JP2008166827A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008166827A JP2008166827A JP2008001935A JP2008001935A JP2008166827A JP 2008166827 A JP2008166827 A JP 2008166827A JP 2008001935 A JP2008001935 A JP 2008001935A JP 2008001935 A JP2008001935 A JP 2008001935A JP 2008166827 A JP2008166827 A JP 2008166827A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor device
- semiconductor
- wiring
- electrode pads
- product formation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 289
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 93
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 57
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 88
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 66
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 49
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 35
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 35
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 claims description 29
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 25
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 15
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 7
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 6
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 5
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 claims description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 112
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 47
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 43
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 20
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 18
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 8
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 6
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 5
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010017 direct printing Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 238000010330 laser marking Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 2
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 229910017944 Ag—Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000587161 Gomphocarpus Species 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- -1 as shown in FIG. 18 Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012858 packaging process Methods 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/93—Batch processes
- H01L24/95—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
- H01L24/97—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48095—Kinked
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/93—Batch processes
- H01L2224/95—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
- H01L2224/97—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/014—Solder alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/14—Integrated circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
- H01L2924/1531—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
- H01L2924/15311—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/3011—Impedance
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
【解決手段】半導体装置の製造方法において、半導体ウエハの主面に、回路および複数の第1の電極パッド4を有する複数の製品形成領域を形成する工程と、前記各製品形成領域に、前記第1の電極パッド4よりも配列ピッチが広い複数の第2の電極パッド7aを再配置する工程と、前記半導体ウエハの複数の製品形成領域を個片化して、第1の面側に、前記回路、前記複数の第1の電極パッド4、前記複数の第2の電極パッド7aを有する複数の半導体装置を形成する工程と、前記半導体装置の形成工程の後、前記半導体装置の第1の面に付着する異物28を洗浄にて除去する工程とを有する。
【選択図】図14
Description
(1)半導体装置の製造方法であって、
半導体ウエハの主面に、回路および複数の第1の電極パッドを有する複数の製品形成領域を形成する工程と、
前記各製品形成領域に、前記第1の電極パッドよりも配列ピッチが広い複数の第2の電極パッドを再配置する工程と、
前記半導体ウエハの複数の製品形成領域を個片化して、第1の面側に、前記回路、前記複数の第1の電極パッド、前記複数の第2の電極パッドを有する複数の半導体装置を形成する工程と、
前記複数の製品形成領域を個片化する工程の後、前記半導体装置の第1の面に付着する異物を洗浄にて除去する工程とを有する。
(2)前記手段(1)において、
前記洗浄工程は、前記半導体装置の第1の面に複数の粉砕状ドライアイスを吹き付けて行う。
(3)前記手段(2)において、
前記粉砕状ドライアイスは、0.1mm乃至0.3mmの粒径サイズからなる。
(4)前記手段(1)において、
更に、前記複数の製品形成領域を個片化する工程の前、前記各製品形成領域の第2の電極パッド上にバンプを形成する工程を有する。
