。これらの例は、図1にレンズ13およびマスク23として示したものと同等またはその変形である。図6(A)は、マスクを23aとして示しているが、図1のマスク23と同等のものである。このマスク23aは、レンズ13の凹面に合わせて凸形状となっており、周辺部が、レンズ13に接する形状となっている。図6(B)に示すマスク23bは、レンズ13に面する側が平坦となっている。図6(C)に示すマスク23cは、マスク23bの中央に凸部を設けたものである。図6(D)に示すマスク23dは、周辺部に突出部が設けられている。図6(E)に示すマスク23eは、図6(D)示すマスク23dの中央部に、マスク23cと同様の凸部を設けたものである。   6 is a cross-sectional view showing various examples of masks used for one surface of the resin lens of FIG. These examples are the same as those shown as the lens 13 and the mask 23 in FIG. FIG. 6A shows the mask as 23a, which is equivalent to the mask 23 of FIG. The mask 23 a has a convex shape that matches the concave surface of the lens 13, and a peripheral portion is in contact with the lens 13. In the mask 23b shown in FIG. 6B, the side facing the lens 13 is flat. A mask 23c shown in FIG. 6C has a convex portion at the center of the mask 23b. The mask 23d shown in FIG. 6D is provided with a protrusion at the periphery. A mask 23e shown in FIG. 6E is obtained by providing a convex portion similar to the mask 23c at the center of the mask 23d shown in FIG.

図7は、図3の樹脂レンズの他方の面に対して用いられるマスクの種々の例を示す断面図である。これらの例は、図1にレンズ14およびマスク24として示したものと同等またはその変形である。図7(A)は、マスクを24aとして示しているが、図1のマスク24と同等のものである。このマスク24aは、レンズ14の面が平面であるのに対し凹形状となっており、周辺部が、レンズ14に接する形状となっている。図7(B)に示すマスク24bは、マスク24aの中央に凸部を設けたものである。図7(C)に示すマスク24cは、マスク21b,23bと同様に、レンズ13に面する側が平坦となっている。図7(D)に示すマスク24dは、マスク22b,23dと同様に、レンズ13に面する面が平坦であって、周辺部に突出部が設けられている。図7(E)に示すマスク24eは、マスク21e,23eと同様に、マスク24cの中央部に、凸部を設けたものである。   7 is a cross-sectional view showing various examples of masks used for the other surface of the resin lens of FIG. These examples are equivalent to or modifications of those shown as lens 14 and mask 24 in FIG. FIG. 7A shows the mask as 24a, which is equivalent to the mask 24 of FIG. The mask 24 a has a concave shape while the surface of the lens 14 is a flat surface, and a peripheral portion is in contact with the lens 14. A mask 24b shown in FIG. 7B has a convex portion provided at the center of the mask 24a. The mask 24c shown in FIG. 7C has a flat side facing the lens 13 like the masks 21b and 23b. As in the masks 22b and 23d, the mask 24d shown in FIG. 7D has a flat surface facing the lens 13 and is provided with a protrusion at the periphery. A mask 24e shown in FIG. 7E is provided with a convex portion at the center of the mask 24c, like the masks 21e and 23e.

以上に示したマスクの材料としては、磁性材料であればどのようなものでも良い。例えば、樹脂レンズ成型の廃材を利用し、それに磁性体を混ぜて成型したものを用いることもできる。レンズの成型時には、どうしても余分な部分が生じてしまう。これをマスクの材料として再利用することができる。   Any material may be used as the mask material described above as long as it is a magnetic material. For example, it is possible to use a resin lens-molded waste material mixed with a magnetic material and molded. When molding a lens, an extra part is inevitably generated. This can be reused as a mask material.

以上の説明では、マスク全体が磁性材料製であるものとしたが、マスクの一部だけが磁性材料製であってもよい。また、磁性特性の異なる材料を組み合わせて用いることもできる。例えば、非磁性材料製のマスクの中心に磁性材料を埋め込んでもよく、マスクの中心に磁性材料を埋め込むと共に、そのマスクの表面、特にレンズ側の面に、磁性材料部を設けてもよい。磁性材料製のマスクに対して、特性の異なる磁性材料を埋め込んだり、表面に磁性材料部を設けることもできる。さらに、非磁性材料製または磁性材料製のマスクに、磁石31〜34と互いに引き合う極性で磁石を埋め込んだり、同様の極性で表面に磁石を設けることもできる。さらに、マスクの少なくとも一部を磁石とする場合、磁石31〜34の代わりに、磁性体を用いることもできる。   In the above description, the entire mask is made of a magnetic material, but only a part of the mask may be made of a magnetic material. Moreover, it is also possible to use a combination of materials having different magnetic properties. For example, a magnetic material may be embedded in the center of a mask made of a nonmagnetic material, a magnetic material may be embedded in the center of the mask, and a magnetic material portion may be provided on the surface of the mask, particularly on the lens side. A magnetic material having different characteristics can be embedded in the mask made of magnetic material, or a magnetic material portion can be provided on the surface. Furthermore, a magnet can be embedded in a mask made of nonmagnetic material or magnetic material with a polarity attracting each other with the magnets 31 to 34, or a magnet can be provided on the surface with the same polarity. Furthermore, when at least a part of the mask is a magnet, a magnetic material can be used instead of the magnets 31 to 34.

図8から図10はそれぞれ、非磁性材料製または磁性材料製のマスクに、磁石31〜34と互いに引き合う極性で磁石を埋め込んだ例を示す断面図である。図8は、マスクの中心に棒状の磁石を設けた構成を示し、図9は、マスクの中心だけでなく成膜対象物に面する面にも磁石を設けた構成を示し、図10は、マスクの中心の成膜対象物側にのみ磁石を設けた構成を示す。   FIGS. 8 to 10 are cross-sectional views showing examples in which magnets are embedded in masks made of nonmagnetic material or magnetic material with polarities attracting magnets 31 to 34, respectively. FIG. 8 shows a configuration in which a rod-shaped magnet is provided at the center of the mask, FIG. 9 shows a configuration in which a magnet is provided not only in the center of the mask but also on the surface facing the film formation target, and FIG. The structure which provided the magnet only in the film-forming target side of the center of a mask is shown.

図8(A)に示すマスク25aは、成膜対象物に面する面が平坦で、その中心に凸部が設けられ、そこに、棒状の磁石201が埋め込まれている。また、図8(B)に示すマスク25bは、周辺部が突出した形状をもち、中心には凸部が設けられ、その凸部の部分に、棒状の磁石201が埋め込まれている。図では成膜対象物側をS極として示すが、これは対向する磁石の磁極がN極と仮定したもので、磁石側がS極であれば、当然に、磁石201の成膜対象物側はN極とする。   A mask 25a shown in FIG. 8A has a flat surface facing a film formation target, a convex portion provided at the center thereof, and a rod-shaped magnet 201 embedded therein. Further, the mask 25b shown in FIG. 8B has a shape in which a peripheral portion protrudes, a convex portion is provided at the center, and a rod-shaped magnet 201 is embedded in the portion of the convex portion. In the figure, the film formation object side is shown as the S pole, but this is based on the assumption that the magnetic pole of the opposing magnet is the N pole. If the magnet side is the S pole, naturally the film formation object side of the magnet 201 is N pole.

図9(A)に示すマスク26aは、図8(A)に示すマスク25aと同等の形状であるが、成膜対象物に面する面にも磁石202が設けられていることが異なる。また、図9(B)に示すマスク26bは、図8(B)に示すマスク25bと同等の形状であるが、成膜対象物に面する面にも磁石202が設けられていることが異なる。   The mask 26a shown in FIG. 9A has the same shape as the mask 25a shown in FIG. 8A, but the magnet 202 is also provided on the surface facing the film formation target. A mask 26b shown in FIG. 9B has the same shape as the mask 25b shown in FIG. 8B, except that a magnet 202 is also provided on the surface facing the film formation target. .

