JP2008166733A - Display filter and manufacturing method thereof, and method of manufacturing display - Google Patents

Display filter and manufacturing method thereof, and method of manufacturing display Download PDF

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Takayoshi Kirimoto
高代志 桐本
Tomoko Mikami
友子 三上
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徹 松本
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display filter that consists of a laminate in which a functional layer such as an antireflection layer is laid on a conductive layer with no plastic film or adhesive layer interposed therebetween and has an electrode capable of conducting to a display casing in the peripheral portion of the laminate. <P>SOLUTION: A display filter comprises a laminate including a conductive layer, which consists of a conductive mesh and is formed on a plastic film, and a functional layer, which is formed on the conductive layer with no plastic film or adhesive layer interposed therebetween and has at least one function selected from an antireflection function, a hard coat function, and an anti-glare function. The conductive mesh is obtained by a method comprising: a step of forming a metal thin film on a plastic film with no adhesive layer interposed therebetween by means of sputtering, ion plating, or vacuum deposition; a step of forming an etching resist pattern by means of photolithography; and then a step of etching the metal thin film. The display filter also has a gap, which extends from the functional layer-side surface of the laminate through the functional layer to the conductive layer, in at least part of the peripheral portion of the laminate. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、ディスプレイ用フィルター及びその製造方法、並びにディスプレイの製造方法に関する。   The present invention relates to a display filter, a manufacturing method thereof, and a display manufacturing method.

液晶ディスプレイ(以下、LCD)、プラズマディスプレイ(以下、PDP)などのディスプレイは、明瞭なフルカラー表示が可能な表示装置である。ディスプレイには、通常、外光の反射の防止、ディスプレイから発生する電磁波の遮蔽、ディスプレイの保護などを目的とした前面フィルター(以降、単にフィルターと称す)がディスプレイの視認側に配置される。特にPDPはその構造や動作原理上、強度な電磁波が発生するため、人体や他の機器に与える影響が懸念されており、電磁波遮蔽機能と反射防止機能が付与されたフィルターが通常用いられている。   A display such as a liquid crystal display (hereinafter referred to as LCD) or a plasma display (hereinafter referred to as PDP) is a display device capable of clear full color display. A display is usually provided with a front filter (hereinafter simply referred to as a filter) on the viewing side of the display for the purpose of preventing reflection of external light, shielding electromagnetic waves generated from the display, and protecting the display. In particular, PDP generates strong electromagnetic waves due to its structure and operating principle, so there are concerns about the effects on human bodies and other devices, and filters with an electromagnetic shielding function and an antireflection function are usually used. .

一般的なフィルターは、反射防止機能、色調整機能、近赤外線遮断機能等を有する光学機能性フィルムと導電層(電磁波遮蔽層)が設けられたプラスチックフィルム(電磁波遮蔽フィルム)とを接着層を介して積層して形成されている。   A general filter has an optical functional film having an antireflection function, a color adjustment function, a near-infrared shielding function, etc. and a plastic film (electromagnetic wave shielding film) provided with a conductive layer (electromagnetic wave shielding layer) through an adhesive layer. Are laminated.

近年、ディスプレイの低価格化に伴ってフィルターも低価格化を余儀なくされている。上記したような2枚のフィルムからなるフィルターに対して、プラスチックフィルムを1枚のみにすることによって低価格化が可能となる。このような1枚のプラスチックフィルムからなるフィルターとして、例えば、プラスチックフィルムの一方の面に反射防止層を有し、他方の面に導電層(電磁波遮蔽層)を有するフィルター、あるいはプラスチックフィルム上に導電層を設け更にその上に反射防止層を積層したフィルター(特許文献1〜3)が提案されている。   In recent years, as the price of displays has been reduced, the price of filters has been reduced. The price can be reduced by using only one plastic film for the filter composed of two films as described above. As such a filter made of one plastic film, for example, a filter having an antireflection layer on one side of the plastic film and a conductive layer (electromagnetic wave shielding layer) on the other side, or conductive on the plastic film. There has been proposed a filter (Patent Documents 1 to 3) in which a layer is provided and an antireflection layer is further laminated thereon.

一方、フィルターをディスプレイに装着したときに、フィルターの導電層とディスプレイ筐体(外部電極)とを電気的に接続するための電極がフィルターに設けられている。
導電層に電極を形成する方法として、導電層の外周端縁部を剥き出しにする方法が従来から行われている。この方法では、導電層の外周端縁部の剥き出し部分が電極となる。この導電層の剥き出し部分(以降、剥き出し電極という)の形成は、前述した2枚のフィルムから成るフィルターの場合は、導電層を有する電磁波遮蔽フィルムより小さいサイズの光学機能性フィルムを積層することによって形成され、後者の導電層上に反射防止層をコーティング等によって積層した1枚のフィルムから成るフィルターの場合は、導電層の端部が露出するように反射防止層をコーティングすることによって形成することができる。
On the other hand, when the filter is mounted on the display, an electrode for electrically connecting the conductive layer of the filter and the display housing (external electrode) is provided on the filter.
As a method of forming electrodes on the conductive layer, a method of exposing the outer peripheral edge of the conductive layer has been conventionally performed. In this method, the exposed portion of the outer peripheral edge of the conductive layer becomes an electrode. In the case of the filter composed of the two films described above, the exposed portion of the conductive layer is formed by laminating an optical functional film having a size smaller than that of the electromagnetic wave shielding film having the conductive layer. In the case of a filter composed of a single film formed by laminating an antireflection layer on the latter conductive layer by coating or the like, it is formed by coating the antireflection layer so that the end of the conductive layer is exposed. Can do.

十分な電磁波遮蔽性能を確保するためには、長方形状のフィルターの4辺に電極を設けることが好ましいが、上記した剥き出し電極を4辺に設けるためには、前者のフィルターの場合は電磁波遮蔽フィルムと機能性フィルムとをシート同士で積層(シート・ツー・シート積層方式)する必要がある。しかしながら、このシート・ツー・シート積層方式は生産性に劣るという欠点がある。   In order to ensure sufficient electromagnetic wave shielding performance, it is preferable to provide electrodes on the four sides of the rectangular filter. However, in order to provide the above-mentioned bare electrodes on the four sides, the former filter uses an electromagnetic wave shielding film. And a functional film need to be laminated with each other (sheet-to-sheet lamination method). However, this sheet-to-sheet laminating method has a disadvantage that it is inferior in productivity.

一方、後者のプラスチックフィルム上に予め形成された導電層の上に更にコーティング等によって反射防止層を積層する場合は、一般的なコーティング生産ラインにおいて4辺に剥き出し電極を形成することは不可能である。一般的なコーティング生産ラインでは、ロール・ツー・ロール方式で連続塗布が行われており、反射防止層の塗布幅を調整し、導電層の幅方向両端部に未塗布部を設けることによって2辺に剥き出し電極を形成することはできるが、コーティングの流れ方向に対して直交する方向については、シート状に切断した後に電極を形成する必要がある。   On the other hand, when an antireflection layer is further laminated by coating or the like on a conductive layer previously formed on the latter plastic film, it is impossible to form exposed electrodes on four sides in a general coating production line. is there. In a general coating production line, roll-to-roll is used for continuous coating. The width of the antireflection layer is adjusted, and two sides are formed by providing uncoated portions at both ends in the width direction of the conductive layer. Although it is possible to form a bare electrode, it is necessary to form the electrode after cutting it into a sheet in the direction perpendicular to the flow direction of the coating.

連続生産ラインで製造したロール状フィルターを最終仕様サイズにシートカットした後に電極を形成する方法が知られている。例えば、レーザー等で切り込み線を入れ、その切り込み線に沿って透明フィルムと接着層を剥離除去して端縁部に剥き出し電極を形成する方法(特許文献4)、レーザー等で5〜20mmの間隔の2本の切り込み線を入れ、透明フィルムと接着材を帯状に剥離して導電層を露出させる方法、及び露出した部分に粘着材が残留して粘着性が残るのを防止するために露出部分に導電塗料を薄く塗布する方法が提案されている(特許文献5)。   A method is known in which an electrode is formed after a roll filter manufactured in a continuous production line is cut into a sheet having a final specification size. For example, a method of forming a cut line with a laser or the like, peeling and removing the transparent film and the adhesive layer along the cut line to form a bare electrode on the edge (Patent Document 4), a distance of 5 to 20 mm with a laser or the like A method for exposing the conductive layer by peeling the transparent film and the adhesive material in a strip shape, and an exposed portion to prevent the adhesive material from remaining on the exposed portion and stickiness remaining. A method of thinly applying a conductive paint has been proposed (Patent Document 5).

上記特許文献4、5に記載された電極形成方法は、前述したような電磁波遮蔽フィルムと光学機能性フィルム(透明フィルム)とを接着層を介して積層したフィルターを対象としたものである。当該技術は、レーザー等で切り込み線を入れ、この切り込み線に沿って、導電層と接着層との界面から物理的に剥離するというものである。言い換えれば、接着層の介在が物理的剥離を可能にしている。   The electrode forming methods described in Patent Documents 4 and 5 are intended for a filter in which an electromagnetic wave shielding film and an optical functional film (transparent film) as described above are laminated via an adhesive layer. In this technique, a cut line is formed by a laser or the like, and the film is physically peeled from the interface between the conductive layer and the adhesive layer along the cut line. In other words, the interposition of the adhesive layer enables physical peeling.

本発明が対象とするフィルターは、導電層と反射防止機能等を有する機能層とはプラスチックフィルム及び接着層を介さずに積層されたものであり、上記特許文献の電極形成方法では導電層上の機能層を剥離することは困難である。
特開2000−214321号公報 特開2001−253008号公報 特開2006−54377号公報 特開2002−43791号公報 特開2004−327720号公報
In the filter targeted by the present invention, the conductive layer and the functional layer having an antireflection function or the like are laminated without using a plastic film and an adhesive layer. It is difficult to peel off the functional layer.
JP 2000-214321 A JP 2001-253008 A JP 2006-54377 A JP 2002-43791 A JP 2004-327720 A

従って、本発明の目的は、低価格化を図るために導電層上にプラスチックフィルム及び接着層を介さずに反射防止層等の機能層を積層した積層体で構成され、かつ積層体の周辺部にディスプレイ筐体との導通を取ることができる電極を有するディスプレイ用フィルター、及びその製造方法を提供することにある。本発明の他の目的は、上記積層体を用いたディスプレイの製造方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to form a laminate in which a functional layer such as an antireflection layer is laminated on a conductive layer without using a plastic film and an adhesive layer in order to reduce the price, and the peripheral portion of the laminate It is another object of the present invention to provide a display filter having an electrode that can be electrically connected to a display housing, and a method for manufacturing the same. Another object of the present invention is to provide a method for producing a display using the laminate.

本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。
(1)プラスチックフィルム上に導電性メッシュからなる導電層を有し、
前記導電性メッシュが、プラスチックフィルム上に接着層を介さずに、スパッタリング、イオンプレーティング及び真空蒸着のいずれかで形成された金属薄膜を、フォトリソグラフ法を利用してエッチングレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法で得られたものであり、
更に導電層上にプラスチックフィルム及び接着層を介さずに、反射防止機能、ハードコート機能、及び防眩機能から選ばれる少なくとも1つの機能を有する機能層が積層された積層体で構成され、
かつ積層体の周辺部の少なくとも一部に積層体の機能層側表面から機能層を貫通して導電層に達する空隙を有することを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
(2)前記導電層の厚みが0.2〜6μmの範囲である、上記1に記載のディスプレイ用フィルター
(3)前記機能層の合計の厚みが1〜20μmの範囲である、上記1または2に記載のディスプレイ用フィルター。
(4)前記空隙が、破線状もしくは連続直線状であって、かつ幅が0.3〜3mmの溝状空隙である、上記1〜3のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
(5)前記空隙に導電性材料が配置された、上記1〜4のいずれか1項に記載のディスプレイ用フィルター。
(6)前記空隙を覆うように導電性粘着テープが貼り付けられた、上記1〜5のいずれか1項に記載のディスプレイ用フィルター。
(7)更に、近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、及び透過率調整機能の中から選ばれる少なくとも1つの機能を有する、上記1〜6のいずれか1項に記載のディスプレイ用フィルター。
(8)ディスプレイ用フィルターの製造方法であって、
プラスチックフィルム上に、接着層を介さずに、スパッタリング、イオンプレーティング及び真空蒸着のいずれかで形成された金属薄膜を、フォトリソグラフ法を利用してエッチングレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法で得られた、導電性メッシュからなる導電層を形成する工程、
次いで導電層上にプラスチックフィルム及び接着層を介さずに、反射防止機能、ハードコート機能、及び防眩機能から選ばれる少なくとも1つの機能を有する機能層を塗工して積層体を得る工程、
次いで積層体の周辺部の少なくとも一部にレーザーを照射して、積層体表面から機能層を貫通して導電層に達する空隙を形成する工程
、を少なくとも有する、ディスプレイ用フィルターの製造方法。
(9)前記積層体を得る工程の中に、更に機能層側の表面にカバーフィルムを積層する工程を有し、前記空隙を形成する工程がカバーフィルム表面からレーザーを照射して導電層に達する空隙を形成する工程である、上記8に記載のディスプレイ用フィルターの製造方法。
(10)前記空隙を形成する工程に次いで、更に、空隙に導電性材料を配置する工程を有する、上記8または9に記載のディスプレイ用フィルターの製造方法。
(11)ディスプレイの製造方法であって、
プラスチックフィルム上に、接着層を介さずに、スパッタリング、イオンプレーティング及び真空蒸着のいずれかで形成された金属薄膜を、フォトリソグラフ法を利用してエッチングレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法で得られた、導電性メッシュからなる導電層を有し、
更に導電層上にプラスチックフィルム及び接着層を介さずに、反射防止機能、ハードコート機能、及び防眩機能から選ばれる少なくとも1つの機能を有する機能層が積層された積層体を、
機能層の反対面がディスプレイ側になるようにディスプレイに装着した後、積層体の周辺部の少なくとも一部にレーザーを照射して積層体表面から機能層を貫通して導電層に達する空隙を形成する、ディスプレイの製造方法。
(12)前記機能層の上に更にカバーフィルムを有するカバーフィルム付き積層体をディスプレイに装着した後、積層体の周辺部の少なくとも一部にレーザーを照射してカバーフィルム表面から機能層を貫通して導電層に達する空隙を形成し、カバーフィルムを剥離除去する、上記11に記載のディスプレイの製造方法。
(13)前記空隙を形成した後に、更に、空隙に導電性材料を配置する、上記11または12に記載のディスプレイ用フィルターの製造方法。
(14)前記空隙を覆うように導電性粘着テープを貼り付ける、上記12に記載のディスプレイの製造方法。
(15)カバーフィルムを剥離除去した後、空隙を覆うように導電性粘着テープを貼り付ける、上記13に記載のディスプレイの製造方法。
(16)ディスプレイの製造方法であって、
プラスチックフィルム上に、接着層を介さずに、スパッタリング、イオンプレーティング及び真空蒸着のいずれかで形成された金属薄膜を、フォトリソグラフ法を利用してエッチングレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法で得られた、導電性メッシュからなる導電層を形成する工程、
次いで導電層上にプラスチックフィルム及び接着層を介さずに、反射防止機能、ハードコート機能、及び防眩機能から選ばれる少なくとも1つの機能を有する機能層を塗工して積層体を得る工程、積層体の周辺部の少なくとも一部にレーザーを照射して、積層体表面から機能層を貫通して導電層に達する空隙を形成する工程、
を経て得られたディスプレイ用フィルターを、機能層の反対面がディスプレイ側になるようにディスプレイに装着した後、ディスプレイ用フィルターに形成された空隙を覆うように導電性粘着テープを貼り付ける、ディスプレイの製造方法。
の製造方法。
(17)前記積層体を得る工程の中に、更に機能層側の表面にカバーフィルムを積層する工程を有し、前記空隙を形成する工程がカバーフィルム表面からレーザーを照射して導電層に達する空隙を形成する工程であり、ディスプレイ用フィルターをディスプレイに装着した後、カバーフィルムを剥離除去し、次いでディスプレイ用フィルターに形成された空隙を覆うように導電性粘着テープを貼り付ける、上記16に記載のディスプレイの製造方法。
The above object of the present invention has been basically achieved by the following invention.
(1) having a conductive layer made of a conductive mesh on a plastic film;
After the conductive mesh is a metal thin film formed by sputtering, ion plating or vacuum deposition on a plastic film without an adhesive layer, using an photolithography method to produce an etching resist pattern , Obtained by a method of etching a metal thin film,
Furthermore, it is composed of a laminate in which a functional layer having at least one function selected from an antireflection function, a hard coat function, and an antiglare function is laminated on the conductive layer without using a plastic film and an adhesive layer,
A display filter characterized by having a gap that penetrates the functional layer from the functional layer side surface of the multilayer body to reach the conductive layer in at least a part of the periphery of the multilayer body.
(2) The filter for display according to 1 above, wherein the thickness of the conductive layer is in the range of 0.2 to 6 μm. (3) The above 1 or 2 wherein the total thickness of the functional layers is in the range of 1 to 20 μm. Filter for display as described in 4.
(4) The display filter according to any one of the above items 1 to 3, wherein the gap is a broken line shape or a continuous straight line shape, and is a groove-shaped gap having a width of 0.3 to 3 mm.
(5) The display filter according to any one of (1) to (4), wherein a conductive material is disposed in the gap.
(6) The display filter according to any one of 1 to 5 above, wherein a conductive adhesive tape is attached so as to cover the gap.
(7) The display filter according to any one of 1 to 6, further comprising at least one function selected from a near-infrared shielding function, a color tone adjustment function, and a transmittance adjustment function.
(8) A method for producing a filter for display,
A metal thin film formed by sputtering, ion plating, or vacuum deposition on a plastic film without using an adhesive layer is used to create an etching resist pattern using a photolithographic method, and then the metal thin film is etched. A step of forming a conductive layer made of a conductive mesh obtained by the method of,
Next, a process of obtaining a laminate by applying a functional layer having at least one function selected from an antireflection function, a hard coat function, and an antiglare function on the conductive layer without using a plastic film and an adhesive layer,
Next, a method for manufacturing a display filter, comprising at least a step of irradiating at least a part of the peripheral portion of the multilayer body with a laser to form a void that penetrates the functional layer from the surface of the multilayer body and reaches the conductive layer.
(9) The step of obtaining the laminate includes a step of laminating a cover film on the surface on the functional layer side, and the step of forming the gap reaches the conductive layer by irradiating a laser from the surface of the cover film. 9. The method for producing a display filter according to the above 8, which is a step of forming a void.
(10) The method for manufacturing a display filter according to the above 8 or 9, further comprising a step of disposing a conductive material in the space after the step of forming the space.
(11) A method for manufacturing a display,
A metal thin film formed by sputtering, ion plating, or vacuum deposition on a plastic film without using an adhesive layer is used to create an etching resist pattern using a photolithographic method, and then the metal thin film is etched. Having a conductive layer made of a conductive mesh obtained by the method of
Further, a laminate in which a functional layer having at least one function selected from an antireflection function, a hard coat function, and an antiglare function is laminated on the conductive layer without using a plastic film and an adhesive layer,
After mounting on the display so that the opposite side of the functional layer is on the display side, at least part of the periphery of the laminate is irradiated with laser to form a gap that penetrates the functional layer from the laminate surface to reach the conductive layer A display manufacturing method.
(12) After mounting a laminate with a cover film further having a cover film on the functional layer, a laser is irradiated to at least a part of the periphery of the laminate to penetrate the functional layer from the surface of the cover film. 12. The method for producing a display as described in 11 above, wherein a gap reaching the conductive layer is formed and the cover film is peeled off.
(13) The method for producing a display filter according to the above item 11 or 12, wherein a conductive material is further disposed in the gap after the gap is formed.
(14) The display manufacturing method according to the above (12), wherein a conductive adhesive tape is attached so as to cover the gap.
(15) The method for producing a display as described in (13) above, wherein after the cover film is peeled and removed, a conductive adhesive tape is applied so as to cover the gap.
(16) A method for manufacturing a display,
A metal thin film formed by sputtering, ion plating, or vacuum deposition on a plastic film without using an adhesive layer is used to create an etching resist pattern using a photolithographic method, and then the metal thin film is etched. A step of forming a conductive layer made of a conductive mesh obtained by the method of,
Next, a step of applying a functional layer having at least one function selected from an antireflection function, a hard coat function, and an antiglare function on the conductive layer without using a plastic film and an adhesive layer to obtain a laminate, lamination Irradiating at least a part of the peripheral part of the body with a laser to form a void reaching the conductive layer from the surface of the laminate through the functional layer;
After attaching the display filter obtained through the above process to the display so that the opposite side of the functional layer is on the display side, a conductive adhesive tape is applied to cover the gap formed in the display filter. Production method.
Manufacturing method.
(17) The step of obtaining the laminate includes a step of laminating a cover film on the surface on the functional layer side, and the step of forming the void reaches the conductive layer by irradiating a laser from the cover film surface. 16. A process for forming a void, wherein the display filter is attached to the display, the cover film is peeled off, and then a conductive adhesive tape is applied to cover the void formed in the display filter. Display manufacturing method.

本発明によれば、プラスチックフィルムの数を減らして低価格化を図った積層体を用いたディスプレイ用フィルターであって、かつディスプレイ筐体との導通が容易にかつ十分に得られる電極を有するディスプレイ用フィルターを提供することができる。   According to the present invention, a display filter using a laminated body in which the number of plastic films is reduced to reduce the price, and a display having electrodes that can be easily and sufficiently obtained from a display housing. A filter can be provided.

本発明のディスプレイ用フィルターを構成する積層体は、少なくともプラスチックフィルム、導電性メッシュからなる導電層、及び機能層をこの順に有し、導電層と機能層との間にはプラスチックフィルム及び接着層は介在しない。ここで、接着層は粘着材あるいは接着材で構成される層を意味する。詳しくは後述するが、本発明は前記導電性メッシュが、プラスチックフィルム上に接着層を介さずに、スパッタリング、イオンプレーティング及び真空蒸着のいずれかで形成された金属薄膜を、フォトリソグラフ法を利用してエッチングレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法で得られたものであり、また、機能層は導電層上に塗工方式によって形成されるのが好ましい。   The laminate constituting the display filter of the present invention has at least a plastic film, a conductive layer made of a conductive mesh, and a functional layer in this order, and the plastic film and the adhesive layer are between the conductive layer and the functional layer. No intervention. Here, the adhesive layer means a layer composed of an adhesive material or an adhesive material. As will be described in detail later, the present invention uses a photolithographic method in which the conductive mesh is a metal thin film formed by sputtering, ion plating, or vacuum deposition on a plastic film without an adhesive layer. Then, after producing an etching resist pattern, it is obtained by a method of etching a metal thin film, and the functional layer is preferably formed on the conductive layer by a coating method.

本発明のディスプレイ用フィルターは、ディスプレイに装着したとき、導電層に対してプラスチックフィルムはディスプレイ側に、機能層は視認側に配置される。以下、本発明のディスプレイ用フィルターを構成する積層体について詳しく説明する。   When the display filter of the present invention is mounted on a display, the plastic film is disposed on the display side and the functional layer is disposed on the viewing side with respect to the conductive layer. Hereinafter, the laminated body which comprises the filter for displays of this invention is demonstrated in detail.

