JP2010204332A - Filter for display and manufacturing method thereof - Google Patents

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JP2010204332A JP2009048903A JP2009048903A JP2010204332A JP 2010204332 A JP2010204332 A JP 2010204332A JP 2009048903 A JP2009048903 A JP 2009048903A JP 2009048903 A JP2009048903 A JP 2009048903A JP 2010204332 A JP2010204332 A JP 2010204332A
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Toru Matsumoto
徹 松本
Shotaro Tanaka
正太郎 田中
Takayoshi Kirimoto
高代志 桐本
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a filter for display which enables a considerable cost reduction with respect to productivity and raw materials and has a stable electrode, and to provide a manufacturing method thereof. <P>SOLUTION: The filter for display is characterized in that it is mounted in an image display panel for display and has at least a base member, a conductive layer, and a functional surface layer in this order and has a space which reaches the conductive layer from the functional surface layer and has a width of <2 mm, in at least a part of a region corresponding to a non-image display region of the image display panel, and one of conductive members of (A), (B) and (C) is stuck to the space through the conductive adhesive layer of the conductive member. A conductive member (A) having a conductive adhesive layer laminated on cloth made of conductive fibers, a conductive member (B) having a conductive adhesive layer laminated on a conductive plastic film having metal plated on both surfaces of a plastic film having a plurality of through-holes, or a conductive member (C) having a conductive adhesive layer laminated on a release film. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、ディスプレイ用画像表示パネルに装着するためのディスプレイ用フィルター及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a display filter for mounting on a display image display panel and a method for manufacturing the same.

有機ELディスプレイ、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイなどのディスプレイは、明瞭なフルカラー表示が可能な表示装置である。ディスプレイには、通常、外光の反射の防止、ディスプレイから発生する電磁波の遮蔽、ディスプレイの保護などを目的とした前面フィルター(ディスプレイ用フィルター)がディスプレイの視認側に配置されている。   A display such as an organic EL display, a liquid crystal display, or a plasma display is a display device capable of clear full color display. The display is usually provided with a front filter (display filter) on the viewing side of the display for the purpose of preventing reflection of external light, shielding electromagnetic waves generated from the display, and protecting the display.

特にプラズマディスプレイはその構造や動作原理上、強度な電磁波が発生するために、電磁波を遮蔽する機能と、外光の反射やギラツキを防止するための、反射防止機能や防眩機能が付与されたディスプレイ用フィルターが通常用いられている。上記の反射防止機能や防眩機能は、通常、視認側(観賞側)の最表面になるように配置されている。以降、反射防止機能や防眩機能を有する層を機能性表面層と言う。   In particular, because plasma displays generate strong electromagnetic waves due to their structure and operating principle, they have been given anti-reflection and anti-glare functions to shield electromagnetic waves and prevent reflection and glare from outside light. Display filters are usually used. The antireflection function and the antiglare function are usually arranged so as to be the outermost surface on the viewing side (viewing side). Hereinafter, a layer having an antireflection function or an antiglare function is referred to as a functional surface layer.

ディスプレイ用フィルターが貼り付けられた画像表示パネルは、通常、以下のようにしてプラズマディスプレイ装置に組み込まれる。即ち、駆動回路ブロックを配置した金属製のシャーシ部材の前面に、上記画像表示パネルが保持されてパネルモジュールが形成され、更にパネルモジュールを収納するように、前面カバー及びバックカバーからなる筐体が組み立てられてプラズマディスプレイ装置が完成する。   An image display panel to which a display filter is attached is usually incorporated into a plasma display device as follows. That is, a panel module is formed by holding the image display panel on the front surface of a metal chassis member on which the drive circuit block is disposed, and a housing made of a front cover and a back cover is provided so as to accommodate the panel module. The plasma display device is completed by assembling.

通常、ディスプレイ用フィルターは、画像表示パネルの画像表示領域とその周辺部の非画像表示領域を覆うように貼り付けられるが、電磁波遮蔽層(導電層)を有するディスプレイ用フィルターを画像表示パネルに装着する場合、非画像表示領域において、ディスプレイ用フィルターの導電層と筐体の外部電極とを電気的に接続し、ディスプレイ用フィルターの導電層にアースを取ることが行われる。   Normally, the display filter is pasted so as to cover the image display area of the image display panel and the non-image display area around it, but the display filter having an electromagnetic wave shielding layer (conductive layer) is attached to the image display panel. In this case, in the non-image display region, the conductive layer of the display filter and the external electrode of the housing are electrically connected, and the conductive layer of the display filter is grounded.

上記のディスプレイ用フィルターの導電層と筐体の外部電極とを電気的に接続するために、ディスプレイ用フィルターの外周端縁部(非画像表示領域に対応する部分)に導電層に接続された電極を形成することが行われている。かかる電極の形成方法として、導電層上に積層される機能性フィルム(プラスチックフィルム上に機能性表面層を積層したフィルム)のサイズを導電層のサイズより小さくして、外周端縁部に機能性フィルムが被覆されない部分を設けて、外周端縁部の導電層を部分的に露出させることが、従来から行われている。   In order to electrically connect the conductive layer of the display filter and the external electrode of the housing, an electrode connected to the conductive layer at the outer peripheral edge (the portion corresponding to the non-image display area) of the display filter Has been made to form. As a method for forming such an electrode, the size of the functional film laminated on the conductive layer (the film obtained by laminating the functional surface layer on the plastic film) is made smaller than the size of the conductive layer, and the functionality is provided on the outer peripheral edge. Conventionally, a portion not covered with a film is provided to partially expose the conductive layer at the outer peripheral edge.

そして、ディスプレイ用フィルター側に設けられた電極は、ガスケット等を介して筐体の外部電極と接続される。   The electrode provided on the display filter side is connected to the external electrode of the housing through a gasket or the like.

上記した、従来から一般的に行われている電極の形成方法について、具体的に説明する。従来から一般的に知られているディスプレイ用フィルターは、機能性表面層を有する機能性フィルムと、プラスチックフィルム上に導電層が設けられた電磁波遮蔽フィルムとを粘着剤等を介して積層して形成されている。上記の機能性フィルムと電磁波遮蔽フィルムとの積層に際し、電磁波遮蔽フィルムの外周端縁部において導電層が剥き出し状態になるように、電磁波遮蔽フィルムより小さいサイズの機能性フィルムを貼り合わせることによって、ディスプレイ用フィルターの外周端縁部に導電層が剥き出し状態の電極(剥き出し電極)が形成される。   The above-described conventional electrode forming method will be specifically described. Conventionally known display filters are formed by laminating a functional film having a functional surface layer and an electromagnetic wave shielding film having a conductive layer on a plastic film via an adhesive or the like. Has been. When laminating the functional film and the electromagnetic wave shielding film, a functional film having a size smaller than the electromagnetic wave shielding film is bonded so that the conductive layer is exposed at the outer edge of the electromagnetic wave shielding film. An electrode having a conductive layer exposed (exposed electrode) is formed on the outer peripheral edge of the filter for use.

上記した剥き出し電極を、ディスプレイ用フィルターの外周端縁部の4辺に設けるためには、電磁波遮蔽フィルムと機能性フィルムとをシート同士で積層する必要がある。しかしながら、この積層方式は生産性に劣るという欠点がある。   In order to provide the above-described bare electrodes on the four sides of the outer peripheral edge of the display filter, it is necessary to laminate an electromagnetic wave shielding film and a functional film between sheets. However, this lamination method has a disadvantage that it is inferior in productivity.

これに対して、ロール状の電磁波遮蔽フィルムとロール状の光学機能性フィルムとを連続的に積層する方式(ロール積層方式)、あるいは、ロール状の電磁波遮蔽フィルムの導電層上に直接に機能性表面層を連続的にコーティングする方式は、生産性を大きく向上させることができる。特に、後者の電層上に直接に機能性表面層を連続的にコーティングする方式は、プラスチックフィルムからなる基材数の低減が可能であり、ディスプレイ用フィルターの低価格化に有利である。   On the other hand, a method of continuously laminating a roll-shaped electromagnetic shielding film and a roll-shaped optical functional film (roll lamination method), or functionality directly on the conductive layer of the roll-shaped electromagnetic shielding film The method of continuously coating the surface layer can greatly improve productivity. In particular, the latter method in which the functional surface layer is continuously coated directly on the electric layer can reduce the number of base materials made of a plastic film, and is advantageous in reducing the cost of a display filter.

しかしながら、上記したコーティング方式は、生産ラインの搬送方向に平行な両端部には導電層の剥き出し電極を形成することは可能であるが、生産ラインの搬送方向に対して直交する方向には、剥き出し電極を形成することはできない。   However, although the coating method described above can form the exposed electrode of the conductive layer at both ends parallel to the transport direction of the production line, it is exposed in the direction perpendicular to the transport direction of the production line. An electrode cannot be formed.

そこで、剥き出し電極の形成に代えて、機能性表面層にレーザーを照射し、機能性表面層を除去して、導電層を露出する方法が知られている(例えば、特許文献1、2)。   Therefore, instead of forming the bare electrode, a method is known in which the functional surface layer is irradiated with a laser, the functional surface layer is removed, and the conductive layer is exposed (for example, Patent Documents 1 and 2).

上記特許文献1、2には、レーザーを照射することによって機能性表面層に細長い溝状の空隙を形成し、該空隙に導電性粘着テープを貼り付けることが記載されている。   Patent Documents 1 and 2 describe that an elongated groove-like void is formed in a functional surface layer by irradiating a laser, and a conductive adhesive tape is attached to the void.

特開2007−243158号公報JP 2007-243158 A WO2008/029709号公報WO2008 / 029709

上記特許文献1、2に記載されているように、レーザーによって空隙を形成する場合、空隙の幅が大きい方が導電層と導通を取るという点では有利であるが、空隙の幅を大きくするには、レーザー走査を数回繰り返す必要があり、生産性の観点から不利となる。   As described in Patent Documents 1 and 2, when a gap is formed by a laser, a larger gap width is advantageous in that it is electrically connected to the conductive layer, but the gap width is increased. However, it is necessary to repeat the laser scanning several times, which is disadvantageous from the viewpoint of productivity.

特に、空隙の幅を2mm未満とした場合、特許文献1、2に記載されている導電性粘着テープ、即ち金属箔に導電性粘着剤層を積層した導電性粘着テープでは、単に貼り付けただけでは安定して電極を形成することができなかった。特に、時間経過とともに導電層と導電性粘着テープとの導通性が低下した。   In particular, when the width of the gap is less than 2 mm, the conductive adhesive tape described in Patent Documents 1 and 2, that is, the conductive adhesive tape in which the conductive adhesive layer is laminated on the metal foil, is simply pasted. Then, the electrode could not be formed stably. In particular, the electrical conductivity between the conductive layer and the conductive adhesive tape decreased with time.

そこで、本発明は、上記した従来技術に鑑み、生産性及び原材料の点で大幅にコストダウンが図られ、かつ安定的な電極を有するディスプレイ用フィルター及びその製造方法を提供することにある。   Therefore, in view of the above-described conventional technology, the present invention is to provide a display filter having a stable electrode and a method for manufacturing the same, which is greatly reduced in terms of productivity and raw materials.

本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。
1) ディスプレイ用画像表示パネルに装着するためのディスプレイ用フィルターであって、
該ディスプレイ用フィルターは、少なくとも、基材、導電層、及び機能性表面層をこの順に有し、
画像表示パネルの非画像表示領域に対応する部分の少なくとも一部に、前記機能性表面層から導電層に達し、かつ幅が2mm未満である空隙を有し、
該空隙に下記イ)、ロ)、ハ)の中のいずれかの導電性部材が、該導電性部材の導電性粘着剤層を介して貼着されていることを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
The above object of the present invention has been basically achieved by the following invention.
1) A display filter for mounting on a display image display panel,
The display filter has at least a substrate, a conductive layer, and a functional surface layer in this order,
At least part of the portion corresponding to the non-image display area of the image display panel has a gap that reaches the conductive layer from the functional surface layer and has a width of less than 2 mm,
A display filter, wherein the conductive member in any one of the following a), b), and c) is adhered to the gap through a conductive adhesive layer of the conductive member: .

イ)導電性繊維からなる布帛に導電性粘着剤層が積層された導電性部材。   B) A conductive member in which a conductive pressure-sensitive adhesive layer is laminated on a cloth made of conductive fibers.

ロ)複数の貫通孔を有するプラスチックフィルムの両面に金属鍍金が施された導電性プラスチックフィルムに導電性粘着剤層が積層された導電性部材。   B) A conductive member in which a conductive pressure-sensitive adhesive layer is laminated on a conductive plastic film having a metal plating on both sides of a plastic film having a plurality of through holes.

ハ)離型フィルムに導電性粘着剤層が積層された導電性部材。
2) 前記空隙が、ディスプレイ用フィルターの4辺の内の少なくとも対向する2辺に対して、それぞれ平行かつ直線状に設けられたものである、前記1)に記載のディスプレイ用フィルター。
3) 前記導電性部材は、空隙の全域を被覆するように貼着されたものである、前記1)または2)に記載のディスプレイ用フィルター。
4) 前記機能性表面層は、反射防止機能、防眩機能、ハードコート機能、及び防汚機能の中から選ばれる少なくとも1つの機能を有する機能層であり、かつ導電層上に直接に積層されたものである、前記1)〜3)のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
5) ディスプレイ用画像表示パネルに装着するためのディスプレイ用フィルターの製造方法であって、
少なくとも、基材、導電層、及び機能性表面層をこの順に有する積層体を得る工程(A)、
積層体の、画像表示パネルの非画像表示領域に対応する部分の少なくとも一部に、機能性表面層側からレーザーを照射して、機能性表面層から導電層に達し、かつ幅が2mm未満である空隙を形成する工程(B)、
前記空隙に、下記イ)、ロ)、ハ)の中のいずれかの導電性部材を、該導電性部材の導電性粘着剤層を介して貼着する工程(C)を少なくとも有することを特徴とする、ディスプレイ用フィルターの製造方法。
C) A conductive member having a conductive adhesive layer laminated on a release film.
2) The display filter according to 1), wherein the gap is provided in parallel and linearly with respect to at least two opposing sides of the four sides of the display filter.
3) The display filter according to 1) or 2), wherein the conductive member is attached so as to cover the entire space.
4) The functional surface layer is a functional layer having at least one function selected from an antireflection function, an antiglare function, a hard coat function, and an antifouling function, and is laminated directly on the conductive layer. The display filter according to any one of 1) to 3) above.
5) A method for producing a display filter for mounting on a display image display panel,
Step (A) of obtaining a laminate having at least a base material, a conductive layer, and a functional surface layer in this order,
At least a part of the laminated body corresponding to the non-image display area of the image display panel is irradiated with laser from the functional surface layer side, reaches the conductive layer from the functional surface layer, and has a width of less than 2 mm. A step (B) of forming a void;
It has at least a step (C) of adhering any of the conductive members in the following a), b) and c) through the conductive adhesive layer of the conductive member to the gap. A method for manufacturing a filter for display.

イ)導電性繊維からなる布帛に導電性粘着剤層が積層された導電性部材。   B) A conductive member in which a conductive pressure-sensitive adhesive layer is laminated on a cloth made of conductive fibers.

ロ)複数の貫通孔を有するプラスチックフィルムの両面に金属鍍金が施された導電性プラスチックフィルムに導電性粘着剤層が積層された導電性部材。   B) A conductive member in which a conductive pressure-sensitive adhesive layer is laminated on a conductive plastic film having a metal plating on both sides of a plastic film having a plurality of through holes.

ハ)離型フィルムに導電性粘着剤層が積層された導電性部材。
6) 前記積層体を得る工程(A)が、機能性表面層の上に更にカバーフィルムを積層する工程を含み、
前記空隙を形成する工程(B)が、カバーフィルムの表面からレーザーを照射してカバーフィルム表面から導電層に達し、かつ幅が2mm未満である空隙を形成する工程であり、
前記貼着する工程(C)が、少なくとも導電性部材の貼着領域に対応する部分のカバーフィルムを剥離した後、空隙に導電性部材を貼着する工程である、前記5)に記載のディスプレイ用フィルターの製造方法。
C) A conductive member having a conductive adhesive layer laminated on a release film.
6) The step (A) of obtaining the laminate includes a step of further laminating a cover film on the functional surface layer,
The step of forming the void (B) is a step of irradiating a laser from the surface of the cover film to reach the conductive layer from the cover film surface and forming a void having a width of less than 2 mm,
The display according to 5), wherein the step (C) of attaching is a step of attaching the conductive member to the gap after peeling the cover film corresponding to the attachment region of the conductive member. Method for manufacturing filters.

本発明によれば、導電層上に機能性表面層を直接に積層されたディスプレイ用フィルターに、容易にかつ安定的に電極を形成することができ、これによって大幅なコストダウンが図られる。   According to the present invention, it is possible to easily and stably form an electrode on a display filter in which a functional surface layer is directly laminated on a conductive layer, thereby greatly reducing the cost.

本発明のディスプレイ用フィルターの一例の平面図。The top view of an example of the filter for displays of the present invention. 図2a:図1のA−Aの模式断面図、図2b:空隙部分の拡大模式断面図(図2aで示された一方の空隙部分周辺の拡大図)。2a: A schematic cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 1, FIG. 2b: An enlarged schematic cross-sectional view of the gap portion (an enlarged view around one gap portion shown in FIG. 2a). 本発明のディスプレイ用フィルターの他の例の平面図。The top view of the other example of the filter for displays of this invention. 本発明のディスプレイ用フィルターを得るための積層体の製造工程の一例の模式平面図。The schematic plan view of an example of the manufacturing process of the laminated body for obtaining the filter for displays of this invention. 本発明の空隙に導電性部材が貼着された状態の模式断面図。The schematic cross section of the state by which the electroconductive member was stuck in the space | gap of this invention. 本発明のディスプレイ用フィルターが適用されるプラズマディスプレイの一例(主要構成部分の模式断面図)。1 is an example of a plasma display to which a display filter of the present invention is applied (schematic cross-sectional view of main components). 本発明のディスプレイ用フィルターが適用されるプラズマディスプレイの他の例(主要構成部分の模式断面図)。The other example of the plasma display to which the display filter of the present invention is applied (schematic cross-sectional view of main components).

本発明のディスプレイ用フィルターは、ディスプレイ用画像表示パネルに装着するためのディスプレイ用フィルターであって、少なくとも基材、導電層、及び機能性表面層をこの順に有する。そして、画像表示パネルの非画像表示領域に対応する部分の少なくとも一部に、機能性表面層から導電層に達し、かつ幅が2mm未満である空隙を有し、該空隙に下記のイ)、ロ)、ハ)の中のいずれかの導電性部材が、該導電性部材の導電性粘着剤層を介して貼着されている。   The display filter of the present invention is a display filter for mounting on a display image display panel, and has at least a base material, a conductive layer, and a functional surface layer in this order. And at least a part of the part corresponding to the non-image display area of the image display panel has a gap that reaches the conductive layer from the functional surface layer and has a width of less than 2 mm, and the gap includes the following a) Either one of the conductive members in (b) and (c) is attached via the conductive adhesive layer of the conductive member.

空隙は機能性表面層から導電層に達しており、空隙内では導電層が露出している。この空隙に本発明の特定の導電性部材を貼着することによって、導電層と導電性部材の導電性粘着剤層が接触して、ディスプレイ用フィルターの機能性表面層の表面に、導電層に導通した電極を形成することができる。   The gap reaches the conductive layer from the functional surface layer, and the conductive layer is exposed in the gap. By sticking the specific conductive member of the present invention to this gap, the conductive layer and the conductive adhesive layer of the conductive member are in contact with each other, and the conductive layer is attached to the surface of the functional surface layer of the display filter. A conducting electrode can be formed.

本発明は、幅が2mm未満という狭幅の空隙であっても、本発明の特定の導電性部材を用いることによって、容易にかつ安定的に電極を形成することができる。一方、ディスプレイ用フィルターの電極の形成に、従来から知られている導電性テープ、即ち、銅やアルミニウム等の金属箔に導電性粘着剤層を積層した導電性テープを使用した場合、金属箔の高い剛性によって、単に導電性テープを空隙に貼着するだけでは、安定して電極を形成することができない。   In the present invention, an electrode can be formed easily and stably by using the specific conductive member of the present invention even in a narrow gap having a width of less than 2 mm. On the other hand, when using a conductive tape known in the past, that is, a conductive tape in which a conductive pressure-sensitive adhesive layer is laminated on a metal foil such as copper or aluminum, for the formation of an electrode for a display filter, Due to the high rigidity, the electrodes cannot be stably formed simply by sticking the conductive tape to the gap.

そこで、本発明は、導電性部材の基材の剛性に着目し、柔軟性の高い基材を用いることによって、幅が2mm未満という狭幅の空隙に対して、導電性部材の導電性粘着剤層を埋設できることを見いだした。
(導電性部材)
以下に、本発明にかかる、イ)、ロ)、及びハ)の導電性部材を詳細に説明する。
Therefore, the present invention pays attention to the rigidity of the base material of the conductive member, and by using a highly flexible base material, the conductive adhesive of the conductive member against a narrow gap having a width of less than 2 mm. I found that the layer can be buried.
(Conductive member)
Below, the electroconductive member of a), b), and c) concerning this invention is demonstrated in detail.

イ)の導電性部材は、導電性繊維からなる布帛に導電性粘着剤が積層された導電性部材である。かかる導電性繊維からなる布帛に用いられる導電性繊維は、特に限定されず、公知とものが使用できる。   The conductive member (a) is a conductive member in which a conductive adhesive is laminated on a cloth made of conductive fibers. The conductive fiber used for the fabric made of such conductive fiber is not particularly limited, and any known one can be used.

かかる導電性繊維としては、例えば、綿やレーヨンなどの天然繊維、ポリアミド、ポリエステル、アクリル、テトロンなど合成繊維で成形された糸に、銅、ニッケル、アルミニウム、金、銀等の導電性金属をメッキ法や蒸着法等により、単層あるいは2層以上に被覆することによって得ることができる。また、他の製造例として、上記の天然繊維や合成繊維に上記の導電性金属の粒子や繊維を混合して導電性繊維を得ることができる。   As such conductive fibers, for example, conductive fibers such as copper, nickel, aluminum, gold and silver are plated on natural fibers such as cotton and rayon, and yarns formed of synthetic fibers such as polyamide, polyester, acrylic and tetron. It can be obtained by coating a single layer or two or more layers by a method or a vapor deposition method. As another production example, conductive fibers can be obtained by mixing the above-described natural fibers and synthetic fibers with the conductive metal particles and fibers.

