JP2008172006A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】nウエル領域2とpベース領域4のpn接合表面端部にトレンチ25を形成することにより、トレンチ25外周部へ空乏層が延びないようにして、不活性領域(耐圧構造部の領域)を狭めるて、チップサイズの小型化を図る。チップサイズを同じにした場合は活性領域を広げられるのでオン抵抗の低減を図ることができる。
【選択図】 図1
Description
図8は、従来の双方向トレンチ横型パワーMOSFETの要部平面図であり、図9は図8のC部の詳細図で同図(a)は要部平面図、同図(b)は同図(a)のX2−X2線で切断した要部断面図であり、図10は図8のX1−X1線で切断した要部断面図である。
また、図示しない層間絶縁膜に開けたコンタクトホール76と、第1nソース領域67およびpベースピックアップ領域69とプラグ73を介して接する第1ソース電極配線74と、第2nソース領域68およびpベースピックアップ領域69とプラグ73を介して接する第2ソース電極配線75とを有する。
また、第1ソース電極配線74に接続する第1ソース端子S1と、第2ソース電極配線75に接続する第2ソース端子S2と、第1ゲート金属配線77に接続する第1ゲート端子G1と、第2ゲート金属配線78に接続する第2ゲート端子G2とを有する。
図10は、デバイス領域となっていない周辺領域である。図10に示すトレンチ63の左側の第1pベース領域64は、第1MOSFET91の第1pベース領域64とつながっている。p基板61をグランド電位とし、第1、第2ゲート電極71、72の電位を低下させて図11の第1MOSFET91および第2MOSFET92をともにオフにした状態で、第2MOSFET92に高電圧を印加した場合、図10で示すように、nウエル領域62と第1MOSFET91の第1pベース領域64のpn接合95と、nウエル領域62とp基板61のpn接合96が逆バイアスされて、nウエル領域62内と第1pベース領域64内およびp基板61内にそれぞれ空乏層が広がる。このとき、表面層付近では、拡散終端(マスクエッジ)であるため、深さ方向よりも不純物濃度が低くなり、空乏層が広がりやすくなる。
特許文献3において、半導体装置の主接合部の周囲を取り囲むように複数のトレンチを形成し、各トレンチの底部とトレンチの間にそれぞれp+層あるいはショットキーコンタクトを設け、トレンチ底部p+層2とトレンチ間p+層3の間に空乏層が広がるようにトレンチ間n−層4を設けてタミーネション部を構成することで、占有面積を減らし高耐圧化を図れることが開示されている。
つまり、図10に示すように、従来構造では、耐圧を確保するために、デバイスを形成しているトレンチ63の外周に、トレンチ63から第1pベース領域64端までの距離L1を5μm以上になるように第1pベース領域64を形成し、さらに、この第1pベース領域64端からnウエル領域62端までの距離L2を10μm以上になるようにnウエル領域62を形成する必要がある。
例えば、図8〜図10で示す従来構造において、第2nソース領域68(第2ソース電極配線75およびS2)に高電位を印加し、第1nソース領域67(第1ソース電極配線74およびS1)とp基板61をグランド電位にした場合、pn接合95、96が逆バイアスとなり、空乏層はpn接合95を挟んでnウエル領域62内と第1pベース領域64内に広がり、pn接合96を挟んでnウエル領域62内とp基板61内に広がる。pn接合96(またはpn接合95)から広がる空乏層がpn接合95(またはpn接合96)に達してパンチスルーするのを回避するために、第1pベース領域64端からnウエル領域62端の間隔L2を10μm以上とする。また、第1pベース領域64全域に空乏層が広がってpn接合95での電界強度が高くなり過ぎるのを防止するために、トレンチ63から第1pベース領域64端の間隔L1を5μm以上とする。従って合計の間隔L1+L2=L3を15μm以上とする必要がある。
また、前記第1トレンチおよび前記第2トレンチの底部に形成されるとよい。
また、前記第1半導体領域が、第2導電型の半導体基板の表面層に形成されるとよい。
また、前記第1、第2ゲート電極、前記ゲート電極および前記導電膜が、それぞれポリシリコン膜であるとよい。
チップサイズを同じにした場合は活性領域を広げられるのでオン抵抗の低減を図ることができる。
図1では第1ソース領域7、第2ソース領域8およびpベースピックアップ領域9は省略されている。また図2(a)では第1ソース電極配線14、第2ソース電極配線15、第1ポリシリコンゲート配線19、第2ポリシリコンゲート配線20は省略されており、図2(b)ではトレンチ3を充填しプラグ13と第1、第2ゲート電極11、12を絶縁する層間絶縁膜は図示されていない。また図3でも層間絶縁膜は図示されていない。
また、図示しない層間絶縁膜に開けたコンタクトホール16と、第1nソース領域7およびpベースピックアップ領域9とタングステンなどで形成したプラグ13を介して接する第1ソース電極配線14と、第2nソース領域8およびpベースピックアップ領域9にプラグ13を介して接する第2ソース電極配線15とを有する。
具体的には、第1トレンチ3からnウェル領域2端までの必要な間隔T3は、トレンチ1ピッチ分T1の2.5μmと第2トレンチ25からnウェル領域2端の間隔T2の5μmの合計で7.5μmとなり、従来構造で必要とされる間隔L3の15μmと比べて半分となり、チップサイズの小型化ができる。