本発明において、機能層は、反射防止機能、防眩機能、及びハードコート機能の中から選ばれる少なくとも1つの機能を有する。機能層は単一層であっても複数層で構成されていてもよく、また複数の機能を併せ持った層であってもよい。以下に機能層を構成する反射防止機能、防眩機能、及びハードコート機能を有する層について具体的に説明する。   In the present invention, the functional layer has at least one function selected from an antireflection function, an antiglare function, and a hard coat function. The functional layer may be a single layer or a plurality of layers, or may be a layer having a plurality of functions. The layer having an antireflection function, an antiglare function, and a hard coat function constituting the functional layer will be specifically described below.

反射防止機能を有する層(反射防止層)は、ディスプレイの画像表示に影響を与える蛍光灯などの外光の反射や映り込みを防止するものである。反射防止層は、表面の視感反射率が5%以下であることが好ましく、4%以下がより好ましく、特に3%以下であることが好ましい。ここで視感反射率は、分光光度計等を使用して可視領域波長(380〜780nm)の反射率を測定し、CIE1931システムに準じて計算された視感反射率(Y)である。   The layer having an antireflection function (antireflection layer) prevents reflection or reflection of external light such as a fluorescent lamp that affects the image display of the display. The antireflection layer preferably has a surface luminous reflectance of 5% or less, more preferably 4% or less, and particularly preferably 3% or less. Here, the luminous reflectance is a luminous reflectance (Y) calculated according to the CIE1931 system by measuring the reflectance in the visible region wavelength (380 to 780 nm) using a spectrophotometer or the like.

このような反射防止層としては、高屈折率層と低屈折率層とを低屈折率層が視認側になるように2層以上積層したものを用いることが好ましい。高屈折率層の屈折率は1.5〜1.7の範囲が好ましく、特に1.55〜1.69の範囲が好ましい。低屈折率層の屈折率は1.25〜1.49の範囲が好ましく、特に1.3〜1.45の範囲が好ましい。   As such an antireflection layer, it is preferable to use a layer in which two or more layers of a high refractive index layer and a low refractive index layer are laminated so that the low refractive index layer is on the viewing side. The refractive index of the high refractive index layer is preferably in the range of 1.5 to 1.7, particularly preferably in the range of 1.55 to 1.69. The refractive index of the low refractive index layer is preferably in the range of 1.25 to 1.49, particularly preferably in the range of 1.3 to 1.45.

高屈折率層を形成する材料としては、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレートなどを重合硬化させたもの、あるいはシリコーン系、メラミン系、エポキシ系の架橋性樹脂原料を架橋硬化させたもの等の有機系材料、酸化インジウムを主成分としこれに二酸化チタンなどを少量含ませたもの、あるいはAl2 3 、MgO、TiO2 等の無機系材料が挙げられる。これらの中でも、有機系材料が好ましく用いられる。以下に本発明の高屈折率層の好ましい態様を説明する。 Materials for forming the high refractive index layer include those obtained by polymerizing and curing urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, etc., or those obtained by crosslinking and curing a silicone-based, melamine-based, or epoxy-based crosslinkable resin material. And organic materials such as those containing indium oxide as a main component and containing a small amount of titanium dioxide or the like, or inorganic materials such as Al 2 O 3 , MgO, and TiO 2 . Among these, organic materials are preferably used. Hereinafter, preferred embodiments of the high refractive index layer of the present invention will be described.

本発明において、高屈折率層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂、含リン系樹脂、含スルフィド樹脂、含ハロゲン樹脂などの樹脂成分を単体または混合系で用いることが出来るが、特に、硬度と耐久性などの点から、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂を用いるのが好ましい。さらに、硬化性、可撓性および生産性の点から、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂が好ましい。特に、(メタ)アクリレート系樹脂は、活性エネルギー線照射によって容易にラジカル重合が起こり、形成される膜の耐溶剤性や硬度が向上するので好ましい。かかる(メタ)アクリレート系樹脂として、例えばペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、エチレン変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス−(2−ヒドロキシエチル)−イソシアヌル酸エステルトリ(メタ)アクリレート等の3官能(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の4官能以上の(メタ)アクリレート等が挙げられる。   In the present invention, the high refractive index layer is a single or mixed resin component such as acrylic resin, urethane resin, melamine resin, organic silicate compound, silicone resin, phosphorus-containing resin, sulfide-containing resin, halogen-containing resin. Although it can be used in a system, it is particularly preferable to use a silicone resin or an acrylic resin from the viewpoint of hardness and durability. Furthermore, from the viewpoint of curability, flexibility, and productivity, an active energy ray-curable acrylic resin or a thermosetting acrylic resin is preferable. In particular, a (meth) acrylate-based resin is preferable because radical polymerization easily occurs upon irradiation with active energy rays and the solvent resistance and hardness of the formed film are improved. Examples of such (meth) acrylate resins include pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, ethylene-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and tris- (2- Trifunctional (meth) acrylate such as hydroxyethyl) -isocyanuric acid ester tri (meth) acrylate, tetrafunctional such as pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate The above (meth) acrylate etc. are mentioned.

高屈折率層には、更にカルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基等の酸性官能基を有する(メタ)アクリレート化合物(モノマー)を使用することができる。具体的には、酸性官能基含有モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルコハク酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフタル酸などの不飽和カルボン酸、モノ(2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)アシッドホスフェート、ジフェニル−2−(メタ)アクリロイルオキシエチルホスフェート等のリン酸(メタ)アクリル酸エステル、2−スルホエステル(メタ)アクリレート等が挙げられる。その他、アミド結合、ウレタン結合、エーテル結合などの極性を持った結合を有する(メタ)アクリレート化合物を使用することができる。   In the high refractive index layer, a (meth) acrylate compound (monomer) having an acidic functional group such as a carboxyl group, a phosphoric acid group, or a sulfonic acid group can be used. Specifically, as the acidic functional group-containing monomer, unsaturated carboxylic acid such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylphthalic acid, Examples thereof include phosphoric acid (meth) acrylic acid esters such as mono (2- (meth) acryloyloxyethyl) acid phosphate and diphenyl-2- (meth) acryloyloxyethyl phosphate, and 2-sulfoester (meth) acrylate. In addition, a (meth) acrylate compound having a polar bond such as an amide bond, a urethane bond, or an ether bond can be used.

高屈折率層には、塗布した樹脂成分の硬化を進めるために開始剤を含有させてもよい。該開始剤としては、塗布した樹脂成分を、ラジカル反応、アニオン反応、カチオン反応等による重合および/または架橋反応を開始あるいは促進せしめるものであり、従来から公知の各種光重合開始剤が使用可能である。   The high refractive index layer may contain an initiator in order to advance curing of the applied resin component. As the initiator, the applied resin component initiates or accelerates polymerization and / or crosslinking reaction by radical reaction, anion reaction, cation reaction, etc., and various conventionally known photopolymerization initiators can be used. is there.

かかる光重合開始剤としては、具体的には、ソジウムメチルジチオカーバメイトサルファイド、ジフェニルモノサルファイド、ジベンゾチアゾイルモノサルファイド及びジサルファイド等のサルファイド類や、チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン誘導体や、ヒドラゾン、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物や、ベンゼンジアゾニウム塩等のジアゾ化合物や、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾフェノン、ジメチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジルアントラキノン、t−ブチルアントラキノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−アミノアントラキノン、2−クロロアントラキノン等の芳香族カルボニル化合物や、p−ジメチルアミノ安息香酸メチル、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、D−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、p−ジエチルアミノ安息香酸イソプロピル等のジアルキルアミノ安息香酸エステルや、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等の過酸化物や、9−フェニルアクリジン、9−p−メトキシフェニルアクリジン、9−アセチルアミノアクリジン、ベンズアクリジン等のアクリジン誘導体や、9,10−ジメチルベンズフェナジン、9−メチルベンズフェナジン、10−メトキシベンズフェナジン等のフェナジン誘導体や、6,4’,4”−トリメトキシ−2、3−ジフェニルキノキサリン等のキノキサリン誘導体や、2,4,5−トリフェニルイミダゾイル二量体、2−ニトロフルオレン、2,4,6−トリフェニルピリリウム四弗化ホウ素塩、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、3,3’−カルボニルビスクマリン、チオミヒラーケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン等が挙げられる。   Specific examples of such photopolymerization initiators include sulfides such as sodium methyldithiocarbamate sulfide, diphenyl monosulfide, dibenzothiazoyl monosulfide and disulfide, thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, Thioxanthone derivatives such as 2,4-diethylthioxanthone, azo compounds such as hydrazone and azobisisobutyronitrile, diazo compounds such as benzenediazonium salt, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzophenone, dimethylaminobenzophenone Michler's ketone, benzylanthraquinone, t-butylanthraquinone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone, Aromatic carbonyl compounds such as -chloroanthraquinone, dialkylaminobenzoic acid esters such as methyl p-dimethylaminobenzoate, ethyl p-dimethylaminobenzoate, butyl D-dimethylaminobenzoate, isopropyl p-diethylaminobenzoate, Peroxides such as benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, cumene hydroperoxide, 9-phenylacridine, 9-p-methoxyphenylacridine, 9-acetylaminoacridine, benzacridine, etc. Acridine derivatives, phenazine derivatives such as 9,10-dimethylbenzphenazine, 9-methylbenzphenazine, 10-methoxybenzphenazine, and 6,4 ′, 4 ″ -trimethoxy-2,3-diphenylquinoxaline Quinoxaline derivatives, 2,4,5-triphenylimidazolyl dimer, 2-nitrofluorene, 2,4,6-triphenylpyrylium tetrafluoride boron salt, 2,4,6-tris (trichloromethyl) ) -1,3,5-triazine, 3,3′-carbonylbiscoumarin, thiomichler ketone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- ( 4- (1-methylvinyl) phenyl) propanone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, and the like.

また、高屈折率層には、上記開始剤の酸素阻害による感度の低下を防止するために、光重合開始剤にアミン化合物を共存させてもよい。このようなアミン化合物としては、例えば、脂肪族アミン化合物や、芳香族アミン化合物等の不揮発性のものであれば、特に限定されないが、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等が好ましい。   In the high refractive index layer, an amine compound may coexist in the photopolymerization initiator in order to prevent a decrease in sensitivity due to oxygen inhibition of the initiator. Such an amine compound is not particularly limited as long as it is a non-volatile compound such as an aliphatic amine compound or an aromatic amine compound. For example, triethanolamine, methyldiethanolamine and the like are preferable.

また、高屈折率層には、金属酸化物微粒子を含有してもよい。これによって帯電防止効果が得られる。金属酸化物微粒子としては錫含有酸化アンチモン粒子(ATO)、亜鉛含有酸化アンチモン粒子、錫含有酸化インジウム粒子(ITO)、酸化亜鉛/酸化アルミニウム粒子、酸化アンチモン粒子等が好ましく、より好ましくは錫含有酸化インジウム粒子(ITO)、錫含有酸化アンチモン粒子(ATO)である。   The high refractive index layer may contain metal oxide fine particles. This provides an antistatic effect. As the metal oxide fine particles, tin-containing antimony oxide particles (ATO), zinc-containing antimony oxide particles, tin-containing indium oxide particles (ITO), zinc oxide / aluminum oxide particles, antimony oxide particles, etc. are preferable, and tin-containing oxidation is more preferable. Indium particles (ITO) and tin-containing antimony oxide particles (ATO).

かかる金属酸化物粒子は、平均粒子径(BET法により測定される非表面積(JIS R1626:1996年)に基づく球相当径分布から計算される算術平均粒子径(JIS Z8819−1:1999年およびZ8819−2:2001年)が0.5μm以下の粒子が好適に使用されるが、より好ましくは、0.001〜0.3μm、更に好ましくは0.005〜0.2μmの粒子径のものが用いられる。該平均粒子径が、この範囲を超えると高屈折率層の透明性を低下させ、この範囲未満では、該粒子が凝集し易くヘイズ値が増大する場合がある。金属酸化物粒子の含有量は、樹脂成分に対して、0.1〜20質量%の範囲が好ましい。   Such metal oxide particles have an average particle size (JIS Z8819-1: 1999 and Z8819) calculated from a sphere equivalent diameter distribution based on a non-surface area (JIS R1626: 1996) measured by a BET method. -2: 2001) is preferably 0.5 μm or less, more preferably 0.001-0.3 μm, and still more preferably 0.005-0.2 μm. If the average particle diameter exceeds this range, the transparency of the high refractive index layer is lowered, and if the average particle diameter is less than this range, the particles are likely to aggregate and the haze value may increase. The amount is preferably in the range of 0.1 to 20% by mass relative to the resin component.

更に、高屈折率層には、重合禁止剤、硬化触媒、酸化防止剤、分散剤等の各種添加剤を含有することができる。   Furthermore, the high refractive index layer can contain various additives such as a polymerization inhibitor, a curing catalyst, an antioxidant, and a dispersant.

高屈折率層の厚みは、ハードコート層を設けない場合は、0.5〜20μmの範囲が好ましく、1〜10μmの範囲がより好ましく、2〜6μmの範囲がより好ましい。ハードコートを設ける場合は、0.01〜5μmの範囲が好ましく、0.05〜2μmの範囲がより好ましい。   When the hard coat layer is not provided, the thickness of the high refractive index layer is preferably in the range of 0.5 to 20 μm, more preferably in the range of 1 to 10 μm, and more preferably in the range of 2 to 6 μm. When providing a hard coat, the range of 0.01-5 micrometers is preferable, and the range of 0.05-2 micrometers is more preferable.

反射防止層を構成する低屈折率層は、含フッ素ポリマー、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル、含フッ素シリコーン等の有機系材料、MgF2 、CaF2 、SiO2 等の無機系材料で構成することができる。以下に低屈折率層の好ましい態様を例示する。 The low refractive index layer constituting the antireflection layer is composed of a fluorine-containing polymer, a (meth) acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester, an organic material such as fluorine-containing silicone, and an inorganic material such as MgF 2 , CaF 2 , and SiO 2. It can be composed of a system material. Hereinafter, preferred embodiments of the low refractive index layer will be exemplified.

低屈折率層の1つの好ましい態様として、MgF2やSiO2等の薄膜を真空蒸着法やスパッタリング、プラズマCVD法等の気相法により形成する方法、或いはSiO2ゾルを含むゾル液からSiO2ゲル膜を形成する方法等が挙げられる。 As a preferred embodiment of the low refractive index layer, a method of forming a thin film such as MgF 2 or SiO 2 by a vapor deposition method such as vacuum deposition, sputtering, or plasma CVD, or a sol solution containing SiO 2 sol from SiO 2 Examples thereof include a method for forming a gel film.

低屈折率層の他の好ましい態様として、シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーを主成分とする構成を採用することができる。なお、ここで言う「結合」とは、シリカ系微粒子のシリカ成分とマトリックスのシロキサンポリマーが反応して均質化している状態を意味する。シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーは、該シリカ系微粒子の存在下、多官能性シラン化合物を溶剤中、酸触媒により、公知の加水分解反応によって、一旦シラノール化合物を形成し、公知の縮合反応を利用することによって得ることができる。   As another preferred embodiment of the low refractive index layer, a constitution mainly composed of a siloxane polymer bonded to silica-based fine particles can be employed. The term “bond” as used herein means a state in which the silica component of the silica-based fine particles and the siloxane polymer in the matrix are reacted and homogenized. A siloxane polymer formed by combining with silica-based fine particles once forms a silanol compound by a known hydrolysis reaction with a polyfunctional silane compound in a solvent and an acid catalyst in the presence of the silica-based fine particles. It can be obtained by utilizing the reaction.

かかる多官能性シラン化合物としては、多官能性フッ素含有シラン化合物を含むことが低屈折率化、防汚性の点から好ましく、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシランなどの3官能性フッ素含有シラン化合物、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシランなどの2官能性フッ素含有シラン化合物などが挙げられ、いずれも好適に用いられるが、表面硬度の観点から、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシランが、より好ましい。   The polyfunctional silane compound preferably includes a polyfunctional fluorine-containing silane compound from the viewpoint of low refractive index and antifouling properties, and includes trifluoromethylmethoxysilane, trifluoromethylethoxysilane, and trifluoropropyltrimethoxy. Trifunctional fluorine-containing silane compounds such as silane, trifluoropropyltriethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, heptadecafluorodecyltriethoxysilane, tridecafluorooctyltriethoxysilane, Examples include bifunctional fluorine-containing silane compounds such as heptadecafluorodecylmethyldimethoxysilane, all of which are preferably used. From the viewpoint of surface hardness, trifluoromethylmethoxysilane, trifluoro Chill silane, trifluoropropyl trimethoxy silane, trifluoropropyl triethoxy silane, more preferably.

かかる多官能性フッ素非含有シラン化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−(N,N−ジグリシジル)アミノプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシシプロピルトリメトキシシランなどの3官能性シラン化合物、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルジメトキシシラン、オクタデシルメチルジメトキシシランなどの2官能性シラン化合物、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどの4官能性シラン化合物などが挙げられ、いずれも好適に用いられるが、表面硬度の観点からビニルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシランが、より好ましい。   Examples of such polyfunctional fluorine-free silane compounds include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, and methyltriethoxy. Silane, hexyltrimethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, octadecyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxy Trifunctional silanes such as silane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3- (N, N-diglycidyl) aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxysipropyltrimethoxysilane Compound, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, methylphenyldimethoxysilane, methylvinyldimethoxysilane, methylvinyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-amino Propylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldiethoxysilane, cyclohexylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyldimethoxy Bifunctional silane compounds such as silane and octadecylmethyldimethoxysilane, tetrafunctional silane compounds such as tetramethoxysilane and tetraethoxysilane, etc. All of these are preferably used. From the viewpoint of surface hardness, vinyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, and phenyltriethoxysilane are preferable. More preferable.

また、上述のシリカ系微粒子としては、平均粒子径1nm〜200nmのシリカ系微粒子であることが好ましく、特に好ましくは、平均粒子径1nm〜70nmである。平均粒子径が1nmを下回ると、マトリックス材料との結合が不十分となり、硬度が低下することがある。一方、平均粒子径が200nmを越えると、粒子を多く導入して生じる粒子間の空隙の発生が少なくなり、低屈折率化の効果が十分発現しないことがある。さらに、かかるシリカ系微粒子の中でも、内部に空洞を有する構造のものが、屈折率を低下させるために、特に好ましく使用される。   The silica-based fine particles are preferably silica-based fine particles having an average particle size of 1 nm to 200 nm, and particularly preferably an average particle size of 1 nm to 70 nm. When the average particle diameter is less than 1 nm, the bond with the matrix material becomes insufficient and the hardness may be lowered. On the other hand, if the average particle diameter exceeds 200 nm, the generation of voids between particles caused by introducing a large amount of particles is reduced, and the effect of lowering the refractive index may not be sufficiently exhibited. Further, among these silica-based fine particles, those having a structure having a cavity inside are particularly preferably used in order to lower the refractive index.

かかる内部に空洞を有するシリカ系微粒子とは、外殻によって包囲された空洞部を有するシリカ系微粒子、多数の空洞部を有する多孔質のシリカ系微粒子等が挙げられ、いずれも好適に用いられる。このような例としては例えば、特許第3272111号公報に開示されている方法によって製造でき、微粒子内部の空洞の占める体積、すなわち微粒子の空隙率としては、5%以上が好ましく、30%以上がさらに好ましい。空隙率は、例えば、水銀ポロシメーター(商品名:ボアサイザー9320−PC2、(株)島津製作所製)を用いて測定することができる。また、該微粒子自体の屈折率は、1.20〜1.40であるのが好ましく、1.20〜1.35であるのがより好ましい。このようなシリカ系微粒子としては、例えば特開2001−233611号公報に開示されているものや、特許第3272111号公報等の一般に市販されているものを挙げることができる。
低屈折率層の厚みは、0.01〜0.4μmの範囲が好ましく、0.02〜0.2μmの範囲がより好ましい。
Examples of such silica-based fine particles having cavities therein include silica-based fine particles having a hollow portion surrounded by an outer shell, porous silica-based fine particles having a large number of hollow portions, and the like. As such an example, for example, it can be produced by the method disclosed in Japanese Patent No. 3272111, and the volume occupied by the cavities inside the fine particles, that is, the porosity of the fine particles is preferably 5% or more, more preferably 30% or more. preferable. The porosity can be measured using, for example, a mercury porosimeter (trade name: Bore Sizer 9320-PC2, manufactured by Shimadzu Corporation). Further, the refractive index of the fine particles themselves is preferably 1.20 to 1.40, more preferably 1.20 to 1.35. Examples of such silica-based fine particles include those disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-233611, and those commercially available such as Japanese Patent No. 3272111.
The thickness of the low refractive index layer is preferably in the range of 0.01 to 0.4 μm, and more preferably in the range of 0.02 to 0.2 μm.

防眩機能を有する層(防眩層)は、画像のギラツキを防止するものであり、表面に微小な凹凸を有する膜が好ましく用いられる。防眩層としては、例えば、熱硬化型樹脂または光硬化型樹脂に粒子を分散させて支持体上に塗布および硬化させたもの、あるいは、熱硬化型樹脂または光硬化型樹脂を表面に塗布し、所望の表面状態を有する型を押し付けて凹凸を形成した後に硬化させたものなどが用いられる。防眩層は、ヘイズ値(JIS K 7136;2000年)が0.5〜20%であることが好ましい。   The layer having an antiglare function (antiglare layer) prevents glare in the image, and a film having minute irregularities on the surface is preferably used. As the antiglare layer, for example, particles are dispersed in a thermosetting resin or a photocurable resin and applied and cured on a support, or a thermosetting resin or a photocurable resin is applied to the surface. For example, a mold having a desired surface state and pressed to form an unevenness and then cured can be used. The antiglare layer preferably has a haze value (JIS K 7136; 2000) of 0.5 to 20%.

本発明の機能層として、反射防止機能と防眩機能を併せ持つ層を用いることは好ましい態様の1つである。   It is one of preferred embodiments to use a layer having both an antireflection function and an antiglare function as the functional layer of the present invention.

ハードコート機能を有する層(ハードコート層)は、傷防止のために設けられる。ハードコート層は硬度が高いことが好ましく、JIS K5600−5−4(1999年)で定義される鉛筆硬度が1H以上が好ましく、2H以上がより好ましい。上限は9H程度である。   A layer having a hard coat function (hard coat layer) is provided for preventing scratches. The hard coat layer preferably has high hardness, and the pencil hardness defined by JIS K5600-5-4 (1999) is preferably 1H or more, and more preferably 2H or more. The upper limit is about 9H.

ハードコート層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂などで構成することができる。特に、硬度と耐久性などの点で、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂が好ましい。さらに、硬化性、可撓性および生産性の点で、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂からなるものが好ましい。   The hard coat layer can be composed of an acrylic resin, urethane resin, melamine resin, epoxy resin, organic silicate compound, silicone resin, or the like. In particular, silicone resins and acrylic resins are preferable in terms of hardness and durability. Further, in terms of curability, flexibility, and productivity, those made of an active energy ray-curable acrylic resin or a thermosetting acrylic resin are preferable.

活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂または熱硬化型のアクリル系樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマーあるいは反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。   The active energy ray-curable acrylic resin or thermosetting acrylic resin is a composition containing a polyfunctional acrylate, an acrylic oligomer, or a reactive diluent as a polymerization curing component. In addition, you may use what contains a photoinitiator, a photosensitizer, a thermal-polymerization initiator, a modifier, etc. as needed.

アクリルオリゴマーとは、アクリル系樹脂骨格に反応性のアクリル基が結合されたものを始めとして、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートなどであり、また、メラミンやイソシアヌール酸などの剛直な骨格にアクリル基を結合したものなども用いることができる。   Acrylic oligomers include polyester acrylates, urethane acrylates, epoxy acrylates, polyether acrylates, etc., including those in which a reactive acrylic group is bonded to an acrylic resin skeleton, and rigid materials such as melamine and isocyanuric acid. A material in which an acrylic group is bonded to a simple skeleton can also be used.

また、反応性希釈剤とは、塗布剤の媒体として塗布工程での溶剤の機能を担うと共に、それ自体が一官能性あるいは多官能性のアクリルオリゴマーと反応する基を有し、塗膜の共重合成分となるものである。   In addition, the reactive diluent serves as a solvent for the coating process as a coating medium, and has a group that itself reacts with a monofunctional or polyfunctional acrylic oligomer. It becomes a polymerization component.

また、市販されている多官能アクリル系硬化塗料としては、三菱レイヨン株式会社;(商品名“ダイヤビーム(登録商標)”シリーズなど)、長瀬産業株式会社;(商品名“デナコール(登録商標)”シリーズなど)、新中村株式会社;(商品名“NKエステル”シリーズなど)、大日本インキ化学工業株式会社;(商品名“UNIDIC(登録商標)”シリーズなど)、東亜合成化学工業株式会社;(商品名“アロニックス(登録商標)”シリーズなど)、日本油脂株式会社;(商品名“ブレンマー(登録商標)”シリーズなど)、日本化薬株式会社;(商品名“KAYARAD(登録商標)”シリーズなど)、共栄社化学株式会社;(商品名“ライトエステル”シリーズ、“ライトアクリレート”シリーズなど)などの製品を利用することができる。   Also, commercially available polyfunctional acrylic cured paints include Mitsubishi Rayon Co., Ltd. (trade name “Diabeam (registered trademark)” series, etc.), Nagase Sangyo Co., Ltd. (trade name “Denacol (registered trademark)”). Series, etc.), Shin-Nakamura Co., Ltd. (trade name “NK Ester” series, etc.), Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd .; (trade name “UNIDIC (registered trademark)” series, etc.), Toa Gosei Chemical Industries, Ltd .; (Product name “Aronix (registered trademark)” series, etc.), Nippon Oil and Fats Corporation; (Product name “Blenmer (registered trademark)” series, etc.), Nippon Kayaku Co., Ltd .; (product name “KAYARAD (registered trademark)” series, etc. ), Kyoeisha Chemical Co., Ltd .; (Product name “Light Ester” series, “Light Acrylate” series, etc.) Can.

ハードコート層形成組成物を構成するアクリル化合物の代表的なものを例示すると、1分子中に3個以上、より好ましくは4個以上、さらに好ましくは5個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーの少なくとも1種と、1分子中に1〜2個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の少なくとも1種とからなる混合物を主たる構成成分とし、活性エネルギー線硬化または熱硬化によって得られるハードコート層が、硬度、耐摩耗性および可撓性に優れている点で好ましく用いられる。(メタ)アクリロイルオキシ基が多すぎる場合には、単量体は高粘度となり取り扱いし難くなり、また、高分子量とならざるを得なくなって塗布液として用いることが困難となるので、1分子中の(メタ)アクリロイルオキシ基は好ましくは10個以下である。   When the typical thing of the acrylic compound which comprises a hard-coat layer formation composition is illustrated, it has 3 or more, More preferably 4 or more, More preferably 5 or more (meth) acryloyloxy group in 1 molecule An active energy ray comprising, as a main component, a mixture comprising at least one of a monomer and a prepolymer and at least one monomer having 1 to 2 ethylenically unsaturated double bonds in one molecule A hard coat layer obtained by curing or thermosetting is preferably used in that it is excellent in hardness, wear resistance and flexibility. If there are too many (meth) acryloyloxy groups, the monomer will be highly viscous and difficult to handle, and will have to be of high molecular weight, making it difficult to use as a coating solution. The number of (meth) acryloyloxy groups is preferably 10 or less.

1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーとしては、1分子中に3個以上のアルコール性水酸基を有する多価アルコールの該水酸基が、3個以上の(メタ)アクリル酸のエステル化物となっている化合物などを挙げることができる。具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどを用いることができる。これらの単量体およびプレポリマーは、1種または2種以上を混合して使用することができる。特にこれらの内、少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物は、後述するイソシアネートとの併用により、ハードコート層と隣接層との接着性を向上させることができるので特に好ましい。   As the monomer and prepolymer having 3 or more (meth) acryloyloxy groups in one molecule, the hydroxyl group of the polyhydric alcohol having 3 or more alcoholic hydroxyl groups in one molecule is 3 or more. Examples include compounds that are esterified products of (meth) acrylic acid. Specific examples include pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer, pentaerythritol triacrylate toluene diisocyanate urethane prepolymer, pentaerythritol triacrylate isophorone diisocyanate urethane prepolymer, etc. Can be used. These monomers and prepolymers can be used alone or in combination of two or more. Of these, polyfunctional acrylate compounds having at least one hydroxyl group are particularly preferred because they can improve the adhesion between the hard coat layer and the adjacent layer when used in combination with the isocyanate described below.

これらの1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーの使用割合は、ハードコート層形成組成物総量に対して20〜90質量%が好ましく、より好ましくは30〜80質量%、最も好ましくは30〜70質量%である。   The use ratio of the monomer and prepolymer having 3 or more (meth) acryloyloxy groups in one molecule is preferably 20 to 90% by mass, more preferably based on the total amount of the hard coat layer forming composition. It is 30-80 mass%, Most preferably, it is 30-70 mass%.

上記1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーの使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して20質量%未満の場合には、十分な耐摩耗性を有する硬化被膜を得るという点で不十分な場合がある。また、上記1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーの使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して90質量%を超える場合は、硬化による収縮が大きく、硬化被膜に歪が残ったり、被膜の可撓性が低下したり、硬化被膜側に大きくカールするなどの不都合を招く場合がある。   When the use ratio of the monomer and prepolymer having 3 or more (meth) acryloyloxy groups in one molecule is less than 20% by mass relative to the total amount of the hard coat layer forming composition, sufficient resistance In some cases, it is insufficient in terms of obtaining a hardened film having wear properties. Moreover, when the usage rate of the monomer and prepolymer having 3 or more (meth) acryloyloxy groups in one molecule exceeds 90% by mass with respect to the total amount of the hard coat layer forming composition, In some cases, the shrinkage is large, and the cured film remains distorted, the flexibility of the film is lowered, or the curled side is greatly curled.

また、これらの内、少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物の使用割合は、ハードコート層形成組成物総量に対して10〜80質量%が好ましく、より好ましくは20〜70質量%、最も好ましくは30〜60質量%である。少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物の使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して10質量%未満の場合には、ハードコート層と隣接層との接着性を向上させる効果が小さい場合がある。少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物の使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して80質量%を超える場合は、ハードコート層内の架橋密度が低下して、硬度が低下する傾向がある。   Of these, the proportion of the polyfunctional acrylate compound having at least one hydroxyl group is preferably 10 to 80% by mass, more preferably 20 to 70% by mass, and most preferably the total amount of the hard coat layer forming composition. Is 30 to 60% by mass. When the proportion of the polyfunctional acrylate compound having at least one hydroxyl group is less than 10% by mass relative to the total amount of the hard coat layer forming composition, the effect of improving the adhesion between the hard coat layer and the adjacent layer is small. There is a case. When the proportion of the polyfunctional acrylate compound having at least one hydroxyl group exceeds 80% by mass with respect to the total amount of the hard coat layer forming composition, the crosslinking density in the hard coat layer tends to decrease and the hardness tends to decrease. There is.

次に、1分子中に1〜2個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体としては、ラジカル重合性のある通常の単量体ならば特に限定されずに使用することができる。   Next, the monomer having 1 to 2 ethylenically unsaturated double bonds in one molecule can be used without particular limitation as long as it is a normal monomer having radical polymerizability.

また、分子内に2個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、下記(a)〜(f)の(メタ)アクリレート等を用いることができる。   Moreover, as a compound which has two ethylenically unsaturated double bonds in a molecule | numerator, the following (a)-(f) (meth) acrylate etc. can be used.

すなわち、(a)炭素数2〜12のアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類:エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレートなど;
(b)ポリオキシアルキレングリコールの(メタ)アクリレート酸ジエステル類:ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレートなど;
(c)多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類:ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレートなど;
(d)ビスフェノールAあるいはビスフェノールAの水素化物のエチレンオキシドおよびプロピレンオキシド付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類:2,2’−ビス(4−アクリロキシエトキシフェニル)プロパン、2,2’−ビス(4−アクリロキシプロポキシフェニル)プロパンなど;
(e)ジイソシアネート化合物と2個以上のアルコール性水酸基含有化合物を予め反応させて得られる末端イソシアネート基含有化合物に、さらにアルコール性水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させて得られる分子内に2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有するウレタン(メタ)アクリレート類など、および;
(f)分子内に2個以上のエポキシ基を有する化合物にアクリル酸またはメタクリル酸を反応させて得られる分子内に2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有するエポキシ(メタ)アクリレート類など。
分子内に1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−およびi−プロピル(メタ)アクリレート、n−、sec−、およびt−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N−ビニルピロリドン、N−ビニル−3−メチルピロリドン、N−ビニル−5−メチルピロリドンなどを用いることができる。これらの単量体は、1種または2種以上混合して使用してもよい。
(A) (meth) acrylic acid diesters of alkylene glycol having 2 to 12 carbon atoms: ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, Neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, etc .;
(B) (Meth) acrylate diesters of polyoxyalkylene glycol: diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, Polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, etc .;
(C) Polyhydric alcohol (meth) acrylic acid diesters: pentaerythritol di (meth) acrylate, etc .;
(D) (Meth) acrylic acid diesters of ethylene oxide and propylene oxide adducts of bisphenol A or a bisphenol A hydride: 2,2′-bis (4-acryloxyethoxyphenyl) propane, 2,2′-bis ( 4-acryloxypropoxyphenyl) propane and the like;
(E) A terminal isocyanate group-containing compound obtained by reacting a diisocyanate compound and two or more alcoholic hydroxyl group-containing compounds in advance with a hydroxyl group-containing (meth) acrylate, and two molecules in the molecule. Urethane (meth) acrylates having a (meth) acryloyloxy group, and the like;
(F) Epoxy (meth) acrylates having two (meth) acryloyloxy groups in the molecule obtained by reacting a compound having two or more epoxy groups in the molecule with acrylic acid or methacrylic acid.
Compounds having one ethylenically unsaturated double bond in the molecule include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n- and i-propyl (meth) acrylate, n-, sec-, and t. -Butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, polyethylene glycol Mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, N-hydroxyethyl (meth) acrylamide, N-vinylpyrrolidone N- vinyl-3-methylpyrrolidone, or the like can be used N- vinyl-5-methyl pyrrolidone. These monomers may be used alone or in combination of two or more.

これらの1分子中に1〜2個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合は、ハードコート層形成組成物総量に対して10〜50質量%が好ましく、より好ましくは20〜40質量%である。1分子中に1〜2個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合がハードコート層形成組成物総量に対して50質量%を超える場合には、十分な耐摩耗性を有する硬化被膜が得られにくくなる場合がある。また、1分子中に1〜2個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合がハードコート層形成組成物総量に対して10質量%未満の場合には、被膜の可撓性が低下したり、基材フィルム上に設けた積層膜との接着性が低下する場合がある。   The use ratio of the monomer having 1 to 2 ethylenically unsaturated double bonds in one molecule is preferably 10 to 50% by mass, more preferably 20%, based on the total amount of the hard coat layer forming composition. -40 mass%. When the proportion of the monomer having 1 to 2 ethylenically unsaturated double bonds in one molecule exceeds 50% by mass with respect to the total amount of the hard coat layer forming composition, sufficient wear resistance is obtained. It may be difficult to obtain a cured coating. When the proportion of the monomer having 1 to 2 ethylenically unsaturated double bonds in one molecule is less than 10% by mass relative to the total amount of the hard coat layer forming composition, the flexibility of the coating The adhesiveness with the laminated film provided on the base film may be lowered.

本発明において、ハードコート形成組成物を硬化させる方法としては、例えば、活性エネルギー線として紫外線を照射する方法や高温加熱法等を用いることができる。これらの方法を用いる場合には、前記ハードコート層形成組成物に、光重合開始剤または熱重合開始剤等を加えることが望ましい。   In the present invention, as a method of curing the hard coat forming composition, for example, a method of irradiating ultraviolet rays as active energy rays, a high temperature heating method, or the like can be used. When using these methods, it is desirable to add a photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator to the hard coat layer forming composition.

光重合開始剤の具体的な例としては、アセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、p−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、2種以上組み合せて用いてもよい。また、熱重合開始剤としては、ベンゾイルパーオキサイドまたはジ−t−ブチルパーオキサイドなどのパーオキサイド化合物などを用いることができる。   Specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4,4′-bisdiethylaminobenzophenone, Michler's ketone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, methyl benzoylformate, p-isopropyl-α-hydroxyisobutylphenone, α-hydroxyisobutylphenone, 2, Carbonyl compounds such as 2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, tetramethylthiuram monosulfide, tetramethyl Sulfur compounds such as thiuram disulfide, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, and 2-methylthioxanthone can be used. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Moreover, as a thermal polymerization initiator, a peroxide compound such as benzoyl peroxide or di-t-butyl peroxide can be used.

光重合開始剤または熱重合開始剤の使用量は、ハードコート層形成組成物総量に対して0.01〜10質量%が適当である。電子線またはガンマ線を硬化手段とする場合には、必ずしも重合開始剤を添加する必要はない。また220℃以上の高温で熱硬化させる場合には、熱重合開始剤の添加は必ずしも必要ではない。   The amount of the photopolymerization initiator or thermal polymerization initiator used is suitably 0.01 to 10% by mass with respect to the total amount of the hard coat layer forming composition. When an electron beam or gamma ray is used as a curing means, it is not always necessary to add a polymerization initiator. In addition, when thermosetting at a high temperature of 220 ° C. or higher, it is not always necessary to add a thermal polymerization initiator.

本発明におけるハードコート層形成組成物は、ポリイソシアネート化合物を含有していることが好ましい。ポリイソシアネート化合物としては、例えば、2,4−および/または2,6−トリレンジイソシアネート、4,4'−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、ポリメリックMDI、1,5−ナフチレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート(XDI)、水添XDI、水添MDI、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス(イソシアネートフェニル)チオフォスフェート等の少なくとも2量体以上のものが挙げられる。これらポリイソシアネート化合物は、単独または2種以上を混合して使用することができる。   The hard coat layer forming composition in the present invention preferably contains a polyisocyanate compound. Examples of the polyisocyanate compound include 2,4- and / or 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (MDI), polymeric MDI, 1,5-naphthylene diisocyanate, tolidine diisocyanate, 1, 6-hexamethylene diisocyanate (HDI), trimethylhexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate (XDI), hydrogenated XDI, hydrogenated MDI, lysine diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tris (isocyanatophenyl) thiophosphate, etc. The thing more than a dimer is mentioned at least. These polyisocyanate compounds can be used alone or in admixture of two or more.

これらのポリイソシアネート化合物および/またはその誘導体は、前記したハードコート層形成組成物に混合されて塗布される。上記ポリイソシアネート化合物および/またはその誘導体の配合量は、接着性、表面硬度、耐湿熱性および虹彩模様低減の点で、ハードコート層形成組成物総量に対し、好ましくは0.5〜50質量%、より好ましくは1〜30質量%、さらに好ましくは3〜20質量%である。上記ポリイソシアネート化合物および/またはその誘導体の配合量が、ハードコート層形成組成物総量に対して0.5質量%未満の場合には、接着性向上効果が不足したり、虹彩模様の低減が不十分な場合があり、また上記配合量が50質量%を超えると表面硬度が低下する場合がある。   These polyisocyanate compounds and / or derivatives thereof are mixed and applied to the hard coat layer forming composition described above. The blending amount of the polyisocyanate compound and / or derivative thereof is preferably 0.5 to 50% by mass with respect to the total amount of the hard coat layer-forming composition in terms of adhesion, surface hardness, heat and humidity resistance and reduction of iris pattern. More preferably, it is 1-30 mass%, More preferably, it is 3-20 mass%. When the blending amount of the polyisocyanate compound and / or derivative thereof is less than 0.5% by mass with respect to the total amount of the hard coat layer forming composition, the effect of improving the adhesiveness is insufficient or the reduction of the iris pattern is not possible. In some cases, the surface hardness may decrease if the amount exceeds 50% by mass.

上記ポリイソシアネートを添加したハードコート層形成組成物は、その硬化効率を高める目的で有機金属触媒を含有させることも好ましい。   The hard coat layer forming composition to which the polyisocyanate is added preferably contains an organometallic catalyst for the purpose of increasing its curing efficiency.

有機金属触媒は、特に限定されるものではなく、有機錫化合物、有機アルミニウム化合物、有機4A族元素(チタン、ジルコニウムまたはハフニウム)化合物などが挙げられるが、安全性を考慮した場合、非錫系金属触媒である有機ジルコニウム化合物、有機アルミニウム化合物、および、有機チタン化合物から選ばれたものが好ましく適用される。有機錫化合物としては、テトラブチル錫、テトラオクチル錫、ジブチル錫ジクロライド、ジブチル錫ジラウリレートなどのジブチル錫脂肪酸塩、ジオクチル錫ジラウリレートなどのジオクチル錫脂肪酸塩が例示できる。   The organometallic catalyst is not particularly limited, and examples thereof include organotin compounds, organoaluminum compounds, and organic group 4A element (titanium, zirconium, or hafnium) compounds. A catalyst selected from organic zirconium compounds, organic aluminum compounds, and organic titanium compounds is preferably used. Examples of the organic tin compound include dibutyltin fatty acid salts such as tetrabutyltin, tetraoctyltin, dibutyltin dichloride, and dibutyltin dilaurate, and dioctyltin fatty acid salts such as dioctyltin dilaurate.

有機ジルコニウム化合物、有機アルミニウム化合物、有機ハフニウム化合物、有機チタン化合物としては、これらの金属のオルトエステルとβ−ケトエステル(βジケトン)の反応生成物が例示され、具体的にはジルコニウムテトラ−n−プロポキシド、ジルコニウムテトライソプロポキシド、ジルコニウムテトラ−n−ブトキシド、チタンテトラ−n−プロポキシド、チタンテトライソプロポキシド、チタンテトラ−n−ブトキシド、アルミニウムテトラ−n−プロポキシド、アルミニウムテトライソプロポキシド、アルミニウムテトラ−n−ブトキシドなどの金属オルトエステルと、アセチルアセトン、メチルアセテート、エチルアセトアセテート、n−プロピルアセトアセテート、イソプロピルアセトアセテート、t−ブチルアセトアセテートなどのβケトエステル(βジケトン)との反応生成物を挙げることができる。金属オルトエステルとβジケトエステル(βジケトン)の混合モル比率は4:1〜1:4程度が好ましく、より好ましくは2:1〜1:4である。4:1より金属オルトエステルが多い場合は触媒の反応性が高すぎてポットライフが短くなりやすく、1:4よりβジケトエステルが多い場合は触媒活性が低下するため好ましい態様では無い。上記有機金属系触媒の配合量はハードコート形成組成物総量に対して0.001〜10質量%が好ましく、より好ましくは0.01〜5質量%、さらに好ましくは0.01〜2質量%である。上記の配合比率が0.001質量%より少ない場合には触媒添加効果が低く、10質量%より多くすることは経済的見地から好ましくない。   Examples of organozirconium compounds, organoaluminum compounds, organohafnium compounds, and organotitanium compounds include reaction products of these metal orthoesters and β-ketoesters (β diketones), specifically zirconium tetra-n-propoxy. Zirconium tetraisopropoxide, zirconium tetra-n-butoxide, titanium tetra-n-propoxide, titanium tetraisopropoxide, titanium tetra-n-butoxide, aluminum tetra-n-propoxide, aluminum tetraisopropoxide, Metal orthoesters such as aluminum tetra-n-butoxide and acetylacetone, methyl acetate, ethyl acetoacetate, n-propyl acetoacetate, isopropyl acetoacetate, t-butyl acetoacetate Mention may be made of reaction products with β-ketoesters (β-diketone) such as tate. The mixing molar ratio of the metal orthoester and β-diketoester (β-diketone) is preferably about 4: 1 to 1: 4, more preferably 2: 1 to 1: 4. When there are more metal orthoesters than 4: 1, the reactivity of a catalyst is too high and a pot life tends to become short, and when there are many beta-diketoesters more than 1: 4, since catalyst activity falls, it is not a preferable aspect. The blending amount of the organometallic catalyst is preferably 0.001 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 5% by mass, and still more preferably 0.01 to 2% by mass with respect to the total amount of the hard coat forming composition. is there. When the blending ratio is less than 0.001% by mass, the effect of adding a catalyst is low, and it is not preferable from the economical viewpoint to increase the content by more than 10% by mass.

上記したハードコート層形成組成物の好ましい態様としては、少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物10〜80質量%、イソシアネート化合物1〜30質量%および必要に応じて有機金属系触媒0.001から10質量%の範囲とするのが望ましい。さらに必要に応じて1〜2個のエチレン性不飽和結合を有する単量体を50質量%以下添加しても良い。   As a preferable aspect of the hard coat layer-forming composition described above, from 10 to 80% by mass of a polyfunctional acrylate compound having at least one hydroxyl group, 1 to 30% by mass of an isocyanate compound and, if necessary, from an organometallic catalyst 0.001 A range of 10% by mass is desirable. Further, if necessary, a monomer having 1 to 2 ethylenically unsaturated bonds may be added in an amount of 50% by mass or less.

本発明において、ハードコート層中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤などの安定剤、界面活性剤、レベリング剤および帯電防止剤などを用いることができる。   In the present invention, various additives can be further blended in the hard coat layer as required, as long as the effects of the present invention are not impaired. For example, stabilizers such as antioxidants, light stabilizers, ultraviolet absorbers, surfactants, leveling agents, antistatic agents, and the like can be used.

シリコーン系レベリング剤としては、ポリジメチルシロキサンを基本骨格とし、ポリオキシアルキレン基が付加されたものが好ましく、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体(例えば東レダウコーニング(株)製SH190)が好適である。   As the silicone-based leveling agent, those having polydimethylsiloxane as a basic skeleton and having a polyoxyalkylene group added are preferable, and dimethylpolysiloxane-polyoxyalkylene copolymer (for example, SH190 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) is preferable. It is.

またハードコート層上にさらに積層膜を設ける場合には、接着性を阻害しないアクリル系レベリング剤を適用するのが好ましい。このようなレベリング剤としては「ARUFON−UP1000シリーズ、UH2000シリーズ、UC3000シリーズ(商品名):東亜合成化学(株)製)などを好ましく用いることができる。レベリング剤の添加量はハードコート形成組成物総量に対して、0.01〜5質量%の範囲とするのが望ましい。   Moreover, when providing a laminated film further on a hard-coat layer, it is preferable to apply the acrylic leveling agent which does not inhibit adhesiveness. As such a leveling agent, “ARUFON-UP1000 series, UH2000 series, UC3000 series (trade name): manufactured by Toa Gosei Chemical Co., Ltd.) and the like can be preferably used. The amount of the leveling agent added is a hard coat forming composition. It is desirable to set it as the range of 0.01-5 mass% with respect to the total amount.

本発明で用いられる活性エネルギー線としては、紫外線、電子線および放射線(α線、β線、γ線など)などアクリル系のビニル基を重合させる電磁波が挙げられ、実用的には、紫外線が簡便であり好ましい。紫外線源としては、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク灯などを用いることができる。また、活性線を照射するときに、低酸素濃度下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができる。またさらに、電子線方式は、装置が高価で不活性気体下での操作が必要ではあるが、塗布層中に光重合開始剤や光増感剤などを含有させなくてもよい点で有利である。   Examples of active energy rays used in the present invention include electromagnetic waves that polymerize acrylic vinyl groups such as ultraviolet rays, electron beams, and radiation (α rays, β rays, γ rays, etc.). It is preferable. As the ultraviolet ray source, an ultraviolet fluorescent lamp, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a carbon arc lamp, or the like can be used. Moreover, when irradiating actinic radiation, if it irradiates under a low oxygen concentration, it can harden | cure efficiently. Furthermore, the electron beam method is advantageous in that the apparatus is expensive and requires operation under an inert gas, but it is not necessary to include a photopolymerization initiator or a photosensitizer in the coating layer. is there.

本発明で用いられる熱硬化に必要な熱としては、スチームヒーター、電気ヒーター、赤外線ヒーターあるいは遠赤外線ヒーターなどを用いて温度を少なくとも140℃以上に加温された空気、不活性ガスを、スリットノズルを用いて基材、塗膜に吹きあてることにより与えられる熱が挙げられ、中でも200℃以上に加温された空気による熱が好ましく、さらに好ましくは200℃以上に加温された窒素による熱であることが、硬化速度が早いので好ましい。   As the heat necessary for the thermosetting used in the present invention, steam heater, electric heater, infrared heater or far-infrared heater is used. The heat given by spraying on the base material and the coating film using is used. Among them, heat by air heated to 200 ° C. or higher is preferable, and heat by nitrogen heated to 200 ° C. or higher is more preferable. It is preferable because the curing rate is high.

ハードコート層の厚さは、0.5〜20μmが好ましく、より好ましくは1〜10μmであり、特に2〜6μmが好ましい。ハードコート層の厚さが0.5μm未満の場合には十分硬化していても薄すぎるために、表面硬度が十分でなく、傷が付きやすくなる傾向にある。一方、ハードコート層の厚さが20μmを超える場合には、折り曲げなどの応力により、硬化膜にクラックが入りやすくなる傾向にある。   The thickness of the hard coat layer is preferably 0.5 to 20 μm, more preferably 1 to 10 μm, and particularly preferably 2 to 6 μm. When the thickness of the hard coat layer is less than 0.5 μm, even if it is sufficiently cured, it is too thin, so that the surface hardness is not sufficient and it tends to be easily damaged. On the other hand, when the thickness of the hard coat layer exceeds 20 μm, the cured film tends to be cracked due to stress such as bending.

ハードコート層には、前述した反射防止層を構成する高屈折率層としての機能を付与することができる。ハードコート層の高屈折率化は、ハードコート層形成用樹脂組成物中に高屈折率の金属や金属酸化物の超微粒子を添加することにより、あるいは高屈折率成分の分子や原子を含んだ樹脂を用いることにより図られる。   The hard coat layer can be given a function as a high refractive index layer constituting the antireflection layer described above. The high refractive index of the hard coat layer is obtained by adding ultra-fine particles of a metal or metal oxide having a high refractive index to the resin composition for forming the hard coat layer or including molecules and atoms of a high refractive index component. This is achieved by using a resin.

前記高屈折率を有する超微粒子は、その粒径が5〜50nmで、屈折率が1.65〜2.7程度のものが好ましく、具体的には、例えば、ZnO(屈折率1.90)、TiO2(屈折率2.3〜2.7)、CeO2(屈折率1.95)、Sb2 5(屈折率1.71)、SnO2、ITO(屈折率1.95)、Y23(屈折率1.87)、La23(屈折率1.95)、ZrO2(屈折率2.05)、Al23(屈折率1.63)等の微粉末が挙げられる。
前記屈折率を向上させる樹脂に含まれる分子及び原子としては、F以外のハロゲン原子、S、N、Pの原子、芳香族環等が挙げられる。
The ultrafine particles having a high refractive index preferably have a particle size of 5 to 50 nm and a refractive index of about 1.65 to 2.7. Specifically, for example, ZnO (refractive index 1.90) , TiO 2 (refractive index 2.3 to 2.7), CeO 2 (refractive index 1.95), Sb 2 O 5 (refractive index 1.71), SnO 2 , ITO (refractive index 1.95), Y Fine powders such as 2 O 3 (refractive index 1.87), La 2 O 3 (refractive index 1.95), ZrO 2 (refractive index 2.05), Al 2 O 3 (refractive index 1.63), and the like. It is done.
Examples of molecules and atoms contained in the resin for improving the refractive index include halogen atoms other than F, S, N, P atoms, and aromatic rings.

本発明は、導電層からの電極取り出しのために積層体の周辺部に空隙を形成するが、後述するようにレーザーを用いて機能層を燃焼・蒸発して空隙を形成するのが好ましく、機能層はレーザー照射によって燃焼・蒸発が可能な構成にするのが好ましい。従って、機能層は有機物を含む構成にするのが好ましく、機能層を構成する全組成に対して樹脂等の有機系材料を30質量%以上含有するのが好ましく、50質量%以上含有するのがより好ましく、特に70質量%以上含有するのが好ましい。   In the present invention, voids are formed in the periphery of the laminate for taking out electrodes from the conductive layer. However, it is preferable to form the voids by burning and evaporating the functional layer using a laser as described later. The layer is preferably configured to be combustible / evaporated by laser irradiation. Accordingly, the functional layer preferably contains an organic substance, and preferably contains 30% by mass or more of an organic material such as a resin with respect to the total composition constituting the functional layer, and preferably contains 50% by mass or more. More preferably, it is particularly preferable to contain 70% by mass or more.

前述したように本発明の機能層は単一層であっても、複数層であってもよい。複数構成の機能層としては、a)ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層、b)高屈折率ハードコート層/低屈折率層、c)ハードコート層/防眩層、d)ハードコート層/防眩性反射防止層、等が例示される。   As described above, the functional layer of the present invention may be a single layer or a plurality of layers. The functional layer having a plurality of structures includes a) hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer, b) high refractive index hard coat layer / low refractive index layer, c) hard coat layer / antiglare layer, d) Examples include a hard coat layer / antiglare antireflection layer and the like.

また、機能層が単一層の場合は、複数の機能を併せ持つのが好ましい。かかる単一層の例としては、e)反射防止性ハードコート層、f)防眩性ハードコート層、g)防眩性反射防止ハードコート層、h)防眩性反射防止層、等が例示される。   When the functional layer is a single layer, it is preferable to have a plurality of functions. Examples of such a single layer include e) an antireflection hard coat layer, f) an antiglare hard coat layer, g) an antiglare antireflection hard coat layer, h) an antiglare antireflection layer, and the like. The

本発明において、機能層は導電性メッシュからなる導電層上に塗工形成されるのが好ましく、この場合、導電性メッシュを構成する細線で囲まれた開口部を埋めてかつ細線を被覆するように機能層を塗工形成するのが好ましい。従って、機能層の合計厚みは導電層の厚みより大きくするのが好ましい。   In the present invention, the functional layer is preferably formed by coating on a conductive layer made of a conductive mesh. In this case, the opening surrounded by the fine lines constituting the conductive mesh is filled and the fine lines are covered. It is preferable to coat and form a functional layer. Therefore, the total thickness of the functional layers is preferably larger than the thickness of the conductive layer.

機能層の合計厚みは、導電層の厚み(導電性メッシュの細線部の厚み)に対して130%以上が好ましく、150%以上がより好ましい。ここで、機能層の合計厚みは、上記したように機能層は導電性メッシュの開口部を埋めてかつ細線を被覆するように塗工形成されるので、導電性メッシュの細線部の厚みと細線部上に形成された機能層の厚みとの和である。   The total thickness of the functional layer is preferably 130% or more, and more preferably 150% or more with respect to the thickness of the conductive layer (thickness of the thin wire portion of the conductive mesh). Here, the total thickness of the functional layer is such that the functional layer is coated and formed so as to fill the openings of the conductive mesh and cover the fine wires, as described above. This is the sum of the thickness of the functional layer formed on the part.

図2の符号(M)が導電層の厚み、即ち、導電性メッシュの細線部の厚みに相当し、符号(N)が機能層の合計厚みに相当する(図2については、詳しくは後述する)。但し、後述するように、本発明は、機能層の機能を阻害しない範囲で極薄膜の防汚層等を機能層上に積層することができ、その場合、符号(N)は、機能層と防汚層等を含む厚みであるが、防汚層の厚みは通常数十nm以下であるので、厚みに対する影響は無視できる程度である。
上記したように、導電層の厚みに対して機能層合計の厚みを大きくすることによって導電性メッシュの凹凸面を十分に埋めて均一化することができる。
The symbol (M) in FIG. 2 corresponds to the thickness of the conductive layer, that is, the thickness of the thin line portion of the conductive mesh, and the symbol (N) corresponds to the total thickness of the functional layer (FIG. 2 will be described in detail later). ). However, as will be described later, in the present invention, an ultrathin antifouling layer or the like can be laminated on the functional layer as long as the function of the functional layer is not hindered. Although it is a thickness including an antifouling layer etc., since the thickness of an antifouling layer is usually several tens of nm or less, the influence on thickness is negligible.
As described above, the uneven surface of the conductive mesh can be sufficiently filled and made uniform by increasing the total thickness of the functional layers with respect to the thickness of the conductive layer.

機能層の合計厚みとしては、1〜20μmの範囲が好ましく、2〜10μmの範囲がより好ましく、特に2〜7μmの範囲が好ましい。   The total thickness of the functional layers is preferably in the range of 1 to 20 μm, more preferably in the range of 2 to 10 μm, and particularly preferably in the range of 2 to 7 μm.

また、導電性メッシュの細線部上に形成された機能層の厚みは、0.5〜4μmの範囲が好ましく、1〜4μmの範囲が好ましい。図2の符号(L)が、導電性メッシュの細線部上に形成された機能層の厚みに相当する。但し、上述したように、本発明は、機能層の機能を阻害しない範囲で極薄膜の防汚層等を機能層上に積層することができ、その場合、符号(L)は、導電性メッシュの細線部上に形成された機能層と防汚層等を含む厚みであるが、防汚層の厚みは通常数十nm以下であるので、厚みに対する影響は無視できる程度である。また、後述するように、符号(L)は導電層表面からフィルターの機能層側最表面までの距離に相当する。   Moreover, the thickness of the functional layer formed on the thin wire | line part of the electroconductive mesh has the preferable range of 0.5-4 micrometers, and the range of 1-4 micrometers is preferable. The symbol (L) in FIG. 2 corresponds to the thickness of the functional layer formed on the thin line portion of the conductive mesh. However, as described above, in the present invention, an ultrathin antifouling layer or the like can be laminated on the functional layer as long as the function of the functional layer is not hindered. In this case, the symbol (L) is a conductive mesh. The thickness of the antifouling layer is usually several tens of nm or less, and the influence on the thickness is negligible. Further, as will be described later, the symbol (L) corresponds to the distance from the surface of the conductive layer to the outermost surface on the functional layer side of the filter.

機能層の合計厚みが20μmを超えて大きくなると、塗工速度、乾燥速度あるいは硬化速度が低下することによる生産効率ダウン、及び原材料費の増大によって、本発明の所期の目的である低価格化を実現するのが難しくなる。特に機能層として紫外線重合型のハードコート層を用いる場合は、ハードコート層の厚みが上記範囲を超えて大きくなると、ディスプレイ用フィルターにカールが発生しやすくなり、また機能層自体に亀裂が入りやすくなるという不都合が生じる場合がある。機能層の合計厚みが1μmより小さくなると、均一な塗工面を得るのが難しくなり、また機能層としての本来の機能を発揮できなくなる場合がある。   If the total thickness of the functional layer exceeds 20 μm, the reduction in production efficiency due to a decrease in coating speed, drying speed or curing speed, and an increase in raw material costs, which is the intended purpose of the present invention. It becomes difficult to realize. In particular, when an ultraviolet polymerization type hard coat layer is used as a functional layer, if the thickness of the hard coat layer increases beyond the above range, the display filter is likely to curl, and the functional layer itself is liable to crack. Inconvenience may occur. If the total thickness of the functional layer is less than 1 μm, it may be difficult to obtain a uniform coated surface, and the original function as the functional layer may not be exhibited.

また、導電性メッシュの細線部上に形成された機能層の厚みが、0.5μmより小さくなると導電性メッシュの凹凸を十分に埋めて平滑化することが難しくなり、逆に4μmより大きくなると後述するように電極取出しのための空隙の幅を小さくするという本発明の技術思想に対して不利益となる。   Further, if the thickness of the functional layer formed on the thin line portion of the conductive mesh is smaller than 0.5 μm, it becomes difficult to sufficiently fill and smooth the unevenness of the conductive mesh, and conversely, if the thickness is larger than 4 μm, it will be described later. Thus, it is disadvantageous to the technical idea of the present invention to reduce the width of the gap for electrode extraction.

上記した導電層の厚みや機能層の厚みは、走査型電子顕微鏡によるディスプレイ用フィルターの拡大断面写真から求めることができる。   The thickness of the conductive layer and the thickness of the functional layer can be obtained from an enlarged cross-sectional photograph of a display filter using a scanning electron microscope.

機能層は、前述したように塗工形成するのが好ましく、塗布方式としては、ディップコーティング法、スピンコート法、スリットダイコート法、グラビアコート法、リーバースコート法、ロッドコート法、バーコート法、スプレー法、ロールコーティング法等の公知のウェットコーティング法を用いることができる。   The functional layer is preferably formed by coating as described above, and coating methods include dip coating, spin coating, slit die coating, gravure coating, leaver coating, rod coating, bar coating, and spray. A known wet coating method such as a method or a roll coating method can be used.

本発明における導電層は、ディスプレイから発生する電磁波を遮蔽するための層であり、導電性メッシュからなる。導電層の面抵抗値は、低い方が好ましく、10Ω/□以下が好ましく、5Ω/□以下がより好ましく、特に3Ω/□以下が好ましい。面抵抗の下限値は0.01Ω/□程度である。導電層の面抵抗値は、4端子法により測定することができる。   The conductive layer in the present invention is a layer for shielding electromagnetic waves generated from the display, and is made of a conductive mesh. The surface resistance value of the conductive layer is preferably lower, preferably 10Ω / □ or less, more preferably 5Ω / □ or less, and particularly preferably 3Ω / □ or less. The lower limit of the sheet resistance is about 0.01Ω / □. The sheet resistance value of the conductive layer can be measured by a four-terminal method.

導電性メッシュは、スパッタ法や真空蒸着法等によって形成された金属薄膜あるいは導電性フィラーと樹脂バインダーからなる導電層に比べて、低い面抵抗値が得られるという利点がある。特に、導電性フィラーと樹脂バインダーからなる導電層では本発明が所望する面抵抗値が得られず、スパッタ法や真空蒸着法等によって金属薄膜を形成するためには大がかりな装置が必要であり、高い生産性が得られないという問題がある。   The conductive mesh has an advantage that a lower sheet resistance value can be obtained compared to a metal thin film formed by sputtering or vacuum deposition or a conductive layer made of a conductive filler and a resin binder. In particular, a conductive layer composed of a conductive filler and a resin binder does not provide the sheet resistance value desired by the present invention, and a large-scale apparatus is required to form a metal thin film by sputtering or vacuum deposition. There is a problem that high productivity cannot be obtained.

また、導電層上に積層される機能層との密着性(接着力)の観点からも、導電性メッシュが好ましい。本発明においては、導電層上に機能層を塗工形成するのが生産性の観点から好ましいが、スパッタ法や真空蒸着法等によって形成された金属薄膜の上に組成の異なる機能層を塗工形成した場合、密着性が不十分となり機能層が剥離することがある。   Moreover, a conductive mesh is preferable from the viewpoint of adhesion (adhesive force) with a functional layer laminated on the conductive layer. In the present invention, it is preferable from the viewpoint of productivity to coat and form a functional layer on a conductive layer, but a functional layer having a different composition is coated on a metal thin film formed by sputtering or vacuum deposition. If formed, the adhesion may be insufficient and the functional layer may peel off.

これに対して導電性メッシュは、上記した10Ω/□以下の面抵抗値が容易に得られ、また導電性メッシュの開口部を通して機能層と基材のプラスチックフィルムとが接するので、機能層とプラスチックフィルムとの密着性も十分に確保することができる。導電性メッシュの場合は、ディスプレイ用フィルターの透過率を低下させないために70%以上の開口率になるように設計するのが好ましく(ここで、導電性メッシュの開口率とは、導電性メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を意味する)、従って導電性メッシュからなる導電層の上に塗工される機能層と導電層との接触面積はわずかであり、上記のような密着性の問題は生じない。   On the other hand, the conductive mesh can easily obtain the above-mentioned sheet resistance value of 10Ω / □ or less, and the functional layer and the plastic film of the base material are in contact with each other through the opening of the conductive mesh. Adhesion with the film can be sufficiently secured. In the case of a conductive mesh, it is preferable to design the aperture ratio to be 70% or more in order not to reduce the transmittance of the display filter (here, the aperture ratio of the conductive mesh is the conductive mesh's aperture ratio). Therefore, the contact area between the functional layer and the conductive layer coated on the conductive layer made of the conductive mesh is very small, and the adhesiveness as described above is small. There is no problem.

一方、機能層の塗工性の観点から、導電性メッシュの厚みは小さい方が好ましく、本発明においては、導電性メッシュの厚みは6μm以下が好ましく、3μm以下がより好ましく、特に1μm以下が好ましい。導電性メッシュの厚みが、上記範囲を超えて大きくなると導電層表面の凹凸が大きくなり平滑性が低下するので機能層の塗布性が悪化する。導電性メッシュの厚みの下限は電磁波遮蔽性能の観点から0.2μm以上が好ましく、0.3μm以上がより好ましい。メッシュの線幅及び線間隔(ピッチ)は、開口率が70%以上となるように設計されるが、線幅としては5〜40μmが好ましく、5〜10μmがより好ましい。線間隔は100〜500μmの範囲が好ましい。   On the other hand, from the viewpoint of the coatability of the functional layer, it is preferable that the thickness of the conductive mesh is small. In the present invention, the thickness of the conductive mesh is preferably 6 μm or less, more preferably 3 μm or less, and particularly preferably 1 μm or less. . If the thickness of the conductive mesh exceeds the above range, the irregularities on the surface of the conductive layer become large and the smoothness decreases, so that the coatability of the functional layer is deteriorated. The lower limit of the thickness of the conductive mesh is preferably 0.2 μm or more, and more preferably 0.3 μm or more from the viewpoint of electromagnetic shielding performance. The line width and line interval (pitch) of the mesh are designed so that the aperture ratio is 70% or more, and the line width is preferably 5 to 40 μm, and more preferably 5 to 10 μm. The line spacing is preferably in the range of 100 to 500 μm.

また、導電性メッシュからなる導電層はプラスチックフィルム上に接着層を介さずに形成するのが好ましい。ここで接着層は、粘着材あるいは接着材で構成される層を意味する。導電層とプラスチックフィルムとの間に接着層が存在すると導電層面の平滑性が更に低下し、機能層の塗布性を悪化させる。また更に、プラスチックフィルム上に接着層を介さずに直接に導電性メッシュを形成することによって、塗工形成された機能層の大部分はプラスチックと接触するので、上述したような樹脂を含む機能層を用いることによってプラスチックフィルムと機能層との密着性が向上する。プラスチックフィルムと機能層との密着性を向上させるために、下引き層(プライマー層、易接着層)を有するプラスチックフィルムを用いるのが好ましい。   The conductive layer made of a conductive mesh is preferably formed on the plastic film without an adhesive layer. Here, the adhesive layer means a layer composed of an adhesive material or an adhesive material. When an adhesive layer is present between the conductive layer and the plastic film, the smoothness of the conductive layer surface is further lowered, and the coating property of the functional layer is deteriorated. Furthermore, by forming a conductive mesh directly on the plastic film without an adhesive layer, most of the coated functional layer comes into contact with the plastic, so the functional layer containing the resin as described above. By using, the adhesion between the plastic film and the functional layer is improved. In order to improve the adhesion between the plastic film and the functional layer, it is preferable to use a plastic film having an undercoat layer (primer layer, easy adhesion layer).

上記観点から本発明の導電層に好適な導電性メッシュの形成方法として、金属薄膜をエッチング加工する方法が挙げられる。   From the above viewpoint, a method for forming a conductive mesh suitable for the conductive layer of the present invention includes a method of etching a metal thin film.

金属薄膜をエッチング加工する方法は、プラスチックフィルム上に粘着材あるいは接着材からなる接着層を介さずに金属薄膜を形成し、この金属薄膜をフォトリソグラフ法を利用してエッチングレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法である。   The method of etching a metal thin film is that a metal thin film is formed on a plastic film without using an adhesive layer or an adhesive layer, and an etching resist pattern is formed on the metal thin film using a photolithographic method. This is a method of etching a metal thin film.

金属薄膜の形成は、金属(例えば銀、金、パラジウム、銅、インジウム、スズ、あるいは銀とそれ以外の金属の合金など)を、スパッタリング、イオンプレーティング、及び真空蒸着のいずれかの公知の方法を用いて行うことができる。上記金属の中でも銅が好ましく、また真空蒸着法が好ましい。金属薄膜の厚みとしては、0.2〜3μmの範囲が好ましく、0.3〜3μmの範囲がより好ましく、特に0.5〜3μmの範囲が好ましい。   The metal thin film is formed by any known method of sputtering, ion plating, and vacuum deposition of metal (for example, silver, gold, palladium, copper, indium, tin, or an alloy of silver and other metals). Can be used. Of the above metals, copper is preferred, and vacuum deposition is preferred. The thickness of the metal thin film is preferably in the range of 0.2 to 3 μm, more preferably in the range of 0.3 to 3 μm, and particularly preferably in the range of 0.5 to 3 μm.

また更に金属薄膜とプラスチックフィルムとの間に、スパッタリング、イオンプレーティングおよび真空蒸着のいずれかで製膜したニッケル層を介在させるのが好ましい。ニッケル層を介在させることによって、金属薄膜とプラスチックフィルムとの密着性を向上させることができる。ニッケル層の厚みは5〜100nmの範囲が好ましい。   Furthermore, it is preferable to interpose a nickel layer formed by sputtering, ion plating or vacuum deposition between the metal thin film and the plastic film. By interposing the nickel layer, the adhesion between the metal thin film and the plastic film can be improved. The thickness of the nickel layer is preferably in the range of 5 to 100 nm.

上記のフォトリソグラフ法は、例えば、金属薄膜に紫外線等の照射により感光する感光層を設け、この感光層にフォトマスク等を用いて像様露光し、現像してレジスト像を形成し、次に、金属薄膜をエッチングして導電性メッシュを形成し、最後にレジストを剥離する方法が挙げられる。 感光層としては、紫外線等の照射部分が硬化するネガレジスト、あるいは逆に紫外線等の照射部分が現像によって溶解するポジレジストを用いることができる。   In the above photolithographic method, for example, a metal thin film is provided with a photosensitive layer that is exposed by irradiation with ultraviolet rays, and the photosensitive layer is imagewise exposed using a photomask or the like, and developed to form a resist image. And a method of etching the metal thin film to form a conductive mesh and finally stripping the resist. As the photosensitive layer, a negative resist in which an irradiated portion such as ultraviolet rays is cured, or a positive resist in which an irradiated portion such as ultraviolet rays is dissolved by development can be used.

エッチングする方法としては、ケミカルエッチング法等がある。ケミカルエッチングとは、エッチングレジストで保護された導体部分以外の不要導体をエッチング液で溶解し、除去する方法である。エッチング液としては、塩化第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液、アルカリエッチング液等がある。   Etching methods include chemical etching methods. Chemical etching is a method in which unnecessary conductors other than the conductor part protected by an etching resist are dissolved and removed with an etching solution. Examples of the etching solution include a ferric chloride aqueous solution, a cupric chloride aqueous solution, and an alkaline etching solution.

上述した方法によって形成された導電性メッシュからなる導電層は、例えば銅を用いた場合、その厚みが0.2μm程度であっても3Ω/□以下の面抵抗値が得られ、0.3μm程度の厚みでは1Ω/□程度の面抵抗値が得られ、3μm程度の厚みでは0.1Ω/□以下の面抵抗値が得られる。即ち、上記の導電性メッシュの作製方法は、厚みが小さく、かつ面抵抗値が低い導電層をプラスチックフィルム上に、粘着剤や接着剤を介さずに形成することができ、従って、機能層を導電層上に直接に塗工形成するディスプレイ用フィルターの製造方法に極めて好適である。   When the conductive layer made of the conductive mesh formed by the above-described method is made of, for example, copper, a sheet resistance value of 3Ω / □ or less can be obtained even if the thickness is about 0.2 μm, and about 0.3 μm. A sheet resistance value of about 1 Ω / □ is obtained with a thickness of about 3 Ω, and a sheet resistance value of 0.1 Ω / □ or less is obtained with a thickness of about 3 μm. In other words, the above-described method for producing a conductive mesh can form a conductive layer having a small thickness and a low sheet resistance value on a plastic film without using an adhesive or an adhesive. It is extremely suitable for a method for manufacturing a display filter in which coating is directly formed on a conductive layer.

これに対して、従来から一般的に用いられている導電性メッシュは、プラスチックフィルム上に接着材を介して厚みが10μm程度の銅箔を貼り合わせた後に、銅箔をエッチング加工して形成されていたので、この導電性メッシュの上に直接に機能層を均一に塗工形成することはできなかった。   On the other hand, the conductive mesh generally used conventionally is formed by bonding a copper foil having a thickness of about 10 μm on a plastic film with an adhesive and then etching the copper foil. Therefore, the functional layer could not be uniformly formed directly on the conductive mesh.

本発明に用いることができる導電性メッシュのメッシュパターンとしては、格子状パターン、5角形以上の多角形からなるパターン、円形パターン、あるいはこれらの複合パターンが挙げられ、更にランダムパターンも好ましく用いられる。   Examples of the mesh pattern of the conductive mesh that can be used in the present invention include a lattice pattern, a pentagonal or more polygonal pattern, a circular pattern, or a composite pattern thereof, and a random pattern is also preferably used.

本発明において、導電性メッシュは黒化処理するのが好ましい。黒化処理は、酸化処理や黒色印刷により行うことができる。例えば、特開平10−41682号、特開2000−9484号、2005−317703号公報等に記載の方法を用いることができる。黒化処理は、導電性メッシュの視認側の表面と両側面を行うのが好ましく、更に導電性メッシュの両面及び両側面を黒化処理するのが好ましい。   In the present invention, the conductive mesh is preferably blackened. The blackening treatment can be performed by oxidation treatment or black printing. For example, the methods described in JP-A-10-41682, JP-A-2000-9484, 2005-317703 and the like can be used. The blackening treatment is preferably performed on the surface and both side surfaces of the conductive mesh on the visual recognition side, and it is further preferable to blacken both surfaces and both side surfaces of the conductive mesh.

また、ディスプレイ用フィルターに用いられる積層体を連続生産ラインで効率よく製造するためには、導電層は連続メッシュであることが好ましい。連続メッシュとは、メッシュパターンが途切れることなく形成されていることであり、例えば、導電層を少なくとも有する積層体を長尺ロール状で製造した場合に、ロールの巻き方向にメッシュが連続的に形成されていることである。このような連続メッシュを用いることにより、積層体ロールをカットしてシート状のディスプレイ用フィルターを製造するときに、歩留まり及び生産性が向上する。また、連続メッシュは、様々なサイズのディスプレイへの対応が容易であること、及び、ディスプレイ用フィルターの製造過程において欠陥が発生した場合は、欠陥部分のみの限られた量の廃棄ですむこと等の利点がある。   In order to efficiently produce a laminate used for a display filter on a continuous production line, the conductive layer is preferably a continuous mesh. The continuous mesh means that the mesh pattern is formed without interruption. For example, when a laminate having at least a conductive layer is produced in the form of a long roll, the mesh is continuously formed in the winding direction of the roll. It has been done. By using such a continuous mesh, when a laminate roll is cut to produce a sheet-like display filter, yield and productivity are improved. In addition, the continuous mesh can easily handle various sizes of displays, and if a defect occurs in the display filter manufacturing process, only a limited amount of the defective part can be discarded. There are advantages.

本発明のディスプレイ用フィルターに用いられるプラスチックフィルムは、1枚のみであることが好ましい。かかるプラスチックフィルムを構成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン等のポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アートン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂及びセルロース樹脂が好ましく、特にポリエステル樹脂が好ましく用いられる。プラスチックフィルムの厚みとしては、50〜300μmの範囲が適当であるが、コストの観点及びディスプレイ用フィルターの剛性を確保するという観点から90〜250μmの範囲が特に好ましい。   The plastic film used for the display filter of the present invention is preferably only one sheet. Examples of the resin constituting the plastic film include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, cellulose resins such as triacetyl cellulose, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, and polybutylene, acrylic resins, polycarbonate resins, arton resins, and epoxy resins. , Polyimide resin, polyetherimide resin, polyamide resin, polysulfone resin, polyphenylene sulfide resin, polyether sulfone resin, and the like. Among these, a polyester resin, a polyolefin resin, and a cellulose resin are preferable, and a polyester resin is particularly preferably used. As the thickness of the plastic film, a range of 50 to 300 μm is appropriate, but a range of 90 to 250 μm is particularly preferable from the viewpoint of cost and ensuring the rigidity of the display filter.

本発明に用いられるプラスチックフィルムは、導電層あるいは後述する近赤外線遮蔽層との密着性(接着強度)を強化のための下引き層(プライマー層)を設けておくのが好ましい。   The plastic film used in the present invention is preferably provided with an undercoat layer (primer layer) for enhancing the adhesion (adhesive strength) with the conductive layer or the near-infrared shielding layer described later.

本発明のディスプレイ用フィルターは、機能層は視認側の最表面に配置するのが好ましいが、機能層の機能を阻害しない範囲で極薄膜の防汚層等を機能層の上に更に設けることができる。防汚層は、ディスプレイ用フィルターに、人が指で触ることによって油脂性物質が付着するのを防止したり、大気中のごみや埃が付着するのを防止したり、あるいはこれらの付着物が付着しても除去しやすくするための層である。かかる防汚層としては、例えば、フッ素系コート剤、シリコーン系コート剤、シリコン・フッ素系コート剤等が用いられる。防汚層の厚さは、1〜10nmの範囲が好ましい。   In the display filter of the present invention, the functional layer is preferably disposed on the outermost surface on the viewing side, but an ultrathin antifouling layer or the like may be further provided on the functional layer as long as the function of the functional layer is not impaired. it can. The antifouling layer prevents the oily substance from adhering to the display filter by touching it with a finger, prevents dust and dirt in the atmosphere from adhering, It is a layer for facilitating removal even if attached. As such an antifouling layer, for example, a fluorine coating agent, a silicone coating agent, a silicon / fluorine coating agent, or the like is used. The thickness of the antifouling layer is preferably in the range of 1 to 10 nm.

本発明のディスプレイ用フィルターには、更に近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、あるいは可視光透過率調整機能を付与するのが好ましい。   The display filter of the present invention preferably further has a near infrared shielding function, a color tone adjusting function, or a visible light transmittance adjusting function.

近赤外線遮蔽機能は、波長800〜1100nmの範囲における光線透過率の最大値が15%以下となるように調整するのが好ましい。近赤外線遮蔽機能は、プラスチックフィルム、機能層、あるいは後述する接着層に近赤外線吸収剤を混錬、分散することによって付与してもよいし、近赤外線遮蔽層を新たに設けてもよい。近赤外線遮蔽機能は、近赤外線吸収剤を用いることによって、あるいは導電性薄膜のような金属の自由電子によって近赤外線を反射する層を設けることによって付与することができる。本発明においては、近赤外線吸収剤を樹脂バインダー中に分散もしくは溶解した塗料を塗布乾燥して形成した近赤外線遮蔽層を用いること、あるいは機能層や接着層に上記近赤外線吸収剤を含有させる態様が好ましく用いられる。近赤外線吸収剤としては、フタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、ジイモニウム系化合物等の有機系近赤外線吸収剤、あるいは酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫、硫化亜鉛、セシウム含有酸化タングステン等の無機系近赤外線吸収剤を用いることができる。
上記した近赤外線遮蔽層を新たに設ける場合は、プラスチックフィルムと導電層との間、もしくはプラスチックフィルムに対して導電層とは反対面に、プラスチックフィルムに塗工形成して設けることができる。
The near-infrared shielding function is preferably adjusted so that the maximum value of light transmittance in the wavelength range of 800 to 1100 nm is 15% or less. The near-infrared shielding function may be imparted by kneading and dispersing a near-infrared absorber in a plastic film, a functional layer, or an adhesive layer described later, or a near-infrared shielding layer may be newly provided. The near-infrared shielding function can be imparted by using a near-infrared absorbing agent or by providing a layer that reflects near-infrared rays by metal free electrons such as a conductive thin film. In the present invention, a near-infrared shielding layer formed by applying and drying a paint in which a near-infrared absorber is dispersed or dissolved in a resin binder is used, or an embodiment in which the near-infrared absorber is contained in a functional layer or an adhesive layer Is preferably used. Near-infrared absorbers include organic near-infrared absorbers such as phthalocyanine compounds, anthraquinone compounds, dithiol compounds, and diimonium compounds, or titanium oxide, zinc oxide, indium oxide, tin oxide, zinc sulfide, cesium-containing oxides An inorganic near infrared absorber such as tungsten can be used.
When the above-described near-infrared shielding layer is newly provided, it can be provided by coating the plastic film between the plastic film and the conductive layer, or on the opposite side of the plastic film from the conductive layer.

近赤外線遮蔽機能をプラスチックフィルムより視認側に付与する場合は、耐光性に優れる無機系近赤外線吸収剤を用いるのが好ましい。   In the case where the near infrared shielding function is imparted to the viewer side from the plastic film, it is preferable to use an inorganic near infrared absorber having excellent light resistance.

色調調整機能は、ディスプレイから発光される特定波長の光を吸収して色純度や白色度を向上させるための機能である。特に赤色発光の色純度を低下させるオレンジ光を遮蔽するのが好ましく、波長580〜620nmの範囲に吸収極大を有する色素を含有させるのが好ましい。更に、白色度を向上させるために波長480〜500nmに吸収極大を有する色素を含有させるのが好ましい。色調調整機能は、上記した波長の光を吸収する色素を含有する層を新たに設けてもよいし、上述の近赤外線遮蔽層、機能層あるいは接着層に色素を含有させてもよい。   The color tone adjustment function is a function for improving color purity and whiteness by absorbing light of a specific wavelength emitted from the display. In particular, it is preferable to shield orange light that reduces the color purity of red light emission, and it is preferable to include a dye having an absorption maximum in a wavelength range of 580 to 620 nm. Furthermore, it is preferable to contain a dye having an absorption maximum at a wavelength of 480 to 500 nm in order to improve whiteness. For the color tone adjustment function, a layer containing a dye that absorbs light having the above-described wavelength may be newly provided, or a dye may be contained in the above-described near-infrared shielding layer, functional layer, or adhesive layer.

可視光透過率調整機能は、可視光の透過率を調整するための機能であり、染料や顔料を含有させて調整することができる。可視光透過率調整機能は、プラスチックフィルム、近赤外線遮蔽層、機能層、あるいは接着層に付与してもよいし、新たに透過率調整層を設けてもよい。   The visible light transmittance adjusting function is a function for adjusting the visible light transmittance, and can be adjusted by containing a dye or a pigment. The visible light transmittance adjusting function may be imparted to the plastic film, the near infrared shielding layer, the functional layer, or the adhesive layer, or a transmittance adjusting layer may be newly provided.

上述した色調調整機能を有する層及び可視光透過率調整機能を有する層をそれぞれ新たに設ける場合、これらの層はプラスチックフィルムと導電層との間、もしくはプラスチックフィルムに対して導電層とは反対面に設けることができる。   When a layer having the above-described color tone adjusting function and a layer having a visible light transmittance adjusting function are newly provided, these layers are provided between the plastic film and the conductive layer or on the opposite side of the plastic film from the conductive layer. Can be provided.

本発明のディスプレイ用フィルターは、ディスプレイに直接、あるいはガラス板、アクリル板、ポリカーボネート板等の公知の高剛性基板を介して装着することができる。本発明のディスプレイ用フィルターには、ディスプレイあるいは高剛性基板に貼り付けるための接着層を設けるのが好ましい。上記高剛性基板としては、厚みが1〜3mm程度のガラス板が好ましい。   The display filter of the present invention can be attached to the display directly or via a known high-rigidity substrate such as a glass plate, an acrylic plate, or a polycarbonate plate. The display filter of the present invention is preferably provided with an adhesive layer for adhering to a display or a highly rigid substrate. As the high-rigidity substrate, a glass plate having a thickness of about 1 to 3 mm is preferable.

接着層はプラスチックフィルムに対して導電層とは反対面側の最表面に設けられる。接着層には、前述したように近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、あるいは可視光透過率調整機能を付与することができる。また、接着層に、ディスプレイを衝撃から保護するための衝撃緩和機能を付与することは好ましい態様である。接着層に衝撃緩和機能を付与するには、接着層の厚みを100μm以上にすることが好ましく、300μm以上がより好ましく、特に500μm以上が好ましい。上限の厚みは、接着層のコーティング適性を考慮して3000μm以下が好ましい。   The adhesive layer is provided on the outermost surface of the plastic film opposite to the conductive layer. As described above, the adhesive layer can be provided with a near-infrared shielding function, a color tone adjusting function, or a visible light transmittance adjusting function. Moreover, it is a preferable aspect to provide the adhesive layer with an impact relaxation function for protecting the display from impact. In order to impart an impact relaxation function to the adhesive layer, the thickness of the adhesive layer is preferably 100 μm or more, more preferably 300 μm or more, and particularly preferably 500 μm or more. The upper limit thickness is preferably 3000 μm or less in consideration of the coating suitability of the adhesive layer.

接着層には、公知の接着材あるいは粘着材を用いることができる。粘着材としては、アクリル、シリコン、ウレタン、ポリビニルブチラール、エチレン−酢酸ビニルなどが挙げられる。接着材としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ポリオレフィン型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂、天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ−1、2−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポリ−2−ヘプチル−1、3−ブタジエン、ポリ−1、3−ブタジエンなどの(ジ)エン類、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテート 、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルフォン、フェノキシ樹脂などが挙げられる。   A well-known adhesive material or an adhesive material can be used for an adhesive layer. Examples of the adhesive material include acrylic, silicon, urethane, polyvinyl butyral, and ethylene-vinyl acetate. Adhesives include bisphenol A type epoxy resins, tetrahydroxyphenylmethane type epoxy resins, novolac type epoxy resins, resorcin type epoxy resins, polyolefin type epoxy resins and other epoxy resins, natural rubber, polyisoprene, poly-1, 2- (Di) enes such as butadiene, polyisobutene, polybutene, poly-2-heptyl-1,3-butadiene, poly-1,3-butadiene, polyoxyethylene, polyoxypropylene, polyvinyl ethyl ether, polyvinyl hexyl ether, etc. Polyesters such as polyethers, polyvinyl acetate, polyvinyl propionate, polyurethane, ethyl cellulose, polyvinyl chloride, polyacrylonitrile, polymethacrylonitrile, polysulfone, phenoxy resin Etc.

本発明のディスプレイ用フィルターは前述した構成の積層体からなり、積層体の機能層側表面から機能層を貫通して少なくとも導電層に達する空隙を積層体の周辺部の少なくとも一部に有する。ディスプレイ用フィルターの強度や取り扱い性の観点から、空隙は積層体を貫通しないのが好ましい。   The display filter of the present invention is composed of the laminate having the above-described structure, and has at least a part of the peripheral portion of the laminate having a gap that penetrates the functional layer from the functional layer side surface of the laminate and reaches at least the conductive layer. From the viewpoint of the strength and handleability of the display filter, the voids preferably do not penetrate the laminate.

本発明が対象とするディスプレイ用フィルターは、ディスプレイ用フィルターをディスプレイに装着し筐体に組み立てたときに導電層と筐体の外部電極とを電気的に接続するための電極を設ける必要がある。上記した空隙は導電層が露出しており、この導電層の露出部が電極となる。   The display filter targeted by the present invention needs to be provided with an electrode for electrically connecting the conductive layer and the external electrode of the casing when the display filter is mounted on the display and assembled to the casing. The conductive layer is exposed in the voids described above, and the exposed portion of the conductive layer becomes an electrode.

本発明において、空隙は積層体の周辺部の少なくとも一部に設けられるが、ここで、積層体の周辺部とは、かかる積層体からなるディスプレイ用フィルターをディスプレイに設置した際に、ディスプレイの画像表示領域の外周に相当する部分のことを言い、好ましくはディスプレイ用フィルターの端部から1mm以上内側で、画像表示領域に相当する部分から1mm以上外側の範囲である。   In the present invention, the air gap is provided in at least a part of the peripheral part of the laminated body. Here, the peripheral part of the laminated body is an image of the display when a filter for display composed of the laminated body is installed in the display. It refers to a portion corresponding to the outer periphery of the display region, and is preferably a range that is 1 mm or more inside from the end of the display filter and 1 mm or more outside from a portion corresponding to the image display region.

本発明が対象とするディスプレイ用フィルターは通常長方形であり、それに用いられる積層体も長方形である。空隙は、少なくとも対向する2辺の端縁部に設けるのが好ましく、積層体の4辺の端縁部にそれぞれ形成するのがより好ましい。空隙は、側辺に略平行に直線状に細長く溝状に形成するのが好ましい。なお、ここでいう「直線状」には、曲がりのない一直線の形状のみではなく、多少曲がりのあるほぼ直線の形状も含むものとする。空隙の幅は、3mm以下が好ましく、2mm以下がより好ましく、更に1.5mm以下が好ましい。空隙の幅の下限としては、0.3mm以上が好ましく、0.4mm以上がより好ましい。空隙の幅が3mmを越えて大きくなると、導電層の露出面が大きくなり導電層が酸化劣化しやすくなるという問題、後述するように生産効率が低下するという問題、及び後述するように空隙に導電性材料を配置したときに導電性材料が剥離しやすくなるという問題が生じる場合がある。一方、空隙の幅が0.3mmより小さくなるとディスプレイ筐体(外部電極)との導通が不十分になり十分な電磁波遮蔽効果が得られない場合がある。   The display filter targeted by the present invention is generally rectangular, and the laminate used for it is also rectangular. The voids are preferably provided at least at the edge portions of the two sides facing each other, and more preferably formed at the edge portions of the four sides of the laminate. The gap is preferably formed in an elongated groove shape in a straight line substantially parallel to the side. Note that the “straight line shape” here includes not only a straight line shape without a bend but also a substantially straight line shape with a slight bend. The width of the gap is preferably 3 mm or less, more preferably 2 mm or less, and further preferably 1.5 mm or less. The lower limit of the gap width is preferably 0.3 mm or more, and more preferably 0.4 mm or more. If the width of the gap exceeds 3 mm, the exposed surface of the conductive layer becomes large and the conductive layer is likely to be oxidized and deteriorated, the production efficiency is lowered as described later, and the gap is electrically conductive as described later. When the conductive material is disposed, there may be a problem that the conductive material is easily peeled off. On the other hand, if the width of the gap is smaller than 0.3 mm, conduction with the display housing (external electrode) becomes insufficient, and a sufficient electromagnetic shielding effect may not be obtained.

ディスプレイ用フィルターの1辺における空隙の長さは、辺の長さに対して10%以上が好ましく、30%以上がより好ましく、特に50%以上が好ましい。上記の比率は高い方が電磁波遮蔽性能の観点から好ましい。本発明における空隙は、直線状に連続した空隙であってもよいし、破線状の不連続な空隙であってもよい。後者の不連続な空隙の場合は合計の長さが上記比率の対象となる。   The length of the gap on one side of the display filter is preferably 10% or more, more preferably 30% or more, and particularly preferably 50% or more with respect to the length of the side. A higher ratio is preferable from the viewpoint of electromagnetic shielding performance. The void in the present invention may be a linearly continuous void or a broken-line discontinuous void. In the case of the latter discontinuous gap, the total length becomes the target of the above ratio.