図10(A)に示すマスク27aは、成膜対象物に面する側が平坦で、その面の表面部分だけに磁石203が設けられていることが、図8(A)に示すマスク25aと異なる。図10(B)に示すマスク27bは、成膜対象物に面する側が凹面となっていることが、図10(A)に示すマスク27aと異なる。   The mask 27a shown in FIG. 10A is different from the mask 25a shown in FIG. 8A in that the side facing the film formation target is flat and the magnet 203 is provided only on the surface portion of the surface. . The mask 27b illustrated in FIG. 10B is different from the mask 27a illustrated in FIG. 10A in that the side facing the film formation target is a concave surface.

図8から図10にそれぞれ示した構造において、マスク本体が磁性材料または非磁性材料のいずれの場合でも、磁石201、202、203に代えて、マスク本体の材料とは異なる磁性材料を用いることもできる。マスク25a、25b、26a、26b、27aのレンズ側表面を、例えばフッ素樹脂などの軟性材を用いて表面処理することにより、成膜対象物の表面に傷がつくことを防止することができる。実施形態では、非磁性材料として樹脂を用いるものとするが、材料は適宜選択すればよい。   In each of the structures shown in FIGS. 8 to 10, a magnetic material different from the material of the mask body may be used instead of the magnets 201, 202, 203 regardless of whether the mask body is a magnetic material or a non-magnetic material. it can. By subjecting the lens-side surfaces of the masks 25a, 25b, 26a, 26b, and 27a to a surface treatment using a soft material such as a fluororesin, it is possible to prevent the surface of the film formation target from being damaged. In the embodiment, a resin is used as the nonmagnetic material, but the material may be appropriately selected.

以上の説明では、逆円錐マスクを例に説明したが、マスク形状をフィルム状の平坦なものとすることもできる。「フィルム状」とはいえ、マスクとしての形状維持が可能な厚みはあるものとする。マスクは1回の成膜にしか使えない消耗品のため、フィルムで作成できれば、コストは安くできる。   In the above description, an inverted conical mask has been described as an example, but the mask shape may be a flat film. Although it is “film-like”, it is assumed that there is a thickness capable of maintaining the shape as a mask. The mask is a consumable that can be used only once, so if it can be made of film, the cost can be reduced.

図11は、フィルム状のマスクの構成例を示す断面図であり、磁性材料をマスクの中央だけに設けた例を示す。図11(A)に示すマスク28Aは、磁性材料281を2枚の非磁性材フィルム282で挟んだ構造を有する。磁性材料281は、非磁性材フィルムの中心に配置される。磁性材料281を非磁性材フィルム282の中央のみに設けることにより、マスク28aを所定の位置および向きで固定することができる。図11(B)に示すマスク28bは、図11(A)に示すマスク28aの成膜対象物側とは反対側の非磁性材フィルム282を省略した例を示す。レンズ側の非磁性材フィルム282は、例えばその材料として樹脂を用いることで、磁性材料181として硬質のものを用いた場合でも、成膜対象物の表面に傷がつくのを防止することができる。   FIG. 11 is a cross-sectional view showing a configuration example of a film-like mask, and shows an example in which a magnetic material is provided only at the center of the mask. A mask 28 </ b> A shown in FIG. 11A has a structure in which a magnetic material 281 is sandwiched between two nonmagnetic material films 282. The magnetic material 281 is disposed at the center of the nonmagnetic material film. By providing the magnetic material 281 only at the center of the nonmagnetic material film 282, the mask 28a can be fixed at a predetermined position and orientation. A mask 28b illustrated in FIG. 11B illustrates an example in which the nonmagnetic material film 282 on the side opposite to the film formation target side of the mask 28a illustrated in FIG. The lens-side nonmagnetic material film 282 can be prevented from scratching the surface of the film formation target even when a hard material is used as the magnetic material 181 by using, for example, a resin. .

図12は、フィルム状のマスクの別の構成例を示す断面図であり、磁性材料をマスク全面に設けた例を示す。図12(A)に示すマスク29aは、磁性材料291を2枚の非磁性材フィルム292で挟んだ構造を有する。磁性材料291はマスク29aの全面に設けられる。図11に示した例に比べると、成膜対象物に対するマスク28bの位置決めが難しくなる可能性はあるが、製造は容易になる。図12(B)に示すマスク29bは、図12(A)に示すマスク29aの成膜対象物側とは反対側の非磁性材フィルム292を省略した例を示す。図12(C)に示すマスク29cは、全体をフィルム状の磁性材料291で形成したものである。非磁性材フィルム282,292のうち少なくとも成膜対象側のものについては、例えば樹脂を用いることが望ましい。樹脂を用いることで、磁性材料281,291として硬質のものを用いた場合でも、成膜対象物の表面に傷がつくことを防止することができる。図12(C)に示すマスク29cの磁性材料291としては、成膜対象物を傷つけるものでなければ、どのような材料を用いてもよい。   FIG. 12 is a cross-sectional view showing another configuration example of the film-like mask, and shows an example in which a magnetic material is provided on the entire surface of the mask. A mask 29 a shown in FIG. 12A has a structure in which a magnetic material 291 is sandwiched between two nonmagnetic material films 292. The magnetic material 291 is provided on the entire surface of the mask 29a. Compared to the example shown in FIG. 11, the positioning of the mask 28b with respect to the film formation target may be difficult, but the manufacturing becomes easy. A mask 29b illustrated in FIG. 12B illustrates an example in which the nonmagnetic material film 292 on the opposite side of the mask 29a illustrated in FIG. A mask 29c shown in FIG. 12C is entirely formed of a film-like magnetic material 291. It is desirable to use, for example, a resin for at least the film formation target side of the nonmagnetic material films 282 and 292. By using a resin, even when a hard material is used as the magnetic materials 281 and 291, it is possible to prevent the surface of the film formation target from being damaged. As the magnetic material 291 of the mask 29c shown in FIG. 12C, any material may be used as long as it does not damage the film formation target.

図13は、図1に示す実施形態の変形例を示す断面図であり、図1におけるレンズ11、12に関連する部分のみを示す。この例では、磁石31,31の代わりに、直径の小さい磁石31a,32aを用いる。磁力が低下する可能性はあるが、中心位置精度は高くなる。   FIG. 13 is a cross-sectional view showing a modification of the embodiment shown in FIG. 1, and shows only portions related to the lenses 11 and 12 in FIG. In this example, magnets 31 a and 32 a having a small diameter are used instead of the magnets 31 and 31. Although the magnetic force may be reduced, the accuracy of the center position is increased.

図14は、図1に示す実施形態の変形例を示す断面図であり、棒状の磁石31b,32bを用いた例を示す。細長い磁石31b,32bを用いることで、磁力を保ちながら、中心位置精度を高くすることができる。   FIG. 14 is a cross-sectional view showing a modification of the embodiment shown in FIG. 1, and shows an example using rod-like magnets 31b and 32b. By using the elongated magnets 31b and 32b, the center position accuracy can be increased while maintaining the magnetic force.

図15は図1に示す実施形態の変形例を示す断面図であり、円柱上で両端が球形の、すなわち薬用カプセル形の磁石31c,32cを用いた例を示す。   FIG. 15 is a cross-sectional view showing a modification of the embodiment shown in FIG. 1, and shows an example using magnets 31c and 32c having both ends spherical on a cylinder, that is, medicinal capsules.

また、例えば図8から図10に示すようにマスクに磁石25a,26a,27b,28bを設ける場合、あるいは図11、図12に示す磁性材料281,291として磁石を用いる場合は、対向する磁石31〜34,31a〜31c,32a〜32cの代わりに、磁性体を用いることもできる。   For example, when magnets 25a, 26a, 27b, and 28b are provided on the mask as shown in FIGS. 8 to 10, or when magnets are used as the magnetic materials 281 and 291 shown in FIGS. Magnetic materials can also be used instead of ˜34, 31a˜31c, and 32a˜32c.

図16は、図1に示す実施形態の変形例を示す断面図であり、ホルダ内にNおよびSの2つの磁極を配置した例を示す。この図では、明確さのため、ホルダ部分のハッチングを省略している。   FIG. 16 is a cross-sectional view showing a modification of the embodiment shown in FIG. 1, and shows an example in which two magnetic poles N and S are arranged in a holder. In this figure, the hatching of the holder portion is omitted for clarity.