導電性繊維からなる布帛の厚みは、布帛の加工性や取り扱い性、及び強度の観点から5μm以上が好ましく、10μm以上がより好ましく、特に15μm以上が好ましい。また、布帛の厚みが大きくなりすぎると、布帛の柔軟性が低下して、ディスプレイ用フィルターに形成された幅が2mm未満の空隙に対して導電層と導通が取れなくなる場合があるので、布帛の厚みの上限は80μm未満が好ましく、70nm未満がより好ましく、特に60μm未満が好ましい。   The thickness of the fabric made of conductive fibers is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, and particularly preferably 15 μm or more from the viewpoints of workability, handleability and strength of the fabric. In addition, if the thickness of the fabric becomes too large, the flexibility of the fabric is reduced, and the conductive layer may not be connected to the gap formed in the display filter with a width of less than 2 mm. The upper limit of the thickness is preferably less than 80 μm, more preferably less than 70 nm, and particularly preferably less than 60 μm.

導電性繊維からなる布帛の片面には、導電性粘着剤層が積層されるが、該導電性粘着剤層に用いられる導電性粘着剤は、特に限定されず公知のものを使用することができる。例えば、粘着剤に導電性粒子が分散されたものが挙げられる。かかる導電性粒子としては、ニッケル、銀、銅、錫、アルミニウム、カーボン等の粒子が挙げられる。粘着剤としては、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、エポキシ系粘着剤、フェノール系樹脂に硬化剤を配合した粘着剤、あるいは、架橋型導電粘着剤が挙げられる。架橋型粘着剤としては、エチレン−酢酸ビニル系共重合体を主成分とするポリマーとその架橋剤とを含む後架橋型接着剤が挙げられる。
導電性粘着剤層における導電性粒子の含有量は、粘着剤100質量部に対して30〜300質量部程度が適当であり、50〜200質量部が好ましい。
導電性粘着剤層の厚みは、ディスプレイ用フィルターに形成された幅が2mm未満の空隙を十分に埋めるという観点から、5μm以上が好ましく、10μm以上がより好ましく、特に15μm以上が好ましい。導電性粘着剤層の厚みの上限は、ディスプレイ用フィルター表面において導電性部材による段差を軽減するという観点から80μm未満が好ましく、60μm未満がより好ましく、特に50μm未満が好ましい。
ロ)の導電性部材は、貫通孔を有するプラスチックフィルムの両面に金属鍍金が施された導電性プラスチックフィルムに導電性粘着剤層が積層された導電性部材である。
A conductive pressure-sensitive adhesive layer is laminated on one side of a fabric made of conductive fibers. The conductive pressure-sensitive adhesive used for the conductive pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, and known ones can be used. . For example, the thing in which electroconductive particle was disperse | distributed to the adhesive is mentioned. Examples of such conductive particles include particles of nickel, silver, copper, tin, aluminum, carbon, and the like. Adhesives include acrylic adhesives, rubber adhesives, silicone adhesives, urethane adhesives, epoxy adhesives, phenolic resins with curing agents, or cross-linked conductive adhesives. Can be mentioned. Examples of the crosslinkable pressure-sensitive adhesive include a postcrosslinkable adhesive containing a polymer mainly composed of an ethylene-vinyl acetate copolymer and the crosslinker.
About 30-300 mass parts is suitable with respect to 100 mass parts of adhesives for content of the electroconductive particle in a conductive adhesive layer, and 50-200 mass parts is preferable.
The thickness of the conductive pressure-sensitive adhesive layer is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, and particularly preferably 15 μm or more from the viewpoint of sufficiently filling the gap formed in the display filter with a width of less than 2 mm. The upper limit of the thickness of the conductive pressure-sensitive adhesive layer is preferably less than 80 μm, more preferably less than 60 μm, and particularly preferably less than 50 μm from the viewpoint of reducing the level difference due to the conductive member on the display filter surface.
The conductive member (b) is a conductive member in which a conductive pressure-sensitive adhesive layer is laminated on a conductive plastic film having metal plating on both sides of a plastic film having a through hole.

かかるプラスチックフィルムとしては、特に限定されず公知のものが使用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブチレンフィルム等のポリオレフィンフィルム、ポリアセチルセルロースフィルム、ポリアクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、エポキシ系フィルム、ポリウレタンフィルム、ナイロンフィルム等が挙げられる。   Such a plastic film is not particularly limited, and a known film can be used. Examples thereof include polyester films such as polyethylene terephthalate, polyolefin films such as polyethylene films, polypropylene films, and polybutylene films, polyacetylcellulose films, polyacrylic films, polycarbonate films, epoxy films, polyurethane films, and nylon films.

プラスチックフィルムの厚みは、強度の観点から5μm以上が好ましく、10μm以上がより好ましく、特に15μm以上が好ましい。また、プラスチックフィルムの厚みが大きくなりすぎると、柔軟性が低下して、ディスプレイ用フィルターに形成された幅が2mm未満の空隙に対して導電層と導通が取れなくなる場合があるので、プラスチックフィルムの厚みの上限は80μm未満が好ましく、60nm未満がより好ましく、特に50μm未満が好ましい。   The thickness of the plastic film is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, and particularly preferably 15 μm or more from the viewpoint of strength. In addition, if the thickness of the plastic film becomes too large, the flexibility is lowered, and the conductive layer may not be electrically connected to the gap formed in the display filter with a width of less than 2 mm. The upper limit of the thickness is preferably less than 80 μm, more preferably less than 60 nm, and particularly preferably less than 50 μm.

プラスチックフィルムに設けられる貫通孔の形状は、特に限定されないが、例えば、円、楕円、三角形、四角形、5〜12の多角形等が挙げられる。貫通孔の大きさは、最大径として0.5〜5mmの範囲が適当であり、0.5〜3mmの範囲が好ましく、0.5〜2mmの範囲がより好ましい。貫通孔の数は、プラスチックフィルム1cm当たり、1〜20個程度が適当であり、4〜20個の範囲が好ましい。 Although the shape of the through-hole provided in a plastic film is not specifically limited, For example, a circle | round | yen, an ellipse, a triangle, a square, a polygon of 5-12, etc. are mentioned. The size of the through hole is suitably in the range of 0.5 to 5 mm as the maximum diameter, preferably in the range of 0.5 to 3 mm, and more preferably in the range of 0.5 to 2 mm. The number of through-holes is suitably about 1 to 20 per 1 cm 2 of the plastic film, and is preferably in the range of 4 to 20.

上記のようにして複数の貫通孔が設けられたプラスチックフィルムの両面に、金属鍍金が施される。かかる金属鍍金としては、真空蒸着法、化学鍍金法、スパッタリング法、イオン鍍金法、化学蒸着法、物理蒸着法が挙げられる。金属鍍金の厚みは、片面当たり0.5〜5μmの範囲が適当である。   Metal plating is performed on both surfaces of the plastic film provided with a plurality of through holes as described above. Examples of such metal plating include vacuum deposition, chemical plating, sputtering, ion plating, chemical vapor deposition, and physical vapor deposition. The thickness of the metal plating is suitably in the range of 0.5 to 5 μm per side.

また鍍金される金属としては、アルミニウム、銀、銅、ニッケル、クロムなどを用いることができる。   As the metal to be plated, aluminum, silver, copper, nickel, chromium, or the like can be used.

上記のようにして形成された導電性プラスチックフィルムは、複数の貫通孔を介してプラスチックフィルム両面間の導電性が得られる。   In the conductive plastic film formed as described above, conductivity between both sides of the plastic film is obtained through a plurality of through holes.

導電性プラスチックフィルムの片面に積層される導電性粘着剤層は、上記のイ)の導電性部材と同様のものを用いることができる。   As the conductive pressure-sensitive adhesive layer laminated on one surface of the conductive plastic film, the same conductive member as the above-mentioned conductive member (a) can be used.

ハ)の導電性部材は、離型フィルムに導電性粘着剤層が積層された導電性部材である。かかる導電性部材に用いられる離型フィルムは、最終的には剥離除去されるものであるので、導電性粘着剤層から容易に剥離できることが重要である。離型フィルムの剥離時期は、本発明のディスプレイ用フィルターを画像表示パネルに装着する前あるいは装着後であって、かつディスプレイの筐体が組み立てられる以前である。離型フィルムの好ましい剥離時期は、ディスプレイ用フィルターを画像表示パネルに装着後で筐体を組み立てる前である。   The conductive member c) is a conductive member in which a conductive adhesive layer is laminated on a release film. Since the release film used for such a conductive member is finally peeled and removed, it is important that it can be easily peeled off from the conductive pressure-sensitive adhesive layer. The release film is peeled before or after the display filter of the present invention is mounted on the image display panel and before the display casing is assembled. A preferable peeling time of the release film is after the display filter is mounted on the image display panel and before the casing is assembled.

かかる離型フィルムは、特に限定されず公知のものが使用できる。例えば、プラスチックフィルムに、公知の離型剤、例えば、シリコーン樹脂、長鎖アルキル樹脂、フッ素樹脂、ワックス等の離型剤が塗布されたものが挙げられる。離型フィルムに用いられるプラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブチレンフィルム等のポリオレフィンフィルム、ポリアセチルセルロースフィルム、ポリアクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、エポキシ系フィルム、ポリウレタンフィルム、ナイロンフィルム等が挙げられる。   Such a release film is not particularly limited, and a known film can be used. For example, a plastic film having a known release agent, for example, a release agent such as silicone resin, long-chain alkyl resin, fluororesin, or wax, may be used. As a plastic film used for a release film, for example, a polyester film such as polyethylene terephthalate, a polyethylene film, a polyolefin film such as a polypropylene film, a polybutylene film, a polyacetyl cellulose film, a polyacryl film, a polycarbonate film, an epoxy film, A polyurethane film, a nylon film, etc. are mentioned.

離型フィルムの厚みは、強度の観点から5μm以上が好ましく、10μm以上がより好ましく、特に15μm以上が好ましい。また、離型フィルムの厚みが大きくなりすぎると、柔軟性が低下して、ディスプレイ用フィルターに形成された幅が2mm未満の空隙に対して導電層と導通が取れなくなる場合があるので、離型フィルムの厚みの上限は80μm未満が好ましく、60nm未満がより好ましく、特に50μm未満が好ましい。   The thickness of the release film is preferably 5 μm or more from the viewpoint of strength, more preferably 10 μm or more, and particularly preferably 15 μm or more. Further, if the thickness of the release film becomes too large, the flexibility is lowered, and there is a case where the conductive layer cannot be connected to the gap formed in the display filter with a width of less than 2 mm. The upper limit of the thickness of the film is preferably less than 80 μm, more preferably less than 60 nm, and particularly preferably less than 50 μm.

離型フィルムの片面に積層される導電性粘着剤層は、上記のイ)の導電性部材と同様のものを用いることができる。
(空隙)
本発明のディスプレイ用フィルターは、画像表示パネルの非画像表示領域に対応する部分の少なくとも一部に、機能性表面層から導電層に達する空隙を有する。該空隙の幅は2mm未満である。空隙内には導電層が露出している。
As the conductive pressure-sensitive adhesive layer laminated on one surface of the release film, the same conductive member as the above-mentioned conductive member (a) can be used.
(Void)
The display filter of the present invention has a gap reaching from the functional surface layer to the conductive layer in at least a part of the portion corresponding to the non-image display area of the image display panel. The width of the gap is less than 2 mm. The conductive layer is exposed in the gap.

空隙は、矩形状ディスプレイ用フィルターの辺に対して略平行に直線状に設けることが好ましい。空隙は、直線状に連続した空隙であってもよいし、破線状の不連続な空隙であってもよい。   The gap is preferably provided in a straight line substantially parallel to the side of the rectangular display filter. The air gap may be a linear continuous air gap or a broken-line discontinuous air gap.

空隙が形成されたディスプレイ用フィルターの一例の平面図を図1に示す。矩形状のディスプレイ用フィルター100の4辺に対して略平行に直線状の連続した空隙4が形成されている。空隙4は、画像表示パネルの非画像表示領域に対応する領域に形成される。符号5は、画像表示領域と非画像表示領域の境界線である。境界線5の内側が画像表示パネルの画像表示領域に対応し、外側が非画像表示領域に対応する。   FIG. 1 shows a plan view of an example of a display filter in which voids are formed. A linear continuous gap 4 is formed substantially parallel to the four sides of the rectangular display filter 100. The gap 4 is formed in a region corresponding to the non-image display region of the image display panel. Reference numeral 5 denotes a boundary line between the image display area and the non-image display area. The inside of the boundary line 5 corresponds to the image display area of the image display panel, and the outside corresponds to the non-image display area.

図2aは、図1のA−A模式断面図である。本発明のディスプレイ用フィルターは、基材1上に導電層2が形成され、導電層2上に機能性表面層3が積層されている。空隙4は、機能性表面層3から導電層2に到達し、空隙4内では導電層3が露出している。   2A is a schematic cross-sectional view taken along the line AA of FIG. In the display filter of the present invention, a conductive layer 2 is formed on a substrate 1, and a functional surface layer 3 is laminated on the conductive layer 2. The gap 4 reaches the conductive layer 2 from the functional surface layer 3, and the conductive layer 3 is exposed in the gap 4.

空隙は、細長い溝状の空隙であることが好ましい。空隙の幅は、2mm未満であるが、更に1.5mm以下が好ましい。空隙の幅の下限としては、0.3mm以上が好ましく、0.4mm以上がより好ましい。空隙の幅が2mm以上と大きくなると、導電層の露出面が大きくなり導電層が酸化劣化しやすくなるという問題、及び後述するように幅が2mm以上の空隙を形成するためには、レーザーの操作回数を多くする必要があり、生産性が低下するという問題がある。一方、空隙の幅が0.3mmより小さくなると筐体(外部電極)との導通が不十分になり十分な電磁波遮蔽効果が得られない場合がある。ここで、空隙の幅とは、機能性表面層の表面位置における空隙の開口幅である。   The gap is preferably an elongated groove-like gap. The width of the gap is less than 2 mm, but is preferably 1.5 mm or less. The lower limit of the gap width is preferably 0.3 mm or more, and more preferably 0.4 mm or more. In order to form a void having a width of 2 mm or more as described later, and the problem that the exposed surface of the conductive layer is increased and the conductive layer is easily oxidized and deteriorated when the width of the void is increased to 2 mm or more, laser operation is performed. There is a problem that the number of times needs to be increased and productivity is lowered. On the other hand, if the width of the gap is smaller than 0.3 mm, the conduction with the casing (external electrode) becomes insufficient, and a sufficient electromagnetic shielding effect may not be obtained. Here, the width of the gap is the opening width of the gap at the surface position of the functional surface layer.

図2bは、空隙部分の拡大模式断面図である(図2bは、図2aで示された一方の空隙部分周辺の拡大図である。)。本発明における空隙の幅とは、機能性表面層3の表面位置における幅(開口幅)Lである。   FIG. 2b is an enlarged schematic cross-sectional view of the gap portion (FIG. 2b is an enlarged view around one gap portion shown in FIG. 2a). The width of the gap in the present invention is the width (opening width) L at the surface position of the functional surface layer 3.

ディスプレイ用フィルターの1辺における空隙の長さは、ディスプレイ用フィルターの辺の長さ100%に対して10%以上が好ましく、30%以上がより好ましく、特に50%以上が好ましい。上記の比率は高い方が電磁波遮蔽性能の観点から好ましく、上限は100であってもよいが、実質的な上限は99%程度が適当である。本発明における空隙は、直線状に連続した空隙であってもよいし、破線状の不連続な空隙であってもよい。後者の不連続な空隙の場合は合計の長さが上記比率の対象となる。   The length of the gap on one side of the display filter is preferably 10% or more, more preferably 30% or more, and particularly preferably 50% or more with respect to 100% of the length of the display filter side. A higher ratio is preferable from the viewpoint of electromagnetic shielding performance, and the upper limit may be 100, but a substantial upper limit of about 99% is appropriate. The void in the present invention may be a linearly continuous void or a broken-line discontinuous void. In the case of the latter discontinuous gap, the total length becomes the target of the above ratio.

上記の破線状の不連続な空隙としては、例えば、1つの長さが5〜100mmの空隙が、間隔長さ5〜100mmで直線状に複数配置されている態様が挙げられる。上記の不連続な空隙において、ディスプレイ用フィルター1辺当たりの空隙の合計長さ(A)と、空隙と空隙の間隔の合計長さ(B)の比率(A/B)は、0.5〜10の範囲が適当であり、1〜5の範囲が好ましい。   Examples of the broken line-shaped discontinuous gap include a mode in which a plurality of gaps each having a length of 5 to 100 mm are linearly arranged with an interval length of 5 to 100 mm. In the above-mentioned discontinuous gap, the ratio (A / B) of the total length (A) of the gap per side of the display filter and the total length (B) of the gap-to-void gap is 0.5 to A range of 10 is suitable, and a range of 1 to 5 is preferred.

空隙は、ディスプレイ用フィルターの4辺の内の少なくとも対向する2辺に設けることが好ましい。図1に示すように、ディスプレイ用フィルターの4辺にそれぞれ空隙を設けることがより好ましい。   The gap is preferably provided on at least two opposite sides of the four sides of the display filter. As shown in FIG. 1, it is more preferable to provide a gap on each of the four sides of the display filter.

空隙と従来の剥き出し電極を組み合わすこともできる。例えば、図3に示すように、ディスプレイ用フィルターの対向する短辺側の2辺に空隙を形成し、対向する長辺側の2辺に剥き出し電極を形成することができる。ここで、剥き出し電極は、導電層上に機能性表面層を塗工形成するときに、導電層の幅に対して機能性表面層の塗工幅を小さくして、導電層の両端部に機能性表面層の未塗工部を設けることによって形成することができる。図3において、符号6が剥き出し電極である。   A gap and a conventional bare electrode can be combined. For example, as shown in FIG. 3, voids can be formed on two opposite short sides of the display filter, and exposed electrodes can be formed on two opposite long sides. Here, when the functional surface layer is applied and formed on the conductive layer, the bare electrode functions at both ends of the conductive layer by reducing the coating width of the functional surface layer relative to the width of the conductive layer. It can form by providing the uncoated part of a conductive surface layer. In FIG. 3, reference numeral 6 denotes a bare electrode.

また、従来の剥き出し電極を1辺に形成し、残りの3辺に空隙を形成することもできる。この態様は、生産効率向上の観点から、導電層上に機能性表面層を塗工する際に、導電層の幅方向に対して、ディスプレイ用フィルターが2面取れるように、導電層の幅を広幅とし、導電層の幅方向の両端部に機能性表面層の未塗工部を設けることによって、ディスプレイ用フィルターの1辺に剥き出し電極が形成される。   Further, a conventional bare electrode can be formed on one side, and a gap can be formed on the remaining three sides. In this aspect, from the viewpoint of improving production efficiency, when the functional surface layer is applied on the conductive layer, the width of the conductive layer is set so that two display filters can be taken in the width direction of the conductive layer. The exposed electrode is formed on one side of the display filter by providing a wide width and providing an uncoated portion of the functional surface layer at both ends in the width direction of the conductive layer.

上記の具体的態様を、図4に示す。図4は、ディスプレイ用フィルターの製造過程における、基材、導電層、及び機能性表面層の積層体を製造する工程の模式平面図である。基材上に導電層が形成された長尺の導電層積層基材11の導電層上に機能性表面層を塗工する際に、機能性表面層の塗工幅を調整して長尺の導電層積層基材11の幅方向両端部に機能性表面層の未塗工部12を形成する。長尺の導電層積層基材11の幅は、ディスプレイ用フィルター100が2面取れるようになっている。これによって、ディスプレイ用フィルター100の1辺に剥き出し電極6が形成される。そして、ディスプレイ用フィルター100の残りの3辺に、上述した空隙を形成することによって、上記態様のディスプレイ用フィルターを得ることができる。   The specific embodiment is shown in FIG. FIG. 4 is a schematic plan view of a process of manufacturing a laminate of a base material, a conductive layer, and a functional surface layer in the manufacturing process of the display filter. When the functional surface layer is applied on the conductive layer of the long conductive layer laminated base material 11 in which the conductive layer is formed on the base material, the coating width of the functional surface layer is adjusted to adjust the length of the functional surface layer. The uncoated part 12 of a functional surface layer is formed at both ends in the width direction of the conductive layer laminated substrate 11. The width of the long conductive layer laminated substrate 11 is such that two surfaces of the display filter 100 can be taken. As a result, the bare electrode 6 is formed on one side of the display filter 100. And the display filter of the said aspect can be obtained by forming the space | gap mentioned above in the remaining 3 sides of the filter 100 for displays.

(空隙の形成方法)
本発明において、前記機能性表面層から導電層に達し、かつ幅が2mm未満である空隙の形成方法は特に限定されない。例えば、ナイフ等のカッター刃を用いる方法、超音波半田コテを用いて機能性表面層を除去する方法、機能性表面層をドライエッチングする方法、レーザーを用いる方法等があるが、レーザーを用いる方法が好ましく用いられる。
(Void formation method)
In the present invention, there is no particular limitation on the method of forming a void that reaches the conductive layer from the functional surface layer and has a width of less than 2 mm. For example, there are a method using a cutter blade such as a knife, a method for removing a functional surface layer using an ultrasonic soldering iron, a method for dry etching a functional surface layer, a method using a laser, etc. Is preferably used.

本発明において、導電層の上に位置する機能性表面層等を物理的な方法で剥離することなく空隙を形成することが好ましく、機能性表面層等の有機物を蒸発あるいは燃焼させることによって空隙を形成する方法が好ましく用いられる。かかる方法として、機能性表面層側からレーザーを照射する方法が最適である。   In the present invention, it is preferable to form voids without peeling off the functional surface layer and the like located on the conductive layer by a physical method, and the voids are formed by evaporating or burning organic substances such as the functional surface layer. The forming method is preferably used. As such a method, a method of irradiating a laser from the functional surface layer side is optimal.

レーザーを照射する方法は、ディスプレイ用フィルターに物理的な接触なしに空隙が形成できること、ほぼ一定の幅で安定的に空隙を形成できること、及び空隙の深さ方向の制御が精度よくできるという利点がある。このようなレーザーの出力源としては、ヨウ素、YAG、COなどがあるが、特にCOレーザーは、空隙幅及び空隙深さが精度よく制御できること、及び金属からなる導電層は破壊せずに機能性表面層等を蒸発・燃焼させて空隙を形成できる点で好ましい。 The method of irradiating with laser has the advantages that a gap can be formed without physical contact with the display filter, that the gap can be stably formed with a substantially constant width, and that the control of the depth direction of the gap can be accurately performed. is there. Examples of such laser output sources include iodine, YAG, and CO 2. Particularly, the CO 2 laser can accurately control the gap width and gap depth, and the conductive layer made of metal is not destroyed. It is preferable in that a void can be formed by evaporating and burning the functional surface layer and the like.

空隙をレーザー照射で形成する場合、空隙の幅及び深さは、レーザーの焦点位置、レーザーの出力、及びレーザーの走査速度(ヘードスピード)を調整することによって制御することができる。空隙の幅は更に走査回数を調整することによって制御することができるが、1回の走査でも本発明が所望とする空隙を形成することができる。   When the air gap is formed by laser irradiation, the width and depth of the air gap can be controlled by adjusting the focal position of the laser, the output of the laser, and the scanning speed (head speed) of the laser. The width of the gap can be further controlled by adjusting the number of scans, but the gap desired by the present invention can be formed even by one scan.

本発明にかかる空隙の幅は2mm未満である。レーザーを用いて幅が2mm以上の空隙を形成するには、レーザーの走査回数を多くする必要があり、生産効率が低下する。   The width of the gap according to the present invention is less than 2 mm. In order to form a gap having a width of 2 mm or more using a laser, it is necessary to increase the number of times of laser scanning, and the production efficiency is lowered.

(導電性部材の空隙への貼着)
前述した本発明にかかる導電性部材は、その導電性粘着剤層を介して空隙に貼着される。そして導電性部材は、空隙の全域を被覆するように導電性粘着剤層を介して貼着されることが好ましい。図5に、空隙に導電性部材が貼着された状態の模式断面図を示す。導電性部材20は、基材21と導電性粘着剤層22が積層されたものであり、ここで基材21は、導電性部材が、イ)の導電性部材のときは導電性繊維からなる布帛であり、ロ)の導電性部材のときは導電性プラスチックフィルムであり、ハ)の導電性部材のときは離型フィルムである。
(Attachment of conductive member to gap)
The conductive member according to the present invention described above is stuck to the gap through the conductive adhesive layer. And it is preferable that a conductive member is stuck through a conductive adhesive layer so that the whole region of a space | gap may be coat | covered. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a state in which a conductive member is attached to the gap. The conductive member 20 is formed by laminating a base material 21 and a conductive pressure-sensitive adhesive layer 22. Here, the base material 21 is made of conductive fibers when the conductive member is the conductive member b). The cloth is a conductive plastic film in the case of the conductive member b), and a release film in the case of the conductive member c).

導電性部材は、本発明にかかる空隙、即ち幅が2mm未満の空隙を被覆するように貼着されることが好ましいので、導電性部材及び導電性粘着剤層の幅は、2mm以上であればよいが、導電性部材の取り扱いや貼着作業性を考慮すると、導電性部材及び導電性粘着剤層の幅は3mm以上であることが好ましく、特に5mm以上であることが好ましい。導電性部材及び導電性粘着剤層の幅の上限は、ディスプレイ用フィルターの画像表示パネルの非画像表示領域に対応する部分より小さくすることが好ましく、具体的には25mm以下が好ましく、20mm以下がより好ましく、更に15mm以下が好ましい。   Since the conductive member is preferably pasted so as to cover the gap according to the present invention, that is, the gap having a width of less than 2 mm, the width of the conductive member and the conductive adhesive layer is 2 mm or more. However, in consideration of handling of the conductive member and sticking workability, the width of the conductive member and the conductive adhesive layer is preferably 3 mm or more, and particularly preferably 5 mm or more. The upper limit of the width of the conductive member and the conductive adhesive layer is preferably smaller than the portion corresponding to the non-image display region of the image display panel of the display filter, specifically 25 mm or less, preferably 20 mm or less. More preferably, it is further preferably 15 mm or less.

導電性部材及び導電性粘着剤層の長さは、ディスプレイ用フィルターの1辺に形成された空隙の長さと同等かそれ以上であることが好ましい。   The lengths of the conductive member and the conductive adhesive layer are preferably equal to or longer than the length of the gap formed on one side of the display filter.

(ディスプレイ用フィルターの電極と筐体の外部電極との接続)
上述にようにして、ディスプレイ用フィルターの画像表示パネルの非画像表示領域に対応する部分の少なくとも一部は、空隙を介して導電層と導通状態にある導電性部材によってアース電極が取り出され、導電性部材が電極となる。このディスプレイ用フィルターの電極は筐体の外部電極と接続されてアースされる。
(Connection between display filter electrode and housing external electrode)
As described above, at least part of the portion of the display filter corresponding to the non-image display area of the image display panel is taken out of the ground electrode by the conductive member in conduction with the conductive layer through the gap. The sexual member becomes an electrode. The electrode of this display filter is connected to the external electrode of the housing and grounded.

従来から、ディスプレイ用フィルターの電極と筐体の外部電極との間にガスケットを介在させることによって、ディスプレイ用フィルターの電極と外部電極を電気的に接続することが知られている。   Conventionally, it is known to electrically connect a display filter electrode and an external electrode by interposing a gasket between the display filter electrode and a housing external electrode.

図6は、本発明が適用できるプラズマディスプレイの一例の主要構成部分の模式断面図である。図6において、ディスプレイ用フィルター100は画像表示パネル31に貼り付けられており、画像表示パネル31の画像表示領域の外周(非画像表示領域)には筐体の前面カバー32がディスプレイ用フィルター100を画像表示パネル31に押圧するように組み立てられている。ディスプレイ用フィルター100と前面カバー32の間にはガスケット33が配置されており、ガスケット33はディスプレイ用フィルター100に設けられた電極(本発明の導電性部材20)と前面カバー32の外部電極(図示せず)とを電気的に接続し、アースしている。ここで、ディスプレイ用フィルター100に設けられた電極は、空隙(図示せず)に本発明の導電性部材20が貼着されたものである。   FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of the main components of an example of a plasma display to which the present invention can be applied. In FIG. 6, the display filter 100 is affixed to the image display panel 31, and the front cover 32 of the housing covers the display filter 100 on the outer periphery (non-image display area) of the image display area of the image display panel 31. The image display panel 31 is assembled so as to be pressed. A gasket 33 is disposed between the display filter 100 and the front cover 32, and the gasket 33 is an electrode (conductive member 20 of the present invention) provided on the display filter 100 and an external electrode (see FIG. (Not shown) are electrically connected and grounded. Here, the electrode provided in the display filter 100 is obtained by attaching the conductive member 20 of the present invention to a gap (not shown).

図6の態様で用いられているガスケットは、例えば、弾性部材(例えばスポンジやゴム等)の周囲に導電性繊維で織った布帛を巻き付けたものである。   The gasket used in the embodiment of FIG. 6 is obtained by, for example, winding a fabric woven of conductive fibers around an elastic member (for example, sponge or rubber).

また、本発明のディスプレイ用フィルターは、ディスプレイ用画像表示パネルに装着後、上記のガスケットを介在させずに、ディスプレイ用フィルターに形成された空隙を介して導電層と筐体の外部電極(例えばアルミニウム板)とを導電性部材で直接に接続することができる。この態様は、ディスプレイ用画像表示パネルに装着されたディスプレイ用フィルターと外部電極がほぼ同一平面上になるように外部電極を配置することによって可能となる。この態様の模式断面図を図7に示す。   In addition, the display filter of the present invention is mounted on the display image display panel, and the conductive layer and the external electrode of the casing (for example, aluminum) are interposed through the gap formed in the display filter without interposing the gasket. Plate) with a conductive member. This aspect can be realized by arranging the external electrodes so that the display filter and the external electrodes mounted on the display image display panel are substantially on the same plane. A schematic cross-sectional view of this embodiment is shown in FIG.

図7において、アルミニウム板からなる外部電極34が、ディスプレイ用フィルター100とほぼ同一平面上に配置されており、ディスプレイ用フィルター100の電極を構成する本発明の導電性部材20が、ディスプレイ用フィルター100に設けられた空隙(図示せず)と外部電極34を接続するように貼着されている。   In FIG. 7, the external electrode 34 made of an aluminum plate is arranged on the same plane as the display filter 100, and the conductive member 20 of the present invention constituting the electrode of the display filter 100 is used as the display filter 100. Is attached so as to connect the external electrode 34 to a gap (not shown) provided in the structure.

(カバーフィルム)
本発明のディスプレイ用フィルターは、機能性表面層を保護するために、剥離可能なカバーフィルムが機能性表面層を被覆するように積層されていることが好ましい。機能性表面層上にカバーフィルムを積層することによって、ディスプレイ用フィルターの製造工程、ディスプレイ用画像表示パネルの製造工程、及びディスプレイの組み立て工程において、機能性表面層を保護することができる。カバーフィルムは、最終的には剥離除去されるものであり、従って、カバーフィルムは、剥離可能に積層される。ここで、剥離可能とは、機能性表面層を傷つけないで、比較的容易に剥離できることを意味し、またカバーフィルムを剥離するときに機能性表面層側にカバーフィルムの粘着剤が残留しないことが重要である。
(Cover film)
The display filter of the present invention is preferably laminated so that a peelable cover film covers the functional surface layer in order to protect the functional surface layer. By laminating the cover film on the functional surface layer, the functional surface layer can be protected in the display filter manufacturing process, the display image display panel manufacturing process, and the display assembly process. The cover film is finally peeled and removed, and thus the cover film is detachably laminated. Here, peelable means that the functional surface layer can be peeled relatively easily without damaging the cover film, and that the adhesive of the cover film does not remain on the functional surface layer side when the cover film is peeled off. is important.

本発明に用いることができるカバーフィルムとしては、各種プラスチックフィルムを用いることができる。例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブチレンフィルム等のポリオレフィンフィルム、ポリアセチルセルロースフィルム、ポリアクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、エポキシ系フィルム、ポリウレタンフィルム等が挙げられ、これらの中でもポリエステルフィルムやポリオレフィンフィルムが好ましく用いられる。   Various plastic films can be used as the cover film that can be used in the present invention. For example, polyester films such as polyethylene terephthalate, polyolefin films such as polyethylene film, polypropylene film, polybutylene film, polyacetylcellulose film, polyacryl film, polycarbonate film, epoxy film, polyurethane film, etc. A film or a polyolefin film is preferably used.

カバーフィルムは、最終的にはディスプレイ用フィルターから剥離除去されるので、剥離可能な粘着材または接着材が用いられる。あるいは、カバーフィルムとして粘着性を有するフィルムを用いる場合には、粘着材等は不要である。   Since the cover film is finally peeled off from the display filter, a peelable pressure-sensitive adhesive or adhesive is used. Or when using the film which has adhesiveness as a cover film, an adhesive material etc. are unnecessary.

カバーフィルムの厚み(積層のための粘着層が必要な場合は粘着層を含む)は20〜80μmの範囲が好ましい。   The thickness of the cover film (including the adhesive layer when an adhesive layer for lamination is required) is preferably in the range of 20 to 80 μm.

カバーフィルムの積層は、後述する少なくとも、基材、導電層、及び機能性表面層をこの順に有する積層体を得る工程(A)において、機能性表面層の上に更にカバーフィルムを積層することが好ましく、より詳細には機能性表面層の塗工工程において、導電層上に機能性表面層を塗工、乾燥、及び必要に応じて硬化した後、巻き取るまでに機能性表面層上にカバーフィルム積層することが好ましい。   Lamination of the cover film may include further laminating a cover film on the functional surface layer in the step (A) of obtaining a laminate having at least a base material, a conductive layer, and a functional surface layer in this order. Preferably, more specifically, in the functional surface layer coating step, the functional surface layer is coated on the conductive layer, dried, cured as necessary, and then covered on the functional surface layer before winding. Film lamination is preferred.

機能性表面層上にカバーフィルムが積層された状態で、本発明にかかる空隙を形成することが好ましい。例えば、後述する空隙を形成する工程(B)においては、カバーフィルムの表面からレーザーを照射して、カバーフィルム表面から導電層に達する幅が2mm未満の空隙を形成することができる。カバーフィルム表面からレーザーを照射して空隙を形成することによって、レーザー照射によって発生した機能性表面層等の蒸散物のディスプレイ用フィルターへの再付着を防止することができる。   The void according to the present invention is preferably formed in a state where the cover film is laminated on the functional surface layer. For example, in the step (B) of forming a void to be described later, a laser beam can be irradiated from the surface of the cover film to form a void having a width that reaches the conductive layer from the cover film surface of less than 2 mm. By irradiating a laser from the cover film surface to form a void, it is possible to prevent re-deposition of the transpiration material such as a functional surface layer generated by the laser irradiation to the display filter.

後述する導電性部材を貼着する工程(C)においては、カバーフィルム上から空隙が形成された後、空隙に本発明の導電性部材を貼着する前に、少なくとも導電性部材の貼着領域に対応する部分のカバーフィルムを剥離した後に、空隙に導電性部材を貼着することが好ましいが、このとき、少なくとも画像表示領域に対応する部分のカバーフィルムは剥離せずに残し、導電性部材の貼着に影響のない範囲でカバーフィルムを剥離することが好ましい。   In the step (C) of attaching a conductive member to be described later, after the gap is formed from above the cover film, before attaching the conductive member of the present invention to the gap, at least the conductive member attachment region. It is preferable to adhere the conductive member to the gap after peeling the cover film of the part corresponding to, but at this time, the cover film of at least the part corresponding to the image display area is left without peeling, and the conductive member It is preferable to peel the cover film within a range that does not affect the sticking.

上記の導電性部材の貼着に影響のない範囲とは、導電性部材の貼着領域より少し大きめの面積を意味する。具体的には、空隙は非画像表示領域に対応する部分に形成され、導電性部材の貼着領域も非画像表示領域の中であるので、非画像表示領域のみのカバーフィルムを剥離し、画像表示領域のカバーフィルムは残しておくことが好ましい。   The range that does not affect the sticking of the conductive member means an area slightly larger than the sticking region of the conductive member. Specifically, the gap is formed in a portion corresponding to the non-image display area, and the conductive member attaching area is also in the non-image display area. It is preferable to leave the cover film in the display area.

カバーフィルムの目的は機能性表面層を保護することであり、更に具体的には、画像表示領域に対応する部分の機能性表面層を保護することであり、この観点から、画像表示領域に対応する領域のカバーフィルムは、できるだけ後の工程で剥離除去することが好ましい。   The purpose of the cover film is to protect the functional surface layer, and more specifically, to protect the functional surface layer in the portion corresponding to the image display area. From this viewpoint, the cover film corresponds to the image display area. It is preferable that the cover film in the area to be peeled and removed in a later step as much as possible.

従って、ディスプレイ用フィルターの画像表示領域に対応する領域と非画像表示領域に対応する領域の境界線に、カバーフィルムに切り込み線を設けることによって、画像表示領域に対応する領域のカバーフィルムの剥離を遅らせることが可能になる。   Therefore, the cover film in the region corresponding to the image display region is peeled off by providing a cut line in the cover film at the boundary line between the region corresponding to the image display region of the display filter and the region corresponding to the non-image display region. It becomes possible to delay.

即ち、ディスプレイ用フィルターの画像表示領域に対応する領域と非画像表示領域に対応する領域の境界線に、カバーフィルムに切り込み線を設けることによって、非画像表示領域に対応する領域のカバーフィルムのみを剥離し、画像表示領域に対応する領域のカバーフィルムを残すことが可能となる。   That is, by providing a cut line on the cover film at the boundary line between the area corresponding to the image display area of the display filter and the area corresponding to the non-image display area, only the cover film in the area corresponding to the non-image display area is provided. It is possible to peel off and leave the cover film in an area corresponding to the image display area.

カバーフィルムに設けられる切り込み線は、画像表示領域と非画像表示領域の境界線に沿って設けられるが、ここで画像表示領域と非画像表示領域の境界線とは、厳密な境界線を指すものではなく、境界線近傍という意味である。   The cut line provided on the cover film is provided along the boundary line between the image display area and the non-image display area. Here, the boundary line between the image display area and the non-image display area indicates a strict boundary line. Instead, it means the vicinity of the boundary line.

カバーフィルムを積層する目的は、上記したように画像表示領域の機能性表面層を保護することであり、この意味において、カバーフィルムに設けられる切り込み線は、前記境界線上、あるいは前記境界線より非画像表示領域側にずれ込んだ位置であることが好ましい。切り込み線が前記境界線より非画像表示領域側にずれ込んだ位置に設定する場合、空隙への導電性部材の貼着の障害とならないように設定することが好ましい。切り込み線の境界線からのずれ込み量は、例えば、1〜5mm程度が適当であり、1〜3mmの範囲が好ましい。   The purpose of laminating the cover film is to protect the functional surface layer of the image display region as described above. In this sense, the cut line provided in the cover film is not on the boundary line or on the boundary line. The position is preferably shifted to the image display area side. When the cut line is set at a position shifted from the boundary line to the non-image display region side, it is preferably set so as not to obstruct the sticking of the conductive member to the gap. The amount of shift of the cut line from the boundary line is, for example, about 1 to 5 mm, and preferably in the range of 1 to 3 mm.

カバーフィルムの切り込み線は、この切り込み線に沿ってカバーフィルムの画像表示領域と非画像表示領域とを分断することが目的であり、従って、切り込み線の深さや形状は、上記目的が達成できるように設定すればよい。   The cut line of the cover film is intended to divide the image display area and the non-image display area of the cover film along the cut line. Therefore, the depth and shape of the cut line can achieve the above purpose. Should be set.

切り込み線の深さは、必ずしもカバーフィルム(カバーフィルムが粘着層を含む場合はプラスチックフィルム部分)を貫通しなくても上記目的は達成できるが、カバーフィルム(プラスチックフィルム部分)を貫通することが、非画像表示領域の剥離が容易に行えるので好ましい。   The depth of the score line can be achieved without necessarily penetrating the cover film (the plastic film part if the cover film includes an adhesive layer), but it can penetrate the cover film (plastic film part). This is preferable because the non-image display area can be easily peeled off.

切り込み線の平面形状は、連続線であることが好ましいが、ミシン目のような不連続線であってもよい。上記不連続線の場合の1つの不連続部分の長さは、カバーフィルムが容易に引きちぎれるように、小さくする必要があり、1つの不連続部分の長さは2mm以下が好ましく、1mm以下がより好ましい。   The planar shape of the cut line is preferably a continuous line, but may be a discontinuous line such as a perforation. In the case of the discontinuous line, the length of one discontinuous portion needs to be small so that the cover film can be easily torn off, and the length of one discontinuous portion is preferably 2 mm or less, and preferably 1 mm or less. More preferred.

切り込み線は、カッター刃でも形成することができるが、レーザーを照射して形成することが好ましい。レーザーによる切り込み線の形成は、前述したレーザーでの空隙形成方法を適用することができる。即ち、レーザー照射条件(レーザーの焦点位置、レーザーの出力、及びレーザーの走査速度等)を調整して用いることができる。レーザーによる切り込み線の形成は、切り込み線の深さを精度よく、安定的に再現することができる。即ち、機能性表面層をほとんど傷つけることなくカバーフィルムを貫通する切り込み線を形成することができる。   The score line can be formed with a cutter blade, but is preferably formed by irradiating a laser. The above-described method of forming a gap with a laser can be applied to the formation of the cut line by the laser. That is, laser irradiation conditions (laser focal position, laser output, laser scanning speed, etc.) can be adjusted and used. The formation of the score line by the laser can reproduce the depth of the score line accurately and stably. That is, a cut line penetrating the cover film can be formed with almost no damage to the functional surface layer.

本発明においては、レーザーによる空隙の形成と、レーザーによる切り込み線の形成を組み合わせて行うことが好ましい。これによって、1つのレーザー装置にカバーフィルムが積層されたディスプレイ用フィルターを装着(固定)した状態で、空隙形成と切り込み線の形成を行うことができる。空隙の形成と切り込み線の形成の順序は特に限定されない。   In the present invention, it is preferable to combine the formation of voids by laser and the formation of cut lines by laser. Accordingly, it is possible to form a gap and form a cut line in a state where a display filter in which a cover film is laminated is mounted (fixed) on one laser device. There is no particular limitation on the order in which the voids are formed and the cut lines are formed.

カバーフィルムの切り込み線によって分けられた、非画像表示領域に対応する部分の剥離は、空隙に導電性部材を貼着する前に行われるが、画像表示領域に対応する部分の剥離は、ディスプレイ用フィルターを画像表示パネルに装着後、筐体の前面カバーを組み立てる前に行われる。
(ディスプレイ用フィルターの構成)
本発明のディスプレイ用フィルターは、基材、導電層、及び機能性表面層をこの順に有することが重要である。より好ましくは、基材上に導電層を有し、更に導電層上に機能性表面層を有する態様である。
Separation of the part corresponding to the non-image display area divided by the cut line of the cover film is performed before adhering the conductive member to the gap, but peeling of the part corresponding to the image display area is for display. This is performed after the filter is mounted on the image display panel and before the front cover of the housing is assembled.
(Configuration of display filter)
It is important that the display filter of the present invention has a base material, a conductive layer, and a functional surface layer in this order. More preferably, it is an embodiment having a conductive layer on a substrate and further having a functional surface layer on the conductive layer.

(基材)
本発明のディスプレイ用フィルターに用いられる基材としては、プラスチックフィルムが好ましい。かかるプラスチックフィルムを構成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン等のポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アートン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂及びセルロース樹脂が好ましく、特にポリエステル樹脂が好ましく用いられる。また、上記の樹脂で形成されるプラスチックフィルムは、単層構成であっても、積層構成であってもよい。
(Base material)
As a base material used for the display filter of the present invention, a plastic film is preferable. Examples of the resin constituting the plastic film include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, cellulose resins such as triacetyl cellulose, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, and polybutylene, acrylic resins, polycarbonate resins, arton resins, and epoxy resins. , Polyimide resin, polyetherimide resin, polyamide resin, polysulfone resin, polyphenylene sulfide resin, polyether sulfone resin, and the like. Among these, a polyester resin, a polyolefin resin, and a cellulose resin are preferable, and a polyester resin is particularly preferably used. In addition, the plastic film formed of the above resin may have a single layer structure or a laminated structure.

プラスチックフィルムの厚みとしては、50〜300μmの範囲が適当であるが、コストの観点及びディスプレイ用フィルターの剛性を確保するという観点から90〜250μmの範囲が特に好ましい。   As the thickness of the plastic film, a range of 50 to 300 μm is appropriate, but a range of 90 to 250 μm is particularly preferable from the viewpoint of cost and ensuring the rigidity of the display filter.

本発明にかかるディスプレイ用フィルターは、基材は1枚のみであることが好ましく、更に基材として1枚のみのプラスチックフィルムを用いるのが好ましい。   The display filter according to the present invention preferably has only one base material, and preferably only one plastic film is used as the base material.