以下、本発明のディスプレイ部材について図面を用いて詳細に説明する。図1は本発明のディスプレイ用フィルターの一例の平面図、図2は図1のA−Aの模式断面図である。ディスプレイ用フィルターの周辺部に、4辺の側辺に略平行に直線状に細長い空隙1が設けられている。このディスプレイ用フィルターは、プラスチックフィルム4の上に導電層3が形成され、導電層3の上に機能層2が積層されている。プラスチックフィルム4の反対面には近赤外線遮蔽層5、及び接着層6が積層されている。図2において、空隙1は機能層側表面から機能層2を貫通して導電層3に達しており、導電層3が露出している。
図3は、空隙を直線状に不連続(破線状)に設けた態様の平面図である。ディスプレイ用フィルターの周辺部に、4辺の側辺に略平行に空隙1が破線状に設けられている。空隙を破線状に設ける場合は、1辺当たりの空隙部分の数は3〜50個が好ましく、5〜40個の範囲がより好ましい。1辺当たりの空隙部分の合計の長さ(A)と空隙部分と空隙部分の距離(間隔)の合計長さ(B)の比率(A/B)は、0.2〜20の範囲が好ましく、0.5〜10の範囲がより好ましい。
Hereinafter, the display member of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view of an example of the display filter of the present invention, and FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along the line AA of FIG. In the peripheral part of the display filter, an elongated gap 1 is provided in a straight line substantially parallel to the four sides. In this display filter, a conductive layer 3 is formed on a plastic film 4, and a functional layer 2 is laminated on the conductive layer 3. A near-infrared shielding layer 5 and an adhesive layer 6 are laminated on the opposite surface of the plastic film 4. In FIG. 2, the void 1 penetrates the functional layer 2 from the functional layer side surface to reach the conductive layer 3, and the conductive layer 3 is exposed.
FIG. 3 is a plan view of a mode in which the gaps are linearly discontinuous (broken lines). In the periphery of the display filter, a gap 1 is provided in a broken line shape substantially parallel to the four sides. When providing a space | gap in the shape of a broken line, 3-50 pieces of the number of the space | gap parts per side are preferable, and the range of 5-40 pieces is more preferable. The ratio (A / B) of the total length (A) of the gap portion per side and the total length (B) of the distance (interval) between the gap portion and the gap portion is preferably in the range of 0.2 to 20. The range of 0.5 to 10 is more preferable.

次に、空隙の形成方法について説明する。本発明において、導電層の上に位置する機能層等を物理的な方法で剥離することなく空隙を形成することが好ましく、機能層等の有機物を蒸発あるいは燃焼させることによって空隙を形成する方法が好ましく用いられる。かかる方法として、レーザーを照射する方法が好ましく用いられる。レーザーを照射する方法は、積層体に物理的な接触なしに空隙が形成できること、ほぼ一定の幅で空隙を形成できること、及び空隙の深さ方向の制御が精度よくできるという利点がある。このようなレーザーの出力源としては、ヨウ素、YAG、COなどがあるが、特にCOレーザーは、空隙幅及び空隙深さが精度よく制御できること、及び金属からなる導電層は破壊せずに機能層を蒸発・燃焼させて空隙を形成できる点で好ましい。 Next, a method for forming voids will be described. In the present invention, it is preferable to form voids without peeling off the functional layer or the like located on the conductive layer by a physical method, and there is a method for forming voids by evaporating or burning organic substances such as the functional layer. Preferably used. As such a method, a laser irradiation method is preferably used. The method of irradiating with laser has advantages that a gap can be formed without physical contact with the laminate, that a gap can be formed with a substantially constant width, and that the depth direction of the gap can be accurately controlled. Examples of such laser output sources include iodine, YAG, and CO 2. Particularly, the CO 2 laser can accurately control the gap width and gap depth, and the conductive layer made of metal is not destroyed. It is preferable in that a void can be formed by evaporating and burning the functional layer.

空隙形成方法として、ナイフ等のカッター刃を用いて積層体表面から切り込みを入れる方法があるが、この方法では本発明が意図する空隙、即ち0.3mm以上の幅の空隙は形成できないので導通が取れないこと、及び導電性メッシュが切断されて導通が不十分になる場合がある。空隙形成の他の方法として、超音波半田コテを用いて機能層を除去する方法があるが、この方法は高温のコテ先を積層体に接触させるので積層体のプラスチックフィルムが熱変形を起こす可能性があること、及び導電層の露出を完全にかつ安定的に行うことが難しいという問題がある。更に他の方法として、ドライエッチングする方法があるが、この方法は装置が大がかりとなること、及び操作中に高温となり積層体が変形することがある。   As a method of forming a gap, there is a method of cutting from the surface of the laminate using a cutter blade such as a knife. However, since this method cannot form a gap intended by the present invention, that is, a gap having a width of 0.3 mm or more, conduction is achieved. In some cases, the conductive mesh cannot be removed, and the conductive mesh is cut, resulting in insufficient conduction. As another method of forming the gap, there is a method of removing the functional layer using an ultrasonic soldering iron, but this method causes the plastic film of the laminated body to be thermally deformed by bringing a hot iron tip into contact with the laminated body. And there is a problem that it is difficult to completely and stably expose the conductive layer. As another method, there is a method of dry etching. However, in this method, the apparatus becomes large, and the laminated body may be deformed due to high temperature during operation.

上述に鑑み、導電性メッシュの上に積層された機能層を貫通し導電性メッシュが露出するような空隙を形成する方法として、レーザーを用いる方法が極めて有益であることを見いだした。   In view of the above, it has been found that a method using a laser is extremely useful as a method of forming a void that penetrates a functional layer laminated on a conductive mesh and exposes the conductive mesh.

空隙をレーザー照射で形成する場合、空隙の幅及び深さは、レーザーの焦点位置、レーザーの出力、及びレーザーの走査速度(ヘードスピード)を調整することによって制御することができる。空隙の幅は更に走査回数を調整することによって制御することができるが、1回の走査でも本発明が所望とする空隙を形成することができる。空隙の幅は3mm以下が好ましいことは前述した通りであるが、幅が3mmを越える空隙を形成するためにはレーザーの操作回数を多くしたり、レーザーの焦点位置をずらしたりする必要があり、前者の場合は生産効率の低下を招き、また後者の場合は空隙の縁部の機能層が十分に除去されずに空隙の縁部に機能層の蒸発あるいは燃焼しきれなかった分解物残渣が付着するという不都合を招く場合がある。   When the air gap is formed by laser irradiation, the width and depth of the air gap can be controlled by adjusting the focal position of the laser, the output of the laser, and the scanning speed (head speed) of the laser. The width of the gap can be further controlled by adjusting the number of scans, but the gap desired by the present invention can be formed even by one scan. As described above, the width of the gap is preferably 3 mm or less, but in order to form a gap with a width exceeding 3 mm, it is necessary to increase the number of laser operations or shift the focal position of the laser. In the former case, the production efficiency is reduced, and in the latter case, the functional layer at the edge of the gap is not sufficiently removed, and the residue of decomposition product that cannot evaporate or burn out the functional layer adheres to the edge of the gap. May cause inconvenience.

本発明の空隙は、レーザーを用いて機能層を蒸発あるいは燃焼させて形成するので、導電層を完全に露出することが可能となる。   Since the air gap of the present invention is formed by evaporating or burning the functional layer using a laser, the conductive layer can be completely exposed.

本発明では、上記した空隙を設けることによってアース効率を十分に確保することができる。本発明のディスプレイ用フィルターは、導電層の上にはプラスチックフィルム及び接着層は存在しないので、導電層表面からフィルターの機能層側最表面までの距離が従来の一般的なディスプレイ用フィルターに比べて大幅に小さいので、空隙の幅が3mm以下であっても外部電極との導通が十分に得られる。即ち、導電層表面から最表面までの距離(L)を十分に小さくすることによって、電極取出しのための空隙の幅を小さくすることが可能となる。   In the present invention, the ground efficiency can be sufficiently ensured by providing the above-described gap. In the display filter of the present invention, since the plastic film and the adhesive layer do not exist on the conductive layer, the distance from the conductive layer surface to the outermost surface of the functional layer side of the filter is larger than that of a conventional general display filter. Since it is significantly small, sufficient conduction with the external electrode can be obtained even if the gap width is 3 mm or less. That is, by sufficiently reducing the distance (L) from the surface of the conductive layer to the outermost surface, the width of the gap for taking out the electrode can be reduced.

上記観点から、導電層表面からフィルターの機能層側最表面までの距離(L)、即ち前述した、導電性メッシュの細線部上に塗工形成された機能層と必要に応じて設けられる防汚層等との合計厚みは、10μm以下が好ましく、7μm以下がより好ましく、更に4μm以下が好ましい。距離(L)の下限は0.5μm程度である。上記距離(L)は、機能層の厚みに大きく左右されるので、機能層の合計の厚みを調整することによって上記範囲内に納めることができる。   From the above viewpoint, the distance (L) from the surface of the conductive layer to the functional layer side outermost surface of the filter, that is, the above-described functional layer coated on the fine wire portion of the conductive mesh and antifouling provided as necessary The total thickness of the layers and the like is preferably 10 μm or less, more preferably 7 μm or less, and further preferably 4 μm or less. The lower limit of the distance (L) is about 0.5 μm. Since the distance (L) greatly depends on the thickness of the functional layer, it can be within the above range by adjusting the total thickness of the functional layer.

また、レーザーによる空隙形成の観点からも、導電層表面から最表面までの距離(L)を小さくすることは有益である。距離(L)を小さくすることは、即ち機能層等を構成する有機物の絶対量が小さくなることであり、これによってレーザー照射による空隙形成時に発生する有機物の分解物残渣の量が少なくなるので、分解物残渣によるディスプレイ用フィルターの空隙部周辺への汚染や周辺機器のへの汚染が軽減できるという利点がある。更に、上記距離(L)を小さくすることによって、レーザー照射の出力を小さくできるのでレーザー装置の低価格化が図られる。   Also, from the viewpoint of gap formation by laser, it is beneficial to reduce the distance (L) from the surface of the conductive layer to the outermost surface. Reducing the distance (L) means that the absolute amount of the organic matter constituting the functional layer or the like is reduced, and this reduces the amount of the organic matter decomposition product residue generated when the voids are formed by laser irradiation. There is an advantage that contamination around the void of the display filter due to the decomposition product residue and contamination of peripheral devices can be reduced. Furthermore, by reducing the distance (L), the output of laser irradiation can be reduced, so that the price of the laser device can be reduced.

一方、レーザーによる空隙形成の精度(空隙の深さ精度)や安定操業の観点からは、レーザーによる加工深さはある程度の厚みがあった方がよい。本発明のディスプレイ用フィルターの製造方法では、積層体を得る工程の中に、機能層上に更にカバーフィルムを積層する工程を有し、また空隙を形成する工程が、カバーフィルム表面からレーザーを照射して少なくとも導電層に達する空隙を形成する工程であることが好ましい。ディスプレイ用フィルターの機能層側表面に更にカバーフィルムを積層し、カバーフィルムの上からレーザー加工することによってレーザーによる加工厚みを稼ぐことでき、レーザー加工の精度が向上するので好ましい。カバーフィルムは機能層を保護する等の目的で設けられるものであり、最終的には剥離除去される。また、カバーフィルムの上からレーザーを照射して空隙形成することによって、空隙形成時に発生する有機物の分解物残渣がディスプレイ用フィルターへ再付着するのを防止するという利点もある。   On the other hand, from the viewpoint of accuracy of void formation by the laser (void depth accuracy) and stable operation, it is better that the processing depth by the laser has a certain thickness. In the method for producing a filter for display according to the present invention, the step of obtaining a laminate includes a step of further laminating a cover film on the functional layer, and the step of forming a void is performed by irradiating a laser from the surface of the cover film. Thus, it is preferable to form a gap that reaches at least the conductive layer. By further laminating a cover film on the functional layer side surface of the display filter and laser processing from the top of the cover film, it is possible to increase the processing thickness by laser, which is preferable since the accuracy of laser processing is improved. The cover film is provided for the purpose of protecting the functional layer, and is finally peeled off. In addition, by forming a void by irradiating a laser from the top of the cover film, there is also an advantage that a residue of decomposed organic matter generated when the void is formed is prevented from reattaching to the display filter.

上述した、レーザー加工による分解物残渣の発生量、レーザー照射装置の低価格化、及び空隙形成の精度を考慮し、カバーフィルムの厚み(積層のための粘着層が必要な場合は粘着層を含む)は20〜80μmの範囲が好ましい。   In consideration of the amount of decomposition residue generated by laser processing, the low price of the laser irradiation device, and the accuracy of void formation, the thickness of the cover film (including the adhesive layer if an adhesive layer for lamination is required) ) Is preferably in the range of 20 to 80 μm.

本発明に用いられるカバーフィルムとしては、各種プラスチックフィルムを用いることができる。例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブチレンフィルム等のポリオレフィンフィルム、ポリアセチルセルロースフィルム、ポリアクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、エポキシ系フィルム、ポリウレタンフィルム等が挙げられ、これらの中でもポリエステルフィルムやポリオレフィンフィルムが好ましく用いられる。   Various plastic films can be used as the cover film used in the present invention. For example, polyester films such as polyethylene terephthalate, polyolefin films such as polyethylene film, polypropylene film, polybutylene film, polyacetylcellulose film, polyacryl film, polycarbonate film, epoxy film, polyurethane film, etc. A film or a polyolefin film is preferably used.

カバーフィルムは、最終的にはディスプレイ用フィルターから剥離除去されるので、剥離可能な粘着材または接着材が用いられる。あるいは、カバーフィルムとして粘着性を有するフィルムを用いる場合には、粘着材等は不要である。カバーフィルムはディスプレイ用フィルターをディスプレイに装着する前もしくは装着した後に剥離除去するのが好ましい。   Since the cover film is finally peeled off from the display filter, a peelable pressure-sensitive adhesive or adhesive is used. Or when using the film which has adhesiveness as a cover film, an adhesive material etc. are unnecessary. The cover film is preferably peeled off before or after the display filter is attached to the display.

図4は、積層体の最表面に更にカバーフィルムを有するカバーフィルム付き積層体の周辺部に形成された空隙部分の模式断面図である。空隙1は、カバーフィルム7から導電層3に達している。   FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a gap formed in the periphery of a laminate with a cover film that further has a cover film on the outermost surface of the laminate. The gap 1 reaches the conductive layer 3 from the cover film 7.

本発明のディスプレイ用フィルターは、前述したように空隙形成のみで十分に導電層と外部電極との導通を取ることができるが、空隙部に導電性材料を配置することによって更に外部電極との導通が安定的に確保することができる。また、前述したように、本発明においては導電層を露出するための空隙は3mm以下とすることが好ましく、これによって導電層の空気酸化等による劣化を抑制することができるが、空隙部に導電性材料、例えば、後述する導電性ペーストやはんだ等の流動性の導電性材料、あるいは導電性粘着テープを配置することによって更に導電層の空気酸化等による劣化を抑制できるという利点もある。   As described above, the display filter of the present invention can sufficiently establish electrical continuity between the conductive layer and the external electrode only by forming a gap. However, by providing a conductive material in the gap, the electrical connection with the external electrode is further achieved. Can be secured stably. In addition, as described above, in the present invention, the gap for exposing the conductive layer is preferably 3 mm or less, and this can suppress deterioration of the conductive layer due to air oxidation or the like. There is also an advantage that deterioration due to air oxidation or the like of the conductive layer can be further suppressed by disposing a conductive material, for example, a fluid conductive material such as a conductive paste or solder described later, or a conductive adhesive tape.

空隙に導電性材料を配置する1つの態様として、空隙に導電性ペーストやはんだ等の流動性の導電性材料(以降、導電性ペースト等と称す)を塗布あるいは充填する態様がある。導電性ペーストとしては、銀、金、パラジウム、銅、インジウム、スズ、あるいは銀とそれ以外の金属の合金などを含有する金属ペーストを用いることができる。   As one aspect of disposing the conductive material in the gap, there is an aspect in which a fluid conductive material (hereinafter referred to as a conductive paste or the like) such as a conductive paste or solder is applied or filled in the gap. As the conductive paste, a metal paste containing silver, gold, palladium, copper, indium, tin, or an alloy of silver and other metals can be used.

空隙に導電性材料を配置する他の態様として、空隙に挿入することができるように加工された導電性固体を配置する態様がある。導電性固体としては導電性金属あるいは非導電体の表面に導電性金属を被覆したものが用いられる。   As another aspect of disposing the conductive material in the gap, there is an aspect of disposing a conductive solid processed so as to be inserted into the gap. As the conductive solid, a conductive metal or a non-conductive surface coated with a conductive metal is used.

導電層として導電性メッシュを用いた積層体にレーザーで空隙を形成する方法は、導電性メッシュを破壊せずに導電性メッシュの開口部を通して導電層の下側の層まで達する空隙を形成することができる。この空隙に導電性ペースト等の流動性の導電性材料を塗布あるいは充填することによって導電性メッシュの下側にも導電性ペースト等が入り込み、その結果、導電性メッシュと導電性ペースト等の導電性材料との接触面積が増大し、導電層と外部電極との導通を更に安定的に確保することができる。   The method of forming a void in a laminate using a conductive mesh as a conductive layer is to form a void reaching the lower layer of the conductive layer through the opening of the conductive mesh without destroying the conductive mesh. Can do. By applying or filling a fluid conductive material such as a conductive paste into this gap, the conductive paste enters the lower side of the conductive mesh. As a result, the conductive mesh and the conductive paste, etc. The contact area with the material is increased, and conduction between the conductive layer and the external electrode can be more stably ensured.

空隙に導電性材料を配置する更に他の態様として、導電性粘着テープを空隙の上から空隙を覆うように貼り付ける態様がある。導電性粘着テープを貼り付けた後にヒートシーラー等で導電性粘着テープを加熱加圧するのが好ましい。本発明のディスプレイ用フィルターは、フィルター最表面から導電層表面までの距離が短いため、導電性粘着テープを加熱加圧することで、導電性粘着テープを導電層と接触させることができる。導電性粘着テープは、金属箔の一方の面に導電性粒子を分散させた粘着層を設けたものであって、この粘着層には、アクリル系、ゴム系、シリコン系粘着剤や、エポキシ系、フェノール系樹脂に硬化剤を配合したものを用いることができるが、特に架橋型導電粘着剤であるエチレン−酢酸ビニル系共重合体を主成分とするポリマーとその架橋剤とを含む後架橋型接着層であるものが好ましい。   As still another aspect in which the conductive material is disposed in the gap, there is an aspect in which the conductive adhesive tape is attached so as to cover the gap from above the gap. It is preferable to heat and press the conductive adhesive tape with a heat sealer or the like after the conductive adhesive tape is applied. Since the display filter of the present invention has a short distance from the outermost surface of the filter to the surface of the conductive layer, the conductive pressure-sensitive adhesive tape can be brought into contact with the conductive layer by heating and pressurizing the conductive pressure-sensitive adhesive tape. The conductive adhesive tape is provided with an adhesive layer in which conductive particles are dispersed on one surface of a metal foil. This adhesive layer has an acrylic, rubber-based, silicon-based adhesive, or epoxy-based adhesive. A compound obtained by blending a phenolic resin with a curing agent can be used. In particular, a post-crosslinking type containing a polymer mainly composed of an ethylene-vinyl acetate copolymer, which is a crosslinkable conductive adhesive, and the crosslinker. What is an adhesive layer is preferable.

図5は、空隙に導電性材料を配置したディスプレイ用部材の模式断面図である。空隙1に導電性ペースト等からなる導電性材料8が塗布されて、導電層3と電気的に接続された電極が形成されている。
空隙形成及び空隙への導電性材料の配置は、カバーフィルムが存在する状態で行うのが好ましい。空隙に導電性粘着テープを貼り付ける場合は、少なくとも空隙が形成された外周部(画像表示領域の外周)のカバーフィルムが剥離された後に行われる。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a display member in which a conductive material is disposed in a gap. A conductive material 8 made of a conductive paste or the like is applied to the gap 1 to form an electrode that is electrically connected to the conductive layer 3.
It is preferable that the formation of the gap and the arrangement of the conductive material in the gap are performed in a state where the cover film exists. When the conductive adhesive tape is applied to the gap, the cover film is peeled off at least in the outer peripheral portion (outer periphery of the image display area) where the gap is formed.

次に、本発明のディスプレイ用フィルターおよびディスプレイの製造方法について説明する。かかる製造方法は、プラスチックフィルム上に接着層を介さずに、スパッタリング、イオンプレーティング及び真空蒸着のいずれかで形成された金属薄膜を、フォトリソグラフ法を利用してエッチングレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法で得られた、導電性メッシュからなる導電層を形成する工程、導電層上にプラスチックフィルム及び接着層を介さずに、反射防止機能、ハードコート機能、及び防眩機能から選ばれる少なくとも1つの機能を有する機能層を塗工して積層体を得る工程、積層体の周辺部の少なくとも一部にレーザーを照射して積層体表面から機能層を貫通して導電層に達する空隙を形成する工程を少なくとも有する。   Next, the display filter and display manufacturing method of the present invention will be described. Such a manufacturing method is a method in which a metal thin film formed by sputtering, ion plating or vacuum deposition is formed on a plastic film without using an adhesive layer, and an etching resist pattern is prepared using a photolithographic method. From the process of forming a conductive layer made of a conductive mesh obtained by the method of etching a metal thin film, without using a plastic film and an adhesive layer on the conductive layer, from an antireflection function, a hard coat function, and an antiglare function Applying a functional layer having at least one selected function to obtain a laminate, irradiating at least a part of the periphery of the laminate with a laser to penetrate the functional layer from the surface of the laminate to reach the conductive layer At least a step of forming voids.

上記のそれぞれの工程については前述した通りであるが、プラスチックフィルム上に導電層を形成する工程、及び導電層上に機能層を塗工して積層体を得る工程は、ロール・ツー・ロール方式で連続的に行うのが好ましい。   Each of the above steps is as described above. The step of forming a conductive layer on a plastic film and the step of applying a functional layer on the conductive layer to obtain a laminate are a roll-to-roll method. It is preferable to carry out continuously.

前述したように、本発明の好ましい態様は、機能層側の表面にカバーフィルムを積層したカバーフィルム付き積層体を用いることである。かかる製造方法は、プラスチックフィルム上に導電層を形成する工程、導電層上にプラスチックフィルム及び接着層を介さずに、反射防止機能、ハードコート機能、及び防眩機能から選ばれる少なくとも1つの機能を有する機能層を塗工して積層体を得る工程、前記積層体にカバーフィルムを積層してカバーフィルム付き積層体を得る工程、カバーフィルム付き積層体の周辺部の少なくとも一部にレーザーを照射してカバーフィルム表面からカバーフィルム及び機能層を貫通して導電層に達する空隙を形成する工程を少なくとも有する。   As described above, a preferred embodiment of the present invention is to use a laminate with a cover film in which a cover film is laminated on the surface on the functional layer side. Such a manufacturing method includes a step of forming a conductive layer on a plastic film, and at least one function selected from an antireflection function, a hard coat function, and an antiglare function without using a plastic film and an adhesive layer on the conductive layer. Applying a functional layer to obtain a laminate, laminating a cover film on the laminate to obtain a laminate with a cover film, irradiating at least a part of the periphery of the laminate with a cover film And at least a step of forming a gap from the surface of the cover film to the conductive layer through the cover film and the functional layer.

また、積層体の周辺部の少なくとも一部にレーザーを照射して、積層体表面から機能層を貫通して導電層に達する空隙を形成する工程は、機能層の反対面がディスプレイ側になるようにディスプレイに装着した後に行ってもよいし、ディスプレイに装着する前に空隙形成工程を行い、それにより得られたディスプレイ用フィルターを、機能層の反対面がディスプレイ側になるようにディスプレイに装着しても構わない。   In addition, in the step of irradiating at least a part of the periphery of the multilayer body with a laser to form a gap that penetrates the functional layer from the surface of the multilayer body and reaches the conductive layer, the opposite surface of the functional layer is on the display side. It may be performed after being attached to the display, or a gap formation step is performed before being attached to the display, and the resulting display filter is attached to the display so that the opposite side of the functional layer is on the display side. It doesn't matter.

上記製造方法においても、カバーフィルム付き積層体を得る工程まではロール・ツー・ロール方式で連続的に行うのが好ましい。   Also in the said manufacturing method, it is preferable to carry out continuously by the roll-to-roll system until the process of obtaining the laminated body with a cover film.

本発明の製造方法において、プラスチックフィルムの導電層とは反対面に近赤外線遮蔽層を積層する工程を有するのが好ましく、更に近赤外線遮蔽層の上に接着層を積層する工程を有するのが好ましい。これらの工程もロール・ツー・ロール方式で連続的に行うのが好ましい。   In the production method of the present invention, it is preferable to have a step of laminating a near-infrared shielding layer on the surface opposite to the conductive layer of the plastic film, and it is preferable to further comprise a step of laminating an adhesive layer on the near-infrared shielding layer. . These steps are also preferably performed continuously in a roll-to-roll manner.

本発明の製造方法は、更に空隙に導電性材料を配置する工程を有するのが好ましい。かかる工程としては、導電性ペースト等をディスペンサー等で空隙に塗布する方法、あるいは導電性粘着テープを空隙に貼り付ける方法が好ましい。空隙に導電性ペースト等を塗布した後、導電性ペースト等の上に導電性粘着テープを貼り付けるのも好ましい態様である。   The production method of the present invention preferably further includes a step of disposing a conductive material in the gap. As this step, a method of applying a conductive paste or the like to the gap with a dispenser or a method of sticking a conductive adhesive tape to the gap is preferable. It is also a preferred embodiment that after applying a conductive paste or the like to the gap, a conductive adhesive tape is stuck on the conductive paste or the like.

また、本発明のレーザーを用いて電極を形成する方法は、積層体を機能層の反対面がディスプレイ側になるようにディスプレイに装着した後にも適用することができる。即ち、積層体を機能層の反対面がディスプレイ側になるようにディスプレイに装着した後、積層体の周辺部にレーザーを照射して空隙を形成し、本発明のディスプレイ用フィルターを完成させた後、ディスプレイ筐体を組み立てることができる。また、空隙に導電性ペースト等や導電性粘着テープを配置した後、ディスプレイ筐体を組み立てることができる。また、更に空隙に導電性ペースト等の導電性材料を塗布し、導電性ペースト等の導電性材料の上に導電性粘着テープを貼り付けることができる。   The method of forming an electrode using the laser of the present invention can also be applied after the laminate is mounted on a display so that the opposite surface of the functional layer is on the display side. That is, after the laminate is mounted on the display so that the opposite side of the functional layer is on the display side, the periphery of the laminate is irradiated with laser to form voids, and the display filter of the present invention is completed. The display housing can be assembled. In addition, the display casing can be assembled after the conductive paste or the like or the conductive adhesive tape is disposed in the gap. Further, a conductive material such as a conductive paste can be applied to the gap, and a conductive adhesive tape can be attached on the conductive material such as a conductive paste.

また、カバーフィルム付き積層体を用いた場合は、カバーフィルム付き積層体をディスプレイに装着した状態で、カバーフィルム表面からレーザーを照射して、積層体に空隙を形成した後、カバーフィルムを剥離して、本発明のディスプレイ用フィルターを完成させた後、ディスプレイ筐体を組み立てることができる。上記工程の中で、カバーフィルムを剥離する前に空隙に導電性ペースト等を塗布することができる。また、上記工程の中で、空隙に導電性粘着テープを貼り付ける場合は、カバーフィルム剥離後でディスプレイ筐体を組み立てる前に行うのが好ましい。また、上記工程の中で、空隙に導電性ペースト等を塗布し、カバーフィルムを剥離除去した後、導電性ペースト等の上に導電性粘着テープを貼り付けることができる。   In addition, when a laminate with a cover film is used, a laser is irradiated from the surface of the cover film in a state where the laminate with a cover film is attached to a display to form a gap in the laminate, and then the cover film is peeled off. After the display filter of the present invention is completed, the display housing can be assembled. In the above process, a conductive paste or the like can be applied to the gap before peeling the cover film. Further, in the above process, when the conductive adhesive tape is applied to the gap, it is preferably performed after the cover film is peeled and before the display casing is assembled. Moreover, in the said process, after apply | coating a conductive paste etc. to a space | gap and peeling and removing a cover film, a conductive adhesive tape can be affixed on a conductive paste etc.

本発明において、ディスプレイ筐体を組み立てる前のディスプレイパネルの状態で搬送や取り扱いを行う場合には、カバーフィルム付き積層体をディスプレイパネルに装着後、画像表示領域に相当する部分のみのカバーフィルムを残しておくことが好ましい。即ち、カバーフィルム付き積層体の電極が形成された外周部のみのカバーフィルムを剥離除去して、画像表示領域に相当する部分のカバーフィルムを残すというものである。これによって、画像表示領域がカバーフィルムによって保護される。ここで、電極は、空隙に導電性粘着テープを貼り付けたもの、あるいは空隙に導電性ペースト等を塗布し更に導電性ペースト等の上に導電性粘着テープを貼り付けたものである。電極の形成時期は、カバーフィルム付き積層体をディスプレイパネルに装着する前であっても、装着した後であってもよい。   In the present invention, when transporting and handling in the state of the display panel before assembling the display housing, after attaching the cover film-attached laminate to the display panel, leaving only the cover film corresponding to the image display area. It is preferable to keep it. That is, the cover film of only the outer peripheral portion where the electrode of the laminate with the cover film is formed is peeled and removed, and the cover film corresponding to the image display area is left. Thereby, the image display area is protected by the cover film. Here, the electrode is obtained by attaching a conductive adhesive tape to the gap, or applying a conductive paste or the like to the gap and further attaching a conductive adhesive tape on the conductive paste or the like. The electrode may be formed before or after the laminate with a cover film is attached to the display panel.

上記態様において、カバーフィルム付き積層体の外周部のカバーフィルムを剥離除去する時期は、導電性粘着テープを貼り付ける前である。画像表示領域に相当する部分のカバーフィルムを剥離除去する時期は、ディスプレイパネルにディスプレイ筐体を組み立てる前である。カバーフィルム付き積層体の外周部のカバーフィルムを剥離除去して、画像表示領域に相当する部分のみのカバーフィルムを残すのは、カバーフィルム付き積層体をディスプレイパネルに装着する前もしくは装着した後に、画像表示領域に相当する部分と外周部の境界をレーザーでハーフカットしてカバーフィルムのみに切り込み線を入れることによって実現することができる。   In the said aspect, the time which peels and removes the cover film of the outer peripheral part of a laminated body with a cover film is before sticking a conductive adhesive tape. The time when the cover film corresponding to the image display area is peeled and removed is before the display casing is assembled to the display panel. The cover film on the outer periphery of the laminate with a cover film is peeled and removed, leaving only the cover film corresponding to the image display area before or after the laminate with the cover film is attached to the display panel. This can be realized by half-cutting the boundary between the portion corresponding to the image display area and the outer peripheral portion with a laser and making a cut line only in the cover film.

本発明の電極形成方法は、予め積層体に電極を形成する態様、及びディスプレイの製造過程の中でディスプレイに積層体を装着した後に電極を形成する態様に適用することができる。   The electrode forming method of the present invention can be applied to an aspect in which an electrode is previously formed on a laminated body and an aspect in which an electrode is formed after the laminated body is mounted on a display in the display manufacturing process.

後者のディスプレイの製造過程に適用する場合は、本発明の積層体をロール形状で供給し、ディスプレイの製造工程の中で、ロール状積層体を所定サイズのシート状に切断して用いることが好ましい。   When applied to the latter display manufacturing process, it is preferable to supply the laminate of the present invention in a roll shape, and cut and use the roll laminate in a sheet size of a predetermined size in the display manufacturing process. .

本発明の積層体は、1枚のみのプラスチックフィルムで構成されるので、剛性が比較的弱く、ディスプレイに積層体を装着した後に空隙を形成することは、予め積層体に空隙を形成したディスプレイ用フィルターの取り扱い性を考慮すれば、好ましい態様である。   Since the laminated body of the present invention is composed of only one plastic film, the rigidity is relatively weak, and forming the gap after mounting the laminated body on the display is for a display in which a gap is previously formed in the laminated body. Considering the handleability of the filter, this is a preferred embodiment.

本発明のディスプレイ用フィルターを構成する積層体は、従来技術では4辺に電極を取り出すことはできなかったが、上述した本発明によって電極の取り出しが可能となった。   In the laminated body constituting the display filter of the present invention, the electrodes could not be taken out on the four sides by the prior art, but the electrodes can be taken out by the present invention described above.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
(実施例1)
<導電層の形成>
厚み100μmのPETフィルム(東レ(株)製のルミラー;登録商標)の片面に、スパッタリング法によりニッケル層(厚み0.02μm)を形成した。更にその上に、真空蒸着法により銅層(厚み2.5μm)を形成した。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited by these Examples.
(Example 1)
<Formation of conductive layer>
A nickel layer (thickness: 0.02 μm) was formed on one surface of a PET film having a thickness of 100 μm (Lumirror manufactured by Toray Industries, Inc .; registered trademark) by a sputtering method. Further, a copper layer (thickness: 2.5 μm) was formed thereon by vacuum vapor deposition.

その後、この銅層側の表面にフォトレジストネガフィルムを貼り付け、格子状のメッシュパターンのマスクを介してフォトレジストネガフィルムを露光、現像し、次いでエッチング処理を施して、線幅10μm、線ピッチ150μm、開口率87%の格子状の導電性メッシュからなる導電層をPETフィルム上に形成した。導電性メッシュ上のフォトレジストネガフィルムを除去した後、更に、導電性メッシュに酸化処理剤(メルテックス(株)製 エンプレート MB―438A/B/純水=8/13/79の割合で調整)で黒化処理(酸化処理)を施した。
<機能層の塗工>
上記の導電層が形成されたPETフィルムの導電層上に、下記のハードコート層、高屈折率層、及び低屈折率層を順次塗工した。塗工上の設定厚み(乾燥厚み)は、ハードコート層が約5.5μm、高屈折率層が約0.1μm、低屈折率層が約0.1μmとした。
<ハードコート層>
市販のハードコート剤(JSR製“デソライトZ7528”)をイソプロピルアルコールで固形分濃度30%に希釈した塗料を、マイクログラビアコーターで塗工し、80℃で乾燥後、紫外線1.0J/cmを照射して硬化させ、ハードコート層を設けた。
<高屈折率層>
錫含有酸化インジウム粒子(ITO)6質量部、多官能アクリレート2質量部、メタノール18質量部とポリプロピレングリコールモノエチルエーテル54質量部、イソプロピルアルコール20質量部の混合物を攪拌して塗膜屈折率1.67の高屈折率塗料を調製した。この塗料をハードコート層上にマイクログラビアコーターを用いて塗工し、80℃で乾燥後、紫外線1.0J/cmを照射して、塗工層を硬化させ、高屈折率層を形成した。
<低屈折率層>
一次粒子径50nmの外殻を有する中空シリカ粒子(空隙率40%)144質量部、イソプロピルアルコール560質量部からなるシリカスラリーを準備し、メチルトリメトキシシラン219質量部、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン158質量部、上述シリカスラリー704質量部、ポリプロピレングリコールモノエチルエーテル713質量部を攪拌混合し、燐酸1質量部と水130質量部を配合して、30℃±10℃で攪拌しながら60分加水分解し、さらに温度を80℃±5℃に上げて60分攪拌しながら重合し、シリカ粒子含有ポリマーを得た。次に、このシリカ粒子含有ポリマー1200質量部、イソプロピルアルコール5244質量部を攪拌混合した後、硬化触媒としてアセトキシアルミニウムを15質量部添加して再度攪拌混合し、屈折率1.35の塗料を調整した。この塗料を高屈折率層上に小径グラビアコーターで塗工し、130℃で乾燥、硬化して、低屈折率層を形成した。
<導電層と機能層との厚みの関係>
走査型電子顕微鏡による拡大断面写真で求めた、導電層の厚みは2.5μm、機能層の合計厚みは6.0μmで、導電性メッシュの細線部上の機能層の厚みは3.5μmであった。
<カバーフィルムの積層>
低屈折率層の上に、カバーフィルム(日東電工(株)製の「E−MASK IP300」;38μmのPETフィルムに5μmの微粘着層を積層)を積層した。
<近赤外線遮蔽層の積層>
前記PETフィルムの導電層とは反対面に、オレンジ光遮蔽機能を併せ持つ近赤外線遮蔽層(近赤外線吸収色素としてのフタロシアニン系色素とジイモニウム系色素、およびオレンジ光吸収色素としてのテトラアザポルフィリン系色素をアクリル系樹脂に混合した塗料を、乾燥膜厚みが12μmになるように塗工した層)を設けた。
<接着層の積層>
セパレートフィルム上に紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂(日立化成ポリマー(株)製のハイボン(登録商標))をスリットダイコーターで、厚みが300μmになるように塗布した後、UV照射装置を用いて塗布膜を硬化し、続いてセパレートフィルムを貼り付けて、セパレートフィルムにサンドウィッチされた接着層を得た。次に、上記で作製した積層体の近赤外線遮蔽層の上に、一方のセパレートフィルムを剥離しながら接着層を積層した。
Thereafter, a photoresist negative film is applied to the surface of the copper layer, and the photoresist negative film is exposed and developed through a mask having a lattice-like mesh pattern, and then subjected to an etching treatment to obtain a line width of 10 μm and a line pitch. A conductive layer made of a grid-like conductive mesh having a thickness of 150 μm and an aperture ratio of 87% was formed on a PET film. After removing the negative photo resist film on the conductive mesh, the conductive mesh is further adjusted with an oxidizing agent (Meltex Co., Ltd. Enplate MB-438A / B / pure water = 8/13/79) ) Was subjected to blackening treatment (oxidation treatment).
<Functional layer coating>
The following hard coat layer, high refractive index layer, and low refractive index layer were sequentially coated on the conductive layer of the PET film on which the conductive layer was formed. The set thickness (dry thickness) on the coating was about 5.5 μm for the hard coat layer, about 0.1 μm for the high refractive index layer, and about 0.1 μm for the low refractive index layer.
<Hard coat layer>
A coating obtained by diluting a commercially available hard coating agent (“Desolite Z7528” manufactured by JSR) with isopropyl alcohol to a solid content concentration of 30% is applied with a micro gravure coater, dried at 80 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays of 1.0 J / cm 2 . Irradiated and cured to provide a hard coat layer.
<High refractive index layer>
A mixture of 6 parts by mass of tin-containing indium oxide particles (ITO), 2 parts by mass of polyfunctional acrylate, 18 parts by mass of methanol, 54 parts by mass of polypropylene glycol monoethyl ether, and 20 parts by mass of isopropyl alcohol was stirred to give a coating film refractive index of 1. A 67 high refractive index paint was prepared. This paint was applied onto the hard coat layer using a micro gravure coater, dried at 80 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays of 1.0 J / cm 2 to cure the applied layer to form a high refractive index layer. .
<Low refractive index layer>
A silica slurry comprising 144 parts by mass of hollow silica particles having an outer shell with a primary particle diameter of 50 nm (porosity 40%) and 560 parts by mass of isopropyl alcohol was prepared, 219 parts by mass of methyltrimethoxysilane, 3,3,3-tri 158 parts by mass of fluoropropyltrimethoxysilane, 704 parts by mass of the above silica slurry, and 713 parts by mass of polypropylene glycol monoethyl ether are mixed with stirring, 1 part by mass of phosphoric acid and 130 parts by mass of water are mixed, and the mixture is stirred at 30 ° C. ± 10 ° C. Then, the mixture was hydrolyzed for 60 minutes, and the temperature was raised to 80 ° C. ± 5 ° C., followed by polymerization while stirring for 60 minutes to obtain a silica particle-containing polymer. Next, 1200 parts by mass of this silica particle-containing polymer and 5244 parts by mass of isopropyl alcohol were stirred and mixed, then 15 parts by mass of acetoxyaluminum as a curing catalyst was added and stirred again to prepare a paint having a refractive index of 1.35. . This paint was applied on the high refractive index layer with a small-diameter gravure coater, dried and cured at 130 ° C. to form a low refractive index layer.
<Relationship between thickness of conductive layer and functional layer>
The thickness of the conductive layer was 2.5 μm, the total thickness of the functional layer was 6.0 μm, and the thickness of the functional layer on the thin wire portion of the conductive mesh was 3.5 μm, which was obtained by an enlarged cross-sectional photograph taken with a scanning electron microscope. It was.
<Lamination of cover film>
On the low refractive index layer, a cover film (“E-MASK IP300” manufactured by Nitto Denko Corporation; a 5 μm slightly adhesive layer was laminated on a 38 μm PET film) was laminated.
<Lamination of near-infrared shielding layer>
A near-infrared shielding layer having an orange light shielding function (a phthalocyanine dye and a diimonium dye as a near-infrared absorbing dye, and a tetraazaporphyrin dye as an orange light-absorbing dye on the opposite side of the PET film from the conductive layer) A layer in which a paint mixed with an acrylic resin was applied so that the dry film thickness was 12 μm was provided.
<Lamination of adhesive layer>
A UV curable urethane acrylate resin (Hibon (registered trademark) manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) is applied on a separate film with a slit die coater to a thickness of 300 μm, and then applied using a UV irradiation device. Then, a separate film was attached to obtain an adhesive layer sandwiched between the separate films. Next, the adhesive layer was laminated | stacked on the near-infrared shielding layer of the laminated body produced above, peeling one separate film.

上記のようにして作製したカバーフィルム付き積層体の構成を以下に示す。
<積層体の構成>
接着層/近赤外線遮蔽層/PETフィルム/導電層/機能層(ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層)/カバーフィルム。
<空隙の形成>
上記のようにして作成した積層体を長辺964mm、短辺554mmのシート状に切断してシート状積層体を作製した後、このシート状積層体をレーザーカッター(コマックス製のCOレーザーカッター)に固定して、積層体の4辺にそれぞれ端部から10mm内側に直線状にレーザーを照射して連続した直線状の空隙を形成して、本発明のディスプレイ用フィルターを得た。レーザーのヘッドスピードを1200cm/minとし、レーザーの出力、及び焦点位置を調整して、カバーフィルム表面から導電層に達する空隙を形成した。
The structure of the laminate with a cover film produced as described above is shown below.
<Configuration of laminate>
Adhesive layer / near infrared shielding layer / PET film / conductive layer / functional layer (hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer) / cover film.
<Void formation>
After cutting the laminate prepared as described above long side 964Mm, a sheet-like short sides 554mm to produce a sheet-like laminate, laser cutter the sheet-like laminate (Komakkusu made of CO 2 laser cutter) And a continuous linear gap was formed on the four sides of the laminate by linearly irradiating the laser 10 mm inward from each end to obtain the display filter of the present invention. The laser head speed was 1200 cm / min, the laser output and the focal position were adjusted, and a gap reaching the conductive layer from the cover film surface was formed.

レーザーの走査回数は1辺当たり2回とした。空隙の長さは、長辺側で930mm、短辺側で520mmである。カバーフィルムを剥離除去して測定した空隙の幅は1.5mmであった。
<ディスプレイ用フィルターのアース性能の評価>
厚み1mm、幅2cmのアルミ板の一方の面に、スポンジの周辺に導電性繊維で織った布を巻き付けたガスケットを導電性接着材で接合して、簡易的な筐体(外部電極)を作製した。次に厚み3mmのアクリル板の上に、上記で作製したディスプレイ用フィルターを設置した後、カバーフィルムを剥離し、ディスプレイ用フィルターの4辺の端部に上記の簡易的筐体を配置しクランプでアクリル板に固定した。アクリル板と簡易的筐体の距離が一定になるようにクランプの締め付けを調整した。次に、マルチ計測器(株)製の抵抗測定器「ポケットマルチメーター」を使用し、簡易的筐体のアルミ板に端針を当てて対向する2辺の電極間の導通を確認した。その結果、導通があり、アースがとれることを確認した。
(実施例2)
実施例1と同様にしてシート状積層体を作製し、実施例1と同様に積層体に空隙を形成した。但し、レーザーの走査回数は1回とした。空隙の幅は0.8mmであった。
The number of laser scans was 2 per side. The length of the gap is 930 mm on the long side and 520 mm on the short side. The gap width measured by peeling off the cover film was 1.5 mm.
<Evaluation of grounding performance of display filter>
A simple casing (external electrode) is manufactured by joining a gasket with a cloth woven with conductive fibers around a sponge on one side of an aluminum plate with a thickness of 1 mm and a width of 2 cm. did. Next, after installing the display filter prepared above on an acrylic plate having a thickness of 3 mm, the cover film is peeled off, and the above simple casing is placed on the four sides of the display filter and clamped. It fixed to the acrylic board. The clamping of the clamp was adjusted so that the distance between the acrylic plate and the simple housing was constant. Next, using a resistance measuring instrument “Pocket Multimeter” manufactured by Multi Instrument Co., Ltd., conduction between two opposing electrodes was confirmed by applying an end needle to the aluminum plate of the simple housing. As a result, it was confirmed that there was continuity and grounding was possible.
(Example 2)
A sheet-like laminate was produced in the same manner as in Example 1, and voids were formed in the laminate as in Example 1. However, the number of laser scans was one. The width of the gap was 0.8 mm.

このようにして作製したディスプレイ用フィルターを実施例1と同様にしてアース性能を評価した。その結果、2辺の電極間に導通があり、アースがとれることを確認した。
(実施例3)
実施例1と同様にしてシート状積層体を作製し、実施例1と同様に積層体に空隙を形成した。但し、レーザーの走査回数は1回とした。空隙の幅は0.8mmであった。
The display filter thus produced was evaluated for earth performance in the same manner as in Example 1. As a result, it was confirmed that there was electrical continuity between the electrodes on the two sides and that grounding was possible.
(Example 3)
A sheet-like laminate was produced in the same manner as in Example 1, and voids were formed in the laminate as in Example 1. However, the number of laser scans was one. The width of the gap was 0.8 mm.

続いて、空隙に導電性ペースト(藤倉化成(株)製の銀ペースト「ドータイト」(登録商標))をディスペンサーで塗布して電極が形成された本発明のディスプレイ用フィルターを得た。   Subsequently, a conductive paste (silver paste “Dotite” (registered trademark) manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.) was applied to the gaps with a dispenser to obtain a display filter of the present invention in which electrodes were formed.

このようにして作製したディスプレイ用フィルターを実施例1と同様にしてアース性能を評価した。その結果、2辺の電極間に導通があり、アースがとれることを確認した。
(実施例4)
実施例1と同様にしてシート状積層体を作製し、空隙を破線状(詳細を以下に示す)にする以外は実施例2と同様にして幅0.8mmの空隙を形成し、空隙に導電性ペースト(藤倉化成(株)製の銀ペースト「ドータイト」(登録商標))を塗布して電極が形成された本発明のディスプレイ用フィルターを得た。
The display filter thus produced was evaluated for earth performance in the same manner as in Example 1. As a result, it was confirmed that there was electrical continuity between the electrodes on the two sides and that grounding was possible.
Example 4
A sheet-like laminate was prepared in the same manner as in Example 1, and a 0.8 mm wide gap was formed in the same manner as in Example 2 except that the gap was broken (details are shown below), and the gap was electrically conductive. The display filter of the present invention in which electrodes were formed by applying a conductive paste (silver paste “Dotite” (registered trademark) manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.) was obtained.

破線状の空隙;1個当たりの空隙部分の長さ2cm、空隙部分と空隙部分の間隔が1cm。積層体の長辺側の空隙部分は31個で、長辺の1辺当たりの空隙部分の合計長さ(A)は62cm、空隙部分と空隙部分の間隔の合計長さ(B)は30cm。積層体の短辺側の空隙部分は17個で、短辺の1辺当たりの空隙部分の合計長さ(A)は34cm、空隙部分と空隙部分の間隔の合計長さ(B)は16cm。   Dashed voids: the length of each void part is 2 cm, and the distance between the gap parts is 1 cm. There are 31 void portions on the long side of the laminate, the total length (A) of the void portions per long side is 62 cm, and the total length (B) of the gap between the void portions is 30 cm. There are 17 voids on the short side of the laminate, the total length (A) of the voids per side of the short side is 34 cm, and the total length (B) of the gap between the voids is 16 cm.

上記のようにして作製した本発明のディスプレイ用フィルターについて、実施例1と同様にしてアース性能を評価したところ、対抗する2辺の電極間に導通があり、アースがとれることを確認した。
(実施例5)
実施例1と同様にしてシート状積層体を作製し、実施例1と同様に積層体に空隙を形成した。但し、レーザーの走査回数は1回とした。空隙の幅は0.8mmであった。続いて、カバーフィルムを剥離除去し、空隙に導電性粘着テープを貼り付け、ヒートシーラーで加熱加圧して電極が形成された本発明のディスプレイ用フィルターを得た。
The display filter of the present invention produced as described above was evaluated for grounding performance in the same manner as in Example 1. As a result, it was confirmed that there was continuity between the opposing electrodes and grounding was achieved.
(Example 5)
A sheet-like laminate was produced in the same manner as in Example 1, and voids were formed in the laminate as in Example 1. However, the number of laser scans was one. The width of the gap was 0.8 mm. Subsequently, the cover film was peeled and removed, a conductive pressure-sensitive adhesive tape was affixed to the voids, and heated and pressurized with a heat sealer to obtain a display filter of the present invention in which electrodes were formed.

このようにして作製したディスプレイ用フィルターを実施例1と同様にしてアース性能を評価した。その結果、2辺の電極間に導通があり、アースがとれることを確認した。
(比較例1)
実施例1と同様にしてシート状積層体を作製した。カバーフィルムを剥離後、機能層の上からレーザーを照射して、端部から5mmの位置と10mmの位置に2本の切り込み線を入れた。この5mmの間隔で設けた2本の切り込み線に沿って機能層を物理的に剥離し、導電層を露出させることを試みたが、機能層のみを剥離することはできなかった。また、強引に機能層を剥離すると導電層も一緒に剥離し、導電層から電極を取り出すことができなかった。
(比較例2)
実施例1と同様にしてシート状積層体を得た。このシート状積層体の4辺にそれぞれ端部から10mm内側に、カッターナイフで直線状の切り込みを入れた。切り込みの長さは、長辺側で930mm、短辺側で520mmである。次に、この切り込みの上に実施例3と同様にして導電性ペーストを塗布した。実施例1と同様にしてアース性能を評価した。その結果、対向する2辺の電極間に導通はなく、アースをとることができなかった。
(実施例6)
実施例1と同様にして、PETフィルム上に導電性メッシュからなる導電層を形成した。更に、導電層上に下記組成のハードコート層用塗料をマイクログラビアコーターで塗工し、80℃で乾燥後、紫外線1.0J/cmを照射して、塗工層を硬化させ、設定厚みが約5μmのハードコート層を形成した。
<ハードコート層組成>
ウレタンアクリレートA(根上工業(株)製のUN−3220HA);2.75部
ウレタンアクリレートB(新中村化学(株))製のU4HA;2.75部
光重合開始剤(チバガイギー社製のイルガキュウアー184);0.3部
イソプロピルアルコール;1.25部
メチルエチルケトン;1.25部
<導電層と機能層との厚みの関係>
走査型電子顕微鏡による拡大断面写真で求めた、導電層の厚みは2.5μm、機能層の合計厚みは5.3μmで、導電性メッシュの細線部上の機能層の厚みは2.8μmであった。
The display filter thus produced was evaluated for earth performance in the same manner as in Example 1. As a result, it was confirmed that there was electrical continuity between the electrodes on the two sides and that grounding was possible.
(Comparative Example 1)
A sheet-like laminate was produced in the same manner as in Example 1. After peeling the cover film, laser was irradiated from above the functional layer, and two score lines were made at a position 5 mm and a position 10 mm from the end. Although the functional layer was physically peeled along the two cut lines provided at an interval of 5 mm to attempt to expose the conductive layer, only the functional layer could not be peeled off. Further, when the functional layer was forcibly peeled off, the conductive layer was peeled off together, and the electrode could not be taken out from the conductive layer.
(Comparative Example 2)
A sheet-like laminate was obtained in the same manner as Example 1. Straight cuts were made with a cutter knife on each of the four sides of the sheet-like laminate 10 mm inside from the end. The length of the cut is 930 mm on the long side and 520 mm on the short side. Next, a conductive paste was applied on the cut in the same manner as in Example 3. The ground performance was evaluated in the same manner as in Example 1. As a result, there was no conduction between the electrodes on the two opposing sides, and it was not possible to ground.
(Example 6)
In the same manner as in Example 1, a conductive layer made of a conductive mesh was formed on a PET film. Further, a coating for a hard coat layer having the following composition was applied on the conductive layer with a micro gravure coater, dried at 80 ° C., irradiated with ultraviolet light 1.0 J / cm 2 to cure the coating layer, and set thickness Formed a hard coat layer of about 5 μm.
<Hard coat layer composition>
Urethane acrylate A (UN-3220HA manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.); 2.75 parts Urethane acrylate B (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.) U4HA; 2.75 parts Photopolymerization initiator (Irgakyu manufactured by Ciba-Geigy Corporation) 184); 0.3 parts isopropyl alcohol; 1.25 parts methyl ethyl ketone; 1.25 parts <Relationship between thickness of conductive layer and functional layer>
The thickness of the conductive layer was 2.5 μm, the total thickness of the functional layer was 5.3 μm, and the thickness of the functional layer on the thin line portion of the conductive mesh was 2.8 μm, which was obtained from an enlarged cross-sectional photograph taken with a scanning electron microscope. It was.

次に、上記PETフィルムの導電層とは反対面に実施例1と同様にして近赤外線遮蔽層と接着層を積層して積層体を得た。
<積層体の構成>
接着層/近赤外線遮蔽層/PETフィルム/導電層/機能層(ハードコート層)。
Next, a near-infrared shielding layer and an adhesive layer were laminated on the surface opposite to the conductive layer of the PET film in the same manner as in Example 1 to obtain a laminate.
<Configuration of laminate>
Adhesive layer / near infrared shielding layer / PET film / conductive layer / functional layer (hard coat layer).

次に、上記積層体を実施例1と同様にしてシート状に切断してシート状積層体とし、このシート状積層体に実施例1と同様にレーザーを照射して(但し、操作回数は1回)、幅が0.8mmの空隙を4辺に形成した。実施例1と同様にしてアース性能を評価したところ、対向する2辺の電極間に導通があり、アースがとれることを確認した。
(実施例7)
実施例1と同様にして作製したロール状積層体を、長辺964mm、短辺554mmのシート状に切断して得られたシート状積層体を、プラズマディスプレイの前面板ガラス(日本電気硝子(株)製「PP−8」、厚み1.8mm)に、積層体の接着層を介して貼り付けた。続いて、積層体のカバーフィルムの上から実施例2と同様にして幅が0.8mmの空隙を形成し、更に空隙に導電性ペースト(藤倉化成(株)製の銀ペースト「ドータイト」(登録商標))を塗布して電極を形成した。
Next, the laminate is cut into a sheet shape in the same manner as in Example 1 to form a sheet-like laminate, and this sheet-like laminate is irradiated with laser in the same manner as in Example 1 (however, the number of operations is 1). Times), a gap having a width of 0.8 mm was formed on four sides. When the grounding performance was evaluated in the same manner as in Example 1, it was confirmed that there was electrical continuity between the electrodes on the two opposite sides, and that grounding could be taken.
(Example 7)
A sheet-like laminate obtained by cutting a roll-like laminate produced in the same manner as in Example 1 into a sheet having a long side of 964 mm and a short side of 554 mm is used as a front plate glass of a plasma display (Nippon Electric Glass Co., Ltd.). It was attached to “PP-8” (thickness: 1.8 mm) through an adhesive layer of the laminate. Subsequently, a gap having a width of 0.8 mm was formed on the cover film of the laminate in the same manner as in Example 2, and a conductive paste (a silver paste “Dotite” manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.) Trademark)) was applied to form an electrode.

次に、積層体からカバーフィルムを剥離後、実施例1で用いた簡易的筐体を積層体の4辺の端部に配置しクランプで前面板に固定した。前面板と簡易的筐体の距離が一定になるようにクランプの締め付けを調整した。次に、マルチ計測器(株)製の抵抗測定器「ポケットマルチメーター」を使用し、簡易的筐体のアルミ板に端針を当てて対向する2辺の電極間の導通を確認した。その結果、導通があり、アースがとれることを確認した。
(実施例8)
実施例6と同様にして作製したロール状積層体を、長辺964mm、短辺554mmのシート状に切断して得られたシート状積層体を、プラズマディスプレイの前面板ガラス(日本電気硝子(株)製「PP−8」、厚み1.8mm)に、積層体の接着層を介して貼り付けた。続いて、積層体のカバーフィルムの上から実施例2と同様にして幅が0.8mmの空隙を形成し、次いでカバーフィルムを剥離除去し、空隙に導電性粘着テープを貼り付け、ヒートシーラーで加熱加圧して電極が形成された本発明のディスプレイ用フィルターを得た。次に実施例1で用いた簡易的筐体を積層体の4辺の端部に配置しクランプで前面板に固定した。前面板と簡易的筐体の距離が一定になるようにクランプの締め付けを調整した。次に、マルチ計測器(株)製の抵抗測定器「ポケットマルチメーター」を使用し、簡易的筐体のアルミ板に端針を当てて対向する2辺の電極間の導通を確認した。その結果、導通があり、アースがとれることを確認した。
Next, after peeling the cover film from the laminate, the simple housing used in Example 1 was placed at the ends of the four sides of the laminate and fixed to the front plate with a clamp. The clamp tightening was adjusted so that the distance between the front plate and the simple housing was constant. Next, using a resistance measuring instrument “Pocket Multimeter” manufactured by Multi Instrument Co., Ltd., conduction between two opposing electrodes was confirmed by applying an end needle to the aluminum plate of the simple housing. As a result, it was confirmed that there was continuity and grounding was possible.
(Example 8)
A sheet-like laminate obtained by cutting a roll-like laminate produced in the same manner as in Example 6 into a sheet shape having a long side of 964 mm and a short side of 554 mm was used as a front plate glass of a plasma display (Nippon Electric Glass Co., Ltd.). It was attached to “PP-8” (thickness: 1.8 mm) through an adhesive layer of the laminate. Subsequently, a gap having a width of 0.8 mm was formed from above the cover film of the laminate in the same manner as in Example 2, and then the cover film was peeled and removed, and a conductive adhesive tape was attached to the gap, and a heat sealer was used. A display filter of the present invention in which electrodes were formed by heating and pressing was obtained. Next, the simple housing | casing used in Example 1 was arrange | positioned at the edge part of 4 sides of a laminated body, and was fixed to the front plate with the clamp. The clamp tightening was adjusted so that the distance between the front plate and the simple housing was constant. Next, using a resistance measuring instrument “Pocket Multimeter” manufactured by Multi Instrument Co., Ltd., conduction between two opposing electrodes was confirmed by applying an end needle to the aluminum plate of the simple housing. As a result, it was confirmed that there was continuity and grounding was possible.

本発明のディスプレイ用フィルターの一例の平面図。The top view of an example of the filter for displays of the present invention. 図1のA−Aの模式断面図。The schematic cross section of AA of FIG. 本発明のディスプレイ用フィルターの他の例の平面図。The top view of the other example of the filter for displays of this invention. 本発明のカバーフィルム付き積層体の空隙部分の模式断面図。The schematic cross section of the space | gap part of the laminated body with a cover film of this invention. 空隙に導電体を配置した態様の模式断面図。The schematic cross section of the aspect which has arrange | positioned the conductor in the space | gap.

符号の説明Explanation of symbols

1 空隙
2 機能層
3 導電層
4 プラスチックフィルム
5 近赤外線遮蔽層
6 接着層
7 カバーフィルム
8 導電性材料
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Cavity 2 Functional layer 3 Conductive layer 4 Plastic film 5 Near-infrared shielding layer 6 Adhesive layer 7 Cover film 8 Conductive material

Claims (17)

プラスチックフィルム上に導電性メッシュからなる導電層を有し、
前記導電性メッシュが、プラスチックフィルム上に接着層を介さずに、スパッタリング、イオンプレーティング及び真空蒸着のいずれかで形成された金属薄膜を、フォトリソグラフ法を利用してエッチングレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法で得られたものであり、
更に導電層上にプラスチックフィルム及び接着層を介さずに、反射防止機能、ハードコート機能、及び防眩機能から選ばれる少なくとも1つの機能を有する機能層が積層された積層体で構成され、
かつ積層体の周辺部の少なくとも一部に積層体の機能層側表面から機能層を貫通して導電層に達する空隙を有することを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
Having a conductive layer made of conductive mesh on a plastic film;
After the conductive mesh is a metal thin film formed by sputtering, ion plating or vacuum deposition on a plastic film without an adhesive layer, using an photolithography method to produce an etching resist pattern , Obtained by a method of etching a metal thin film,
Furthermore, it is composed of a laminate in which a functional layer having at least one function selected from an antireflection function, a hard coat function, and an antiglare function is laminated on the conductive layer without using a plastic film and an adhesive layer,
A display filter characterized by having a gap that penetrates the functional layer from the functional layer side surface of the multilayer body to reach the conductive layer in at least a part of the periphery of the multilayer body.
前記導電層の厚みが0.2〜6μmの範囲であることを特徴とする、請求項1に記載のディスプレイ用フィルター   The display filter according to claim 1, wherein the conductive layer has a thickness in a range of 0.2 to 6 μm. 前記機能層の合計の厚みが1〜20μmの範囲であることを特徴とする、請求項1または2に記載のディスプレイ用フィルター。   The display filter according to claim 1, wherein the total thickness of the functional layers is in the range of 1 to 20 μm. 前記空隙が、破線状もしくは連続直線状であって、かつ幅が0.3〜3mmの溝状空隙であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。   The display filter according to any one of claims 1 to 3, wherein the gap is a broken-line or continuous straight line and a groove-like gap having a width of 0.3 to 3 mm. 前記空隙に導電性材料が配置されたことを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載のディスプレイ用フィルター。   The display filter according to claim 1, wherein a conductive material is disposed in the gap. 前記空隙を覆うように導電性粘着テープが貼り付けられたことを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載のディスプレイ用フィルター。   The display-use filter according to claim 1, wherein a conductive adhesive tape is attached so as to cover the gap. 更に、近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、及び透過率調整機能の中から選ばれる少なくとも1つの機能を有する、請求項1〜6のいずれか1項に記載のディスプレイ用フィルター。   The display filter according to claim 1, further comprising at least one function selected from a near-infrared shielding function, a color tone adjustment function, and a transmittance adjustment function. ディスプレイ用フィルターの製造方法であって、
プラスチックフィルム上に、接着層を介さずに、スパッタリング、イオンプレーティング及び真空蒸着のいずれかで形成された金属薄膜を、フォトリソグラフ法を利用してエッチングレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法で得られた、導電性メッシュからなる導電層を形成する工程、
次いで導電層上にプラスチックフィルム及び接着層を介さずに、反射防止機能、ハードコート機能、及び防眩機能から選ばれる少なくとも1つの機能を有する機能層を塗工して積層体を得る工程、
次いで積層体の周辺部の少なくとも一部にレーザーを照射して、積層体表面から機能層を貫通して導電層に達する空隙を形成する工程、
を少なくとも有する、ディスプレイ用フィルターの製造方法。
A method for manufacturing a display filter,
A metal thin film formed by sputtering, ion plating, or vacuum deposition on a plastic film without using an adhesive layer is used to create an etching resist pattern using a photolithographic method, and then the metal thin film is etched. A step of forming a conductive layer made of a conductive mesh obtained by the method of,
Next, a process of obtaining a laminate by applying a functional layer having at least one function selected from an antireflection function, a hard coat function, and an antiglare function on the conductive layer without using a plastic film and an adhesive layer,
Next, the step of irradiating at least a part of the peripheral part of the multilayer body with a laser to form a void reaching the conductive layer from the surface of the multilayer body through the functional layer,
A method for producing a display filter, comprising:
前記積層体を得る工程の中に、更に機能層側の表面にカバーフィルムを積層する工程を有し、
前記空隙を形成する工程がカバーフィルム表面からレーザーを照射して導電層に達する空隙を形成する工程である、
請求項8に記載のディスプレイ用フィルターの製造方法。
In the step of obtaining the laminate, further comprising the step of laminating a cover film on the surface of the functional layer side,
The step of forming the void is a step of forming a void reaching the conductive layer by irradiating a laser from the cover film surface.
The manufacturing method of the filter for displays of Claim 8.
前記空隙を形成する工程に次いで、更に、空隙に導電性材料を配置する工程を有する、請求項8または9に記載のディスプレイ用フィルターの製造方法。   The method for manufacturing a display filter according to claim 8 or 9, further comprising a step of arranging a conductive material in the gap after the step of forming the gap. ディスプレイの製造方法であって、
プラスチックフィルム上に、接着層を介さずに、スパッタリング、イオンプレーティング及び真空蒸着のいずれかで形成された金属薄膜を、フォトリソグラフ法を利用してエッチングレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法で得られた、導電性メッシュからなる導電層を有し、
更に導電層上にプラスチックフィルム及び接着層を介さずに、反射防止機能、ハードコート機能、及び防眩機能から選ばれる少なくとも1つの機能を有する機能層が積層された積層体を、
機能層の反対面がディスプレイ側になるようにディスプレイに装着した後、積層体の周辺部の少なくとも一部にレーザーを照射して積層体表面から機能層を貫通して導電層に達する空隙を形成する、ディスプレイの製造方法。
A display manufacturing method comprising:
A metal thin film formed by sputtering, ion plating, or vacuum deposition on a plastic film without using an adhesive layer is used to create an etching resist pattern using a photolithographic method, and then the metal thin film is etched. Having a conductive layer made of a conductive mesh obtained by the method of
Further, a laminate in which a functional layer having at least one function selected from an antireflection function, a hard coat function, and an antiglare function is laminated on the conductive layer without using a plastic film and an adhesive layer,
After mounting on the display so that the opposite side of the functional layer is on the display side, at least part of the periphery of the laminate is irradiated with laser to form a gap that penetrates the functional layer from the laminate surface to reach the conductive layer A display manufacturing method.
前記機能層の上に更にカバーフィルムを有するカバーフィルム付き積層体をディスプレイに装着した後、
積層体の周辺部の少なくとも一部にレーザーを照射してカバーフィルム表面から機能層を貫通して導電層に達する空隙を形成し、
カバーフィルムを剥離除去する、請求項11に記載のディスプレイの製造方法。
After mounting a laminate with a cover film further having a cover film on the functional layer,
By irradiating at least a part of the periphery of the laminate with a laser to form a void that reaches the conductive layer through the functional layer from the cover film surface,
The manufacturing method of the display of Claim 11 which peels and removes a cover film.
前記空隙を形成した後に、更に、空隙に導電性材料を配置する、請求項11または12に記載のディスプレイ用フィルターの製造方法。   The method for manufacturing a display filter according to claim 11 or 12, further comprising disposing a conductive material in the gap after forming the gap. 前記空隙を覆うように導電性粘着テープを貼り付ける、請求項12に記載のディスプレイの製造方法。   The manufacturing method of the display of Claim 12 which affixes a conductive adhesive tape so that the said space | gap may be covered. カバーフィルムを剥離除去した後、空隙を覆うように導電性粘着テープを貼り付ける、請求項13に記載のディスプレイの製造方法。   The method for manufacturing a display according to claim 13, wherein after the cover film is peeled and removed, a conductive adhesive tape is attached so as to cover the gap. ディスプレイの製造方法であって、
プラスチックフィルム上に、接着層を介さずに、スパッタリング、イオンプレーティング及び真空蒸着のいずれかで形成された金属薄膜を、フォトリソグラフ法を利用してエッチングレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法で得られた、導電性メッシュからなる導電層を形成する工程、
次いで導電層上にプラスチックフィルム及び接着層を介さずに、反射防止機能、ハードコート機能、及び防眩機能から選ばれる少なくとも1つの機能を有する機能層を塗工して積層体を得る工程、
積層体の周辺部の少なくとも一部にレーザーを照射して、積層体表面から機能層を貫通して導電層に達する空隙を形成する工程、
を経て得られたディスプレイ用フィルターを、機能層の反対面がディスプレイ側になるようにディスプレイに装着した後、ディスプレイ用フィルターに形成された空隙を覆うように導電性粘着テープを貼り付ける、ディスプレイの製造方法。
の製造方法。
A display manufacturing method comprising:
A metal thin film formed by sputtering, ion plating, or vacuum deposition on a plastic film without using an adhesive layer is used to create an etching resist pattern using a photolithographic method, and then the metal thin film is etched. A step of forming a conductive layer made of a conductive mesh obtained by the method of,
Next, a process of obtaining a laminate by applying a functional layer having at least one function selected from an antireflection function, a hard coat function, and an antiglare function on the conductive layer without using a plastic film and an adhesive layer,
Irradiating at least a part of the periphery of the laminate with a laser to form a gap that reaches the conductive layer from the laminate surface through the functional layer;
After attaching the display filter obtained through the above process to the display so that the opposite side of the functional layer is on the display side, a conductive adhesive tape is applied to cover the gap formed in the display filter. Production method.
Manufacturing method.
前記積層体を得る工程の中に、更に機能層側の表面にカバーフィルムを積層する工程を有し、
前記空隙を形成する工程がカバーフィルム表面からレーザーを照射して導電層に達する空隙を形成する工程であり、
ディスプレイ用フィルターをディスプレイに装着した後、カバーフィルムを剥離除去し、次いでディスプレイ用フィルターに形成された空隙を覆うように導電性粘着テープを貼り付ける、請求項16に記載のディスプレイの製造方法。
In the step of obtaining the laminate, further comprising the step of laminating a cover film on the surface of the functional layer side,
The step of forming the void is a step of forming a void reaching the conductive layer by irradiating a laser from the cover film surface,
The display manufacturing method according to claim 16, wherein after the display filter is attached to the display, the cover film is peeled and removed, and then a conductive adhesive tape is attached so as to cover the void formed in the display filter.
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