(5)前記手段(1)において、
更に、前記半導体装置をソケットに装着してバーンインを行う工程を有する。
(6)前記手段(5)において、
前記複数の製品形成領域を個片化する工程は、クリーンルームで行い、
前記バーンイン工程は、非クリーンルームで行う。
(7)前記手段(1)において、
更に、前記半導体装置をソケットに装着して特性評価試験を行う工程を有する。
(8)前記手段(7)において、
前記複数の製品形成領域を個片化する工程は、クリーンルームで行い、
前記特性選別試験は、非クリーンルームで行う。
(9)半導体装置の製造方法において、
分離領域で区画された複数の製品形成領域を有し、前記複数の製品形成領域の夫々は、互いに反対側に位置する第1の面および第2の面と、前記第2の面に配置された複数の電極パッドとを有する多数個取り基板を準備する工程と、
前記複数の製品形成領域の夫々の第1の面に半導体チップを実装する工程と、
前記複数の製品形成領域に実装された前記複数の半導体チップを一括して樹脂封止する樹脂封止体を形成する工程と、
前記樹脂封止体および前記多数個取り基板を複数の個片に分割して、前記製品形成領域からなる配線基板と、前記配線基板の第1の面に実装された前記半導体チップと、前記半導体チップを樹脂封止した樹脂封止体とを有する複数の半導体装置を形成する工程と、
前記配線基板の第1の面と反対側の第2の面に付着する異物を洗浄にて除去する工程とを有する。
(10)前記手段(9)において、
前記洗浄工程は、前記半導体装置の第1の面に複数の粉砕状ドライアイスを吹き付けて行う。
(11)前記手段(10)において、
前記粉砕状ドライアイスは、0.1mm乃至0.3mmの粒径サイズからなる。
(12)前記手段(9)において、
更に、前記複数の製品形成領域を個片化する工程の前、前記各製品形成領域の第2の面の電極パッド上にバンプを形成する工程を有する。
(13)前記手段(9)において、
更に、前記半導体装置をソケットに装着してバーンインを行う工程を有する。
(14)前記手段(9)において、
更に、前記半導体装置をソケットに装着して特性評価試験を行う工程を有する。
本実施形態1では、ウエハ・レベルCSP型半導体装置に本発明を適用した例について説明する。
図2は、本実施形態1の半導体装置の内部構造を示す要部模式的断面図であり、
図3は、本実施形態1の半導体装置の実装面側の配線パターンを示す要部模式的平面図であり、
図4は、本実施形態1の半導体装置の製造工程を示すフローチャートであり、
図5は、本実施形態1の半導体装置の製造に使用される半導体ウエハの模式的平面図であり、
図6乃至図13は、本実施形態1の半導体装置の製造工程を示す模式的平面図であり、
図14は、半導体装置の実装面に異物が付着した状態を示す模式的平面図であり、
図15は、本実施形態1の半導体装置の製造に使用される自動異物洗浄装置の概略構成を示す図であり、
図16は、ドライアイス洗浄を説明するための模式図であり、
図17は、エアブロー洗浄を説明するための模式図であり、
図18は、ブラスト洗浄を説明するための模式図であり、
図19は、ウエット洗浄を説明するための模式図である。
(実施形態2)
本実施形態2では、チップ・レベルCSP型半導体装置に本発明を適用した例について説明する。
図21は、本実施形態2の半導体装置の実装面側の構造を示す模式的平面図であり、
図22は、本実施形態2の半導体装置の実装面側の配線パターンを示す要部模式的平面図であり、
図23は、本実施形態2の半導体装置の製造に使用される多数個取り基板の模式的平面図であり、
図24は、図23の多数個取り基板の要部模式的断面図であり、
図25は、本実施形態2の半導体装置の製造工程を示すフローチャートであり、
図26乃至図30は、本実施形態2の半導体装置の製造工程を示す要部模式的断面図である。
10…半導体ウエハ、11…分離領域(スクライブ領域)、12…製品形成領域(デバイス形成領域)、
20…自動異物洗浄装置、21…液化炭素、22…ペレタイザ、23…ペレット状ドライアイス、24…粉砕機、25…粉砕状ドライアイス、26…洗浄装置、26a…ノズル、27…集塵ユニット、28…異物、29a,29b…トレイ、
30…半導体装置、31…半導体チップ、32…配線基板(インターポーザ)、32a,32b…電極パッド、32c,32d…保護膜、32h…スルーホール配線のランド部、33…接着材、34…ボンディングワイヤ、35…樹脂封止体、36…半田バンプ、
40…多数個取り基板、41…モールド領域、42…分離領域、43…製品形成領域(デバイス形成領域)、44…チップ搭載領域
Claims (6)
- (a)分離領域で区画された複数の製品形成領域を有し、前記複数の製品形成領域の夫々は、互いに反対側に位置する第1の面および第2の面と、前記第2の面に配置された複数の電極パッドとを有する多数個取り配線基板を準備する工程と、
(b)前記複数の製品形成領域の夫々の第1の面に半導体チップを実装する工程と、
(c)前記複数の製品形成領域に実装された前記複数の半導体チップを一括して樹脂封止する樹脂封止体を形成する工程と、
(d)前記各製品形成領域の各々の第2の面上に、前記複数の電極パッドに電気的に接続する複数のバンプ電極を形成する工程と、
(e)前記(d)工程の後、前記樹脂封止体および前記多数個取り基板を、前記製品形成領域ごとに複数の個片に分割して、前記製品形成領域ごとに分割された配線基板と、前記配線基板の第1の面に実装された前記半導体チップと、前記半導体チップを樹脂封止した樹脂封止体と、前記第2の面に形成されたバンプ電極を有する複数の半導体パッケージを形成する工程と、
(f)前記(e)工程の後、前記半導体パッケージの前記配線基板の前記第2の面に付着する異物を洗浄にて除去する工程とを有し、
前記(f)工程は、前記半導体パッケージの前記配線基板の前記第2の面に、複数の粉砕状ドライアイスを吹き付けて前記異物を除去する工程を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項1に記載の半導体装置の製造方法において、
前記粉砕状ドライアイスは、0.1mm乃至0.3mmの粒径サイズからなることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項1に記載の半導体装置の製造方法において、
前記工程(e)と前記工程(f)の間に、更に、前記半導体パッケージをバーンインする工程と、前記バーンイン工程後、前記バーンインされた半導体パッケージを選別試験する工程を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項3に記載の半導体装置の製造方法において、
前記半導体チップは、クリーンルーム内で半導体ウエハをダンシングすることにより形成された半導体チップであり、
前記半導体パッケージに施されるバーンイン工程は、非クリーンルームで行われることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - (a)互いに反対側に位置する第1の面および第2の面と、前記第2の面に配置された複数の電極パッドとを有する配線基板を準備する工程と、
(b)前記配線基板の前記第1の面に半導体チップを実装する工程と、
(c)前記半導体チップを樹脂封止する樹脂封止体を形成する工程と、
(d)前記配線基板の第2の面上に、前記複数の電極パッドに電気的に接続する複数のバンプ電極を形成し、前記配線基板、前記半導体チップ、前記複数のバンプ電極を有する半導体パッケージを形成する工程と、
(e)前記(d)工程の後、前記配線基板の第2の面上のフラックスを洗浄する第1洗浄工程と、
(f)前記(e)工程の後、前記半導体パッケージをバーンインする工程と、
(g)前記(f)工程の後、前記配線基板の前記第2の面に付着する異物を洗浄にて除去する第2洗浄工程とを有し、
前記(g)工程は、前記半導体パッケージの前記配線基板の前記第2の面に、複数の粉砕状ドライアイスを吹き付けて前記異物を除去する工程を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項5に記載の半導体装置の製造方法において、