本発明に用いられるプラスチックフィルムは、前述した導電層あるいは後述する近赤外線遮蔽層等との密着性(接着強度)を強化するためのプライマー層(下引き層、易接着層)を設けておくのが好ましい(つまり、基材としては、プライマー層(下引き層、易接着層)を有するプラスチックフィルムが好ましい。)。
(導電層)
本発明における導電層は、ディスプレイから発生する電磁波を遮蔽するための層であり、導電層の面抵抗値は、低い方が好ましい。導電層の面抵抗値としては、5Ω/□以下が好ましく、3Ω/□以下がより好ましく、特に1Ω/□以下が好ましい。また、面抵抗は低いほど電磁波シールド性が向上するために好ましいが、現実的な下限は0.01Ω/□程度と考えられる。導電層の面抵抗値は、4端子法により測定することができる。
The plastic film used in the present invention is provided with a primer layer (undercoat layer, easy adhesion layer) for enhancing adhesion (adhesion strength) with the conductive layer described above or a near infrared shielding layer described later. (In other words, the substrate is preferably a plastic film having a primer layer (undercoat layer, easy adhesion layer)).
(Conductive layer)
The conductive layer in the present invention is a layer for shielding electromagnetic waves generated from the display, and the surface resistance value of the conductive layer is preferably low. The sheet resistance value of the conductive layer is preferably 5Ω / □ or less, more preferably 3Ω / □ or less, and particularly preferably 1Ω / □ or less. Also, the lower the sheet resistance, the better the electromagnetic shielding properties are improved, but the practical lower limit is considered to be about 0.01Ω / □. The sheet resistance value of the conductive layer can be measured by a four-terminal method.

本発明にかかる導電層としては、金属薄膜あるいは導電性メッシュを用いることができる。本発明においては、導電性メッシュを有する導電層が好ましく、少なくとも画像表示領域は導電性メッシュからなる導電層がより好ましい。この場合、画像表示領域及び非画像表示領域ともに導電性メッシュで形成されていても良いし、画像表示領域が導電性メッシュで、非画像表示領域が金属ベタで形成されていても良い。   As the conductive layer according to the present invention, a metal thin film or a conductive mesh can be used. In the present invention, a conductive layer having a conductive mesh is preferable, and at least an image display region is more preferably a conductive layer made of a conductive mesh. In this case, both the image display area and the non-image display area may be formed of a conductive mesh, or the image display area may be formed of a conductive mesh and the non-image display area may be formed of a solid metal.

本発明の好ましい態様である導電性メッシュを有する導電層について、以下に詳細に説明する。   The conductive layer having a conductive mesh which is a preferred embodiment of the present invention will be described in detail below.

電磁波シールド性を向上させるためには導電メッシュの厚みはある程度大きくする必要があるが、逆に厚みが大きくなりすぎると、後述する機能性表面層の塗工性が低下し、塗布筋やムラが発生する場合がある。また、導電メッシュの厚みが大きくなりすぎると、機能性表面層の塗工性を確保するために機能性表面層の厚みを大きくする必要があり、特に機能性表面層としてハードコート層を用いる場合は、カールの発生により、加工が困難になる場合がある。また、導電性メッシュの厚みが大きくなりすぎると、透過画像鮮明性が低下する傾向にある。   In order to improve the electromagnetic wave shielding properties, the thickness of the conductive mesh needs to be increased to some extent, but conversely, if the thickness becomes too large, the coating property of the functional surface layer, which will be described later, is reduced, and coating stripes and unevenness are not observed. May occur. Also, if the thickness of the conductive mesh becomes too large, it is necessary to increase the thickness of the functional surface layer in order to ensure the coatability of the functional surface layer, especially when a hard coat layer is used as the functional surface layer. May be difficult to process due to curling. Further, if the thickness of the conductive mesh becomes too large, the transmitted image sharpness tends to decrease.

上記の観点から、導電性メッシュの厚みは、0.5〜8μmの範囲が好ましく、1〜5μmの範囲がより好ましく、特に1〜3μmの範囲が好ましい。導電性メッシュの厚みが0.5μm未満の場合は、十分な電磁波シールド性が得られない場合がある。また、導電性メッシュの厚みが8μmを越えると、機能性表面層の塗工性が低下するので、面内に均一な表面粗さを有する機能性表面層に安定的に形成することが難しくなる傾向があり、更には、コストアップにつながるために好ましくない。   From the above viewpoint, the thickness of the conductive mesh is preferably in the range of 0.5 to 8 μm, more preferably in the range of 1 to 5 μm, and particularly preferably in the range of 1 to 3 μm. When the thickness of the conductive mesh is less than 0.5 μm, sufficient electromagnetic shielding properties may not be obtained. Further, if the thickness of the conductive mesh exceeds 8 μm, the coating property of the functional surface layer is lowered, so that it is difficult to stably form the functional surface layer having a uniform surface roughness in the surface. This is not preferable because it tends to increase the cost.

導電性メッシュのメッシュパターンの形状(開口部の形状)は、例えば、正方形、長方形、菱形等の4角形からなる格子状メッシュパターン、三角形、5角形、6角形、8角形、12角形のような多角形からなるメッシュパターン、円形、楕円形からなるメッシュパターン、前記の複合形状からなるメッシュパターン、及びランダムメッシュパターンが挙げられる。上記の中でも、導電性メッシュの製造の容易性の観点から、4角形からなる格子状メッシュパターンが好ましい。   The shape of the mesh pattern of the conductive mesh (the shape of the opening) is, for example, a lattice mesh pattern formed of a quadrangle such as a square, a rectangle, or a rhombus, a triangle, a pentagon, a hexagon, an octagon, or a dodecagon. Examples thereof include a mesh pattern made of a polygon, a mesh pattern made of a circle and an ellipse, a mesh pattern made of the composite shape, and a random mesh pattern. Among these, from the viewpoint of ease of production of the conductive mesh, a lattice mesh pattern having a quadrangular shape is preferable.

導電性メッシュのピッチは、50〜500μmの範囲が好ましく、75〜450nmの範囲がより好ましく、100〜350μmの範囲が更に好ましい。導電性メッシュのピッチが50μmより小さくなると透過率が低下する傾向にあり、500μmより大きくなると導電性が低下する傾向があり好ましくない。なお、導電性メッシュのピッチとは、導電性メッシュのある1つの開口部(導電性メッシュの細線と細線で囲まれた部分)と、この開口部と1辺を共有する隣接する開口部との重心間の距離とする。   The pitch of the conductive mesh is preferably in the range of 50 to 500 μm, more preferably in the range of 75 to 450 nm, and still more preferably in the range of 100 to 350 μm. If the pitch of the conductive mesh is smaller than 50 μm, the transmittance tends to decrease. If the pitch is larger than 500 μm, the conductivity tends to decrease, which is not preferable. Note that the pitch of the conductive mesh means that one opening having a conductive mesh (a portion surrounded by a thin line and a thin line of the conductive mesh) and an adjacent opening sharing one side with this opening. The distance between the centers of gravity.

導電性メッシュの線幅は、3〜30μmの範囲が好ましく、5〜20μmの範囲がより好ましい。導電性メッシュの線幅が、3μmより小さくなると電磁波シールド性が低下する傾向にあり、一方、線幅が30μmより大きくなるとディスプレイ用フィルターの透過率が低下する傾向にある。   The line width of the conductive mesh is preferably in the range of 3 to 30 μm, and more preferably in the range of 5 to 20 μm. When the line width of the conductive mesh is smaller than 3 μm, the electromagnetic shielding property tends to be lowered. On the other hand, when the line width is larger than 30 μm, the transmittance of the display filter tends to be lowered.

導電性メッシュを有する導電層を基材上に形成する方法は、公知の方法を用いることができる。例えば、1)基材上に導電性インキをパターン状に印刷する方法。2)メッキの触媒核を含むインキでパターン印刷した後にメッキを施す方法、3)導電性繊維を用いる方法、4)基材上に金属箔を接着剤で貼り合わせた後にパターニングする方法、5)基材上に気相製膜法あるいはメッキ法により金属薄膜を形成した後にパターニングする方法、6)感光性銀塩を用いる方法、7)金属薄膜をレーザーアブレーションする方法、及び8)印刷パターン上に金属膜積層後に現像する方法、等が挙げられるが、これらに限定されない。   As a method for forming a conductive layer having a conductive mesh on a substrate, a known method can be used. For example, 1) A method of printing a conductive ink in a pattern on a substrate. 2) Method of plating after pattern printing with ink containing catalyst core of plating, 3) Method of using conductive fiber, 4) Method of patterning after bonding metal foil on base material with adhesive, 5) A method of patterning after forming a metal thin film on a substrate by vapor deposition or plating, 6) a method using a photosensitive silver salt, 7) a method of laser ablating a metal thin film, and 8) on a printed pattern Examples include, but are not limited to, a method of developing after metal film lamination.

上記の導電メッシュを有する導電層の製造方法について詳細に説明する。   The manufacturing method of the conductive layer having the conductive mesh will be described in detail.

1)基材上に導電性インキをパターン状に印刷する方法は、基材上に導電性インキを、スクリーン印刷、グラビア印刷等の公知の印刷法によりパターン状に印刷する方法である。   1) The method of printing the conductive ink in a pattern on the substrate is a method of printing the conductive ink in a pattern on the substrate by a known printing method such as screen printing or gravure printing.

2)メッキの触媒核を含むインキでパターン印刷した後にメッキを施す方法は、例えば、パラジウムコロイド含有ペーストからなる触媒インクを用いてパターン状に印刷し、これを無電解銅メッキ液中に浸漬して無電解銅メッキを施し、続いて電解銅メッキを施し、さらにNi−Sn合金の電解メッキを施して導電性メッシュパターンを形成する方法である。   2) A method of performing plating after pattern printing with ink containing catalyst nuclei for plating is, for example, printing in a pattern using a catalyst ink made of a palladium colloid-containing paste and immersing this in an electroless copper plating solution. Electroless copper plating, followed by electrolytic copper plating, and further by electrolytic plating of a Ni-Sn alloy to form a conductive mesh pattern.

3)導電性繊維を用いる方法は、導電性繊維からなる編布を接着剤または粘着材を介して貼り合わせる方法である。   3) A method using conductive fibers is a method in which a knitted fabric made of conductive fibers is bonded through an adhesive or an adhesive.

4)基材上に金属箔を接着剤で貼り合わせた後にパターニングする方法は、基材上に金属箔(銅、アルミニウム、又はニッケル等)を接着剤または粘着材を介して貼り合わせた後、この金属箔をフォトリソグラフィー法あるいはスクリーン印刷法などを利用してレジストパターンを作製した後、金属箔をエッチングする方法である。上記のレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィー法が好ましく、フォトリソグラフィー法は、金属箔上に感光性レジストを塗工又は感光性レジストフィルムをラミネートし、パターンマスクを密着させて露光後、現像液で現像してエッチングレジストパターンを形成し、さらに適当なエッチング液でパターン部以外の金属を溶出させて所望の導電性メッシュを形成する方法である。   4) The method of patterning after laminating a metal foil on a base material with an adhesive is performed by laminating a metal foil (copper, aluminum, nickel, etc.) on the base material via an adhesive or an adhesive, This metal foil is a method of etching a metal foil after producing a resist pattern using a photolithography method or a screen printing method. As a method for forming the above resist pattern, a photolithography method is preferable, and the photolithography method is a method of applying a photosensitive resist on a metal foil or laminating a photosensitive resist film, adhering a pattern mask, and exposing, This is a method of forming an etching resist pattern by developing with a developing solution, and further eluting metals other than the pattern portion with an appropriate etching solution to form a desired conductive mesh.

5)基材上に気相製膜法あるいはメッキ法により金属薄膜を形成した後にパターニングする方法は、基材上に金属薄膜(銅、アルミニウム、銀、金、パラジウム、インジウム、スズ、あるいは銀とそれ以外の金属の合金などからなる金属)を、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の気相製膜法、あるいはメッキ法によって形成し、この金属薄膜をフォトリソグラフィー法あるいはスクリーン印刷法などを利用してレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法である。上記のレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィー法が好ましく、フォトリソグラフィー法は、金属薄膜上に感光性レジストを塗工又は感光性レジストフィルムをラミネートし、パターンマスクを密着させて露光後、現像液で現像してエッチングレジストパターンを形成し、さらに適当なエッチング液でパターン部以外の金属を溶出させて所望の導電性メッシュを形成する方法である。この方法では、接着剤や粘着剤を介さずに、基材上に金属薄膜を形成することが好ましい。   5) A method of patterning after forming a metal thin film on a substrate by vapor deposition or plating is performed by using a metal thin film (copper, aluminum, silver, gold, palladium, indium, tin, or silver on the substrate). Other metal alloys) are formed by vapor deposition methods such as vapor deposition, sputtering, ion plating, etc., or plating methods, and this metal thin film is used by photolithography or screen printing. Then, after the resist pattern is prepared, the metal thin film is etched. As a method of forming the above resist pattern, a photolithography method is preferable, and the photolithography method is a method of applying a photosensitive resist on a metal thin film or laminating a photosensitive resist film, adhering a pattern mask, and exposing, This is a method of forming an etching resist pattern by developing with a developing solution, and further eluting metals other than the pattern portion with an appropriate etching solution to form a desired conductive mesh. In this method, it is preferable to form a metal thin film on a substrate without using an adhesive or a pressure-sensitive adhesive.

6)感光性銀塩を用いる方法は、ハロゲン化銀などの銀塩乳剤層を透明基材上にコーティングし、フォトマスク露光あるいはレーザー露光の後、現像処理して銀のメッシュを形成する方法がある。形成された銀メッシュはさらに銅、ニッケルなどの金属でメッキするのが好ましい。この方法は、WO2004/7810号公報、特開2004−221564号公報、特開2006−12935号公報などに記載されており、参照することができる。   6) A method using a photosensitive silver salt is a method in which a silver salt emulsion layer such as silver halide is coated on a transparent substrate, and after photomask exposure or laser exposure, development processing is performed to form a silver mesh. is there. The formed silver mesh is preferably further plated with a metal such as copper or nickel. This method is described in WO 2004/7810, JP-A 2004-221564, JP-A 2006-12935, and the like, and can be referred to.

7)金属薄膜をレーザーアブレーションする方法は、上記5)と同様の方法で基材上に形成された金属薄膜をレーザーアブレーション方式で、金属薄膜のメッシュパターンを作製する方法である。   7) The method of laser ablating a metal thin film is a method of producing a metal thin film mesh pattern by laser ablation of a metal thin film formed on a substrate in the same manner as in 5) above.

レーザーアブレーションとは、レーザー光を吸収する固体表面へエネルギー密度の高いレーザー光を照射した場合、照射された部分の分子間の結合が切断され、蒸発することにより、照射された部分の固体表面が削られる現象である。この現象を利用することで固体表面を加工することが出来る。レーザー光は直進性、集光性が高い為、アブレーションに用いるレーザー光の波長の約3倍程度の微細な面積を選択的に加工することが可能であり、レーザーアブレーション法により高い加工精度を得ることが出来る。   Laser ablation means that when a solid surface that absorbs laser light is irradiated with laser light with a high energy density, the bonds between the irradiated parts are broken and evaporated, causing the solid surface of the irradiated part to break. It is a phenomenon that is cut away. By utilizing this phenomenon, the solid surface can be processed. Since laser light is highly straight and condensing, it is possible to selectively process a fine area about 3 times the wavelength of the laser light used for ablation, and high processing accuracy is obtained by the laser ablation method. I can do it.

かかるアブレーションに用いるレーザーは金属が吸収する波長のあらゆるレーザーを用いることが出来る。例えばガスレーザー、半導体レーザー、エキシマレーザー、または半導体レーザーを励起光源に用いた固体レーザーを用いることが出来る。また、これら固体レーザーと非線形光学結晶を組み合わせることにより得られる第二高調波光源(SHG)、第三高調波光源(THG)、第四高調波光源(FHG)を用いることが出来る。   The laser used for such ablation can be any laser having a wavelength that is absorbed by the metal. For example, a gas laser, a semiconductor laser, an excimer laser, or a solid laser using a semiconductor laser as an excitation light source can be used. A second harmonic light source (SHG), a third harmonic light source (THG), or a fourth harmonic light source (FHG) obtained by combining these solid-state lasers and a nonlinear optical crystal can be used.

かかる固体レーザーの中でも、プラスチックフィルムを加工しないという観点から、波長が254nmから533nmの紫外線レーザーを用いることが好ましい。中でも好ましくはNd:YAG(ネオジウム:イットリウム・アルミニウム・ガーネット) などの固体レーザーのSHG(波長533nm)、さらに好ましくはNd:YAG などの固体レーザーのTHG(波長355nm)の紫外線レーザーを用いることが好ましい。   Among such solid-state lasers, an ultraviolet laser having a wavelength of 254 nm to 533 nm is preferably used from the viewpoint of not processing a plastic film. Among them, it is preferable to use a solid laser SHG (wavelength 533 nm) such as Nd: YAG (neodymium: yttrium, aluminum, garnet), and more preferably a solid laser THG (wavelength 355 nm) ultraviolet laser such as Nd: YAG. .

8)印刷パターン上に金属膜形成後に現像する方法は、基材上に剥離可能な樹脂でメッシュパターンとは逆パターンの印刷を施し、その印刷パターン上に金属薄膜を上記5)と同様の方法で形成した後、現像して樹脂とその上の金属膜を剥離して金属のメッシュパターンを形成する方法である。剥離可能な樹脂として、水、有機溶剤あるいはアルカリに可溶な樹脂やレジストを用いることができる。この方法は、特開2001−185834号、特開2001−332889号、特開2003−243881号、特開2006−140346号、特開2006−156642号公報等に記載されており、参照することができる。   8) The development method after forming the metal film on the printed pattern is the same method as in 5) above, except that the reverse pattern of the mesh pattern is printed on the substrate and the metal thin film is printed on the printed pattern. And forming a metal mesh pattern by peeling off the resin and the metal film thereon. As the peelable resin, a resin or resist that is soluble in water, an organic solvent, or an alkali can be used. This method is described in JP-A No. 2001-185834, JP-A No. 2001-332889, JP-A No. 2003-243881, JP-A No. 2006-140346, JP-A No. 2006-156642, and the like. it can.

上記した導電性メッシュの製造方法の中でも、厚みが比較的小さい導電性メッシュ(例えば厚みが8μm以下の導電性メッシュ)を容易に製造することができ、かつ高い電磁波シールド性を確保できるという観点から、上記の2)、5)、6)及び7)の製造方法が好ましく用いられる。また、機能性表面層の塗工性、及び機能性表面層と導電層との密着性の観点からは、上記の2)、5)及び7)の製造方法で製造された導電性メッシュが好ましく用いられる。特に、上記5)の製造方法は、機能性表面層の塗工性が良好であり、かつ導電性メッシュの製造コストが低いことから、特に好ましく用いられる。   Among the above-described methods for producing a conductive mesh, a conductive mesh having a relatively small thickness (for example, a conductive mesh having a thickness of 8 μm or less) can be easily produced, and high electromagnetic shielding properties can be secured. The production methods 2), 5), 6) and 7) above are preferably used. In addition, from the viewpoint of the coating property of the functional surface layer and the adhesion between the functional surface layer and the conductive layer, the conductive mesh produced by the production methods of 2), 5) and 7) above is preferred. Used. In particular, the production method 5) is particularly preferably used because the coating property of the functional surface layer is good and the production cost of the conductive mesh is low.

上記5)の製造方法について、更に詳細に説明する。   The production method 5) will be described in more detail.

基材上に金属薄膜を形成する方法としては、気相製膜法が好ましい。上記の気相製膜法としては、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等が挙げられるが、これらの中でも、スパッタリング及び真空蒸着が好ましい。金属薄膜を形成するための金属としては、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、クロム、チタンなどの金属の内、1種または2種以上を組合せた合金あるいは多層のものを使用することができる。これらの中でも、良好な電磁波シールド性が得られ、メッシュパターン加工が容易で、かつ低価格であるなどの点から、銅が好ましく用いられる。   As a method for forming a metal thin film on a substrate, a vapor deposition method is preferred. Examples of the vapor deposition method include sputtering, ion plating, electron beam vapor deposition, vacuum vapor deposition, and chemical vapor deposition. Among these, sputtering and vacuum vapor deposition are preferable. As a metal for forming a metal thin film, an alloy or a multilayer of one or more of metals such as copper, aluminum, nickel, iron, gold, silver, stainless steel, chromium and titanium is used. can do. Among these, copper is preferably used from the viewpoints of obtaining good electromagnetic shielding properties, easy mesh pattern processing, and low cost.

また、金属薄膜の金属として銅を用いる場合は、基材と銅薄膜との間に、5〜100nmの厚みのニッケル薄膜を用いるのが好ましい。これによって、透明基材と銅薄膜の接着性が向上する。また、金属薄膜の表面に、金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物等の金属化合物を、気相製膜法で積層することができる。この金属化合物の積層によって、後述する黒化処理を省略することができるので好ましい。かかる金属化合物としては、金、白金、銀、水銀、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、鉄、スズ、亜鉛、インジウム、パラジウム、イリジウム、コバルト、タンタル、アンチモン、及びチタン等の金属の酸化物、窒化物、あるいは硫化物が挙げられる。上記の金属化合物の厚みは、5〜200nmの範囲が好ましく、10〜100nmの範囲がより好ましい。この金属化合物層は、金属薄膜の一部を構成し、更に導電性メッシュの一部を構成する。   Moreover, when using copper as a metal of a metal thin film, it is preferable to use a nickel thin film with a thickness of 5-100 nm between a base material and a copper thin film. Thereby, the adhesiveness of a transparent base material and a copper thin film improves. Further, a metal compound such as a metal oxide, metal nitride, or metal sulfide can be laminated on the surface of the metal thin film by a vapor deposition method. This metal compound lamination is preferable because the blackening treatment described later can be omitted. Examples of such metal compounds include gold, platinum, silver, mercury, copper, aluminum, nickel, chromium, iron, tin, zinc, indium, palladium, iridium, cobalt, tantalum, antimony, titanium, and other metal oxides, nitriding Or sulfide. The thickness of the metal compound is preferably in the range of 5 to 200 nm, more preferably in the range of 10 to 100 nm. This metal compound layer constitutes a part of the metal thin film and further constitutes a part of the conductive mesh.

金属薄膜上にレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィーが好ましく用いられる。かかるフォトリソグラフィー法は、金属薄膜上に感光性レジスト層を積層し、該レジスト層をメッシュパターン状に露光し、現像してレジストパターンを形成し、次いで、金属薄膜をエッチングしてメッシュパターン化し、メッシュ上のレジスト層を剥離除去する方法である。感光性レジスト層としては、露光部分が硬化するネガレジスト、あるいは逆に露光部分が現像によって溶解するポジレジストを用いることができる。感光性レジスト層は金属薄膜上に直接に塗工して積層してもよいし、あるいはフォトレジストからなるフィルムを貼り合わせてもよい。フォトレジスト層を露光する方法としては、フォトマスクを介して紫外線等で露光する方法、もしくはレーザーを用いて直接に走査露光する方法を用いることができる。   As a method for forming a resist pattern on the metal thin film, photolithography is preferably used. In such a photolithography method, a photosensitive resist layer is laminated on a metal thin film, the resist layer is exposed to a mesh pattern, developed to form a resist pattern, and then the metal thin film is etched to form a mesh pattern. In this method, the resist layer on the mesh is peeled and removed. As the photosensitive resist layer, a negative resist in which the exposed portion is cured or a positive resist in which the exposed portion is dissolved by development can be used. The photosensitive resist layer may be coated and laminated directly on the metal thin film, or a film made of a photoresist may be bonded. As a method for exposing the photoresist layer, there can be used a method of exposing with an ultraviolet ray or the like through a photomask, or a method of directly scanning and exposing using a laser.

また、上記のレジスト層に、カーボンブラックやチタンブラック等の黒顔料を含有させて、黒色化することができる。この黒色レジスト層は、除去せずに、導電性メッシュ上にそのまま残すことによって、後述する黒化処理を省略することができるので好ましい。エッチングする方法としては、ケミカルエッチング法等がある。ケミカルエッチングとは、レジストパターンで保護された金属部分以外の金属をエッチング液で溶解し、除去する方法である。エッチング液としては、塩化第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液、アルカリエッチング液等がある。   Further, the resist layer can be blackened by containing a black pigment such as carbon black or titanium black. This black resist layer is preferably left as it is on the conductive mesh without being removed, so that the blackening treatment described later can be omitted. Etching methods include chemical etching methods. Chemical etching is a method in which a metal other than a metal portion protected by a resist pattern is dissolved and removed with an etching solution. Examples of the etching solution include a ferric chloride aqueous solution, a cupric chloride aqueous solution, and an alkaline etching solution.

本発明にかかる導電性メッシュは、黒化処理が施されていることが好ましい。黒化処理を施すことにより、導電性メッシュの金属光沢による視聴者側からの反射やディスプレイ側からの反射も低減することができ、さらに画像視認性の低下を低減することができ、コントラスト・視認性に優れたディスプレイ用フィルターが得られる。
(機能性表面層)
本発明にかかる機能性表面層は、基材に対して導電層側の最表面に配置される層である。かかる機能性表面層は、反射防止機能、防眩機能、ハードコート機能、及び防汚機能の中から選ばれる少なくとも1つの機能を有することが好ましい。上記機能性表面層は単一層であっても複数層で構成されていてもよく、また複数の機能を併せ持った層であってもよい。
The conductive mesh according to the present invention is preferably blackened. By applying a blackening treatment, reflection from the viewer side and reflection from the display side due to the metallic luster of the conductive mesh can be reduced, and further reduction in image visibility can be reduced. An excellent display filter can be obtained.
(Functional surface layer)
The functional surface layer concerning this invention is a layer arrange | positioned at the outermost surface at the side of a conductive layer with respect to a base material. Such a functional surface layer preferably has at least one function selected from an antireflection function, an antiglare function, a hard coat function, and an antifouling function. The functional surface layer may be a single layer or a plurality of layers, or may be a layer having a plurality of functions.

本発明は、導電層上に機能性表面層を直接に積層するのが好ましく、特に導電層上に直接に機能性表面層を塗工形成するのが好ましい。   In the present invention, the functional surface layer is preferably laminated directly on the conductive layer, and in particular, the functional surface layer is preferably formed directly on the conductive layer.

導電層上に機能性表面層を直接に積層することによって、さらには直接に塗工形成することによって、ディスプレイ用フィルターの基材を1枚のみにすることが可能になることから原材料コストが低下し、貼合工程が不要となることから生産効率が向上し、さらに、前述したレーザーによる電極形成(空隙の形成)が容易に行えるようになる。   By laminating the functional surface layer directly on the conductive layer, and further by direct coating, it is possible to use only one substrate for the display filter, thus reducing raw material costs. And since a bonding process becomes unnecessary, production efficiency improves, and also electrode formation (formation of a space | gap) by the laser mentioned above can be performed easily.

以下に機能性表面層を構成する反射防止機能、防眩機能、ハードコート機能、防汚機能を有する層について具体的に説明する。
(反射防止層)
反射防止機能を有する層(反射防止層)は、ディスプレイの画像表示に影響を与える蛍光灯などの外光の反射や映り込みを防止するものである。反射防止層は、表面の視感反射率が4%以下であることが好ましく、3%以下がより好ましく、特に2%以下であることが好ましい。ここで視感反射率は、分光光度計等を使用して可視領域波長(380〜780nm)の反射率を測定し、CIE1931システムに準じて計算された視感反射率(Y)である。
The layer having an antireflection function, an antiglare function, a hard coat function, and an antifouling function constituting the functional surface layer will be specifically described below.
(Antireflection layer)
The layer having an antireflection function (antireflection layer) prevents reflection or reflection of external light such as a fluorescent lamp that affects the image display of the display. The antireflection layer preferably has a surface luminous reflectance of 4% or less, more preferably 3% or less, and particularly preferably 2% or less. Here, the luminous reflectance is a luminous reflectance (Y) calculated according to the CIE1931 system by measuring the reflectance in the visible region wavelength (380 to 780 nm) using a spectrophotometer or the like.

反射防止層としては、低屈折率層のみの単一層であってもよいし、低屈折率層と高屈折率層の積層構成であってもよい。上記積層構成では、高屈折率層が導電層側に配置される。
低屈折率層の屈折率は1.25〜1.49の範囲が好ましく、特に1.3〜1.45の範囲が好ましい。高屈折率層の屈折率は1.5〜1.75の範囲が好ましく、特に1.55〜1.70の範囲が好ましい。
(低屈折率層)
低屈折率層を形成する方法としては、1)MgF2やSiO2等の薄膜を真空蒸着法やスパッタリング、プラズマCVD法等の気相法により形成する方法、2)シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーを主成分と層を熱硬化する方法、3)含フッ素化合物やシリカ系微粒子を含む活性エネルギー線硬化型樹脂層を硬化する方法等が挙げられる。これらの中でも、2)、3)の方法が好ましく、特に3)の方法が好ましい。
上記2)のシリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーを主成分と層を熱硬化する方法について説明する。
The antireflection layer may be a single layer having only a low refractive index layer, or may be a laminated structure of a low refractive index layer and a high refractive index layer. In the laminated structure, the high refractive index layer is disposed on the conductive layer side.
The refractive index of the low refractive index layer is preferably in the range of 1.25 to 1.49, particularly preferably in the range of 1.3 to 1.45. The refractive index of the high refractive index layer is preferably in the range of 1.5 to 1.75, particularly preferably in the range of 1.55 to 1.70.
(Low refractive index layer)
As a method for forming a low refractive index layer, 1) a method of forming a thin film such as MgF 2 or SiO 2 by a vapor phase method such as vacuum deposition, sputtering, plasma CVD, or the like, and 2) combining with silica-based fine particles. Examples thereof include a method of thermally curing a siloxane polymer as a main component and a layer, and 3) a method of curing an active energy ray-curable resin layer containing a fluorine-containing compound or silica-based fine particles. Among these, the methods 2) and 3) are preferable, and the method 3) is particularly preferable.
The method of thermosetting the main component and the layer of the siloxane polymer formed by bonding with the silica-based fine particles of the above 2) will be described.

ここで言う「結合」とは、シリカ系微粒子のシリカ成分とマトリックスのシロキサンポリマーが反応して均質化している状態を意味する。シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーは、該シリカ系微粒子の存在下、多官能性シラン化合物を溶剤中、酸触媒により、公知の加水分解反応によって、一旦シラノール化合物を形成し、公知の縮合反応を利用することによって得ることができる。   The term “bond” as used herein means a state in which the silica component of the silica-based fine particles and the siloxane polymer in the matrix are reacted and homogenized. A siloxane polymer formed by combining with silica-based fine particles once forms a silanol compound by a known hydrolysis reaction with a polyfunctional silane compound in a solvent and an acid catalyst in the presence of the silica-based fine particles. It can be obtained by utilizing the reaction.

かかる多官能性シラン化合物としては、多官能性フッ素含有シラン化合物を含むことが低屈折率化、防汚性の点から好ましく、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシランなどの3官能性フッ素含有シラン化合物、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシランなどの2官能性フッ素含有シラン化合物などが挙げられ、いずれも好適に用いられるが、表面硬度の観点から、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシランが、より好ましい。   The polyfunctional silane compound preferably includes a polyfunctional fluorine-containing silane compound from the viewpoint of low refractive index and antifouling properties, and includes trifluoromethylmethoxysilane, trifluoromethylethoxysilane, and trifluoropropyltrimethoxy. Trifunctional fluorine-containing silane compounds such as silane, trifluoropropyltriethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, heptadecafluorodecyltriethoxysilane, tridecafluorooctyltriethoxysilane, Examples include bifunctional fluorine-containing silane compounds such as heptadecafluorodecylmethyldimethoxysilane, all of which are preferably used. From the viewpoint of surface hardness, trifluoromethylmethoxysilane, trifluoro Chill silane, trifluoropropyl trimethoxy silane, trifluoropropyl triethoxy silane, more preferably.

シリカ系微粒子としては、平均粒子径1nm〜200nmのシリカ系微粒子であることが好ましく、特に好ましくは、平均粒子径1nm〜70nmである。平均粒子径が1nmを下回ると、マトリックス材料との結合が不十分となり、硬度が低下することがある。一方、平均粒子径が200nmを越えると、粒子を多く導入して生じる粒子間の空隙の発生が少なくなり、低屈折率化の効果が十分発現しないことがある。さらに、かかるシリカ系微粒子の中でも、内部に空洞を有する構造のものが、屈折率を低下させるために、特に好ましく使用される。   The silica-based fine particles are preferably silica-based fine particles having an average particle diameter of 1 nm to 200 nm, and particularly preferably an average particle diameter of 1 nm to 70 nm. When the average particle diameter is less than 1 nm, the bond with the matrix material becomes insufficient and the hardness may be lowered. On the other hand, if the average particle diameter exceeds 200 nm, the generation of voids between particles caused by introducing a large amount of particles is reduced, and the effect of lowering the refractive index may not be sufficiently exhibited. Further, among these silica-based fine particles, those having a structure having a cavity inside are particularly preferably used in order to lower the refractive index.

かかる内部に空洞を有するシリカ系微粒子とは、外殻によって包囲された空洞部を有するシリカ系微粒子、多数の空洞部を有する多孔質のシリカ系微粒子等が挙げられ、いずれも好適に用いられる。このような例としては例えば、特許第3272111号公報に開示されている方法によって製造でき、微粒子内部の空洞の占める体積、すなわち微粒子の空隙率としては、5%以上が好ましく、30%以上がさらに好ましい。空隙率は、例えば、水銀ポロシメーター(商品名:ボアサイザー9320−PC2、(株)島津製作所製)を用いて測定することができる。また、該微粒子自体の屈折率は、1.20〜1.40であるのが好ましく、1.20〜1.35であるのがより好ましい。このようなシリカ系微粒子としては、例えば特開2001−233611号公報に開示されているものや、特許第3272111号公報等の一般に市販されているものを挙げることができる。   Examples of such silica-based fine particles having cavities therein include silica-based fine particles having a hollow portion surrounded by an outer shell, porous silica-based fine particles having a large number of hollow portions, and the like. As such an example, for example, it can be produced by the method disclosed in Japanese Patent No. 3272111, and the volume occupied by the cavities inside the fine particles, that is, the porosity of the fine particles is preferably 5% or more, more preferably 30% or more. preferable. The porosity can be measured using, for example, a mercury porosimeter (trade name: Bore Sizer 9320-PC2, manufactured by Shimadzu Corporation). Further, the refractive index of the fine particles themselves is preferably 1.20 to 1.40, more preferably 1.20 to 1.35. Examples of such silica-based fine particles include those disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-233611, and those commercially available such as Japanese Patent No. 3272111.

上記3)の含フッ素化合物やシリカ系微粒子を含む活性エネルギー線硬化型樹脂層を硬化する方法について説明する。   A method for curing the active energy ray-curable resin layer containing the fluorine-containing compound and silica-based fine particles in the above 3) will be described.

含フッ素化合物とシリカ系微粒子はそれぞれ単独で用いてもよいが、組み合わせて用いることが好ましい。
上記の含フッ素化合物としては、含フッ素モノマー、含フッ素高分子化合物が挙げられる。
The fluorine-containing compound and the silica-based fine particles may be used alone, but are preferably used in combination.
Examples of the fluorine-containing compound include a fluorine-containing monomer and a fluorine-containing polymer compound.

含フッ素モノマーとしては、例えば、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチル(メタ)アクリレートなどのフッ素含有(メタ)アクリル酸エステル類が挙げられる。   Examples of the fluorine-containing monomer include 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, 2- (perfluorobutyl) ethyl (meth) ) Acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl (meth) acrylate, and other fluorine-containing (meth) acrylic acids Examples include esters.

含フッ素高分子化合物としては、例えば、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する(メタ)アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する(メタ)アクリレートモノマー(例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート等)が挙げられる。   Examples of the fluorine-containing polymer compound include a fluorine-containing copolymer having a fluorine-containing monomer and a monomer for imparting a crosslinkable group as constituent units. Specific examples of the fluorine-containing monomer unit include, for example, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, etc. ), (Meth) acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemicals) and M-2020 (manufactured by Daikin)), fully or partially fluorinated vinyl ethers, and the like. As a monomer for imparting a crosslinkable group, in addition to a (meth) acrylate monomer having a crosslinkable functional group in the molecule like glycidyl methacrylate, it has a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, a sulfonic acid group, etc. ) Acrylate monomers (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, etc.).

シリカ系微粒子としては、上記2)の方法に用いられる内部に空洞を有するシリカ系微粒子が好ましく用いられる。   As silica-based fine particles, silica-based fine particles having cavities in the interior used in the above method 2) are preferably used.

活性エネルギー線硬化型樹脂は、活性エネルギー線の照射によって重合し硬化されて低屈折率層の樹脂層を形成する。ここで、活性エネルギー線とは、紫外線、電子線および放射線(α線、β線、γ線など)などを指し、実用的には、電子線や紫外線が好ましく、特に紫外線が簡便であり好ましい。紫外線源としては、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク灯などを用いることができる。また、活性エネルギー線を照射するときに、低酸素濃度下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができる。また、電子線照射方式は、装置が高価で不活性気体下での操作が必要ではあるが、塗布液中に光重合開始剤や光増感剤などを含有させなくてもよい点で有利である。   The active energy ray-curable resin is polymerized and cured by irradiation with active energy rays to form a resin layer having a low refractive index layer. Here, active energy rays refer to ultraviolet rays, electron rays, radiation (α rays, β rays, γ rays, etc.) and the like. Practically, electron rays and ultraviolet rays are preferable, and ultraviolet rays are particularly simple and preferable. As the ultraviolet ray source, an ultraviolet fluorescent lamp, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a carbon arc lamp, or the like can be used. Moreover, when irradiating an active energy ray, if it irradiates under a low oxygen concentration, it can harden | cure efficiently. The electron beam irradiation method is advantageous in that the apparatus is expensive and needs to be operated under an inert gas, but it does not need to contain a photopolymerization initiator or a photosensitizer in the coating solution. is there.

上記の活性エネルギー線硬化型樹脂層に用いられる樹脂成分としては、(メタ)アクリロイル基を分子内に2個以上有する多官能(メタ)アクリレート化合物が好ましく用いられる。更に(メタ)アクリロイル基を分子内に3個以上有する多官能(メタ)アクリレート化合物が好ましく、特にアクリロイル基を分子内に3〜10個有する多官能(メタ)アクリレート化合物が好ましく用いられる。   As the resin component used in the active energy ray-curable resin layer, a polyfunctional (meth) acrylate compound having two or more (meth) acryloyl groups in the molecule is preferably used. Furthermore, polyfunctional (meth) acrylate compounds having 3 or more (meth) acryloyl groups in the molecule are preferred, and polyfunctional (meth) acrylate compounds having 3 to 10 acryloyl groups in the molecule are particularly preferred.

かかる多官能(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジイルジメチレンジ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルの両末端(メタ)アクリル酸付加物、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、エチレン変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス−(2−ヒドロキシエチル)−イソシアヌル酸エステルトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。なお、本発明において「・・・(メタ)アクリ・・・」とは、「・・・アクリ・・・または・・・メタアクリ・・・」を略して表示したものである。   Examples of such polyfunctional (meth) acrylate compounds include ethylene glycol di (meth) acrylate, dicyclopentenyl di (meth) acrylate, triethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, and tricyclodecanediyl dimethy. Range (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, both ends (meth) of bisphenol A diglycidyl ether Acrylic acid adduct, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylo Rupropane tri (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, ethylene-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris- (2-hydroxyethyl) -isocyanuric acid ester tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, Examples thereof include dipentaerythritol penta (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. In the present invention, “... (Meta) acrylic ...” is an abbreviation of “... acrylic ... or meta acrylic ...”.

上記の多官能(メタ)アクリレート化合物の中でも、(メタ)アクリロイル基を分子内に3個以上有する多官能(メタ)アクリレート化合物が好ましく、特にアクリロイル基を分子内に3〜10個有する多官能(メタ)アクリレート化合物が好ましく用いられる。   Among the above polyfunctional (meth) acrylate compounds, polyfunctional (meth) acrylate compounds having 3 or more (meth) acryloyl groups in the molecule are preferable, and polyfunctional (having 3 to 10 acryloyl groups in the molecule) ( A (meth) acrylate compound is preferably used.

上記の多官能(メタ)アクリレート化合物の重合、硬化を促進するために、活性エネルギー線硬化型樹脂層に、光重合開始剤を含有させることが好ましい。
かかる光重合開始剤としては、光重合開始剤の具体的な例としては、アセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、p−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、2種以上組み合せて用いてもよい。
In order to accelerate the polymerization and curing of the polyfunctional (meth) acrylate compound, it is preferable to include a photopolymerization initiator in the active energy ray-curable resin layer.
As such photopolymerization initiator, specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4,4′-bisdiethylaminobenzophenone, Michler's ketone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, methyl benzoylformate, p-isopropyl-α-hydroxyisobutylphenone, Carbonyl compounds such as α-hydroxyisobutylphenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, tetramethylthiurammo Sulfide, tetramethylthiuram disulfide, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, and the like can be used sulfur compounds such as 2-methyl thioxanthone. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

低屈折率層の厚みは、0.01〜0.4μmの範囲が好ましく、0.02〜0.2μmの範囲がより好ましい。
(高屈折率層)
高屈折率層は、金属酸化物微粒子を含む活性エネルギー線硬化型樹脂層を硬化した層であることが好ましい。
The thickness of the low refractive index layer is preferably in the range of 0.01 to 0.4 μm, and more preferably in the range of 0.02 to 0.2 μm.
(High refractive index layer)
The high refractive index layer is preferably a layer obtained by curing an active energy ray-curable resin layer containing metal oxide fine particles.

金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物微粒子は単独で用いても良いし、複数併用しても良い。   Examples of the metal oxide fine particles include titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony oxide, cerium oxide, iron oxide, zinc antimonate, tin oxide-doped indium oxide (ITO), and antimony-doped tin oxide (ATO). , Aluminum-doped zinc oxide, gallium-doped zinc oxide, fluorine-doped tin oxide and the like. These metal oxide fine particles may be used alone or in combination.

活性エネルギー線硬化型樹脂層については、上記の低屈折率層の項で説明したものと同様のものを用いることができる。   As the active energy ray-curable resin layer, the same materials as those described in the section of the low refractive index layer can be used.

高屈折率層の厚みは、0.05〜10μmの範囲が好ましく、0.08〜5μmの範囲がより好ましい。
(防眩層)
防眩機能を有する層(防眩層)は、画像のギラツキを防止するものであり、表面に微小な凹凸を有する膜が好ましく用いられる。防眩層としては、例えば、熱硬化型樹脂または光硬化型樹脂に、平均粒子径が1〜10μm程度の粒子を分散させて支持体上に塗布および硬化させたもの、あるいは、熱硬化型樹脂または光硬化型樹脂を表面に塗布し、所望の表面状態を有する型を押し付けて凹凸を形成した後に硬化させたものなどが用いられる。防眩層は、ヘイズ値(JIS K 7136;2000年)が0.5〜20%であることが好ましい。また、防眩層表面の中心線平均粗さRa値は、100〜1000nmの範囲が好ましく、特に200〜700nmの範囲が好ましい。ここで中心線平均粗さRa値は、JIS B0601−1982の方法に基づき、表面粗さ測定器SE―3400((株)小坂研究所製)を用いて測定することができる。
The thickness of the high refractive index layer is preferably in the range of 0.05 to 10 μm, and more preferably in the range of 0.08 to 5 μm.
(Anti-glare layer)
The layer having an antiglare function (antiglare layer) prevents glare in the image, and a film having minute irregularities on the surface is preferably used. As the antiglare layer, for example, a thermosetting resin or a photocurable resin in which particles having an average particle diameter of about 1 to 10 μm are dispersed and applied to a support and cured, or a thermosetting resin Alternatively, a photo-curing resin is applied to the surface, a mold having a desired surface state is pressed to form unevenness, and then cured. The antiglare layer preferably has a haze value (JIS K 7136; 2000) of 0.5 to 20%. Further, the center line average roughness Ra value on the surface of the antiglare layer is preferably in the range of 100 to 1000 nm, particularly preferably in the range of 200 to 700 nm. Here, the center line average roughness Ra value can be measured using a surface roughness measuring instrument SE-3400 (manufactured by Kosaka Laboratory) based on the method of JIS B0601-1982.

防眩層は、ハードコート機能を併せ持つことが好ましい。防眩層の厚みは0.5〜20μmの範囲が好ましく、1〜15μmの範囲がより好ましく、特に1.5〜12μmの範囲が好ましい。
(ハードコート層)
ハードコート機能を有する層(ハードコート層)は、傷防止のために設けられる。ハードコート層は硬度が高いことが好ましく、JIS K5600−5−4(1999年)で定義される鉛筆硬度が、H以上が好ましく、2H以上がより好ましい。上限は9H程度である。
The antiglare layer preferably has a hard coat function. The thickness of the antiglare layer is preferably in the range of 0.5 to 20 μm, more preferably in the range of 1 to 15 μm, and particularly preferably in the range of 1.5 to 12 μm.
(Hard coat layer)
A layer having a hard coat function (hard coat layer) is provided for preventing scratches. The hard coat layer preferably has a high hardness, and the pencil hardness defined by JIS K5600-5-4 (1999) is preferably H or higher, and more preferably 2H or higher. The upper limit is about 9H.

ハードコート層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂などで構成することができる。特に、硬度と耐久性などの点で、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂が好ましい。さらに、硬化性、可撓性および生産性の点で、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂からなるものが好ましい。   The hard coat layer can be composed of an acrylic resin, urethane resin, melamine resin, epoxy resin, organic silicate compound, silicone resin, or the like. In particular, silicone resins and acrylic resins are preferable in terms of hardness and durability. Further, in terms of curability, flexibility, and productivity, those made of an active energy ray-curable acrylic resin or a thermosetting acrylic resin are preferable.

活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂または熱硬化型のアクリル系樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマーあるいは反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。   The active energy ray-curable acrylic resin or thermosetting acrylic resin is a composition containing a polyfunctional acrylate, an acrylic oligomer, or a reactive diluent as a polymerization curing component. In addition, you may use what contains a photoinitiator, a photosensitizer, a thermal-polymerization initiator, a modifier, etc. as needed.