マスク(ここでは、マスク21,22のみを示す)の各々に対してホルダ内の磁極が1つの場合、磁力やマスクの形状およびマスクの重さにもよるが、マスクが裏返しになって磁石に引きつけられたり、マスクの縁の部分に磁力が集中して、マスクが立った状態で成膜対象物に接する可能性がある。そこで、図16に示す例では、マスク21,22に対して、それぞれ磁石311と312、磁石321と322を用いる。この場合、マスク21,22には、ホルダに設けられたNおよびSの2つの磁極と作用するように、磁性材料が、成膜対象物の成膜対象面と平行な面内の少なくとも1方向に沿って、望ましくはその面内に実質的に円形に、設けられる。ホルダには、マスク21に対して磁石311,312によるNおよびSの2つの磁極が、マスク22に対して磁石321,322によるNおよびSの2つの磁極が、それぞれ設けられる。   If there is one magnetic pole in the holder for each of the masks (here, only masks 21 and 22), depending on the magnetic force, the shape of the mask, and the weight of the mask, the mask will turn over and become a magnet. There is a possibility that the magnetic force concentrates on the edge portion of the mask or is in contact with the film formation target with the mask standing. Therefore, in the example shown in FIG. 16, magnets 311 and 312 and magnets 321 and 322 are used for the masks 21 and 22, respectively. In this case, the magnetic material is applied to the masks 21 and 22 in at least one direction in a plane parallel to the film formation target surface of the film formation target so as to act on the N and S magnetic poles provided on the holder. , Preferably in a substantially circular manner in its plane. The holder is provided with two magnetic poles of N and S by the magnets 311 and 312 for the mask 21 and two magnetic poles of N and S by the magnets 321 and 322 for the mask 22, respectively.

2つの磁極の間隔は、マスク21,22内の磁性材料の長さに対応していることが望ましい。例えばマスク21,22の全体に磁性材料が分散している場合、磁石311,312の間隔がマスク21の直径と、磁石321,322の間隔がマスク22の直径と、それぞれ等しいことが望ましい。これは、磁力線が、磁石311,312の内側エッジおよび磁石321,322の内側エッジにそれぞれ集中し、マスク21,22を正確に所望の位置に配置できるからである。   The distance between the two magnetic poles preferably corresponds to the length of the magnetic material in the masks 21 and 22. For example, when the magnetic material is dispersed throughout the masks 21 and 22, it is desirable that the distance between the magnets 311 and 312 is equal to the diameter of the mask 21 and the distance between the magnets 321 and 322 is equal to the diameter of the mask 22. This is because the lines of magnetic force concentrate on the inner edges of the magnets 311 and 312 and the inner edges of the magnets 321 and 322, respectively, so that the masks 21 and 22 can be accurately placed at desired positions.

とはいえ、実用的には、図2,図3を参照して説明したように、マスク21,22に要求される直径は、成膜対象物となるレンズの有効径によって異なる。このため、同じホルダを使用する場合でも、異なる直径のマスクをマスク21,22として使用することがある。マスクの直径が異なる場合でも、そのマスクに含まれる磁性材料部分の長さまたは直径が一定であれば、磁極の間隔が固定でもマスクを常に最適な位置に配置することができる。しかし、マスクを安価に製造するには、マスク全体に磁性材料を分散させることが望ましい。その場合、磁石の間隔は、誤差許容範囲を考慮して設定される。磁石の間隔がマスクの直径より小さい方が、大きい場合に比べて、マスクを適切な位置に配置できると考えられる。   However, practically, as described with reference to FIGS. 2 and 3, the diameter required for the masks 21 and 22 differs depending on the effective diameter of the lens that is the film formation target. For this reason, even when the same holder is used, masks having different diameters may be used as the masks 21 and 22. Even when the masks have different diameters, if the length or diameter of the magnetic material portion included in the mask is constant, the mask can always be disposed at an optimal position even if the magnetic pole spacing is fixed. However, in order to manufacture the mask at a low cost, it is desirable to disperse the magnetic material throughout the mask. In that case, the interval between the magnets is set in consideration of an allowable error range. It is considered that the mask can be disposed at an appropriate position when the magnet interval is smaller than the mask diameter, as compared with the case where the magnet spacing is larger.

図17は、図16に示す例のさらなる変形例であり、NおよびSの2つの磁極を1つの磁石313,323で実現した例を示す断面図である。磁石313,323の長さ(図面横方向)は、それぞれマスク21,22の直径に対応している。磁石313,323は、それぞれ図面横方向に長い棒磁石でもよく、円形でその面内の両端がN,Sとなっている磁石や、U字磁石のようなものでもよい。   FIG. 17 is a sectional view showing a further modification of the example shown in FIG. 16 and showing an example in which two magnetic poles of N and S are realized by one magnet 313,323. The lengths of the magnets 313 and 323 (in the horizontal direction in the drawing) correspond to the diameters of the masks 21 and 22, respectively. Each of the magnets 313 and 323 may be a bar magnet that is long in the horizontal direction of the drawing, or may be a circular magnet having N and S at both ends in the plane, or a U-shaped magnet.

図18および図19は、それぞれ図16および図17に示す例のさらなる変形例を示す断面図である。これらの例では、逆円錐形のマスク21、22に代えて、全体が平坦なマスク211、221を用いている。マスク211、221には磁性材料である金属板を用いるものとするが、磁性材料を平坦に成形したものや、例えば図12に示したように、樹脂製フィルムに磁性材料を取り付けたものであってもよい。実施例では平坦なマスクを用いるが、レンズ12に沿うように磁性材料を曲げ加工したマスクであってもよい。マスク211、221のレンズ12に接触する面は樹脂面であることが望ましく、金属板の表面を樹脂でコーティングしてもよい。   18 and 19 are cross-sectional views showing further modifications of the examples shown in FIGS. 16 and 17, respectively. In these examples, instead of the inverted conical masks 21 and 22, masks 211 and 221 that are entirely flat are used. The masks 211 and 221 are made of metal plates, which are magnetic materials. However, the masks 211 and 221 may be formed by flatly molding the magnetic material, or by attaching a magnetic material to a resin film as shown in FIG. May be. Although a flat mask is used in the embodiment, a mask obtained by bending a magnetic material along the lens 12 may be used. The surfaces of the masks 211 and 221 that are in contact with the lens 12 are preferably resin surfaces, and the surface of the metal plate may be coated with resin.

なお、図18および図19の各々右側の例では、マスク221が平坦であることを明確にするため、マスク221の方向に凸となっているレンズ12に対して、マスク221の端部がレンズ12から浮くものとして示している。マスク221を可撓性のある材料で形成することで、マスク221をレンズ12の形状に沿って撓ませることができ、レンズ12に密着させるようにすることもできる。   In the examples on the right side of FIGS. 18 and 19, in order to clarify that the mask 221 is flat, the end of the mask 221 is a lens that is convex in the direction of the mask 221. It is shown as floating from 12. By forming the mask 221 with a flexible material, the mask 221 can be bent along the shape of the lens 12 and can be brought into close contact with the lens 12.

以上の実施形態によれば、環状成膜エリア全面を成膜源に露出することが可能となるため、均一な遮光膜を形成することができる効果がある。また、マスクを所望の位置に精度よく固定保持することで、高い形状精度で遮光膜を成膜することができる。さらに、ブリッジを有しない構造のため、マスクの製作難易度、製作コストを共に向上させ、生産性向上に寄与することができる。   According to the embodiment described above, the entire annular film formation area can be exposed to the film formation source, so that there is an effect that a uniform light shielding film can be formed. Further, the light shielding film can be formed with high shape accuracy by accurately fixing and holding the mask at a desired position. Furthermore, since the structure does not have a bridge, it is possible to improve both the difficulty of manufacturing the mask and the manufacturing cost, thereby contributing to an improvement in productivity.

以上の説明では樹脂レンズに遮光膜を成膜する場合を例に説明したが、本発明は、他の環状膜の成膜にも同様に利用することができる。   In the above description, the case where the light shielding film is formed on the resin lens has been described as an example. However, the present invention can be similarly used to form other annular films.

11〜14、レンズ
21〜24,21a〜21e,22a,22b,23a〜23e,24a〜24e,25a,25b,26a,26b,27a,27b,28a,28b,29a〜29c,211,221 マスク
31〜34,25a,26a,27b,28b,31a,32b,31b,32b,31c,32c,311,312,321,322,313,323 磁石
40 ホルダ
50 カバー

11-14, lenses 21-24, 21a-21e, 22a, 22b, 23a-23e, 24a-24e, 25a, 25b, 26a, 26b, 27a, 27b, 28a, 28b, 29a-29c, 211, 221 mask 31 34, 25a, 26a, 27b, 28b, 31a, 32b, 31b, 32b, 31c, 32c, 311, 312, 321, 322, 313, 323 Magnet 40 Holder 50 Cover

Claims (14)

成膜対象物に環状の薄膜を形成する環状薄膜形成方法において、
少なくとも一部に磁性材料または磁石を有するマスクを前記成膜対象物の一方の面に配置すると共に、前記成膜対象物の他方の面の近傍に前記磁性材料または磁石に作用する磁石または磁性体を配置して前記マスクを前記成膜対象物に接触させ、
その状態で、前記成膜対象物の前記一方の面に成膜材料を堆積させる
ことを特徴とする環状成膜方法。
In an annular thin film forming method for forming an annular thin film on a film formation target,
A mask having a magnetic material or a magnet at least partially disposed on one surface of the film formation target, and a magnet or a magnetic body acting on the magnetic material or magnet in the vicinity of the other surface of the film formation target To place the mask in contact with the film formation target,
In this state, a film forming material is deposited on the one surface of the film forming object.
環状の薄膜を形成しようとする成膜対象物の一方の面に配置されるマスクと、
前記一方の面と逆側から前記成膜対象物を保持するホルダと、
を備え、
前記マスクはその少なくとも一部に磁性材料または磁石を有し、
前記ホルダには、前記磁性材料または磁石と作用して前記マスクを前記成膜対象物の所定の位置に配置する磁石または磁性体が設けられる
ことを特徴とする環状成膜具。
A mask disposed on one surface of the object to be formed to form an annular thin film;
A holder for holding the film formation object from the opposite side of the one surface;
With
The mask has a magnetic material or magnet in at least a part thereof,
The annular film-forming tool, wherein the holder is provided with a magnet or a magnetic body that acts on the magnetic material or the magnet to place the mask at a predetermined position of the film-forming target.
請求項2記載の環状成膜具において、
前記磁石または磁性体は、前記成膜対象物に向かって磁力が1点に集中する形状である
ことを特徴とする環状成膜具。
The annular film-forming tool according to claim 2,
The said magnet or a magnetic body is a shape where magnetic force concentrates on one point toward the said film-forming target object. The cyclic | annular film-forming tool characterized by the above-mentioned.
請求項3記載の環状成膜具において、
前記磁石または磁性体は、球形、棒状、または少なくとも前記成膜対象物側が半球状の形状である
ことを特徴とする環状成膜具。
The annular film-forming tool according to claim 3,
The annular film-forming tool, wherein the magnet or the magnetic body is spherical, rod-shaped, or has a hemispherical shape at least on the film-forming target side.
請求項2記載の環状成膜具において、
前記ホルダは、前記成膜対象物の中心と前記磁石または磁性体の磁力が集中する点とが一致するように前記磁石または磁性体と前記成膜対象物とを保持する構造である
ことを特徴とする環状成膜具。
The annular film-forming tool according to claim 2,
The holder has a structure for holding the magnet or the magnetic body and the film formation target so that the center of the film formation target and the point where the magnetic force of the magnet or magnetic body is concentrated coincide. An annular film forming tool.
請求項2から5のいずれか1項に記載の環状成膜具において、
前記マスクは、その少なくとも中央に磁性材料または磁石が配置された
ことを特徴とする環状成膜具。
In the annular film-forming tool according to any one of claims 2 to 5,
The annular film forming tool, wherein the mask has a magnetic material or a magnet arranged at least in the center thereof.
請求項2に記載の環状成膜具において、
前記マスクは、磁性材料が前記成膜対象物の成膜対象面と平行な面内の少なくとも1方向に沿って設けられ、
前記ホルダには、NおよびSの2つの磁極が前記マスクの前記磁性材料の長さに対応する間隔で設けられている
ことを特徴とする環状成膜具。
The annular film-forming tool according to claim 2,
In the mask, the magnetic material is provided along at least one direction in a plane parallel to the film formation target surface of the film formation target,
The annular film-forming tool, wherein two magnetic poles of N and S are provided on the holder at intervals corresponding to the length of the magnetic material of the mask.
請求項7に記載の環状成膜具において、
前記マスクに設けられる前記磁性材料は、前記平行な面内に実質的に円形に設けられ、
前記2つの磁極の間隔は前記円形の直径に対応している
ことを特徴とする環状成膜具。
In the annular film-forming tool according to claim 7,
The magnetic material provided on the mask is provided in a substantially circular shape in the parallel plane,
The space between the two magnetic poles corresponds to the diameter of the circle.
請求項2から8のいずれか1項に記載の環状成膜具において、
前記マスクは、少なくとも前記成膜対象物に接触する面の一部が、樹脂である
ことを特徴とする環状成膜具。
The annular film-forming tool according to any one of claims 2 to 8,
The annular film-formation tool characterized in that at least a part of the surface of the mask that contacts the film-formation target is a resin.
請求項2から9のいずれか1項に記載の環状成膜具において、
前記マスクは、周辺部が前記成膜対象物に密着する形状であって、成膜材料の堆積方向が前記成膜対象物に対して斜め方向であっても成膜できるように、周辺部に向かって薄くなるテーパ形状である
ことを特徴とする環状成膜具。
In the annular film-forming tool according to any one of claims 2 to 9,
The mask has a shape in which the peripheral portion is in close contact with the film formation target, and the mask is formed on the peripheral portion so that film formation can be performed even when the deposition direction of the film formation material is oblique to the film formation target. An annular film forming tool characterized by having a tapered shape that becomes thinner toward the surface.
請求項2から9のいずれか1項に記載の環状成膜具において、
前記マスクは、その全体が、平坦に形成されている
ことを特徴とする環状成膜具。
In the annular film-forming tool according to any one of claims 2 to 9,
The annular film-forming tool, wherein the mask is entirely formed as a whole.
請求項2から11のいずれか1項に記載の環状成膜具において、
前記成膜対象物は樹脂レンズであり、前記マスクは、前記樹脂レンズの有効径の外側に遮光膜を成膜するための樹脂製マスクである
ことを特徴とする環状成膜具。
The annular film-forming tool according to any one of claims 2 to 11,
The annular film forming tool, wherein the film formation target is a resin lens, and the mask is a resin mask for forming a light shielding film outside the effective diameter of the resin lens.
成膜対象物に環状の薄膜を形成するためのマスクであって、
前記成膜対象物を保持するホルダに設けられた磁石または磁性体と作用するように、少なくとも一部に磁性材料または磁石を有する
ことを特徴とする環状薄膜形成用マスク。
A mask for forming an annular thin film on a film formation target,
A mask for forming an annular thin film, comprising at least a part of a magnetic material or a magnet so as to act on a magnet or a magnetic body provided on a holder for holding the film formation target.
成膜対象物に環状の薄膜を形成するためのマスクであって、
前記成膜対象物を保持するホルダに設けられたNおよびSの2つの磁極と作用するように、磁性材料が前記成膜対象物の成膜対象面と平行な面内の少なくとも1方向に沿って設けられている
ことを特徴とする環状薄膜形成用マスク。

A mask for forming an annular thin film on a film formation target,
The magnetic material moves along at least one direction in a plane parallel to the film formation target surface of the film formation target so as to act on the two magnetic poles N and S provided on the holder that holds the film formation target. An annular thin film forming mask characterized by being provided.

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