尚、図4に示すように、第1、第2nソース領域7、8を図2(a)のようにpベースピックアップ領域9を取り囲むように形成しないで、pベースピックアップ領域9と交互に形成しても構わない。
図5では図6に記載されているソース領域37、ドレイン領域8およびpピックアップ領域39は省略されている。また図6(a)では図5で記載されているソース電極配線44、ドレイン電極配線45、ポリシリコンゲート配線49、ポリシリコン配線50は省略されており、図6(b)ではトレンチ33を充填しプラグ43と第1、第2ゲート電極41、42を絶縁する層間絶縁膜は図示されていない。また図3でも層間絶縁膜は図示されていない。
また、第1トレンチ33の側壁にゲート絶縁膜40を介してn+領域35側にゲート電極41と同時に形成されるポリシリコン膜42と、第2トレンチ55の側壁にゲート絶縁膜40と同時に形成された絶縁膜57を介してpベース領域34側に形成されるポリシリコン膜58(ゲート電極41と同時に形成)と、nウエル領域32側に形成されるポリシリコン膜59(ゲート電極41と同時に形成)とを有する。
この場合も第1実施例と同様に、第2トレンチ55でpベース領域34は分離されているため、nウエル領域32とpベース領域34で形成されるpn接合が表面ではなくなり、図10に相当するnウエル領域62とpベース領域64で形成されるpn接合95からの横方向の空乏層の広がりがなくなるため、不活性領域を狭めることができる。
2、32 nウエル領域
3、33 第1トレンチ
4 第1pベース領域
5 第2pベース領域
6、36 nドレイン領域
7 第1nソース領域
8 第2nソース領域
9、39 pベースピックアップ領域
10、40 ゲート絶縁膜
11 第1ゲート電極
12 第2ゲート電極
13、43 プラグ
14 第1ソース電極配線
15 第2ソース電極配線
16、21、46、51コンタクトホール
17 第1ゲート金属配線
18 第2ゲート金属配線
19 第1ポリシリコンゲート配線
20 第2ポリシリコンゲート配線
25、55 第2トレンチ
26、56 n領域
27、57 絶縁膜
28、29、58、59 ポリシリコン膜
34 pベース領域
35 n+領域
37 nソース領域
38 n++領域
41 ゲート電極
42 ポリシリコン
44 ソース電極配線
45 ドレイン電極配線
47 ゲート金属配線
49 ポリシリコンゲート配線
50 ポリシリコン配線
Claims (8)
- 第1導電型の第1半導体領域と、前記第1半導体領域の表面層に形成された平面形状が閉ループ状の第1トレンチと、前記第1トレンチを囲むように形成された平面形状が閉ループ状の第2トレントと、前記第1トレンチと前記第2トレンチとの間の前記第1半導体領域の表面層に形成された前記第1トレンチおよび前記第2トレンチよりも深さが浅い第2導電型の第2半導体領域と、を備えたことを特徴とする半導体装置。
- 前記第1トレンチにより囲まれた前記第1半導体領域の表面層に形成された前記第1トレンチよりも深さが浅い第2導電型の第3半導体領域と、該第3半導体領域の表面層に前記第1トレンチに接して形成された第1導電型の第4半導体領域と、前記第2半導体領域の表面層に前記第1トレンチに接して形成された第1導電型の第5半導体領域と、前記第1トレンチの前記第4半導体領域側の側壁に絶縁膜を介して形成された第1ゲート電極と、前記第1トレンチの前記第5半導体領域側の側壁に絶縁膜を介して形成された第2ゲート電極と、前記第3半導体領域と前記第4半導体領域とに電気的に接続される第1主電極と、前記第2半導体領域と前記第5半導体領域とに電気的に接続される第2主電極と、を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記第1トレンチにより囲まれた前記第1半導体領域の表面層に形成された前記第1トレンチよりも深さが浅い第1導電型の第3半導体領域と、該第3半導体領域の表面層に前記第1トレンチに接して形成された第1導電型の第4半導体領域と、前記第2半導体領域の表面層に前記第1トレンチに接して形成された第1導電型の第5半導体領域と、前記第1トレンチの前記第5半導体領域側の側壁に絶縁膜を介して形成されたゲート電極と、前記第3半導体領域と前記第4半導体領域とに電気的に接続される第1主電極と、前記第2半導体領域と前記第5半導体領域とに電気的に接続される第2主電極と、を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記第1トレンチの前記第4半導体領域側の側壁に絶縁膜を介して形成された導電膜を有することを特徴とする請求項3に記載の半導体装置。
- 前記第2トレンチの前記第2半導体領域側の側壁に絶縁膜を介して形成され、前記第2ゲート電極と電気的に接続される第3ゲート電極を有することを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。
- 前記第2トレンチの前記第2半導体領域側の側壁に絶縁膜を介して形成され、前記ゲート電極と電気的に接続される第3ゲート電極を有することを特徴とする請求項3または4のいずれか一つに記載の半導体装置。
- 前記第1トレンチおよび第2トレンチの底部に形成され、前記第2半導体領域および前記第3半導体領域に接する第6半導体領域を有することを特徴とする請求項2または5のいずれか一つに記載された半導体装置。
- 前記第1半導体領域が、第2導電型の半導体基板の表面層に形成されたことを特徴とする請求項1ないし7のいずれか一つに記載の半導体装置。
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