アクリルオリゴマーとは、アクリル系樹脂骨格に反応性のアクリル基が結合されたものを始めとして、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートなどであり、また、メラミンやイソシアヌール酸などの剛直な骨格にアクリル基を結合したものなども用いることができる。   Acrylic oligomers include polyester acrylates, urethane acrylates, epoxy acrylates, polyether acrylates, etc., including those in which a reactive acrylic group is bonded to an acrylic resin skeleton, and rigid materials such as melamine and isocyanuric acid. A material in which an acrylic group is bonded to a simple skeleton can also be used.

また、反応性希釈剤とは、塗布剤の媒体として塗布工程での溶剤の機能を担うと共に、それ自体が一官能性あるいは多官能性のアクリルオリゴマーと反応する基を有し、塗膜の共重合成分となるものである。   In addition, the reactive diluent serves as a solvent for the coating process as a coating medium, and has a group that itself reacts with a monofunctional or polyfunctional acrylic oligomer. It becomes a polymerization component.

また、市販されている多官能アクリル系硬化塗料としては、三菱レイヨン株式会社;(商品名“ダイヤビーム(登録商標)”シリーズなど)、長瀬産業株式会社;(商品名“デナコール(登録商標)”シリーズなど)、新中村株式会社;(商品名“NKエステル”シリーズなど)、大日本インキ化学工業株式会社;(商品名“UNIDIC(登録商標)”シリーズなど)、東亜合成化学工業株式会社;(商品名“アロニックス(登録商標)”シリーズなど)、日本油脂株式会社;(商品名“ブレンマー(登録商標)”シリーズなど)、日本化薬株式会社;(商品名“KAYARAD(登録商標)”シリーズなど)、共栄社化学株式会社;(商品名“ライトエステル”シリーズ、“ライトアクリレート”シリーズなど)などの製品を利用することができる。   Also, commercially available polyfunctional acrylic cured paints include Mitsubishi Rayon Co., Ltd. (trade name “Diabeam (registered trademark)” series, etc.), Nagase Sangyo Co., Ltd. (trade name “Denacol (registered trademark)”). Series, etc.), Shin-Nakamura Co., Ltd. (trade name “NK Ester” series, etc.), Dainippon Ink & Chemicals Co., Ltd .; (trade name “UNIDIC (registered trademark)” series, etc.), Toa Gosei Chemical Industry Co., Ltd .; (Product name "Aronix (registered trademark)" series, etc.), Nippon Oil & Fats Co., Ltd. (product name "Blenmer (registered trademark)" series, etc.), Nippon Kayaku Co., Ltd .; (product name "KAYARAD (registered trademark)" series, etc.) ), Kyoeisha Chemical Co., Ltd .; (Product name “Light Ester” series, “Light Acrylate” series, etc.) Can.

ハードコート層形成組成物を構成するアクリル化合物の代表的なものを例示すると、1分子中に3個以上、より好ましくは4個以上、さらに好ましくは5個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーの少なくとも1種と、1分子中に1〜2個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の少なくとも1種とからなる混合物を主たる構成成分とし、活性エネルギー線硬化または熱硬化によって得られるハードコート層が、硬度、耐摩耗性および可撓性に優れている点で好ましく用いられる。(メタ)アクリロイルオキシ基が多すぎる場合には、単量体は高粘度となり取り扱いし難くなり、また、高分子量とならざるを得なくなって塗布液として用いることが困難となるので、1分子中の(メタ)アクリロイルオキシ基は好ましくは10個以下である。   When the typical thing of the acrylic compound which comprises a hard-coat layer formation composition is illustrated, it has 3 or more, More preferably 4 or more, More preferably 5 or more (meth) acryloyloxy group in 1 molecule An active energy ray comprising, as a main component, a mixture comprising at least one of a monomer and a prepolymer and at least one monomer having 1 to 2 ethylenically unsaturated double bonds in one molecule A hard coat layer obtained by curing or thermosetting is preferably used in that it is excellent in hardness, wear resistance and flexibility. If there are too many (meth) acryloyloxy groups, the monomer will be highly viscous and difficult to handle, and will have to be of high molecular weight, making it difficult to use as a coating solution. The number of (meth) acryloyloxy groups is preferably 10 or less.

1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーとしては、1分子中に3個以上のアルコール性水酸基を有する多価アルコールの該水酸基が、3個以上の(メタ)アクリル酸のエステル化物となっている化合物などを挙げることができる。具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどを用いることができる。これらの単量体およびプレポリマーは、1種または2種以上を混合して使用することができる。特にこれらの内、少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物は、後述するイソシアネートとの併用により、ハードコート層と隣接層との接着性を向上させることができるので特に好ましい。   As the monomer and prepolymer having 3 or more (meth) acryloyloxy groups in one molecule, the hydroxyl group of the polyhydric alcohol having 3 or more alcoholic hydroxyl groups in one molecule is 3 or more. Examples include compounds that are esterified products of (meth) acrylic acid. Specific examples include pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer, pentaerythritol triacrylate toluene diisocyanate urethane prepolymer, pentaerythritol triacrylate isophorone diisocyanate urethane prepolymer, etc. Can be used. These monomers and prepolymers can be used alone or in combination of two or more. Of these, polyfunctional acrylate compounds having at least one hydroxyl group are particularly preferred because they can improve the adhesion between the hard coat layer and the adjacent layer when used in combination with the isocyanate described below.

これらの1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーの使用割合は、ハードコート層形成組成物総量に対して20〜90質量%が好ましく、より好ましくは30〜80質量%、最も好ましくは30〜70質量%である。   The use ratio of the monomer and prepolymer having 3 or more (meth) acryloyloxy groups in one molecule is preferably 20 to 90% by mass, more preferably based on the total amount of the hard coat layer forming composition. It is 30-80 mass%, Most preferably, it is 30-70 mass%.

上記1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーの使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して20質量%未満の場合には、十分な耐摩耗性を有する硬化被膜を得るという点で不十分な場合がある。また、上記1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーの使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して90質量%を超える場合は、硬化による収縮が大きく、硬化被膜に歪が残ったり、被膜の可撓性が低下したり、硬化被膜側に大きくカールするなどの不都合を招く場合がある。   When the use ratio of the monomer and prepolymer having 3 or more (meth) acryloyloxy groups in one molecule is less than 20% by mass relative to the total amount of the hard coat layer forming composition, sufficient resistance In some cases, it is insufficient in terms of obtaining a hardened film having wear properties. Moreover, when the usage rate of the monomer and prepolymer having 3 or more (meth) acryloyloxy groups in one molecule exceeds 90% by mass with respect to the total amount of the hard coat layer forming composition, In some cases, the shrinkage is large, and the cured film remains distorted, the flexibility of the film is lowered, or the curled side is greatly curled.

また、これらの内、少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物の使用割合は、ハードコート層形成組成物総量に対して10〜80質量%が好ましく、より好ましくは20〜70質量%、最も好ましくは30〜60質量%である。少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物の使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して10質量%未満の場合には、ハードコート層とその隣接層との接着性を向上させる効果が小さい場合がある。少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物の使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して80質量%を超える場合は、ハードコート層内の架橋密度が低下して、ハードコート層の硬度が低下する傾向がある。   Of these, the proportion of the polyfunctional acrylate compound having at least one hydroxyl group is preferably 10 to 80% by mass, more preferably 20 to 70% by mass, and most preferably the total amount of the hard coat layer forming composition. Is 30 to 60% by mass. When the proportion of the polyfunctional acrylate compound having at least one hydroxyl group is less than 10% by mass with respect to the total amount of the hard coat layer forming composition, the effect of improving the adhesion between the hard coat layer and its adjacent layer is obtained. It may be small. When the use ratio of the polyfunctional acrylate compound having at least one hydroxyl group exceeds 80% by mass with respect to the total amount of the hard coat layer forming composition, the crosslink density in the hard coat layer is lowered, and the hardness of the hard coat layer Tends to decrease.

次に、1分子中に1〜2個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体としては、ラジカル重合性のある通常の単量体ならば特に限定されずに使用することができる。   Next, the monomer having 1 to 2 ethylenically unsaturated double bonds in one molecule can be used without particular limitation as long as it is a normal monomer having radical polymerizability.

また、分子内に2個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、下記(a)〜(f)の(メタ)アクリレート等を用いることができる。   Moreover, as a compound which has two ethylenically unsaturated double bonds in a molecule | numerator, the following (a)-(f) (meth) acrylate etc. can be used.

すなわち、(a)炭素数2〜12のアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類:エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレートなど;
(b)ポリオキシアルキレングリコールの(メタ)アクリレート酸ジエステル類:ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレートなど;
(c)多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類:ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレートなど;
(d)ビスフェノールAあるいはビスフェノールAの水素化物のエチレンオキシドおよびプロピレンオキシド付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類:2,2’−ビス(4−アクリロキシエトキシフェニル)プロパン、2,2’−ビス(4−アクリロキシプロポキシフェニル)プロパンなど;
(e)ジイソシアネート化合物と2個以上のアルコール性水酸基含有化合物を予め反応させて得られる末端イソシアネート基含有化合物に、さらにアルコール性水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させて得られる分子内に2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有するウレタン(メタ)アクリレート類など、および;
(f)分子内に2個以上のエポキシ基を有する化合物にアクリル酸またはメタクリル酸を反応させて得られる分子内に2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有するエポキシ(メタ)アクリレート類など。
(A) (meth) acrylic acid diesters of alkylene glycol having 2 to 12 carbon atoms: ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, Neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, etc .;
(B) (Meth) acrylate diesters of polyoxyalkylene glycol: diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, Polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, etc .;
(C) Polyhydric alcohol (meth) acrylic acid diesters: pentaerythritol di (meth) acrylate, etc .;
(D) (Meth) acrylic diesters of ethylene oxide and propylene oxide adducts of bisphenol A or bisphenol A hydride: 2,2′-bis (4-acryloxyethoxyphenyl) propane, 2,2′-bis ( 4-acryloxypropoxyphenyl) propane and the like;
(E) A terminal isocyanate group-containing compound obtained by reacting a diisocyanate compound with two or more alcoholic hydroxyl group-containing compounds in advance, and further reacting an alcoholic hydroxyl group-containing (meth) acrylate with two molecules in the molecule. Urethane (meth) acrylates having a (meth) acryloyloxy group, and the like;
(F) Epoxy (meth) acrylates having two (meth) acryloyloxy groups in the molecule obtained by reacting a compound having two or more epoxy groups in the molecule with acrylic acid or methacrylic acid.

分子内に1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−およびi−プロピル(メタ)アクリレート、n−、sec−、およびt−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N−ビニルピロリドン、N−ビニル−3−メチルピロリドン、N−ビニル−5−メチルピロリドンなどを用いることができる。これらの単量体は、1種または2種以上混合して使用してもよい。   Compounds having one ethylenically unsaturated double bond in the molecule include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n- and i-propyl (meth) acrylate, n-, sec-, and t. -Butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, polyethylene glycol Mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, N-hydroxyethyl (meth) acrylamide, N-vinylpyrrolidone N- vinyl-3-methylpyrrolidone, or the like can be used N- vinyl-5-methyl pyrrolidone. These monomers may be used alone or in combination of two or more.

これらの1分子中に1〜2個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合は、ハードコート層形成組成物総量に対して10〜50質量%が好ましく、より好ましくは20〜40質量%である。1分子中に1〜2個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して50質量%を超える場合には、十分な耐摩耗性を有する硬化被膜が得られにくくなる場合がある。また、1分子中に1〜2個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して10質量%未満の場合には、被膜の可撓性が低下したり、基材フィルム上に設けた積層膜との接着性が低下する場合がある。   The use ratio of the monomer having 1 to 2 ethylenically unsaturated double bonds in one molecule is preferably 10 to 50% by mass, more preferably 20%, based on the total amount of the hard coat layer forming composition. -40 mass%. When the proportion of the monomer having 1 to 2 ethylenically unsaturated double bonds in one molecule exceeds 50% by mass with respect to the total amount of the hard coat layer forming composition, sufficient wear resistance is obtained. It may be difficult to obtain a cured film having a slag. In addition, when the use ratio of the monomer having 1 to 2 ethylenically unsaturated double bonds in one molecule is less than 10% by mass with respect to the total amount of the hard coat layer forming composition, the film can be used. The flexibility may decrease or the adhesiveness with the laminated film provided on the base film may decrease.

本発明において、ハードコート形成組成物を硬化させる方法としては、例えば、活性エネルギー線として紫外線を照射する方法や高温加熱法等を用いることができる。これらの方法を用いる場合には、前記ハードコート層形成組成物に、光重合開始剤または熱重合開始剤等を加えることが望ましい。   In the present invention, as a method of curing the hard coat forming composition, for example, a method of irradiating ultraviolet rays as active energy rays, a high temperature heating method, or the like can be used. When using these methods, it is desirable to add a photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator to the hard coat layer forming composition.

光重合開始剤については、上述の低屈折率層に用いることができるものと同様のものを用いることができる。熱重合開始剤としては、ベンゾイルパーオキサイドまたはジ−t−ブチルパーオキサイドなどのパーオキサイド化合物などを用いることができる。   About a photoinitiator, the thing similar to what can be used for the above-mentioned low refractive index layer can be used. As the thermal polymerization initiator, a peroxide compound such as benzoyl peroxide or di-t-butyl peroxide can be used.

光重合開始剤または熱重合開始剤の使用量は、ハードコート層形成組成物総量100質量%に対して0.01〜10質量%が適当である。電子線またはガンマ線を硬化手段とする場合には、必ずしも重合開始剤を添加する必要はない。また220℃以上の高温で熱硬化させる場合には、熱重合開始剤の添加は必ずしも必要ではない。   The use amount of the photopolymerization initiator or thermal polymerization initiator is suitably 0.01 to 10% by mass with respect to 100% by mass of the total amount of the hard coat layer forming composition. When an electron beam or gamma ray is used as a curing means, it is not always necessary to add a polymerization initiator. In addition, when thermosetting at a high temperature of 220 ° C. or higher, it is not always necessary to add a thermal polymerization initiator.

本発明において、ハードコート層中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤などの安定剤、界面活性剤、レベリング剤および帯電防止剤などを用いることができる。   In the present invention, various additives can be further blended in the hard coat layer as required, as long as the effects of the present invention are not impaired. For example, stabilizers such as antioxidants, light stabilizers, ultraviolet absorbers, surfactants, leveling agents, antistatic agents, and the like can be used.

本発明で用いられる活性エネルギー線としては、紫外線、電子線および放射線(α線、β線、γ線など)などアクリル系のビニル基を重合させる電磁波が挙げられ、実用的には、紫外線が簡便であり好ましい。紫外線源としては、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク灯などを用いることができる。また、活性線を照射するときに、低酸素濃度下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができる。またさらに、電子線方式は、装置が高価で不活性気体下での操作が必要ではあるが、塗布層中に光重合開始剤や光増感剤などを含有させなくてもよい点で有利である。   Examples of active energy rays used in the present invention include electromagnetic waves that polymerize acrylic vinyl groups such as ultraviolet rays, electron beams, and radiation (α rays, β rays, γ rays, etc.). It is preferable. As the ultraviolet ray source, an ultraviolet fluorescent lamp, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a carbon arc lamp, or the like can be used. Moreover, when irradiating actinic radiation, if it irradiates under a low oxygen concentration, it can harden | cure efficiently. Furthermore, the electron beam method is advantageous in that the apparatus is expensive and requires operation under an inert gas, but it is not necessary to include a photopolymerization initiator or a photosensitizer in the coating layer. is there.

本発明で用いられる熱硬化に必要な熱としては、スチームヒーター、電気ヒーター、赤外線ヒーターあるいは遠赤外線ヒーターなどを用いて温度を少なくとも140℃以上に加温された空気、不活性ガスを、スリットノズルを用いて基材、塗膜に吹きあてることにより与えられる熱が挙げられ、中でも200℃以上に加温された空気による熱が好ましく、さらに好ましくは200℃以上に加温された窒素による熱であることが、硬化速度が早いので好ましい。   As the heat necessary for the thermosetting used in the present invention, steam heater, electric heater, infrared heater or far-infrared heater is used. The heat given by spraying on the base material and the coating film using is used. Among them, heat by air heated to 200 ° C. or higher is preferable, and heat by nitrogen heated to 200 ° C. or higher is more preferable. It is preferable because the curing rate is high.

ハードコート層の厚みは0.5〜20μmの範囲が好ましく、1〜15μmの範囲がより好ましく、特に1.5〜12μmの範囲が好ましい。ハードコート層の厚みが0.5μm未満の場合には十分硬化していても薄すぎるために、表面硬度が十分でなく、傷が付きやすくなる傾向にある。一方、ハードコート層の厚さが20μmを超える場合には、折り曲げなどの応力により、硬化膜にクラックが入りやすくなる傾向にある。   The thickness of the hard coat layer is preferably in the range of 0.5 to 20 μm, more preferably in the range of 1 to 15 μm, and particularly preferably in the range of 1.5 to 12 μm. When the thickness of the hard coat layer is less than 0.5 μm, even if it is sufficiently cured, it is too thin, so that the surface hardness is not sufficient and it tends to be easily scratched. On the other hand, when the thickness of the hard coat layer exceeds 20 μm, the cured film tends to be cracked due to stress such as bending.

ハードコート層には、前述した反射防止層を構成する高屈折率層としての機能を付与することができる。ハードコート層の高屈折率化は、ハードコート層形成用樹脂組成物中に、前述した金属酸化物微粒子を添加することにより、あるいは高屈折率成分の分子や原子を含んだ樹脂を用いることにより図られる。   The hard coat layer can be given a function as a high refractive index layer constituting the antireflection layer described above. The high refractive index of the hard coat layer can be increased by adding the metal oxide fine particles described above to the resin composition for forming the hard coat layer or by using a resin containing molecules and atoms of high refractive index components. Figured.

上記の屈折率を向上させる樹脂に含まれる分子及び原子としては、F以外のハロゲン原子、S、N、Pの原子、芳香族環等が挙げられる。   Examples of the molecules and atoms contained in the resin that improves the refractive index include halogen atoms other than F, S, N, and P atoms, aromatic rings, and the like.

(防汚層)
防汚機能を有する(防汚層)は、ディスプレイ用フィルターに、人が指で触ることによって油脂性物質が付着するのを防止したり、大気中のごみや埃が付着するのを防止したり、あるいはこれらの付着物が付着しても除去しやすくするための層である。かかる防汚層としては、例えば、フッ素系コート剤、シリコーン系コート剤、シリコン・フッ素系コート剤等が用いられる。防汚層の厚さは、1〜10nmの範囲が好ましい。
(機能性表面層の構成)
前述したように本発明の機能性表面層は単一層であっても、複数層であってもよい。複数構成の機能性表面層としては、a)ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層、b)高屈折率ハードコート層/低屈折率層、c)ハードコート層/防眩層、d)ハードコート層/防眩性反射防止層、等が例示される。尚、上記a)〜d)の構成において、右側に記載の層が視認側に配置される。
(Anti-fouling layer)
The antifouling function (antifouling layer) prevents oily substances from adhering to the display filter when touched by a finger, and prevents dust and dirt in the atmosphere from adhering. Alternatively, it is a layer for facilitating removal even if these deposits adhere. As such an antifouling layer, for example, a fluorine coating agent, a silicone coating agent, a silicon / fluorine coating agent, or the like is used. The thickness of the antifouling layer is preferably in the range of 1 to 10 nm.
(Configuration of functional surface layer)
As described above, the functional surface layer of the present invention may be a single layer or a plurality of layers. As the functional surface layer having a plurality of structures, a) hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer, b) high refractive index hard coat layer / low refractive index layer, c) hard coat layer / antiglare layer, d) Hard coat layer / antiglare antireflection layer, etc. are exemplified. In addition, in the structure of said a) -d), the layer as described on the right side is arrange | positioned at the visual recognition side.

また、機能性表面層が単一層の場合は、複数の機能を併せ持つのが好ましい。かかる単一層の例としては、e)反射防止性ハードコート層(反射防止機能とハードコート機能を有する単一層)、f)防眩性ハードコート層(防眩機能とハードコート機能を有する単一層、g)防眩性反射防止ハードコート層(防眩機能と反射防止機能とハードコート機能を有する単一層)、h)防眩性反射防止層(防眩機能と反射防止機能を有する単一層)、等が例示される。   Moreover, when a functional surface layer is a single layer, it is preferable to have a plurality of functions. Examples of such a single layer are e) antireflection hard coat layer (single layer having antireflection function and hard coat function), f) antiglare hard coat layer (single layer having antiglare function and hard coat function) G) Antiglare antireflection hard coat layer (single layer having antiglare function, antireflection function and hard coat function) h) Antiglare antireflection layer (single layer having antiglare function and antireflection function) , Etc. are exemplified.

防汚層は、上記した複数構成あるいは単一構成の表面に、これらの層の機能を阻害しない程度に、薄膜(1〜10nm)で形成することができる。   The antifouling layer can be formed as a thin film (1 to 10 nm) on the surface of the above-described plural or single structure to such an extent that the function of these layers is not impaired.

機能性表面層を塗工形成するための塗布方式としては、ディップコーティング法、スピンコート法、スリットダイコート法、グラビアコート法、リーバースコート法、ロッドコート法、バーコート法、スプレー法、ロールコーティング法等の公知のウェットコーティング法を用いることができる。   Coating methods for forming functional surface layers include dip coating, spin coating, slit die coating, gravure coating, reversal coating, rod coating, bar coating, spraying, and roll coating. For example, a known wet coating method can be used.

機能性表面層は、上述したように単一層であっても複数層であってもよい。機能性表面層の合計の厚みは、1〜20μmの範囲が好ましく、2〜15μmの範囲がより好ましく、特に3〜12μmの範囲が好ましい。   As described above, the functional surface layer may be a single layer or a plurality of layers. The total thickness of the functional surface layer is preferably in the range of 1 to 20 μm, more preferably in the range of 2 to 15 μm, and particularly preferably in the range of 3 to 12 μm.

機能性表面層の合計厚みが1μm未満の場合は、導電層上へ機能性表面層を塗工する際に、良好な塗工性が確保できない場合があり、一方、20μmを越えると、幅が2mm未満の空隙を介して導電性部材を貼着したときに、導電層と導電性部材との安定的な導通を確保できない場合がある。   When the total thickness of the functional surface layer is less than 1 μm, good coating properties may not be ensured when the functional surface layer is applied onto the conductive layer. When the conductive member is pasted through a gap of less than 2 mm, stable conduction between the conductive layer and the conductive member may not be ensured.

機能性表面層の合計厚みは、導電層が金属薄膜からなる場合は、導電層表面から機能性表面層の表面までの距離であり、導電層が導電性メッシュからなる場合は、導電性メッシュの開口部の重心における基材から機能性表面層の表面までの距離である。
(ディスプレイ用フィルターを構成する他の機能層)
本発明のディスプレイ用フィルターには、更に近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、あるいは可視光透過率調整機能の中から選ばれる少なくとも一つの機能を有する機能層を設けることが好ましい。
The total thickness of the functional surface layer is the distance from the surface of the conductive layer to the surface of the functional surface layer when the conductive layer is made of a metal thin film, and when the conductive layer is made of a conductive mesh, It is the distance from the base material to the surface of the functional surface layer at the center of gravity of the opening.
(Other functional layers composing display filters)
The display filter of the present invention preferably further includes a functional layer having at least one function selected from a near-infrared shielding function, a color tone adjustment function, or a visible light transmittance adjustment function.

近赤外線遮蔽機能は、波長800〜1100nmの範囲における光線透過率の最大値が15%以下となるように調整するのが好ましい。近赤外線遮蔽機能は、基材や機能性表面層、あるいは後述する接着層に近赤外線吸収剤を混錬、分散することによって付与してもよいし、近赤外線遮蔽層を新たに設けてもよい。近赤外線遮蔽機能は、近赤外線吸収剤を用いることによって、あるいは導電性薄膜のような金属の自由電子によって近赤外線を反射する層を設けることによって付与することができる。本発明においては、近赤外線吸収剤を樹脂バインダー中に分散もしくは溶解した塗料を塗布乾燥して形成した近赤外線遮蔽層を用いること、あるいは機能性表面層や接着層に上記近赤外線吸収剤を含有させる態様が好ましく用いられる。近赤外線吸収剤としては、フタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、ジイモニウム系化合物等の有機系近赤外線吸収剤、あるいは酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫、硫化亜鉛、セシウム含有酸化タングステン等の無機系近赤外線吸収剤を用いることができる。   The near-infrared shielding function is preferably adjusted so that the maximum value of light transmittance in the wavelength range of 800 to 1100 nm is 15% or less. The near-infrared shielding function may be imparted by kneading and dispersing a near-infrared absorber on a base material, a functional surface layer, or an adhesive layer described later, or a near-infrared shielding layer may be newly provided. . The near-infrared shielding function can be imparted by using a near-infrared absorbing agent or by providing a layer that reflects near-infrared rays by metal free electrons such as a conductive thin film. In the present invention, a near-infrared shielding layer formed by applying and drying a paint in which a near-infrared absorber is dispersed or dissolved in a resin binder is used, or the functional surface layer or the adhesive layer contains the near-infrared absorber. The embodiment to be used is preferably used. Near-infrared absorbers include organic near-infrared absorbers such as phthalocyanine compounds, anthraquinone compounds, dithiol compounds, diimonium compounds, or titanium oxide, zinc oxide, indium oxide, tin oxide, zinc sulfide, cesium-containing oxides An inorganic near infrared absorber such as tungsten can be used.

上記した近赤外線遮蔽層を新たに設ける場合は、基材と導電層との間、もしくは基材に対して導電層とは反対面に、基材に塗工形成して設けることができる。   When the above-described near-infrared shielding layer is newly provided, it can be provided by coating on the base material between the base material and the conductive layer or on the opposite surface of the base material from the conductive layer.

近赤外線遮蔽機能を基材より視認側に付与する場合は、耐光性に優れる無機系近赤外線吸収剤を用いるのが好ましい。   In the case where the near infrared shielding function is imparted to the viewer side from the base material, it is preferable to use an inorganic near infrared absorber having excellent light resistance.

色調調整機能は、ディスプレイから発光される特定波長の光を吸収して色純度や白色度を向上させるための機能である。特に赤色発光の色純度を低下させるオレンジ光を遮蔽するのが好ましく、波長580〜620nmの範囲に吸収極大を有する色素(例えばテトラアザポルフィリン系色素)を含有させるのが好ましい。更に、白色度を向上させるために波長480〜500nmに吸収極大を有する色素を含有させるのが好ましい。
色調調整機能は、上記した波長の光を吸収する色素を含有する層を新たに設けてもよいし、上述の近赤外線遮蔽層、機能性表面層あるいは接着層に色素を含有させてもよい。
The color tone adjustment function is a function for improving color purity and whiteness by absorbing light of a specific wavelength emitted from the display. In particular, it is preferable to shield orange light that reduces the color purity of red light emission, and it is preferable to contain a dye having an absorption maximum in the wavelength range of 580 to 620 nm (for example, a tetraazaporphyrin-based dye). Furthermore, it is preferable to contain a dye having an absorption maximum at a wavelength of 480 to 500 nm in order to improve whiteness.
For the color tone adjustment function, a layer containing a dye that absorbs light having the above-described wavelength may be newly provided, or a dye may be contained in the above-described near-infrared shielding layer, functional surface layer, or adhesive layer.

可視光透過率調整機能は、可視光の透過率を調整するための機能であり、染料や顔料を含有させて調整することができる。可視光透過率調整機能は、基材、近赤外線遮蔽層、機能性表面層、あるいは接着層に付与してもよいし、新たに透過率調整層を設けてもよい。   The visible light transmittance adjusting function is a function for adjusting the visible light transmittance, and can be adjusted by containing a dye or a pigment. The visible light transmittance adjusting function may be imparted to the substrate, the near-infrared shielding layer, the functional surface layer, or the adhesive layer, or a transmittance adjusting layer may be newly provided.

上述した色調調整機能を有する層及び可視光透過率調整機能を有する層をそれぞれ新たに設ける場合、これらの層は基材と導電層との間、もしくは基材に対して導電層とは反対面に設けることができる。   When a layer having the above-described color tone adjusting function and a layer having a visible light transmittance adjusting function are newly provided, these layers are provided between the base material and the conductive layer, or on the opposite side of the base material from the conductive layer. Can be provided.

本発明のディスプレイ用フィルターは、画像表示パネルに直接、あるいは厚みが1〜5mm程度の高剛性基板(例えば、ガラス板、アクリル板、ポリカーボネート板等の公知の高剛性基板)を介して装着することができる。従って、ディスプレイ用フィルターには、画像表示パネルあるいは高剛性基板に貼り付けるための接着層を設けるのが好ましい。本発明のディスプレイ用フィルターは、画像表示パネルに接着層を介して直接に貼り付けることが好ましい。   The display filter of the present invention is mounted on the image display panel directly or via a high-rigidity substrate having a thickness of about 1 to 5 mm (for example, a known high-rigidity substrate such as a glass plate, an acrylic plate, or a polycarbonate plate). Can do. Therefore, the display filter is preferably provided with an adhesive layer for being attached to the image display panel or the high-rigidity substrate. The display filter of the present invention is preferably attached directly to the image display panel via an adhesive layer.

接着層には、前述したように近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、あるいは可視光透過率調整機能を付与することができる。また、接着層に、ディスプレイを衝撃から保護するための衝撃緩和機能を付与することは好ましい態様である。接着層に衝撃緩和機能を付与するには、接着層の厚みを100μm以上にすることが好ましく、300μm以上がより好ましい。上限の厚みは、接着層のコーティング適性を考慮して3000μm以下が好ましい。   As described above, the adhesive layer can be provided with a near-infrared shielding function, a color tone adjusting function, or a visible light transmittance adjusting function. Moreover, it is a preferable aspect to provide the adhesive layer with an impact relaxation function for protecting the display from impact. In order to impart an impact relaxation function to the adhesive layer, the thickness of the adhesive layer is preferably 100 μm or more, and more preferably 300 μm or more. The upper limit thickness is preferably 3000 μm or less in consideration of the coating suitability of the adhesive layer.

接着層には、公知の接着材あるいは粘着材を用いることができる。粘着材としては、アクリル、シリコーン、ウレタン、ポリビニルブチラール、エチレン−酢酸ビニルなどが挙げられる。接着材としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ポリオレフィン型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂、天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ−1、2−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポリ−2−ヘプチル−1、3−ブタジエン、ポリ−1、3−ブタジエンなどの(ジ)エン類、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテート 、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルフォン、フェノキシ樹脂などが挙げられる。   A well-known adhesive material or an adhesive material can be used for an adhesive layer. Examples of the adhesive material include acrylic, silicone, urethane, polyvinyl butyral, and ethylene-vinyl acetate. Adhesives include bisphenol A type epoxy resins, tetrahydroxyphenylmethane type epoxy resins, novolac type epoxy resins, resorcin type epoxy resins, polyolefin type epoxy resins and other epoxy resins, natural rubber, polyisoprene, poly-1, 2- (Di) enes such as butadiene, polyisobutene, polybutene, poly-2-heptyl-1,3-butadiene, poly-1,3-butadiene, polyoxyethylene, polyoxypropylene, polyvinyl ethyl ether, polyvinyl hexyl ether, etc. Polyesters such as polyethers, polyvinyl acetate, polyvinyl propionate, polyurethane, ethyl cellulose, polyvinyl chloride, polyacrylonitrile, polymethacrylonitrile, polysulfone, phenoxy resin Etc.

(ディスプレイ用フィルターの製造方法)
本発明にかかるディスプレイ用フィルターの製造方法について説明する。
(Manufacturing method of display filter)
A method for producing a display filter according to the present invention will be described.

本発明のディスプレイ用フィルターの製造方法は、少なくとも、基材、導電層、及び機能性表面層をこの順に有する積層体を得る工程(A)、積層体の、画像表示パネルの非画像表示領域に対応する部分の少なくとも一部に、機能性表面層側からレーザーを照射して、機能性表面層から導電層に達し、かつ幅が2mm未満である空隙を形成する工程(B)、前記空隙に、前述したイ)、ロ)、ハ)の中のいずれかの導電性部材を、該導電性部材の導電性粘着剤層を介して貼着する工程(C)を少なくとも有する。   In the method for producing a display filter of the present invention, at least a step (A) of obtaining a laminate having a base material, a conductive layer, and a functional surface layer in this order, in the non-image display region of the image display panel of the laminate. A step (B) of irradiating at least a part of the corresponding part with a laser from the functional surface layer side to reach the conductive layer from the functional surface layer and having a width of less than 2 mm; At least a step (C) of attaching the conductive member in any one of the above-mentioned a), b) and c) via the conductive adhesive layer of the conductive member.

積層体を得る工程(A)について説明する。   The step (A) for obtaining a laminate will be described.

先ず、基材上に導電層を形成する。導電層の製造方法は前述したとおりである。次いで、導電層上に機能性表面層を塗工形成する。機能性表面層の構成は前述したとおりである。   First, a conductive layer is formed on a substrate. The method for manufacturing the conductive layer is as described above. Next, a functional surface layer is formed by coating on the conductive layer. The structure of the functional surface layer is as described above.

上記の導電層の製造工程は、長さが30〜3000m程度のロール状の長尺基材に、導電層を連続的に形成することが好ましい。また、機能性表面層の形成についても、上記の導電層の製造工程で長尺基材上に連続的に形成された導電層上に、機能性表面層を連続的に塗工により形成することが好ましい。   In the manufacturing process of the conductive layer, the conductive layer is preferably continuously formed on a roll-shaped long base having a length of about 30 to 3000 m. As for the formation of the functional surface layer, the functional surface layer is continuously formed on the conductive layer continuously formed on the long base material in the manufacturing process of the conductive layer. Is preferred.

上記した連続生産において、基材及び導電層の幅は、少なくとも単一のディスプレイ用フィルターの短辺側の長さと同等かそれより大きくする必要がある。機能性表面層の幅は、ディスプレイ用フィルターの短辺側の長さより小さくすることは可能である。   In the continuous production described above, the width of the base material and the conductive layer needs to be at least equal to or larger than the length of the short side of the single display filter. The width of the functional surface layer can be made smaller than the length on the short side of the display filter.

前述したように、ディスプレイ用フィルターの短辺側の対向する2辺に、従来の剥き出し電極を形成する場合は、機能性表面層の塗工幅はディスプレイ用フィルターの短辺側長さより小さくなるように調整される。同様に、ディスプレイ用フィルターの長辺側の対向する2辺に、従来の剥き出し電極を形成するには、機能性表面層の塗工幅はディスプレイ用フィルターの長辺側長さより小さくなるように調整される。   As described above, when the conventional bare electrode is formed on the two opposite sides on the short side of the display filter, the coating width of the functional surface layer is made smaller than the length of the short side of the display filter. Adjusted to Similarly, in order to form a conventional bare electrode on the two opposite sides on the long side of the display filter, the coating width of the functional surface layer is adjusted to be smaller than the length of the long side of the display filter. Is done.

また、基材、導電層、及び機能性表面層の幅は、幅方向にディスプレイ用フィルターが2面以上取れるように広幅にすることも可能であり、これによって生産性が向上する。この態様の場合も、導電層の幅方向の両端部に機能性表面層の未塗工部を設けることによって、ディスプレイ用フィルターに剥き出し電極を形成することができる。例えば、2面取りの場合、前述の図4に示すように、導電層の幅方向両端部に機能性表面層の未塗工部を設けることによって、ディスプレイ用フィルターの1辺に剥き出し電極を形成することができる。   In addition, the width of the base material, the conductive layer, and the functional surface layer can be widened so that two or more display filters can be taken in the width direction, thereby improving productivity. Also in this embodiment, the exposed electrode can be formed on the display filter by providing an uncoated portion of the functional surface layer at both ends in the width direction of the conductive layer. For example, in the case of two-sided chamfering, as shown in FIG. 4 described above, a bare electrode is formed on one side of the display filter by providing uncoated portions of the functional surface layer at both ends in the width direction of the conductive layer. be able to.

本発明において、ディスプレイ用フィルターに形成される空隙は、少なくともディスプレイ用フィルターの4辺の内の少なくとも対向する2辺に設けることが好ましく、特にディスプレイ用フィルターの4辺全てに空隙を設けることが好ましい。これは、空隙の外側にも機能性表面層が存在するので、ディスプレイ用フィルターの外周端部において機能性表面層によって導電層が保護されるという利点があるからである。また、空隙の周辺に機能性表面層が存在することによって、導電性部材の接着性が向上するという利点もある。   In the present invention, the gap formed in the display filter is preferably provided on at least two opposing sides of at least four sides of the display filter, and in particular, the gap is preferably provided on all four sides of the display filter. . This is because the functional surface layer is also present outside the gap, and thus there is an advantage that the conductive layer is protected by the functional surface layer at the outer peripheral end of the display filter. Moreover, there exists an advantage that the adhesiveness of an electroconductive member improves because a functional surface layer exists in the circumference | surroundings of a space | gap.


また積層体を得る工程(A)では、導電層上に機能性表面層が塗工された後、乾燥及び必要に応じて硬化されて機能性表面層が形成された後、更にカバーフィルムを機能性表面層上に積層することが好ましい。カバーフィルムの積層は、機能性表面層の塗工、乾燥(硬化を含む)、巻き取りの一連の生産ラインの中で行われ、機能性表面層上にカバーフィルムが積層された状態で巻き取られる。

In the step (A) of obtaining a laminate, after the functional surface layer is applied on the conductive layer, it is dried and cured as necessary to form the functional surface layer, and then the cover film is further functioned. It is preferable to laminate on the conductive surface layer. Lamination of the cover film is carried out in a series of production lines of coating, drying (including curing) and winding of the functional surface layer, and winding with the cover film laminated on the functional surface layer. It is done.

次に必要に応じて、基材の導電層が形成された面とは反対面に、近赤外線遮蔽機能と色調調整機能を併せ持つ近赤外線遮蔽層が塗工形成され、更に、近赤外線遮蔽層上に接着層が塗工形成される。また、上記の近赤外線遮蔽層と接着層の積層に代えて、近赤外線遮蔽機能と色調調整機能を有する接着層を積層してもよい。   Next, if necessary, a near-infrared shielding layer having both a near-infrared shielding function and a color tone adjustment function is coated on the surface opposite to the surface on which the conductive layer of the base material is formed. An adhesive layer is formed by coating. Moreover, it may replace with lamination | stacking of said near-infrared shielding layer and an adhesive layer, and may laminate | stack the adhesive layer which has a near-infrared shielding function and a color tone adjustment function.

上記のようにして、ディスプレイ用フィルターのための長尺積層体が製造される。   As described above, a long laminate for a display filter is manufactured.

次に、積層体の画像表示パネルの非画像表示領域に対応する部分の少なくとも一部に、機能性表面層側からレーザーを照射して、前述の特定の空隙を形成する工程(B)について説明する。空隙は、前述したようにレーザーを照射することによって形成されることが好ましい。レーザーによる空隙の形成方法の詳細は前述したとおりである。   Next, a description will be given of the step (B) in which at least a part of the layered image display panel corresponding to the non-image display region is irradiated with a laser from the functional surface layer side to form the above-described specific void. To do. The gap is preferably formed by irradiating a laser as described above. The details of the method for forming the void by the laser are as described above.

空隙の形成は、長尺積層体の状態で行ってもよいし、長尺積層体を切断して単一のディスプレイ用フィルターのサイズに加工してから行ってもよい。空隙の形成はカバーフィルムが積層された状態で行うのが好ましい。つまり、カバーフィルムの表面からレーザーを照射することによって、カバーフィルム表面から導電層に達し、かつ幅が2mm未満である空隙を形成することが好ましい。   The voids may be formed in the state of a long laminate, or may be performed after the long laminate is cut and processed into a single display filter size. The formation of the gap is preferably performed in a state where the cover film is laminated. That is, it is preferable to form a void that reaches the conductive layer from the cover film surface and has a width of less than 2 mm by irradiating the laser from the surface of the cover film.

なお、カバーフィルムが積層された状態で空隙を形成する場合は、カバーフィルムの画像表示領域と非画像表示領域の境界線に対応する部分に、切り込み線を形成することが好ましい。   In addition, when forming a space | gap in the state in which the cover film was laminated | stacked, it is preferable to form a cut line in the part corresponding to the boundary line of the image display area | region and non-image display area | region of a cover film.

上記のようにして、ディスプレイ用フィルターに空隙が形成された後、該空隙に導電性粘着剤層を介して導電性部材を貼着する工程(C)が実施される。   As described above, after the gap is formed in the display filter, the step (C) of attaching a conductive member to the gap via the conductive adhesive layer is performed.

工程(C)において、カバーフィルムが積層されている場合は、少なくとも導電性部材の貼着領域に対応する部分のカバーフィルムを剥離した後、空隙に導電性粘着剤層を介して導電性部材を貼着することが好ましい。つまり、カバーフィルムの切り込み線に沿って非画像表示領域に対応する部分を剥離して、空隙部分を露出させ、空隙に導電性部材を貼着する。   In the step (C), when the cover film is laminated, at least a portion of the cover film corresponding to the adhesive region of the conductive member is peeled off, and then the conductive member is placed in the gap via the conductive adhesive layer. It is preferable to stick. That is, the part corresponding to the non-image display area is peeled along the cut line of the cover film to expose the gap part, and the conductive member is attached to the gap.

また、本発明の製造方法において、空隙の形成工程(B)、導電性部材の貼着工程(C)は、前述の積層体を画像表示パネルに装着した後で行ってもよい。また、ディスプレイ用フィルターを画像表示パネルに装着する前に空隙を形成し、装着後に導電性部材を貼着してもよい。   Moreover, in the manufacturing method of this invention, you may perform the formation process (B) of a space | gap, and the adhesion process (C) of an electroconductive member after mounting the above-mentioned laminated body to an image display panel. Moreover, a space | gap may be formed before mounting | wearing a display filter with an image display panel, and a conductive member may be stuck after mounting | wearing.

また、カバーフィルムへの切り込み線の形成工程についても、上記と同様に、ディスプレイ用フィルターを画像表示パネルに装着する前に行ってもよいし、装着後に行ってもよい。   In addition, the process of forming the score line on the cover film may be performed before or after the display filter is mounted on the image display panel, as described above.

以上、本発明のディスプレイ用フィルターの製造方法を説明したが、本発明のディスプレイ用フィルターにおいては、画像表示パネルに装着され、筐体が組み立てられる前の状態において、空隙に導電性部材が貼着されていることが重要であり、空隙の形成時期や導電性部材の貼着時期は特に制限されない。   The manufacturing method of the display filter of the present invention has been described above. In the display filter of the present invention, the conductive member is attached to the gap in a state before being mounted on the image display panel and before the housing is assembled. It is important that the gap formation time and the conductive member sticking time are not particularly limited.

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
<導電層の厚み及び機能性表面層の合計厚みの測定方法>
(1)導電性メッシュの厚みの測定方法
ミクロトームにてサンプル断面を切り出し、その断面を電解放射型走査電子顕微鏡((株)日立製S―800、加速電圧15kV、観察倍率2500倍)にて観察し、導電性メッシュの厚みを計測する。20cm×20cmサイズのサンプル1枚から任意の10箇所を選び、顕微鏡視野内に導電性メッシュ部が入るように設置してメッシュ厚みを計測し、その平均値を導電性メッシュの厚みとする。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited by these Examples.
<Measurement method of thickness of conductive layer and total thickness of functional surface layer>
(1) Measuring method of conductive mesh thickness A sample cross section is cut out with a microtome, and the cross section is observed with an electrolytic emission scanning electron microscope (Hitachi S-800, acceleration voltage 15 kV, observation magnification 2500 times). Then, the thickness of the conductive mesh is measured. Arbitrary 10 locations are selected from one sample of 20 cm × 20 cm size, and the mesh thickness is measured by placing the conductive mesh portion in the microscope field of view, and the average value is taken as the thickness of the conductive mesh.

(2)機能性表面層の合計厚みの測定
ミクロトームにてサンプル断面を切り出し、その断面を電解放射型走査電子顕微鏡((株)日立製S―800、加速電圧15kV、観察倍率2000倍)にて観察し、機能性表面層の合計厚みを計測する。20cm×20cmサイズのサンプル1枚から任意の開口部10箇所を選び、導電性メッシュの開口部の重心における基材から機能性表面層までの距離を求め平均した。
(実施例1)
<長尺積層体の作製>
下記の要領で、ディスプレイ用フィルター用長尺積層体を作製した。
(2) Measurement of total thickness of functional surface layer A sample cross section was cut out with a microtome, and the cross section was cut with an electrolytic emission scanning electron microscope (Hitachi S-800, acceleration voltage 15 kV, observation magnification 2000 times). Observe and measure the total thickness of the functional surface layer. Arbitrary ten openings were selected from one 20 cm × 20 cm sample, and the distance from the base material to the functional surface layer at the center of gravity of the opening of the conductive mesh was averaged.
Example 1
<Production of long laminate>
A long laminate for a filter for display was produced in the following manner.

<基材>
ロール状の長尺基材として、厚み100μm、幅1000mm、長さ100mのロール状PETフィルム(東レ(株)製 ルミラー(登録商標))を用いた。
<Base material>
As a roll-like long base material, a roll-like PET film (Lumirror (registered trademark) manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 100 μm, a width of 1000 mm, and a length of 100 m was used.

<導電性メッシュを有する導電層の形成>
上記の長尺基材の片方の面の幅方向両端部各10mmを除く全面に、スパッタリング法によりニッケル層(厚み0.02μm)を形成し、更にその上に、厚みが2.5μmの銅層を真空蒸着法により形成した。次いで、この銅層の表面にアルカリ現像型高感度ポジ型レジストフィルムを積層し、波長405nm半導体レーザーを用いて露光し、炭酸ナトリウムを1質量%含有する現像液を用いて現像処理を行った。次いで、塩化第2鉄溶液によりエッチング処理を行った後、3質量%水酸化ナトリウム水溶液で処理してレジスト層を剥離して、線幅10μm、線ピッチ250μm、厚みが2.5μmの連続メッシュパターンからなる導電性メッシュが、長尺基材の幅方向に980mm、長手方向に90mに渡って形成された。次いで、酸化処理剤(メルテックス(株)製 エンプレート MB―438A/B/純水=8/13/79の割合で調整)を用いて、導電性メッシュを黒化処理した。
<機能性表面層の塗工>
上記の導電層が形成されたPETフィルムの導電層上に、導電層のほぼ全面を被覆するように、下記のハードコート層、高屈折率層、及び低屈折率層を順次塗工した。これらの機能性表面層の塗工幅はいずれも980mmである。
<Formation of conductive layer having conductive mesh>
A nickel layer (thickness: 0.02 μm) is formed on the entire surface excluding 10 mm each of both ends in the width direction on one side of the long base material, and a copper layer having a thickness of 2.5 μm is further formed thereon. Was formed by vacuum evaporation. Next, an alkali development type high-sensitivity positive resist film was laminated on the surface of this copper layer, exposed using a semiconductor laser having a wavelength of 405 nm, and developed using a developer containing 1% by mass of sodium carbonate. Next, after etching with a ferric chloride solution, the resist layer is peeled off by treatment with a 3% by mass aqueous sodium hydroxide solution, and a continuous mesh pattern having a line width of 10 μm, a line pitch of 250 μm, and a thickness of 2.5 μm. A conductive mesh made of was formed over 980 mm in the width direction of the long base material and 90 m in the longitudinal direction. Subsequently, the conductive mesh was blackened using an oxidation treatment agent (adjusted at a ratio of Enplate MB-438A / B / pure water = 8/13/79 manufactured by Meltex Co., Ltd.).
<Coating of functional surface layer>
The following hard coat layer, high refractive index layer, and low refractive index layer were sequentially coated on the conductive layer of the PET film on which the conductive layer was formed so as to cover almost the entire surface of the conductive layer. The coating width of these functional surface layers is 980 mm.

機能性表面層の合計厚みは、測定の結果、8.1μmであった。
<ハードコート層の塗工形成>
導電性フィルムの金属パターン層上に、市販のハードコート剤(JSR(株)製 オプスター(登録商標)Z7534;固形分濃度60質量%)を、固形分濃度が45質量%になるようにメチルエチルケトンで希釈して調製したハードコート層用塗工液をマイクログラビアコーターで塗工し、100℃で乾燥後、紫外線1.0J/cmを照射して硬化させ、ハードコート層を形成した。ハードコート層の塗工に際し、乾燥・硬化後の厚みが約8μmとなるように塗工した。
<高屈折率層の被覆>
上記のハードコート層上に、市販の高屈折率・帯電防止塗料(JSR(株)製 オプスター (登録商標) TU4005)をイソプロピルアルコールで固形分濃度8%に希釈して調製した高屈折率層用塗工液を、マイクログラビアコーターで塗布し、100℃で乾燥後、紫外線1.0J/cmを照射して硬化させ、1.65の高屈折率層を形成した。高屈折率層の塗工に際し、乾燥・硬化後の厚みが約0.1μmとなるように塗工した。
<低屈折率層>
上記の高屈折率層上に、市販の低屈折率層用塗料(JSR(株)製 オプスター(登録商標) TU2180)をメチルイソブチルケトンで固形分濃度が3質量%になるように希釈して調製した低屈折率層用塗工液を、マイクログラビアコーターで塗布し、100℃で乾燥後、紫外線1.0J/cmを照射して硬化させ、屈折率が1.37の低屈折率層を形成した。低屈折率層の塗工に際し、乾燥・硬化後の厚みが約0.1μmとなるように塗工した。
<カバーフィルムの積層>
低屈折率層の上に、低屈折率層の全面を被覆するようにカバーフィルム(日東電工(株)製の「E−MASK IP300」;38μmのPETフィルムに5μmの微粘着層を積層)の微粘着層側を低屈折率層側にして積層した。カバーフィルムの幅は、980mmである。
<近赤外線遮蔽層の積層>
前記PETフィルムの基材に対して導電層を有する面とは反対面に、オレンジ光遮蔽機能を併せ持つ近赤外線遮蔽層(近赤外線吸収色素としてのフタロシアニン系色素とジイモニウム系色素、およびオレンジ光吸収色素としてのテトラアザポルフィリン系色素をアクリル系樹脂に混合した塗料を、乾燥膜厚みが10μmになるように塗工した層)を設けた。近赤外線遮蔽層の塗工幅は980mmである。
<接着層の積層>
セパレートフィルム上に紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂(日立化成ポリマー(株)製のハイボン(登録商標))をスリットダイコーターで、厚みが100μmになるように塗布した後、UV照射装置を用いて塗布膜を硬化し、続いてさらにセパレートフィルムを貼り付けて、セパレートフィルムにサンドウィッチされた接着層を得た。次に、上記で作製した積層体の近赤外線遮蔽層の上に、一方のセパレートフィルムを剥離しながら接着層を積層した。前記粘着層の幅は980mmである。
As a result of measurement, the total thickness of the functional surface layer was 8.1 μm.
<Coating formation of hard coat layer>
On the metal pattern layer of the conductive film, a commercially available hard coat agent (Opstar (registered trademark) Z7534 manufactured by JSR Corporation; solid content concentration 60 mass%) is methylethylketone so that the solid content concentration is 45 mass%. The hard coat layer coating solution prepared by dilution was applied with a micro gravure coater, dried at 100 ° C., and then cured by irradiation with ultraviolet rays of 1.0 J / cm 2 to form a hard coat layer. When the hard coat layer was applied, the thickness after drying / curing was about 8 μm.
<Coating of high refractive index layer>
For the high refractive index layer prepared by diluting a commercially available high refractive index / antistatic coating material (Opster (registered trademark) TU4005 manufactured by JSR Corporation) to a solid content concentration of 8% on the hard coat layer. The coating liquid was applied with a micro gravure coater, dried at 100 ° C., and then cured by irradiation with ultraviolet light 1.0 J / cm 2 to form a 1.65 high refractive index layer. When applying the high refractive index layer, the coating was applied so that the thickness after drying and curing was about 0.1 μm.
<Low refractive index layer>
Prepared by diluting commercially available paint for low refractive index layer (Opstar (registered trademark) TU2180, manufactured by JSR Corporation) with methyl isobutyl ketone so that the solid content concentration is 3% by mass on the above high refractive index layer. The low refractive index layer coating solution is applied with a micro gravure coater, dried at 100 ° C., and then cured by irradiation with ultraviolet light 1.0 J / cm 2 to form a low refractive index layer having a refractive index of 1.37. Formed. In applying the low refractive index layer, the coating was performed so that the thickness after drying and curing was about 0.1 μm.
<Lamination of cover film>
Cover film (“E-MASK IP300” manufactured by Nitto Denko Corporation; 5 μm slightly adhesive layer is laminated on 38 μm PET film) so as to cover the entire surface of the low refractive index layer on the low refractive index layer The thin adhesive layer side was laminated with the low refractive index layer side. The width of the cover film is 980 mm.
<Lamination of near-infrared shielding layer>
A near-infrared shielding layer having an orange light shielding function on the surface opposite to the surface having the conductive layer with respect to the PET film substrate (a phthalocyanine dye and a diimonium dye as near-infrared absorbing dyes, and an orange light absorbing dye) And a layer obtained by coating a paint obtained by mixing a tetraazaporphyrin-based pigment with an acrylic resin so that the dry film thickness is 10 μm. The coating width of the near-infrared shielding layer is 980 mm.
<Lamination of adhesive layer>
A UV curable urethane acrylate resin (Hybon (registered trademark) manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) was applied on a separate film with a slit die coater to a thickness of 100 μm, and then applied using a UV irradiation device. Was then cured, and further a separate film was attached to obtain an adhesive layer sandwiched between the separate films. Next, the adhesive layer was laminated | stacked on the near-infrared shielding layer of the laminated body produced above, peeling one separate film. The width of the adhesive layer is 980 mm.

上記のようにして作製した、ディスプレイ用フィルター用長尺積層体の構成を以下に示す。
<長尺積層体の構成>
接着層/近赤外線遮蔽層/PETフィルム/導電層/機能性表面層(ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層)/カバーフィルム。
<ディスプレイ用フィルターの作製>
上記のようにして作製した長尺積層体を、長辺964mm、短辺554mmのシート状に切断して1枚のディスプレイ用フィルターを切り出した後、このディスプレイ用フィルターをレーザーカッター(コマックス製のCOレーザーカッター)に装着して、ディスプレイ用フィルターの4辺にそれぞれ端部から10mm内側に直線状にレーザーを照射して連続した直線状の空隙(図1の符号4)を形成した。レーザーはカバーフィルムの表面から照射し、カバーフィルム及び機能性表面層を貫通し、導電層に達する空隙を形成した。この空隙によって形成された導電層露出部を電極とした。
The structure of the long laminated body for display filters produced as described above is shown below.
<Configuration of long laminate>
Adhesive layer / near infrared shielding layer / PET film / conductive layer / functional surface layer (hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer) / cover film.
<Preparation of display filter>
The long laminate produced as described above is cut into a sheet having a long side of 964 mm and a short side of 554 mm to cut out one display filter, and then this display filter is cut with a laser cutter (COMAX CO. 2 laser cutter), and a continuous linear gap (reference numeral 4 in FIG. 1) was formed on the four sides of the display filter by irradiating the laser linearly 10 mm inside from each end. The laser was irradiated from the surface of the cover film, penetrating the cover film and the functional surface layer, and forming a gap reaching the conductive layer. The exposed portion of the conductive layer formed by this void was used as an electrode.

上記のようにして形成された空隙の長さは、長辺側で930mm、短辺側で520mmであり、空隙の幅は0.7mmである。   The length of the gap formed as described above is 930 mm on the long side, 520 mm on the short side, and the width of the gap is 0.7 mm.

続いて、上記のレーザーカッターにディスプレイ用フィルターを装着した状態で、画像表示領域と非画像表示領域との境界線に対応する部分(図1の符号5)の全部(長辺側はそれぞれ端部から18mm内側、短辺側はそれぞれ端部から21mm内側)に沿って、カバーフィルムの表面からレーザーを照射して、連続線からなる切り込み線を形成した。切り込み線がカバーフィルムのプラスチックフィルム部分のみを貫通するようにレーザーの出力を調整した。   Subsequently, in a state where the display filter is mounted on the laser cutter, all of the portions (reference numeral 5 in FIG. 1) corresponding to the boundary line between the image display region and the non-image display region (the long side is an end portion, respectively) The inner side of the cover film was irradiated with a laser along the inner side and the shorter side of the inner side was 21 mm from the end, respectively, to form a continuous line. The laser output was adjusted so that the score line penetrated only the plastic film part of the cover film.

次に、カバーフィルムに設けられた切り込み線に沿って、非画像表示領域のみのカバーフィルムを剥離除去し、空隙に下記の導電性部材を導電性粘着剤層を介して貼着した。<導電性部材>
本発明のイ)の導電性部材として、厚みが50μmの導電性繊維からなる布帛に厚みが25μmの導電性粘着剤層が積層された導電性部材を用いた。この導電性部材の幅は6mmである。
<画像表示パネルの作製>
上記のようにして作製したディスプレイ用フィルターの接着層が画像表示パネル側になるように、ディスプレイ用フィルターをプラズマディスプレイの画像表示パネルに貼合した。
<プラズマディスプレイの組み立て>
上記のようにして作製された画像表示パネルに筐体の前面カバーを組み立てるに際し、画像表示領域のカバーフィルムを剥離除去した後に前面カバーを組み立てた。
(実施例2)
導電性部材を下記のものに変更する以外は、実施例1と同様にした。
<導電性部材>
本発明のロ)の導電性部材として、1cm当たり10個の貫通孔(直径0.7mmの円形)を有する、厚み20μmのPETフィルムの両面に、それぞれ厚み3μmのアルミニウムが蒸着された導電性プラスチックフィルムに、厚みが25μmの導電性粘着剤層が積層された導電性部材を用いた。この導電性部材の幅は6mmである。
(実施例3)
導電性部材を下記のものに変更する以外は、実施例1と同様にした。
<導電性部材>
本発明のハ)の導電性部材として、厚みが25μmの離型PETフィルムに厚みが25μmの導電性粘着剤層が積層された導電性部材を用いた。この導電性部材の幅は6mmである。
Next, along the score line provided in the cover film, the cover film only in the non-image display area was peeled and removed, and the following conductive member was attached to the gap via the conductive adhesive layer. <Conductive member>
As the conductive member (a) of the present invention, a conductive member in which a conductive pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 25 μm was laminated on a cloth made of conductive fibers having a thickness of 50 μm was used. The width of this conductive member is 6 mm.
<Production of image display panel>
The display filter was bonded to the image display panel of the plasma display so that the adhesive layer of the display filter produced as described above was on the image display panel side.
<Assembly of plasma display>
When the front cover of the housing was assembled to the image display panel manufactured as described above, the front cover was assembled after the cover film in the image display area was peeled and removed.
(Example 2)
Example 1 was repeated except that the conductive member was changed to the following.
<Conductive member>
B) Conductive member having 10 through-holes (circular with a diameter of 0.7 mm) per cm 2 and having a thickness of 3 μm of aluminum deposited on both sides of a 20 μm-thick PET film. A conductive member in which a conductive adhesive layer having a thickness of 25 μm was laminated on a plastic film was used. The width of this conductive member is 6 mm.
Example 3
Example 1 was repeated except that the conductive member was changed to the following.
<Conductive member>
As the conductive member of (c) of the present invention, a conductive member in which a 25 μm thick conductive adhesive layer was laminated on a 25 μm thick release PET film was used. The width of this conductive member is 6 mm.

但し、ディスプレイの組み立てに際し、筐体の全面カバーを組み立てる前に、導電性部材の離型PETフィルムは剥離しておいた。
(比較例1)
導電性部材を下記のものに変更する以外は、実施例1と同様にした。
<導電性部材>
従来の導電性粘着テープとして、厚みが50μmのアルミニウム箔に厚みが25μmの導電性粘着剤層が積層されたものを用いた。この導電性部材の幅は6mmである。
<電磁波遮蔽性の評価>
実施例及び比較例で作製したディスプレイについて、温度25℃、相対湿度50%の環境下に30日間放置後、以下の要領で電磁波遮蔽性を評価した。
However, when assembling the display, the release PET film of the conductive member was peeled off before assembling the entire cover of the housing.
(Comparative Example 1)
Example 1 was repeated except that the conductive member was changed to the following.
<Conductive member>
As a conventional conductive adhesive tape, an aluminum foil having a thickness of 50 μm and a conductive adhesive layer having a thickness of 25 μm laminated thereon was used. The width of this conductive member is 6 mm.
<Evaluation of electromagnetic shielding properties>
About the display produced in the Example and the comparative example, after standing for 30 days in the environment of temperature 25 degreeC and relative humidity 50%, the electromagnetic wave shielding property was evaluated in the following ways.

リケン製3m法電波暗室にSchwarzbeck製アンテナを設置し、Rohde & Schwarz 製EMIテストレシーバおよびAgilent Technologies製スペクトラムアナライザを用いて、プラズマディスプレイから放射される周波数30〜88MHzの放射エミッションを測定した。FCC規格classBを満たすためには、40dB以下が許容値である。
<評価結果>
本発明の実施例1〜3は、いずれも35dB程度で良好であったが、比較例1は40dBを越えていた。
A Schwarzbeck antenna was installed in a 3 m method anechoic chamber manufactured by Riken, and radiated emissions with a frequency of 30 to 88 MHz radiated from the plasma display were measured using an EMI test receiver manufactured by Rohde & Schwarz and a spectrum analyzer manufactured by Agilent Technologies. In order to satisfy the FCC standard class B, the allowable value is 40 dB or less.
<Evaluation results>
Examples 1 to 3 of the present invention were all good at about 35 dB, but Comparative Example 1 exceeded 40 dB.

1 基材
2 導電層
3 機能性表面層
4 空隙
5 画像表示領域と非画像表示領域の境界
6 剥き出し電極
11 基材上に導電層が形成された長尺の導電層積層基材
12 機能性表面層の未塗工部
20 本発明の導電性部材
21 導電性部材の基材
22 導電性部材の導電性粘着剤層
31 画像表示パネル
32 筐体の前面カバー
33 ガスケット
34 外部電極
100 本発明のディスプレイ用フィルター
L 空隙の幅
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base material 2 Conductive layer 3 Functional surface layer 4 Space | gap 5 Boundary of image display area and non-image display area 6 Bare electrode 11 Long conductive layer laminated base material in which conductive layer is formed on base material 12 Functional surface Uncoated part of layer 20 Conductive member of the present invention 21 Base material of conductive member 22 Conductive adhesive layer of conductive member 31 Image display panel 32 Front cover of casing 33 Gasket 34 External electrode 100 Display of the present invention Filter L gap width

Claims (6)

ディスプレイ用画像表示パネルに装着するためのディスプレイ用フィルターであって、
該ディスプレイ用フィルターは、少なくとも、基材、導電層、及び機能性表面層をこの順に有し、
画像表示パネルの非画像表示領域に対応する部分の少なくとも一部に、前記機能性表面層から導電層に達し、かつ幅が2mm未満である空隙を有し、
該空隙に下記イ)、ロ)、ハ)の中のいずれかの導電性部材が、該導電性部材の導電性粘着剤層を介して貼着されていることを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
イ)導電性繊維からなる布帛に導電性粘着剤層が積層された導電性部材。
ロ)複数の貫通孔を有するプラスチックフィルムの両面に金属鍍金が施された導電性プラスチックフィルムに導電性粘着剤層が積層された導電性部材。
ハ)離型フィルムに導電性粘着剤層が積層された導電性部材。
A display filter for mounting on a display image display panel,
The display filter has at least a substrate, a conductive layer, and a functional surface layer in this order,
At least part of the portion corresponding to the non-image display area of the image display panel has a gap that reaches the conductive layer from the functional surface layer and has a width of less than 2 mm,
A display filter, wherein the conductive member in any one of the following a), b), and c) is adhered to the gap through a conductive adhesive layer of the conductive member: .
B) A conductive member in which a conductive pressure-sensitive adhesive layer is laminated on a cloth made of conductive fibers.
B) A conductive member in which a conductive pressure-sensitive adhesive layer is laminated on a conductive plastic film having a metal plating on both sides of a plastic film having a plurality of through holes.
C) A conductive member having a conductive adhesive layer laminated on a release film.
前記空隙が、ディスプレイ用フィルターの4辺の内の少なくとも対向する2辺に対して、それぞれ平行かつ直線状に設けられたものである、請求項1に記載のディスプレイ用フィルター。   The display filter according to claim 1, wherein the gap is provided in parallel and linearly with respect to at least two opposing sides of the four sides of the display filter. 前記導電性部材は、空隙の全域を被覆するように貼着されたものである、請求項1または2に記載のディスプレイ用フィルター。   The display-use filter according to claim 1, wherein the conductive member is attached so as to cover the entire space. 前記機能性表面層は、反射防止機能、防眩機能、ハードコート機能、及び防汚機能の中から選ばれる少なくとも1つの機能を有する機能層であり、かつ導電層上に直接に積層されたものである、請求項1〜3のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。   The functional surface layer is a functional layer having at least one function selected from an antireflection function, an antiglare function, a hard coat function, and an antifouling function, and is laminated directly on the conductive layer. The display filter according to claim 1, wherein ディスプレイ用画像表示パネルに装着するためのディスプレイ用フィルターの製造方法であって、
少なくとも、基材、導電層、及び機能性表面層をこの順に有する積層体を得る工程(A)、
積層体の、画像表示パネルの非画像表示領域に対応する部分の少なくとも一部に、機能性表面層側からレーザーを照射して、機能性表面層から導電層に達し、かつ幅が2mm未満である空隙を形成する工程(B)、
前記空隙に、下記イ)、ロ)、ハ)の中のいずれかの導電性部材を、該導電性部材の導電性粘着剤層を介して貼着する工程(C)を少なくとも有することを特徴とする、ディスプレイ用フィルターの製造方法。
イ)導電性繊維からなる布帛に導電性粘着剤層が積層された導電性部材。
ロ)複数の貫通孔を有するプラスチックフィルムの両面に金属鍍金が施された導電性プラスチックフィルムに導電性粘着剤層が積層された導電性部材。
ハ)離型フィルムに導電性粘着剤層が積層された導電性部材。
A method of manufacturing a display filter for mounting on a display image display panel,
Step (A) of obtaining a laminate having at least a base material, a conductive layer, and a functional surface layer in this order,
At least a part of the laminated body corresponding to the non-image display area of the image display panel is irradiated with laser from the functional surface layer side, reaches the conductive layer from the functional surface layer, and has a width of less than 2 mm. A step (B) of forming a void;
It has at least a step (C) of adhering any of the conductive members in the following a), b) and c) through the conductive adhesive layer of the conductive member to the gap. A method for manufacturing a filter for display.
B) A conductive member in which a conductive pressure-sensitive adhesive layer is laminated on a cloth made of conductive fibers.
B) A conductive member in which a conductive pressure-sensitive adhesive layer is laminated on a conductive plastic film having a metal plating on both sides of a plastic film having a plurality of through holes.
C) A conductive member having a conductive adhesive layer laminated on a release film.
前記積層体を得る工程(A)が、機能性表面層の上に更にカバーフィルムを積層する工程を含み、
前記空隙を形成する工程(B)が、カバーフィルムの表面からレーザーを照射してカバーフィルム表面から導電層に達し、かつ幅が2mm未満である空隙を形成する工程であり、
前記貼着する工程(C)が、少なくとも導電性部材の貼着領域に対応する部分のカバーフィルムを剥離した後、空隙に導電性部材を貼着する工程である、請求項5に記載のディスプレイ用フィルターの製造方法。
The step (A) of obtaining the laminate includes a step of further laminating a cover film on the functional surface layer,
The step of forming the void (B) is a step of irradiating a laser from the surface of the cover film to reach the conductive layer from the cover film surface and forming a void having a width of less than 2 mm,
The display according to claim 5, wherein the step (C) of attaching is a step of attaching the conductive member to the gap after peeling off at least a portion of the cover film corresponding to the attachment region of the conductive member. Method for manufacturing filters.
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