前記粉砕状ドライアイスは、0.1mm乃至0.3mmの粒径サイズからなることを特徴とする半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008001935A JP4850852B2 (ja) | 2008-01-09 | 2008-01-09 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008001935A JP4850852B2 (ja) | 2008-01-09 | 2008-01-09 | 半導体装置の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003340741A Division JP4241302B2 (ja) | 2003-09-30 | 2003-09-30 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008166827A true JP2008166827A (ja) | 2008-07-17 |
JP4850852B2 JP4850852B2 (ja) | 2012-01-11 |
Family
ID=39695742
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008001935A Expired - Lifetime JP4850852B2 (ja) | 2008-01-09 | 2008-01-09 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4850852B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016131189A (ja) * | 2015-01-13 | 2016-07-21 | 株式会社ディスコ | 切削方法及び切削装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000216253A (ja) * | 1999-01-22 | 2000-08-04 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置及びその製造方法 |
JP2001044143A (ja) * | 1999-07-30 | 2001-02-16 | Sony Corp | 基体の切断方法及び半導体装置の製造方法 |
JP2002170826A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-06-14 | Hitachi Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
-
2008
- 2008-01-09 JP JP2008001935A patent/JP4850852B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000216253A (ja) * | 1999-01-22 | 2000-08-04 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置及びその製造方法 |
JP2001044143A (ja) * | 1999-07-30 | 2001-02-16 | Sony Corp | 基体の切断方法及び半導体装置の製造方法 |
JP2002170826A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-06-14 | Hitachi Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016131189A (ja) * | 2015-01-13 | 2016-07-21 | 株式会社ディスコ | 切削方法及び切削装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4850852B2 (ja) | 2012-01-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7985625B2 (en) | Method of manufacturing a semiconductor device | |
US6737300B2 (en) | Chip scale package and manufacturing method | |
US9362187B2 (en) | Chip package having terminal pads of different form factors | |
US7326592B2 (en) | Stacked die package | |
US7413925B2 (en) | Method for fabricating semiconductor package | |
KR100997793B1 (ko) | 반도체 패키지 및 이의 제조 방법 | |
US11676906B2 (en) | Chip package and manufacturing method thereof | |
US20070249094A1 (en) | Method for fabricating multi-chip semiconductor package | |
US20050121805A1 (en) | Semiconductor device and a method of manufacturing the same | |
TW202331972A (zh) | 具有高佈線密度補片的半導體封裝 | |
US9082644B2 (en) | Method of manufacturing and testing a chip package | |
TWI387014B (zh) | 具有犧牲基板之晶粒重新配置結構及其封裝方法 | |
JP2008258621A (ja) | 半導体デバイスパッケージの構造、および半導体デバイスパッケージ構造の形成方法 | |
JP2003234359A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
US20220223567A1 (en) | Semiconductor packages | |
US20140377886A1 (en) | Method of manufacturing semiconductor device including grinding semiconductor wafer | |
US20090146299A1 (en) | Semiconductor package and method thereof | |
JP4850852B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
US20040259290A1 (en) | Method for improving the mechanical properties of BOC module arrangements | |
KR20090096184A (ko) | 반도체 패키지 | |
KR100856341B1 (ko) | 일체화된 보호막들을 구비하는 반도체 칩 패키지 및 이를형성하는 방법 | |
JPWO2006134643A1 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
US20040009628A1 (en) | Fabrication method of substrate on chip CA ball grid array package | |
US20060231960A1 (en) | Non-cavity semiconductor packages | |
KR101081735B1 (ko) | 엘. 오. 씨(loc) 다이접착 장비를 이용한 플립 칩 패키지 제조방법 및 이에 의한 플립 칩 패키지 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20100511 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101221 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110221 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111018 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111019 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4850852 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141028 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |