JP3480898B2 - Electromagnetic wave shielding film for display, electromagnetic wave shielding structure for display and display - Google Patents

Electromagnetic wave shielding film for display, electromagnetic wave shielding structure for display and display

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JP3480898B2
JP3480898B2 JP2937098A JP2937098A JP3480898B2 JP 3480898 B2 JP3480898 B2 JP 3480898B2 JP 2937098 A JP2937098 A JP 2937098A JP 2937098 A JP2937098 A JP 2937098A JP 3480898 B2 JP3480898 B2 JP 3480898B2
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electromagnetic wave
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adhesive layer
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寿茂 上原
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綾 橋塲
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Showa Denko Materials Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はCRT、PDP(プ
ラズマ)、液晶、ELなどのディスプレイ前面から発生
する電磁波のシールド性および赤外線の遮蔽性を有する
電磁波シールド性接着フィルム及び該フィルムを用いた
電磁波遮蔽構成体、ディスプレイに関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an electromagnetic wave shielding adhesive film having an electromagnetic wave shielding property and an infrared ray shielding property generated from the front surface of a display such as CRT, PDP (plasma), liquid crystal, and EL, and an electromagnetic wave using the film. The present invention relates to a shield structure and a display.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年各種の電気設備や電子応用設備の利
用が増加するのに伴い、電磁気的なノイズ妨害(Electr
o Magnetic Interference;EMI)も増加の一途をたどっ
ている。ノイズは大きく分けて伝導ノイズと放射ノイズ
に分けられる。伝導ノイズの対策としては、ノイズフィ
ルタなどを用いる方法がある。一方、放射ノイズの対策
としては、電磁気的に空間を絶縁する必要があるため、
筐体を金属体または高導電体にするとか、回路基板と回
路基板の間に金属板を挿入するとか、ケーブルを金属箔
で巻き付けるなどの方法が取られている。これらの方法
では、回路や電源ブロックの電磁波シールド効果を期待
できるが、CRT、PDPなどのディスプレイ前面より
発生する電磁波シールド用途としては、不透明であるた
め適したものではなかった。
2. Description of the Related Art As the use of various electrical equipment and electronic equipment has increased in recent years, electromagnetic noise interference (Electr
Magnetic Interference (EMI) is also increasing. Noise is roughly divided into conduction noise and radiation noise. As a countermeasure against the conduction noise, there is a method using a noise filter or the like. On the other hand, as a measure against radiation noise, it is necessary to electromagnetically insulate the space,
Methods such as making the housing a metal body or a highly conductive body, inserting a metal plate between circuit boards, and winding a cable with a metal foil have been adopted. These methods can be expected to have an electromagnetic wave shielding effect for circuits and power supply blocks, but they are not suitable for electromagnetic wave shielding applications such as CRTs and PDPs that are generated from the front surface of a display because they are opaque.

【0003】電磁波シールド性と透明性を両立させる方
法として、透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着
して薄膜導電層を形成する方法(特開平1−27880
0号公報、特開平5−323101号公報参照)が提案
されている。一方、良導電性繊維を透明基材に埋め込ん
だ電磁波シールド材(特開平5−327274号公報、
特開平5−269912号公報参照)や金属粉末等を含
む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シール
ド材料(特開昭62−57297号公報、特開平2−5
2499号公報参照)、厚さが2mm程度のポリカーボ
ネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成し、その上に
無電解めっき法により銅のメッシュパターンを形成した
電磁波シールド材料(特開平5−283889号公報参
照)、さらには、銅箔付きプラスチックフィルムにマイ
クロリソグラフ法により幾何学図形を施した接着フィル
ムをプラスチック板に貼り付けた電磁波遮蔽構成体(特
願平9−145076号公報参照)等が提案されてい
る。
As a method for achieving both electromagnetic wave shielding property and transparency, a method of depositing a metal or a metal oxide on a transparent substrate to form a thin film conductive layer (Japanese Patent Laid-Open No. 1-278080).
No. 0, and Japanese Patent Laid-Open No. 5-323101) are proposed. On the other hand, an electromagnetic wave shielding material in which a good conductive fiber is embedded in a transparent substrate (Japanese Patent Laid-Open No. 5-327274,
(See JP-A-5-269912) or an electromagnetic wave shield material obtained by directly printing a conductive resin containing metal powder or the like on a transparent substrate (JP-A-62-57297, JP-A-2-5).
2499), an electromagnetic wave shielding material in which a transparent resin layer is formed on a transparent substrate such as polycarbonate having a thickness of about 2 mm, and a copper mesh pattern is formed on the transparent resin layer by the electroless plating method (JP-A-5-283889). (See Japanese Patent Application No. 9-145076), and further, an electromagnetic wave shielding structure in which a plastic film with a copper foil and an adhesive film on which a geometrical figure is applied by a microlithography method are attached to a plastic plate (see Japanese Patent Application No. 9-145076). Proposed.

【0004】電磁波遮蔽構成体をディスプレイに取り付
ける場合、電磁波の漏洩を低減し、良好なシールド性を
発現させるためには、電磁波遮蔽構成体が何らかの方法
により接地される必要がある。接地のための外部電極と
良好な接続を行うための電磁波遮蔽構成体の構成とし
て、プラスチック板の両面に貼りあわせた透明導電膜の
上または、プラスチック板の外周に導電性テープ等の導
電材料を密着させ、透明導電膜を外部電極に低抵抗(低
インピーダンス)で接続させる方法(特開平9−149
347号公報参照)、2枚のプラスチック板の間に金属
網をはみ出させ、金属網の露出部を接地のための外部電
極用枠等に挟む方法(特開平9−147752号公報参
照)等が提案されている。
When the electromagnetic wave shielding structure is attached to a display, the electromagnetic wave shielding structure needs to be grounded by some method in order to reduce the leakage of electromagnetic waves and to exhibit a good shielding property. As a structure of the electromagnetic wave shielding structure for making a good connection with the external electrode for grounding, a conductive material such as a conductive tape is provided on the transparent conductive film stuck on both sides of the plastic plate or on the outer periphery of the plastic plate. A method of bringing them into close contact and connecting the transparent conductive film to the external electrode with low resistance (low impedance) (JP-A-9-149).
(See Japanese Patent Publication No. 3477752), a method is proposed in which a metal net is projected between two plastic plates, and the exposed portion of the metal net is sandwiched by a frame for external electrodes for grounding (see Japanese Patent Laid-Open No. 9-147752). ing.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】電磁波シールド性と透
明性を両立させる方法として、特開平1−278800
号公報、特開平5−323101号公報に示されている
透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着して薄膜導
電層を形成する方法は、透明性が達成できる程度の膜厚
(数100Å〜2、000Å)にすると導電層の表面抵
抗が大きくなりすぎ、特開平9−149347号公報に
示される接地のための外部電極との接続方法でディスプ
レイに取り付けたとしても十分なシールド性能が得られ
なかった。良導電性繊維を透明基材に埋め込んだ電磁波
シールド材(特開平5−327274号公報、特開平5
−269912号公報)では、接地のための外部電極と
の接続を特開平9−147752号公報に示されている
方法等により接続すると、シールド効果は十分である
が、電磁波漏れのないように導電性繊維を規則配置させ
るために必要な繊維径が最も細いもので35μmと太す
ぎるため、繊維が見えてしまい(以後視認性という)デ
ィスプレイ用途には適したものではなかった。特開昭6
2−57297号公報、特開平2−52499号公報の
金属粉末等を含む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷し
た電磁波シールド材料の場合も同様に、印刷精度の限界
からライン幅は、100μm前後となり視認性が発現す
るため適したものではなかった。また、特願平9−14
5076号公報に提案されている方法では、電磁波シー
ルド性と透明性を両立することが可能であるが、フィル
ムをプラスチック板に貼り付ける方式であるため、接地
のための外部電極と接続をとる際にプラスチックフィル
ム及び接着剤層が絶縁層であるために、そのまま接地す
ることが困難であった。これに対し、例えば幾何学図形
で描かれた導電性材料がプラスチック板と反対面になる
ようにフイルムを貼り付けたとしても、接地のための外
部電極と接する部位にも幾何学図形が描かれているた
め、幾何学図形を構成する導電性材料と、外部電極との
接触面積が小さくなり良好なシールド性を得られなかっ
た。ディスプレイ前面から発生する電磁波のシールド性
については、30MHz〜1GHzにおける30dB以
上の電磁波シールド機能の他に、ディスプレイ前面より
発生する900〜1、100nmの赤外線はリモートコ
ントロールで制御する他のVTR機器等に悪影響を及ぼ
すため、これを遮蔽する必要がある。さらに可視光透過
性(可視光透過率)が大きいだけでなく、電磁波の漏れ
を防止するため、接地のための外部電極と電磁波遮蔽構
成体が良好に接続することが必要である。しかし、電磁
波シールド性、赤外線遮蔽性、透明性・非視認性の特性
を同時に十分満たすものは得られていなかった。本発明
はかかる点に鑑み、接地のための外部電極と良好な接続
をとることによる高い電磁波シールド性、赤外線遮蔽
性、透明性・非視認性有する電磁波シールド性接着フィ
ルム及びそれを用いた電磁波遮蔽構成体、ディスプレイ
を提供することを課題とする。
As a method for achieving both electromagnetic wave shielding properties and transparency, JP-A-1-278800 has been proposed.
Japanese Patent Laid-Open No. 5-323101 discloses a method of forming a thin film conductive layer by depositing a metal or a metal oxide on a transparent substrate. If it is 100 Å to 2,000 Å), the surface resistance of the conductive layer becomes too large, and even if it is attached to the display by the connection method with the external electrode for grounding disclosed in JP-A-9-149347, sufficient shielding performance is obtained. I couldn't get it. Electromagnetic wave shielding material in which a good conductive fiber is embedded in a transparent base material (Japanese Patent Laid-Open No. 5-327274, Japanese Patent Laid-Open No. 5-327274).
No. 269912), when the connection with an external electrode for grounding is made by the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-147752, the shield effect is sufficient, but the conductive material is used to prevent electromagnetic wave leakage. Since the fiber diameter necessary for the regular arrangement of the characteristic fibers is the thinnest and is 35 μm, which is too large, the fibers are visible (hereinafter referred to as visibility) and are not suitable for display applications. JP-A-6
In the case of the electromagnetic wave shielding material in which a conductive resin containing a metal powder or the like is directly printed on a transparent substrate as disclosed in JP-A-2-57297 and JP-A-2-52499, similarly, the line width is around 100 μm due to the limit of printing accuracy. Therefore, it is not suitable because the visibility is expressed. In addition, Japanese Patent Application No. 9-14
According to the method proposed in Japanese Patent No. 5076, it is possible to achieve both electromagnetic wave shielding property and transparency, but since it is a method in which a film is attached to a plastic plate, when connecting to an external electrode for grounding. In addition, since the plastic film and the adhesive layer are insulating layers, it was difficult to directly ground them. On the other hand, for example, even if the film is attached so that the conductive material drawn in a geometrical shape is on the opposite side of the plastic plate, the geometrical figure is also drawn in the part in contact with the external electrode for grounding. As a result, the contact area between the conductive material forming the geometrical figure and the external electrode is small, and good shielding properties cannot be obtained. Regarding the shielding property of the electromagnetic waves generated from the front surface of the display, in addition to the electromagnetic wave shielding function of 30 dB or more at 30 MHz to 1 GHz, the infrared rays of 900 to 1, 100 nm generated from the front surface of the display can be controlled by other VTR devices controlled by remote control. This has an adverse effect and must be shielded. In addition to having a large visible light transmittance (visible light transmittance), it is necessary to properly connect the external electrode for grounding and the electromagnetic wave shielding structure in order to prevent leakage of electromagnetic waves. However, there has not been obtained a material that sufficiently satisfies the electromagnetic wave shielding property, the infrared ray shielding property, and the transparency / non-visibility properties at the same time. In view of such a point, the present invention has an electromagnetic wave shielding adhesive film having high electromagnetic wave shielding property, infrared ray shielding property, transparency and non-visibility by making a good connection with an external electrode for grounding, and an electromagnetic wave shielding film using the same. An object is to provide a structure and a display.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に記載
の発明は、プラスチックフィルムと、該プラスチックフ
ィルム上に設けた接着剤層と、該接着剤層の上に接着し
た導電性材料の金属箔から描かれた幾何学図形とからな
るディスプレイ用電磁波シールド性フィルムにおいて、
前記導電性材料の金属箔は、前記接着剤層への貼合せ面
が粗化されており、前記幾何学図形は、前記金属箔をケ
ミカルエッチングプロセスで描かれたもので、ライン幅
が40μm以下、ライン間隔が100μm以上、ライン
厚みが40μm以下であり、かつ、前記幾何学図形の外
周に該幾何学図形と電気的に接続した導電性の額縁部を
設けており、前記接着剤層は、加熱又は加圧により流動
するものであり、かつ、前記金属箔との接着により粗化
形状が転写されて粗化された面を有しており、さらに、
前記幾何学図形及び前記接着剤層の粗化された面の上に
加熱又は加圧により接着した透明層を設けたことを特徴
とするディスプレイ用電磁波シールド性フィルムであ
る。請求項2に記載の発明は、上記幾何学図形及び上記
額縁部が、貼り合わせた金属箔にケミカルエッチングプ
ロセスによって幾何学図形をその外周に電気的に接続し
た額縁部を残して形成したものであることを特徴とする
ものである。請求項3に記載の発明は、上記金属箔に形
成された幾何学図形と電気的に接続した導電性の額縁部
の少なくとも一部が露出していることを特徴とするもの
である。請求項4に記載の発明は、上記導電性材料の金
属箔に形成された幾何学図形と電気的に接続した導電性
の額縁部の幅が1〜40mmであることを特徴とするも
のである。
The invention according to claim 1 of the present invention is directed to a plastic film, an adhesive layer provided on the plastic film, and a conductive material adhered on the adhesive layer. In the electromagnetic wave shielding film for displays consisting of geometric figures drawn from metal foil,
The metal foil of the conductive material has a roughened bonding surface to the adhesive layer, and the geometrical figure is the metal foil drawn by a chemical etching process and has a line width of 40 μm or less. A line interval is 100 μm or more and a line thickness is 40 μm or less, and a conductive frame portion electrically connected to the geometric figure is provided on the outer periphery of the geometric figure, and the adhesive layer is It is one that flows by heating or pressurization, and has a surface roughened by transferring a roughened shape by adhesion with the metal foil, and further,
On the roughened surface of the geometric figure and the adhesive layer
An electromagnetic wave shielding film for a display, comprising a transparent layer adhered by heating or pressing . The invention according to claim 2 provides the geometrical figure and the geometrical figure.
The frame part is chemically etched on the bonded metal foil.
The geometrical shape is electrically connected to the outer periphery by the process
It is characterized in that it is formed by leaving the frame portion . The invention according to claim 3 is characterized in that at least a part of a conductive frame portion electrically connected to the geometrical figure formed on the metal foil is exposed. The invention according to claim 4 is the gold of the conductive material.
Conductivity electrically connected to geometric figures formed on metal foil
The width of the frame portion is 1 to 40 mm .

【0007】 請求項5に記載の発明は、上記導電性材
料が銅であり、少なくとも金属箔の表面が黒化処理され
ていることを特徴とするものである。請求項6に記載の
発明は、上記プラスチックフィルムがポリエチレンテレ
フタレートフィルムまたはポリカーボネートフィルムで
あることを特徴とするものである。請求項7に記載の発
明は、上記導電性材料の金属箔が、厚さ0.5〜40μ
mの銅、アルミニウムまたはニッケルであることを特徴
とするものである。請求項8に記載の発明は、上記幾何
学図形の上に透明層を設けるときに加圧したものである
ことを特徴とするものである。請求項9に記載の発明
は、上記幾何学図形の部分に別の接着剤層を介して透明
層を設けたことを特徴とするものである。請求項10に
記載の発明は、上記ディスプレイ用電磁波シールド性フ
ィルムを構成するいずれかの層に赤外線吸収剤が含有さ
れていることを特徴とするものである。
According to a fifth aspect of the present invention, the conductive material is copper, and at least the surface of the metal foil is blackened. In the invention according to claim 6, the plastic film is polyethylene tere
With phthalate film or polycarbonate film
It is characterized in that. The invention according to claim 7, the metal foil of the conductive material, the thickness 0.5~40μ
m of copper, aluminum or nickel . The invention described in claim 8 is characterized in that pressure is applied when a transparent layer is provided on the geometrical figure. The invention according to claim 9 is transparent through another adhesive layer in the portion of the geometrical figure.
It is characterized in that a layer is provided . According to a tenth aspect of the present invention, there is provided an electromagnetic wave shielding property for a display as described above.
Infrared absorber is contained in one of the layers that make up the film.
It is characterized by being.

【0008】 請求項11に記載の発明は、請求項1〜
10のいずれか1項に記載のディスプレイ用電磁波シー
ルド性フィルムとプラスチック板、プラスチックフィル
ム又はガラス板を重ねて加圧してなるディスプレイ用電
磁波遮蔽構成体である。請求項12に記載の発明は、プ
ラスチックフィルムと、該プラスチックフィルム上に設
けた接着剤層と、該接着剤層の上に接着した導電性材料
の金属箔から描かれた幾何学図形とからなるディスプレ
イ用電磁波シールド性フィルムを有するディスプレイ用
電磁波遮蔽構成体において前記導電性材料の金属箔
は、前記接着剤層への貼合せ面が粗化されており、前記
幾何学図形は、前記金属箔をケミカルエッチングプロセ
スで描かれたもので、ライン幅が40μm以下、ライン
間隔が100μm以上、ライン厚みが40μm以下であ
り、かつ、前記幾何学図形の外周に幾何学図形と電気
的に接続した導電性の額縁部を設けており、前記接着剤
層は、加熱又は加圧により流動するものであり、かつ、
前記金属箔との接着により粗化形状が転写されて粗化さ
れた面を有しており、さらに、前記幾何学図形及び前記
接着剤層の粗化された面の上に加熱又は加圧により接着
した、プラスチック板、プラスチックフィルム又はガラ
ス板からなる透明層を設けたことを特徴とするディスプ
レイ用電磁波遮蔽構成体である。請求項13に記載の発
明は、さらに、電磁波遮蔽構成体の周辺部に額縁部と接
するように枠体を設けたことを特徴とするものである。
The invention according to claim 11 relates to claims 1 to 1.
10. The electromagnetic wave shield for display according to any one of 10
Rudder film and plastic plate, plastic film
A display battery made by stacking and pressing glass or glass plates
It is a magnetic wave shielding structure . A twelfth aspect of the present invention provides a plastic film and a plastic film provided on the plastic film.
Glued adhesive layer and conductive material adhered on the adhesive layer
Display consisting of geometric figures drawn from metal foil of
For displays with electromagnetic wave shielding film for a
In an electromagnetic wave shielding structure, a metal foil of the conductive material
Has a roughened bonding surface to the adhesive layer,
Geometric figures are made by chemically etching the metal foil.
Which was drawn by the scan line width is 40μm or less, the line interval is 100μm or more, der line thickness 40μm or less
Ri, and the are provided with a frame portion outer periphery of the geometric shapes and electrically connected to the conductive geometric shapes, the adhesive layer is intended to flow by heating or pressurization, and,
Wherein the adhesive has a surface roughened shape is roughened is transferred by the metal foil, further, the geometrical figure and the
Bonding by heat or pressure on the roughened surface of the adhesive layer
, Plastic plate, plastic film or glass
Disp with a transparent layer made of a transparent plate
It is an electromagnetic wave shielding structure for rays . According to a thirteenth aspect of the present invention , the frame portion is further connected to the peripheral portion of the electromagnetic wave shielding structure.
A frame is provided so as to

【0009】 請求項14に記載の発明は、請求項1〜
10のいずれか1項に記載のディスプレイ用電磁波シー
ルド性フィルムをディスプレイ表面に重ねて加圧してな
る電磁波シールド性フィルムを有するディスプレイであ
。請求項15に記載の発明は、プラスチックフィルム
、該プラスチックフィルム上に設けた接着剤層と、該
接着剤層の上に接着した導電性材料の金属箔から描かれ
た幾何学図形とからなるディスプレイ用電磁波シールド
性フィルムを有するディスプレイにおいて前記導電性
材料の金属箔は、前記接着剤層への貼合せ面が粗化され
ており、前記幾何学図形は、前記金属箔をケミカルエッ
チングプロセスで描かれたもので、ライン幅が40μm
以下、ライン間隔が100μm以上、ライン厚みが40
μm以下であり、かつ、前記幾何学図形の外周に幾何
学図形と電気的に接続した導電性の額縁部を設けてお
り、前記接着剤層は、加熱又は加圧により流動するもの
であり、かつ、前記金属箔との接着により粗化形状が転
写されて粗化された面を有しており、さらに、前記幾何
学図形及び前記接着剤層の粗化された面とディスプレイ
表面とが加熱又は加圧により接着されたことを特徴とす
るディスプレイである。
[0009] The invention according to claim 14, claim 1
10. The electromagnetic wave shield for display according to any one of 10
Do not press the rubbing film on the display surface.
A display having an electromagnetic wave shielding film
It The invention according to claim 15 provides a plastic film , an adhesive layer provided on the plastic film, and
Drawn from a metal foil of conductive material glued onto the adhesive layer
In a display having an electromagnetic wave shielding film for a display , which is composed of
The metal foil of the material has a roughened bonding surface to the adhesive layer.
And the geometric figure is a chemical etch of the metal foil.
It was drawn by the ching process, and the line width is 40 μm.
Below, the line interval is 100 μm or more and the line thickness is 40 μm.
μm or less, and you are provided a frame portion of the geometric shapes and electrically connected to the conductive outer circumference of the geometric figures
Ri, the adhesive layer is intended to flow by heating or pressing, and the adhesive has a surface roughened shape is roughened is transferred by the said metal foil, further, the geometric
Rough surface and display of geometrical figures and said adhesive layer
Characterized by being adhered to the surface by heat or pressure
Display.

【0010】[0010]

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。本
発明で使用するプラスチックフィルムとしては、ポリエ
チレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタ
レートなどのポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリスチレン、EVAなどのポリオレフィン
類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル
系樹脂、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリカ
ーボネート、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂な
どのプラスチックからなるフィルムで全可視光透過率が
70%以上で厚さが1mm以下のものが好ましい。これ
らは単層で使うこともできるが、2層以上を組み合わせ
た多層フィルムとして使用することもできる。前記プラ
スチックフィルムのうち透明性、耐熱性、取り扱いやす
さ、価格の点からポリエチレンテレフタレートフィルム
またはポリカーボネートフィルムが好ましい。プラスチ
ックフィルム厚さは、5〜500μmがより好ましい。
5μm未満だと取り扱い性が悪くなり、500μmを超
えると可視光の透過率が低下してくる。10〜200μ
mとすることがさらに好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below. Examples of the plastic film used in the present invention include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate, polyolefins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene and EVA, vinyl resins such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride, and polysulfone. A film made of a plastic such as polyether sulfone, polycarbonate, polyamide, polyimide, or acrylic resin, having a total visible light transmittance of 70% or more and a thickness of 1 mm or less is preferable. These can be used as a single layer, but can also be used as a multilayer film in which two or more layers are combined. Among the plastic films, a polyethylene terephthalate film or a polycarbonate film is preferable from the viewpoints of transparency, heat resistance, handleability, and price. The plastic film thickness is more preferably 5 to 500 μm.
If it is less than 5 μm, the handleability is deteriorated, and if it exceeds 500 μm, the visible light transmittance is lowered. 10-200μ
More preferably, it is m.

【0012】本発明で使用するプラスチック板は、プラ
スチックからなる板であり、具体的には、ポリスチレン
樹脂、アクリル樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化
ビニリデン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹
脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエー
テルイミド樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、ポリアリレ
ート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリブチレンテレフタ
レート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂などの熱
可塑性ポリエステル樹脂、酢酸セルロース樹脂、フッ素
樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、
ポリメチルペンテン樹脂、ポリウレタン樹脂、フタル酸
ジアリル樹脂などの熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂が挙げ
れれる。これらの中でも透明性に優れるポリスチレン樹
脂、アクリル樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポ
リカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエチレ
ンテレフタレート樹脂、ポリメチルペンテン樹脂が好適
に用いられる。本発明で使用するプラスチック板の厚み
は、0.5mm〜5mmがディスプレイの保護や強度、
取扱性から好ましい。
The plastic plate used in the present invention is a plate made of plastic, specifically, polystyrene resin, acrylic resin, polymethylmethacrylate resin,
Polycarbonate resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polyethylene resin, polypropylene resin, polyamide resin, polyamideimide resin, polyetherimide resin, polyetherketone resin, polyarylate resin, polyacetal resin, polybutylene terephthalate resin, polyethylene terephthalate Thermoplastic polyester resin such as resin, cellulose acetate resin, fluororesin, polysulfone resin, polyethersulfone resin,
Examples thereof include thermoplastic resins and thermosetting resins such as polymethylpentene resin, polyurethane resin and diallyl phthalate resin. Among these, polystyrene resin, acrylic resin, polymethylmethacrylate resin, polycarbonate resin, polyvinyl chloride resin, polyethylene terephthalate resin, and polymethylpentene resin, which are excellent in transparency, are preferably used. The thickness of the plastic plate used in the present invention is 0.5 mm to 5 mm for protection and strength of the display,
It is preferable in terms of handleability.

【0013】本発明の導電性金属として、銅、アルミニ
ウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、タングステ
ン、クロム、チタンなどの金属、あるいは金属の2種以
上を組み合わせた合金を使用することができる。導電性
や回路加工の容易さ、価格の点から銅、アルミニウムま
たはニッケルが適しており、厚さが0.5〜40μmの
金属箔、めっき金属、蒸着などの真空下で形成される金
属が使われる。厚さが40μmを超えると、細いライン
幅の形成が困難であったり、視野角が狭くなる。また厚
さが0.5μm未満では、表面抵抗が大きくなり、電磁
波シールド効果が劣る傾向にある。
As the conductive metal of the present invention, a metal such as copper, aluminum, nickel, iron, gold, silver, stainless steel, tungsten, chromium and titanium, or an alloy in which two or more kinds of metals are combined can be used. . Copper, aluminum, or nickel is suitable in terms of conductivity, ease of circuit processing, and price. Metal foil with a thickness of 0.5 to 40 μm, plated metal, or metal formed under vacuum such as vapor deposition is used. Be seen. If the thickness exceeds 40 μm, it is difficult to form a thin line width or the viewing angle becomes narrow. On the other hand, if the thickness is less than 0.5 μm, the surface resistance becomes large and the electromagnetic wave shielding effect tends to be poor.

【0014】導電性金属が銅であり、少なくともその表
面が黒化処理されたものであると、コントラストが高く
なり好ましい。また導電性金属が経時的に酸化され退色
されることが防止できる。黒化処理は、幾何学図形の形
成前後で行えばよいが、通常形成後において、プリント
配線板分野で行われている方法を用いて行うことができ
る。例えば、亜塩素酸ナトリウム(31g/l)、水酸
化ナトリウム(15g/l)、燐酸三ナトリウム(12
g/l)の水溶液中、95℃で2分間処理することによ
り行うことができる。また導電性金属が、常磁性金属で
あると、磁場シールド性に優れるために好ましい。かか
る導電性金属を上記プラスチックフィルムに密着させる
方法としては、アクリルやエポキシ系樹脂を主成分とし
た加熱または加圧により流動する接着剤層を介して貼り
合わせるのが最も簡便である。導電性金属の導電層の厚
みを小さくする必要がある場合は真空蒸着法、スパッタ
リング法、イオンプレート法、化学蒸着法、無電解・電
気めっき法などの薄膜形成技術のうちの1または2以上
の方法を組み合わせることにより達成できる。導電性金
属の厚みは40μm以下とすることが好ましく、厚みが
薄いほどディスプレイの視野角が広がり電磁波シールド
材料として好ましく、18μm以下とすることがさらに
好ましい。
It is preferable that the conductive metal is copper, and at least the surface of the conductive metal is blackened, because the contrast is increased. In addition, it is possible to prevent the conductive metal from being oxidized and discolored over time. The blackening treatment may be carried out before and after the formation of the geometrical figure, but after the formation, it can be carried out by a method generally used in the field of printed wiring boards. For example, sodium chlorite (31 g / l), sodium hydroxide (15 g / l), trisodium phosphate (12
It can be carried out by treating in an aqueous solution of g / l) at 95 ° C. for 2 minutes. Further, it is preferable that the conductive metal is a paramagnetic metal because of its excellent magnetic field shielding property. The simplest method for bringing the conductive metal into close contact with the plastic film is to stick the conductive metal through an adhesive layer containing acrylic or epoxy resin as a main component and flowing by heat or pressure. When it is necessary to reduce the thickness of the conductive layer of the conductive metal, one or more of thin film forming techniques such as vacuum deposition method, sputtering method, ion plate method, chemical vapor deposition method and electroless / electroplating method are used. This can be achieved by combining the methods. The thickness of the conductive metal is preferably 40 μm or less, and the thinner the thickness, the wider the viewing angle of the display, which is preferable as the electromagnetic wave shielding material, and more preferably 18 μm or less.

【0015】本発明の導電性金属で描かれた幾何学図形
は、正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角
形、正方形、長方形、ひし形、平行四辺形、台形などの
四角形、(正)六角形、(正)八角形、(正)十二角
形、(正)二十角形などの(正)n角形(nは正の整
数)、円、だ円、星型などを組み合わせた模様であり、
これらの単位の単独の繰り返し、あるいは2種類以上組
み合わせで使うことも可能である。電磁波シールド性の
観点からは三角形が最も有効であるが、可視光透過性の
点からは同一のライン幅なら(正)n角形のn数が大き
いほど開口率が上がるが、可視光透過性の点から開口率
は50%以上であることが好ましい。開口率は、60%
以上がさらに好ましい。開口率は、電磁波シールド性接
着フィルムの有効面積に対する有効面積から導電性金属
で描かれた幾何学図形の導電性金属の面積を引いた面積
の比の百分率である。ディスプレイ画面の面積を電磁波
シールド性接着フィルムの有効面積とした場合、その画
面が見える割合となる。
The geometric figures drawn by the conductive metal of the present invention include triangles such as equilateral triangles, isosceles triangles and right triangles, squares, rectangles, rhombuses, quadrilaterals such as parallelograms and trapezoids, and (regular) hexagons. It is a pattern that combines (regular) n-gons (n is a positive integer) such as polygons, (regular) octagons, (regular) dodecagons, (regular) decagons, circles, ellipses, and stars. ,
These units can be used alone or in combination of two or more. The triangle is most effective from the viewpoint of electromagnetic wave shielding property, but from the viewpoint of visible light transparency, the aperture ratio increases as the n number of the (positive) n-sided polygon increases with the same line width. From this point, the aperture ratio is preferably 50% or more. Aperture ratio is 60%
The above is more preferable. The aperture ratio is the percentage of the ratio of the effective area of the electromagnetic wave shielding adhesive film to the effective area minus the area of the conductive metal of the geometric figure drawn with the conductive metal. When the area of the display screen is taken as the effective area of the electromagnetic wave shielding adhesive film, it becomes the ratio at which the screen can be seen.

【0016】このような幾何学図形を形成させる方法と
しては、導電性金属付きのプラスチックフィルムをマイ
クロリソグラフ法で作製するのが回路加工の精度および
回路加工の効率の点から有効である。このマイクロリソ
グラフ法には、フォトリソグラフ法、X線リソグラフ
法、電子線リソグラフ法、イオンビームリソグラフ法な
どがあり、これらの他にスクリーン印刷法なども含まれ
る。これらの中でも、その簡便性、量産性の点からフォ
トリソグラフ法が最も効率がよい。なかでも、ケミカル
エッチング法を使用したフォトリソグラフ法は、その簡
便性、経済性、回路加工精度などの点から最も好まし
い。フォトリソグラフ法の中ではケミカルエッチング法
の他にも無電解めっきや電気めっきによる方法、または
無電解めっきや電気めっきとケミカルエッチング法を組
み合わせて幾何学図形を形成することも可能である。
As a method of forming such a geometrical figure, it is effective to produce a plastic film with a conductive metal by a microlithography method from the viewpoint of accuracy of circuit processing and efficiency of circuit processing. The microlithographic method includes a photolithographic method, an X-ray lithographic method, an electron beam lithographic method, an ion beam lithographic method, and the like, and also includes a screen printing method and the like. Among these, the photolithographic method is the most efficient in terms of its simplicity and mass productivity. Among them, the photolithographic method using the chemical etching method is the most preferable in terms of its simplicity, economy, circuit processing accuracy, and the like. In the photolithography method, in addition to the chemical etching method, a method by electroless plating or electroplating, or a combination of electroless plating or electroplating and a chemical etching method can be used to form a geometric figure.

【0017】このような幾何学図形のライン幅は40μ
m以下、ライン間隔は100μm以上、ライン厚みは4
0μm以下の範囲とするのが好ましい。また幾何学図形
の非視認性の観点からライン幅は25μm以下、可視光
透過率の点からライン間隔は120μm以上、ライン厚
み18μm以下がさらに好ましい。ライン幅は、40μ
m以下、好ましくは25μm以下が好ましく、あまりに
小さく細くなると表面抵抗が大きくなりすぎてシールド
効果に劣るので1μm以上が好ましい。ライン厚みは4
0μm以下が好ましく、あまりに厚みが薄いと表面抵抗
が大きくなりすぎてシールド効果に劣るので0.5μm
以上が好ましく、さらに1μm以上がさらに好ましい。
ライン間隔は、大きいほど開口率は向上し、可視光透過
率は向上する。前述のようにディスプレイ前面に使用す
る場合、開口率は50%以上が好ましいが、60%以上
がさらに好ましい。ライン間隔が大きくなり過ぎると、
電磁波シールド性が低下するため、ライン間隔は100
0μm(1mm)以下とするのが好ましい。なお、ライ
ン間隔は、幾何学図形等の組合せで複雑となる場合、繰
り返し単位を基準として、その面積を正方形の面積に換
算してその一辺の長さをライン間隔とする。
The line width of such a geometrical figure is 40 μm.
m or less, line spacing is 100 μm or more, line thickness is 4
The range is preferably 0 μm or less. From the viewpoint of non-visibility of geometric figures, the line width is more preferably 25 μm or less, and the line spacing is more preferably 120 μm or more and the line thickness 18 μm or less from the viewpoint of visible light transmittance. Line width is 40μ
m or less, preferably 25 μm or less, and when it is too small and thin, the surface resistance becomes too large and the shielding effect is deteriorated, so 1 μm or more is preferable. Line thickness is 4
0 μm or less is preferable, and if the thickness is too thin, the surface resistance will be too high and the shielding effect will be poor, so 0.5 μm
The above is preferable, and 1 μm or more is further preferable.
The larger the line interval, the higher the aperture ratio and the visible light transmittance. When used on the front surface of the display as described above, the aperture ratio is preferably 50% or more, more preferably 60% or more. If the line spacing becomes too large,
The line spacing is 100 because the electromagnetic wave shielding property deteriorates.
It is preferably 0 μm (1 mm) or less. When the line spacing becomes complicated due to a combination of geometric figures, the area is converted into a square area based on the repeating unit, and the length of one side is defined as the line spacing.

【0018】本発明で用いる接着剤層となる接着剤は、
以下に示すものが代表的なものとして挙げられる。この
接着剤層は、加熱または加圧により流動し接着機能を有
するものであれば好ましい。本発明の電磁波シールド性
接着フィルムは、プラスチックフィルムの上に接着剤層
があり、その上の導電性金属で描かれた幾何学図形が形
成されている。接着剤層はプラスチックフィルムと導電
性金属で描かれた幾何学図形を接着しており、更にこれ
を被着体であるディスプレイ、プラスチック板、プラス
チックフィルム、ガラス板等に接着するとき、接着剤層
が、幾何学図形の形成されていない空間を介して流動し
被着体と接着する。このために接着剤層は、加熱または
加圧により流動することが好ましい。また、幾何学図形
を形成し接着性を向上するために導電性金属の接着面が
粗化されている場合、接着剤層にこの粗化面が転写さ
れ、粗化面で光が乱反射されるが、接着剤層の流動の際
に、粗化面の転写形状が流動により解消され光線透過性
の向上が図れる。これらのことから接着剤層は、加熱、
加圧により流動することが必要であり、熱可塑性、熱硬
化性、活性光線硬化性樹脂等の接着剤組成物が好まし
い。
The adhesive to be the adhesive layer used in the present invention is
The following are typical ones. It is preferable that this adhesive layer is one that flows by heat or pressure and has an adhesive function. The electromagnetic wave shielding adhesive film of the present invention has an adhesive layer on a plastic film, on which a geometrical figure drawn by a conductive metal is formed. The adhesive layer is formed by adhering a geometrical figure drawn with a plastic film and a conductive metal, and when further adhering it to an adherend such as a display, a plastic plate, a plastic film or a glass plate, the adhesive layer , Flow through a space in which no geometrical figure is formed and adhere to the adherend. For this reason, the adhesive layer is preferably fluidized by heating or pressing. In addition, when the conductive metal adhesion surface is roughened to form a geometric figure and improve adhesion, this roughened surface is transferred to the adhesive layer, and light is diffusely reflected on the roughened surface. However, when the adhesive layer flows, the transfer shape of the roughened surface is eliminated by the flow, and the light transmittance can be improved. From these things, the adhesive layer is heated,
It is necessary to flow under pressure, and an adhesive composition such as a thermoplastic, thermosetting or actinic ray curable resin is preferable.

【0019】これらの接着剤として、ビスフェノールA
型エポキシ樹脂やビスフェノールF型エポキシ樹脂、テ
トラヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ノボラ
ック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ポリ
アルコール・ポリグリコール型エポキシ樹脂、ポリオレ
フィン型エポキシ樹脂、脂環式やハロゲン化ビスフェノ
ールなどのエポキシ樹脂を使用することができる。エポ
キシ樹脂以外では天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ−
1、2−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポ
リ−2−ヘプチル−1、3−ブタジエン、ポリ−2−t
−ブチル−1、3−ブタジエン、ポリ−1、3−ブタジ
エンなどの(ジ)エン類、ポリオキシエチレン、ポリオ
キシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニ
ルヘキシルエーテル、ポリビニルブチルエーテルなどの
ポリエーテル類、ポリビニルアセテート 、ポリビニル
プロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、
エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニト
リル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルホン、ポリス
ルフィド、フェノキシ樹脂などを挙げることができる。
これらは好適な可視光透過率を発現する。
As these adhesives, bisphenol A is used.
Type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, tetrahydroxyphenylmethane type epoxy resin, novolac type epoxy resin, resorcin type epoxy resin, polyalcohol / polyglycol type epoxy resin, polyolefin type epoxy resin, alicyclic and halogenated bisphenol, etc. Epoxy resin can be used. Other than epoxy resin, natural rubber, polyisoprene, poly-
1,2-butadiene, polyisobutene, polybutene, poly-2-heptyl-1,3-butadiene, poly-2-t
-(Di) enes such as butyl-1,3-butadiene, poly-1,3-butadiene, polyethers such as polyoxyethylene, polyoxypropylene, polyvinyl ethyl ether, polyvinyl hexyl ether, polyvinyl butyl ether, polyvinyl acetate , Polyesters such as polyvinyl propionate, polyurethane,
Examples thereof include ethyl cellulose, polyvinyl chloride, polyacrylonitrile, polymethacrylonitrile, polysulfone, polysulfide, and phenoxy resin.
These exhibit suitable visible light transmittance.

【0020】接着剤の硬化剤としてはトリエチレンテト
ラミン、キシレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン
などのアミン類、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水
ドデシルコハク酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸などの酸無水物、ジアミノジフ
ェニルスルホン、トリス(ジメチルアミノメチル)フェ
ノール、ポリアミド樹脂、ジシアンジアミド、アルキル
置換イミダゾールなどを使うことができる。これらは単
独で用いてもよいし、2種以上混合して用いてもよい。
また、使用しなくてもよい。これらの硬化剤(架橋剤)
の添加量は上記ポリマー100重量部に対して0.1〜
50重量部、好ましくは1〜30重量部の範囲で選択す
るのがよい。この量が0.1重量部未満であると硬化が
不十分となり、50重量部を超えると過剰架橋となり、
接着性に悪影響を与える場合がある。本発明で使用する
接着剤には必要に応じて、希釈剤、可塑剤、酸化防止
剤、紫外線吸収剤、充填剤や粘着付与剤などの添加剤を
配合してもよい。そしてこの接着剤層は、プラスチック
フィルムの表面に塗布され、導電性金属を貼り合わせ導
電性金属付きプラスチックフィルムを形成する。
Examples of the curing agent for the adhesive include amines such as triethylenetetramine, xylenediamine and diaminodiphenylmethane, and acids such as phthalic anhydride, maleic anhydride, dodecylsuccinic anhydride, pyromellitic anhydride and benzophenonetetracarboxylic acid anhydride. Anhydride, diaminodiphenyl sulfone, tris (dimethylaminomethyl) phenol, polyamide resin, dicyandiamide, alkyl-substituted imidazole and the like can be used. These may be used alone or in combination of two or more.
Also, it may not be used. These curing agents (crosslinking agents)
Is 0.1 to 100 parts by weight of the above polymer.
It is preferable to select 50 parts by weight, preferably 1 to 30 parts by weight. If this amount is less than 0.1 part by weight, curing will be insufficient, and if it exceeds 50 parts by weight, excessive crosslinking will occur.
Adhesiveness may be adversely affected. If necessary, the adhesive used in the present invention may be mixed with additives such as a diluent, a plasticizer, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a filler and a tackifier. Then, this adhesive layer is applied to the surface of the plastic film to bond the conductive metal to form a plastic film with a conductive metal.

【0021】本発明でいう導電性の額縁部とは、導電性
金属で描かれた幾何学図形と同じ面にあり、導電性材料
により幾何学図形の外周に額縁状に形成されたものであ
る。額縁部は、導電性材料で描かれた幾何学図形と電気
的に接続され、接地のための外部電極と良好に接続され
る。本発明における電磁波シールド性接着フィルムの平
面図を図1(a)に示す。導電性金属で描かれた幾何学
図形(2)の外周に導電性の額縁部(1)が形成され
る。以下に電磁波シールド性接着フィルムの構成を、電
磁波シールド性接着フィルムの断面図により例示する。
電磁波シールド性接着フィルムの構成は、図1(b)に
示したように、プラスチックフィルム(3)に接着剤層
(4)を介して導電性金属で描かれた幾何学図形(2)
が形成され、その外周に導電性の額縁部(1)が形成さ
れる。また、図1(c)に示したように、プラスチック
フィルム(3)に接着剤層(4)を介して導電性金属で
描かれた幾何学図形(2)が形成され、その外周に導電
性の額縁部(1)が露出して形成されている。この額縁
部(1)が露出した構成は、電磁波シールド性接着フィ
ルムの額縁部を支持する接着剤層やプラスチックフィル
ムの一部若しくは全部を除去して形成することができ
る。接着剤層やプラスチックフィルムの一部若しくは全
部を除去する方法として、遮蔽治具を介してレーザやサ
ンドブラストを用いることにより容易に行うことができ
る。遮蔽治具は、レーザの場合は、金属板を加工して額
縁部の形状に貫通部を設け、貫通部を額縁部の形成位置
に合わせて電磁波シールド性接着フィルムのプラスチッ
ク面に載置し、金属板をレーザの遮蔽物として用いる。
一方、サンドブラストの場合も同様に、耐摩耗性の材料
であるゴム、フォトレジスト等を遮蔽物にして用いる。
導電性の額縁部(1)を形成させるには、導電性金属で
描かれた幾何学図形の外周に、額縁部を形成する金属
箔、導電性テープ、導電性の3次元網目構成体を後で設
けることにより行うこともできる。幾何学図形の導電性
金属と額縁部の電気的な接続は、電磁波シールド性接着
フィルムの接着剤層により金属箔等を額縁部として用い
接着し、額縁部の金属箔と導電性金属の幾何学図形との
接触による接続でも良いし、金属箔または導電性金属の
幾何学図形にはんだペーストを塗布しておき、加熱溶融
させての接続でも良い。また、導電性接着剤による接着
でも良い。
The conductive frame portion in the present invention is on the same surface as the geometrical figure drawn by the conductive metal, and is formed in a frame shape on the outer periphery of the geometrical figure by the conductive material. . The frame portion is electrically connected to the geometrical figure drawn by the conductive material, and is well connected to the external electrode for grounding. A plan view of the electromagnetic wave shielding adhesive film of the present invention is shown in FIG. A conductive frame portion (1) is formed on the outer periphery of a geometrical figure (2) drawn with a conductive metal. The structure of the electromagnetic wave shielding adhesive film will be exemplified below with a cross-sectional view of the electromagnetic wave shielding adhesive film.
As shown in FIG. 1 (b), the constitution of the electromagnetic wave shielding adhesive film is such that a geometrical figure (2) drawn on the plastic film (3) with a conductive metal through the adhesive layer (4).
Is formed, and a conductive frame portion (1) is formed on the outer periphery thereof. Further, as shown in FIG. 1 (c), a geometrical figure (2) drawn by a conductive metal is formed on a plastic film (3) through an adhesive layer (4), and a conductive pattern is formed on the outer periphery thereof. The frame portion (1) is exposed. The structure in which the frame part (1) is exposed can be formed by removing a part or all of the adhesive layer or the plastic film supporting the frame part of the electromagnetic wave shielding adhesive film. As a method for removing a part or all of the adhesive layer or the plastic film, it can be easily performed by using laser or sandblast through a shielding jig. In the case of a laser, the shielding jig is a metal plate processed to provide a penetrating portion in the shape of the frame portion, and the penetrating portion is placed on the plastic surface of the electromagnetic shielding adhesive film in accordance with the formation position of the frame portion, A metal plate is used as a laser shield.
On the other hand, also in the case of sandblasting, rubber, photoresist, etc., which are wear resistant materials, are used as a shield in the same manner.
In order to form the conductive frame portion (1), a metal foil, a conductive tape, and a conductive three-dimensional mesh structure forming the frame portion are provided around the geometrical figure drawn with the conductive metal. It can also be performed by providing. The electrical connection between the conductive metal of the geometrical figure and the frame is performed by using the adhesive layer of the electromagnetic wave shielding adhesive film to bond the metal foil, etc. Connection may be made by contact with a figure, or connection may be made by applying a solder paste to a geometric figure of a metal foil or a conductive metal and heating and melting. Alternatively, a conductive adhesive may be used for adhesion.

【0022】図1(d)には、プラスチックフィルム
(3)に接着剤層(4)を介して導電性金属で描かれた
幾何学図形(2)が形成され、その外周に導電性金属付
きプラスチックフィルムの導電性金属で導電性の額縁部
(1)が形成され、さらに、接着剤層を介して透明層
(5)が幾何学図形の上に額縁部の全てを覆わないよう
に貼りあわせて額縁部を露出させた例を示した。透明層
(5)は、プラスチックフィルム、プラスチック板、ガ
ラス板等であり、この構成では、ディスプレイに直接あ
るいは治具を介して設置することができる。 図1
(e)は、導電性の額縁部(1)をプラスチックフィル
ム(3)側に折り曲げてプラスチックフィルム側に額縁
部を露出させた例である。図1(f)は、プラスチック
フィルム(3)に接着剤層(4)を介して導電性金属で
描かれた幾何学図形(2)が形成され、その外周に導電
性接着剤や導電性テープ等の導電性材料(6)により額
縁部(1)を形成した例である。図1(g)は、プラス
チックフィルム(3)に接着剤層(4)を介して導電性
金属で描かれた幾何学図形(2)が形成され、その外周
に導電性の3次元網目構造体(7)により額縁部(1)
を形成した例である。図1(a)〜(g)に本発明の電
磁波シールド性接着フィルムの例を示したが、本発明
は、これらの構成に限るものではない。図1(b)の構
成では、額縁部を形成する導電性金属が幾何学図形の導
電性金属と接続されているため、接地のための外部電極
との接続抵抗が低く良好な電磁波シールド性を発現させ
ることができる。図1(b)の構成では、プラスチック
板に導電性金属で描かれた幾何学図形の面を、その接着
剤層を利用して貼り合わせた場合、額縁部の下層にある
接着剤層やプラスチックフィルムが絶縁層となるため
に、接地のための外部電極との電気的な接続が困難にな
る。これを解決したのが図1(e)の構成で、導電性金
属で描かれた幾何学図形(2)の面をプラスチック板に
貼り合わせたとき、額縁部が折り曲げられているため外
層側に接地のための電極となる額縁部があり電気的接続
が容易になる。折り曲げ方は、そのまま折り曲げてもよ
いが4隅が嵩高くなるため、例えば4隅に切り込みを入
れて折り曲げることが好ましい。また、額縁部が形成さ
れている部分のプラスチックフィルムに両面粘着テープ
を貼り付ける等により折り曲げた部分を固定してもよ
い。一方、同様に図1(c)の構成では、プラスチック
板に導電性金属で描かれた幾何学図形(2)の面を貼り
合わせると、額縁部が露出しているため接地のための外
部電極との電気的接続が容易となる。図1(d)の構成
では、プラスチックフィルム(3)側をディスプレイや
プラスチック板に貼り合わせた場合、外層となる幾何学
図形を透明層(5)で保護し、接地のための外部電極と
の接続が容易なように額縁部を露出させてある。貼り合
わせるプラスチックフィルム(3)あるいは透明層
(5)に、赤外線遮蔽機能、防眩、反射防止機能を付与
させてもよい。図1(f)及び(g)の構成では、幾何
学図形と接地のための外部電極との接続抵抗を低下させ
るために、導電性接着剤や導電性テープ等の導電性材料
(6)あるいは導電性の3次元網目構造体(7)によ
り、幾何学図形の導電性金属の上に導電性の額縁部
(1)を形成しているため、使用する機器のサイズに規
制されずに容易に額縁部を形成できる。この構成は、図
1(e)のように額縁部を折り曲げることもできる。上
記した額縁部の幅としては、接地のための外部電極との
接続を良好にするため1〜40mmとすることが好まし
い。20mmを超えると額縁部の幅が広すぎ、専有面積
が大きくなるため好ましくは、5〜15mmがよい。図
1(e)のように折り曲げる場合は、額縁部の幅を広め
に取ることもできる。
In FIG. 1 (d), a geometrical figure (2) drawn by a conductive metal is formed on a plastic film (3) through an adhesive layer (4), and a conductive metal is attached to the outer periphery thereof. A conductive frame part (1) is formed of a conductive metal of a plastic film, and further, a transparent layer (5) is attached via an adhesive layer so that the transparent frame (5) does not cover the whole frame part on the geometrical figure. An example is shown in which the frame portion is exposed. The transparent layer (5) is a plastic film, a plastic plate, a glass plate, or the like, and in this configuration, it can be installed directly on the display or via a jig. Figure 1
(E) is an example in which the conductive frame portion (1) is bent to the plastic film (3) side to expose the frame portion to the plastic film side. In FIG. 1 (f), a geometrical figure (2) drawn by a conductive metal is formed on a plastic film (3) via an adhesive layer (4), and a conductive adhesive or a conductive tape is formed on the outer periphery thereof. In this example, the frame portion (1) is formed of a conductive material (6) such as. FIG. 1 (g) shows that a geometrical figure (2) drawn by a conductive metal is formed on a plastic film (3) through an adhesive layer (4), and a conductive three-dimensional mesh structure is formed on the outer periphery thereof. (7) by the frame part (1)
It is an example of forming. Examples of the electromagnetic wave shielding adhesive film of the present invention are shown in FIGS. 1A to 1G, but the present invention is not limited to these configurations. In the configuration of FIG. 1B, since the conductive metal forming the frame portion is connected to the conductive metal of the geometrical figure, the connection resistance with the external electrode for grounding is low and the good electromagnetic wave shielding property is obtained. Can be expressed. In the configuration of FIG. 1B, when the surface of the geometrical figure drawn by the conductive metal is attached to the plastic plate by using the adhesive layer, the adhesive layer or the plastic layer under the frame part Since the film serves as an insulating layer, it becomes difficult to electrically connect with an external electrode for grounding. The solution to this is the configuration shown in Fig. 1 (e). When the surface of the geometrical figure (2) drawn with a conductive metal is attached to a plastic plate, the frame part is bent, so There is a frame portion that serves as an electrode for grounding, which facilitates electrical connection. As for the method of bending, it may be bent as it is, but since the four corners become bulky, it is preferable to make notches at the four corners and then to bend. Alternatively, the bent portion may be fixed by, for example, attaching a double-sided adhesive tape to the plastic film in the portion where the frame portion is formed. On the other hand, similarly, in the configuration of FIG. 1 (c), when the surface of the geometrical figure (2) drawn by the conductive metal is attached to the plastic plate, the frame portion is exposed, and thus the external electrode for grounding is formed. It becomes easy to electrically connect with. In the configuration shown in FIG. 1D, when the plastic film (3) side is attached to a display or a plastic plate, the geometrical pattern as the outer layer is protected by the transparent layer (5) and the outer electrode for grounding is protected. The frame is exposed for easy connection. The laminated plastic film (3) or transparent layer (5) may be provided with an infrared shielding function, an antiglare function, and an antireflection function. In the configurations of FIGS. 1F and 1G, in order to reduce the connection resistance between the geometrical figure and the external electrode for grounding, a conductive material such as a conductive adhesive or a conductive tape (6) or Since the conductive frame part (1) is formed on the conductive metal of the geometrical figure by the conductive three-dimensional network structure (7), the size of the equipment to be used is not restricted and it is easy. A frame portion can be formed. With this configuration, the frame portion can be bent as shown in FIG. The width of the frame portion described above is preferably 1 to 40 mm in order to improve the connection with the external electrode for grounding. If it exceeds 20 mm, the width of the frame portion becomes too wide and the occupied area becomes large, so that it is preferably 5 to 15 mm. In the case of bending as shown in FIG. 1 (e), the width of the frame portion can be made wider.

【0023】本発明の電磁波遮蔽構成体は、図1の
(a)〜(g)の構成をした電磁波シールド性接着フィ
ルムをプラスチック板の少なくとも片面に設けた構成で
ある。また、電磁波シールド性接着フィルムを、導電性
幾何学図形が描かれている面を接着剤層を介してプラス
チック板に設け、他面に接着剤層を介してプラスチック
フィルムを設けた電磁波遮蔽構成体である。このような
電磁波遮蔽構成体は、電磁波の漏洩を抑制し良好な電磁
波シールド性を得るために接地のための外部電極に接触
させることが好ましい。接地のための外部電極と上記電
磁波遮蔽構成体の接続抵抗が高かったり、あるいは密着
性が不十分であると十分な電磁波シールド性が得られな
い。
The electromagnetic wave shielding structure of the present invention has a structure in which the electromagnetic wave shielding adhesive film having the structure shown in FIGS. 1A to 1G is provided on at least one surface of a plastic plate. Also, an electromagnetic wave shielding adhesive film is provided on a plastic plate with a surface on which a conductive geometric figure is drawn via an adhesive layer and a plastic film on the other surface via an adhesive layer. Is. Such an electromagnetic wave shielding structure is preferably brought into contact with an external electrode for grounding in order to suppress electromagnetic wave leakage and obtain good electromagnetic wave shielding properties. If the connection resistance between the external electrode for grounding and the electromagnetic wave shielding structure is high or the adhesion is insufficient, sufficient electromagnetic wave shielding properties cannot be obtained.

【0024】本発明における電磁波遮蔽構成体の斜視図
を図2(a)に示した。プラスチック板(11)の片面
に電磁波シールド性接着フィルム(8)を、プラスチッ
ク板(11)の他面に接着剤層(12)を介してプラス
チックフィルム(13)を貼り合わせた構成例である。
この電磁波遮蔽構成体の断面図を図2(b)〜(e)に
示した。図2(b)の構成は、プラスチック板(11)
の片面に電磁波シールド性接着フィルム(8)の幾何学
図形の描かれている面を、他面に接着剤層(12)を介
してプラスチックフィルム(13)を貼り合わせてあ
る。図2(c)の構成は、プラスチック板(11)の片
面に電磁波シールド性接着フィルム(8)のプラスチッ
クフィルム(3)面を接着剤層(12)を介して貼り合
わせ、プラスチック板(11)の他面に接着剤層(1
2)を介してプラスチックフィルム(13)を貼り合わ
せてある。電磁波遮蔽構成体を接地のための外部電極に
接触させる場合、電磁波遮蔽構成体と接地のための外部
電極との密着性を向上させるために、導電性テープや導
電性の3次元網目構造体等のクッション性のある導電性
材料(6)を電磁波遮蔽構成体の額縁部に形成させてお
くことが好ましい(図2(d)、(e))。図3は、図
2に例示した電磁波遮蔽構成体の額縁部に導電性の枠体
(21)を設けた例である。枠体(21)は、導電性金
属で描かれた幾何学図形(2)と電気的に接続された導
電性の額縁部(1)と接地のための外部電極とを接続し
たり、美観を向上させる。外部電極との接続のために
は、枠体の表面は、導電性である必要があり、アルミニ
ウム、真鍮などの金属やプラスチックの必要な部分にメ
ッキを施したり、プラスチックに金属粉、導電性短繊維
等の導電性材料を分散させたものでもよい。枠体の断面
は、「コ」の字形状をしていると、電磁波遮蔽構成体に
はめ込み固定することができるので好ましい。固定は、
枠体の変形による復元力を利用したり、ねじやビス、接
着剤を使用しても良い。枠体の断面が「コ」の字状であ
ると枠体の凹部内側に銅箔等の金属箔を挿入し、全面が
導電性金属で描かれた幾何学図形の外周にこれをはめ込
むことにより枠体の金属箔と幾何学図形を圧接すること
ができ好ましい。この場合、幾何学図形と接している金
属箔が額縁部となる。
A perspective view of the electromagnetic wave shielding structure according to the present invention is shown in FIG. This is a configuration example in which an electromagnetic wave shielding adhesive film (8) is attached to one surface of a plastic plate (11) and a plastic film (13) is attached to the other surface of the plastic plate (11) via an adhesive layer (12).
2B to 2E are sectional views of this electromagnetic wave shielding structure. The structure of FIG. 2 (b) has a plastic plate (11).
The surface on which the geometrical figure of the electromagnetic wave shielding adhesive film (8) is drawn is bonded to one surface of the above, and the plastic film (13) is bonded to the other surface via the adhesive layer (12). In the configuration of FIG. 2 (c), the plastic film (3) side of the electromagnetic wave shielding adhesive film (8) is attached to one side of the plastic plate (11) via the adhesive layer (12) to form the plastic plate (11). Adhesive layer (1
A plastic film (13) is attached via 2). When the electromagnetic wave shielding structure is brought into contact with an external electrode for grounding, in order to improve the adhesion between the electromagnetic wave shielding structure and the external electrode for grounding, a conductive tape or a conductive three-dimensional mesh structure, etc. It is preferable that the cushioning conductive material (6) is formed on the frame portion of the electromagnetic wave shielding structure (FIGS. 2D and 2E). FIG. 3 is an example in which a conductive frame body (21) is provided in the frame portion of the electromagnetic wave shielding structure illustrated in FIG. The frame body (21) connects the conductive frame portion (1) electrically connected to the geometrical figure (2) drawn by the conductive metal and the external electrode for grounding, and has a beautiful appearance. Improve. In order to connect with external electrodes, the surface of the frame needs to be conductive, and metal such as aluminum and brass, or the necessary parts of plastics are plated, or plastics are covered with metal powder, conductive short A material in which a conductive material such as fiber is dispersed may be used. It is preferable that the frame body has a U-shaped cross section because it can be fitted and fixed in the electromagnetic wave shielding structure. Fixed is
The restoring force due to the deformation of the frame may be used, or screws, screws, and adhesives may be used. If the cross section of the frame is "U" shaped, insert a metal foil such as copper foil inside the concave part of the frame and fit it on the outer periphery of the geometric figure drawn on the whole surface with conductive metal. It is preferable because the metal foil of the frame and the geometrical figure can be pressed against each other. In this case, the metal foil that is in contact with the geometrical figure becomes the frame portion.

【0025】図3(a)は、電磁波遮蔽構成体に枠体
(21)を設けたときの斜視図であり、図3(b)〜
(g)は、その断面図である。図3(a)は、電磁波シ
ールド性接着フィルムの外周に設けた導電性の額縁部に
枠体(21)をはめ込み固定した電磁波遮蔽構成体であ
る。図3(b)は露出した額縁部の全部に枠体(21)
をはめ込み接触させた例で、(c)は、額縁部の一部に
枠体(21)をはめ込み接触させた例である。図3
(d)は、枠体(21)を「L」字の形状にして電磁波
シールド性接着フィルムの額縁部とプラスチック板の端
部側面だけに枠体を設けた構成である。額縁部と枠体の
導電性部分との接触が十分でないときは、導電性の額縁
部に額縁部や枠体よりやや硬い金属粉体を載せ、金属粉
体を額縁部や枠体に食い込ませて接触導通の確実性を増
すことも有効である。なお、プラスチック板の端部側面
と枠体は接着剤で固定した。図3(e)は、図2(c)
の電磁波遮蔽構成体に枠体(21)を設けた例である。
図3(f)は、図1(d)の電磁波シールド性接着フィ
ルム(8)の幾何学図形が形成されている面に透明層
(5)を設け、プラスチックフィルム(3)側に接着剤
層(12)を介してプラスチック板(11)の片面に積
層し、さらに、プラスチック板の他面に接着剤層(1
2)を介しプラスチックフィルム(13)を貼り合わせ
た電磁波遮蔽構成体(10)に枠体を設けた例である。
上記した枠体(21)は、これに限らず金属箔、導電性
接着剤、導電性テープ等の導電性材料とすることもでき
る。上記した構成は、一例であり、組み合わせは多数あ
る。
FIG. 3 (a) is a perspective view when the frame body (21) is provided on the electromagnetic wave shielding structure, and FIGS.
(G) is the sectional drawing. FIG. 3A shows an electromagnetic wave shielding structure in which a frame body (21) is fitted and fixed to a conductive frame portion provided on the outer periphery of an electromagnetic wave shielding adhesive film. FIG. 3B shows a frame body (21) on the entire exposed frame portion.
(C) is an example in which the frame body (21) is fitted in and contacted with a part of the frame portion. Figure 3
(D) is a configuration in which the frame body (21) is formed in an “L” shape, and the frame body is provided only on the frame portion of the electromagnetic wave shielding adhesive film and the end portion side surface of the plastic plate. If there is not enough contact between the frame and the conductive part of the frame, put a metal powder that is a little harder than the frame or frame on the conductive frame and let the metal powder bite into the frame or frame. It is also effective to increase the certainty of contact conduction. The side surface of the end of the plastic plate and the frame were fixed with an adhesive. FIG. 3 (e) is shown in FIG. 2 (c).
It is an example in which a frame body (21) is provided to the electromagnetic wave shielding structure.
FIG. 3 (f) shows a transparent layer (5) provided on the surface of the electromagnetic wave shielding adhesive film (8) of FIG. 1 (d) on which the geometrical figures are formed, and the adhesive layer on the plastic film (3) side. It is laminated on one side of the plastic plate (11) via (12), and the adhesive layer (1
This is an example in which a frame is provided on the electromagnetic wave shielding structure (10) in which the plastic film (13) is bonded via the 2).
The frame body (21) described above is not limited to this, and may be a conductive material such as a metal foil, a conductive adhesive or a conductive tape. The above configuration is an example, and there are many combinations.

【0026】上記電磁波シールド性接着フィルムや電磁
波遮蔽構成体のいずれかの面には、赤外線遮蔽性を有す
る層、反射防止処理を有する層、防眩処理を有する層、
表面硬度の高い耐擦性を有する層を形成することができ
る。これらは例示であり、この他の形態で使用すること
もできる。ガラス板の片面に電磁波シールド性接着フィ
ルムを接着し、このガラス板をディスプレイ前面に取り
付けガラス面がディスプレイ装置の外側になるようにし
ても良い。
A layer having an infrared ray shielding property, a layer having an antireflection treatment, a layer having an antiglare treatment, on any surface of the electromagnetic wave shielding adhesive film or the electromagnetic wave shielding structure,
A layer having high surface hardness and abrasion resistance can be formed. These are examples and can be used in other forms. An electromagnetic wave shielding adhesive film may be adhered to one surface of the glass plate, and this glass plate may be attached to the front surface of the display so that the glass surface is outside the display device.

【0027】本発明では、レーザにより導電性の額縁部
を支持する接着剤層とプラスチックフィルムを除去し少
なくともその額縁部の一部を露出することが好ましい。
レーザは、YAGレーザ、炭酸ガスレーザ、TEA 炭
酸ガスレーザ、アルゴンイオンレーザ、エキシマレーザ
等があるが、本構成の場合除去面積が広く、PETフィ
ルム及び接着剤層をあわせると50μm以上の深度で除
去しなければならないこと、また、量産性の点からでき
るだけ短時間に加工する必要があることからYAGレー
ザ、炭酸ガスレーザ、TEA 炭酸ガスレーザが好まし
い。電磁波シールド性接着フィルムの外周に導電性金属
で描かれた幾何学図形と電気的に接続した導電性の額縁
部を形成するため、プラスチックフィルム面側から加工
する加工面のレーザーの出力が小さいと額縁部部分のプ
ラスチックフィルムと接着剤層の除去が不十分であり、
大きすぎると額縁部部分の導電性金属が破れてしまうた
め、10〜100Wが好ましく、20〜40Wがさらに
好ましい。
In the present invention, it is preferable to remove at least a part of the frame part by removing the adhesive layer and the plastic film supporting the conductive frame part by laser.
Lasers include YAG lasers, carbon dioxide lasers, TEA carbon dioxide lasers, argon ion lasers, excimer lasers, etc., but with this configuration, the removal area is wide, and if the PET film and adhesive layer are combined, it must be removed at a depth of 50 μm or more. YAG laser, carbon dioxide gas laser, and TEA carbon dioxide gas laser are preferable because they must be processed in the shortest possible time from the viewpoint of mass productivity. Since the conductive frame portion that is electrically connected to the geometric figure drawn by the conductive metal is formed on the outer periphery of the electromagnetic wave shielding adhesive film, if the laser output of the processing surface processed from the plastic film surface side is small Insufficient removal of the plastic film and adhesive layer in the frame part,
If it is too large, the conductive metal in the frame portion will be broken, so 10 to 100 W is preferable, and 20 to 40 W is more preferable.

【0028】本発明では額縁部を形成するため、サンド
ブラストにより導電性の額縁部を支持する接着剤層とプ
ラスチックフィルムを除去し少なくともその額縁部の一
部を露出させる。サンドブラスト処理は、マスクされて
いない部分に研磨剤を吹き付けて非マスク部分を選択的
に食刻することにより行なわれる。サンドブラストに用
いるブラスト材としては、ガラスビーズ、アルミナ、シ
リカ、炭化ケイ素、酸化ジルコニウム等の粒径0.1〜
150μm程度の微粒子が用いられる。本発明において
は、額縁部以外の一部または全部をマスク材で覆い、額
縁部のプラスチックフィルム及び接着剤を除去する。マ
スク材は、ゴム、フォトレジスト、プラスチックフィル
ム、プラスチック板、金属、セラミック、木材等、サン
ドブラストの工程で傷がつかないように保護できるもの
なら制限はない。
In the present invention, since the frame portion is formed, the adhesive layer supporting the conductive frame portion and the plastic film are removed by sandblasting to expose at least a part of the frame portion. The sandblast treatment is performed by spraying an abrasive on the unmasked portion and selectively etching the unmasked portion. As the blast material used for sandblasting, the particle diameter of glass beads, alumina, silica, silicon carbide, zirconium oxide, etc.
Fine particles of about 150 μm are used. In the present invention, a part or the whole of the frame except the frame is covered with a mask material to remove the plastic film and the adhesive from the frame. The mask material is not limited as long as it can be protected from being scratched during the sandblasting process, such as rubber, photoresist, plastic film, plastic plate, metal, ceramic and wood.

【0029】本発明では、導電性金属で描かれた幾何学
図形と電気的に接続した導電性の額縁部が幾何学図形の
外周に形成した導電性の3次元網目構造体を使用するこ
ともできる。導電性3次元網目構造体は、例えばウレタ
ンフォーム等の3次元網目構造をもつ合成樹脂発泡体に
無電解金属メッキ触媒等で前処理し、メッキ槽中でニッ
ケル、銅等の金属層を無電解メッキさせて電気メッキと
組み合わせてメッキ金属の厚みを増し、その後焼成し樹
脂を分解焼失させて、発泡樹脂の形状を転写して作製し
た電着金属の3次元網目構造体や、ウレタンフォーム等
の3次元網目構造をもつ合成樹脂発泡体を、金属粉と増
粘性高分子と溶剤を混合し調製したスラリーに浸し、発
泡体の骨格に金属粉を塗着させ、その後熱処理すること
により合成樹脂発泡体を分解焼失させると共に金属粉の
焼結を行い発泡樹脂の形状を転写し作製した金属の3次
元網目構造体や、ウレタンフォーム等の連続気泡構造を
有する合成樹脂発泡体に粘着剤溶液を含浸させ乾燥した
後、金属粉を揺動により合成樹脂発泡体に付着させ、そ
の後焼成し樹脂を分解焼失させると共に金属粉を焼結し
て発泡樹脂の形状を転写して作製することができる。
In the present invention, it is also possible to use a conductive three-dimensional network structure in which a conductive frame portion electrically connected to a geometrical figure drawn by a conductive metal is formed on the outer periphery of the geometrical figure. it can. For the conductive three-dimensional network structure, synthetic resin foam having a three-dimensional network structure such as urethane foam is pretreated with an electroless metal plating catalyst or the like, and a metal layer such as nickel or copper is electrolessly placed in the plating tank. Three-dimensional mesh structure of electrodeposited metal, urethane foam, etc., made by plating and increasing the thickness of plated metal by combining with electroplating, then baking to decompose and burn off the resin, and transfer the shape of foamed resin Synthetic resin foam by immersing a synthetic resin foam with a three-dimensional network structure in a slurry prepared by mixing metal powder, thickening polymer and solvent, applying metal powder to the skeleton of the foam, and then heat treating Adhesive agent for three-dimensional network structure of metal produced by decomposing and burning the body and sintering of metal powder to transfer the shape of the foamed resin, and synthetic resin foam having an open cell structure such as urethane foam After the liquid is impregnated and dried, the metal powder is shaken to adhere to the synthetic resin foam, and then fired to decompose and burn off the resin, and the metal powder is sintered to transfer the shape of the foamed resin. it can.

【0030】本発明の電磁波シ−ルド性接着フィルムや
電磁波遮蔽構成体では、プラスチック板に設けた電磁波
シールド性接着フィルムのプラスチックフィルムまたは
プラスチック板若しくはプラスチックフィルム表面に、
防眩処理または反射防止処理が施されていると好まし
い。以下に、これらの処理をプラスチックフィルムに形
成することを代表例として示す。プラスチック板等にお
いても同様に実施することができる。反射防止処理は、
可視光の反射を防止することにより可視光の透過率を増
加させることをいう。この反射防止処理は、反射防止層
の塗布厚と屈折率によって最小反射波長が規定され、n
d=(m+1/2)λ/2 (n:屈折率、d:塗布
厚、λ:波長、m=0,1,2,3,…)によって示さ
れる。すなわち、nは物質によって定まるので、膜厚の
調節によって反射率最小の(透過率最大)の波長を選択
することができる。また、反射防止層には、プラスチッ
クフイルムとは異なる屈折率を有する単層構造または2
層以上の多層構造とされたものがある。単層構造のもの
では、プラスチックフイルムに比べ小さな屈折率を有す
る材料が選定される。一方、反射防止処理により優れる
多層構造とする場合、プラスチックフイルムに比べ大き
な屈折率を有する材料層を設け、この上にこれより小さ
な屈折率を有する材料層を設けるというように隣接層相
互間で屈折率の異なる材料構成とされるが、より好まし
くは3層以上の多層構造として最外層の屈折率がこれに
隣接する仮想の屈折率よりも小さくなるような材料構成
とするのがよい。このような反射防止層を構成させるた
めの材料としては、公知のいかなる材料を使用してもよ
いが、例えば、CaF2、MgF2、NaAlF6、Al2O3、SiOx(x=1
〜2)、ThF4、ZrO2、Sh2O3、Nd2O3、SnO2、TiO2、などの
誘電体が挙げられ、その屈折率及び膜厚が前記関係を満
たすように適宜選択される。
In the electromagnetic wave shielding adhesive film or the electromagnetic wave shielding structure of the present invention, the plastic film of the electromagnetic wave shielding adhesive film provided on the plastic plate or the plastic plate or the surface of the plastic film is
It is preferable that antiglare treatment or antireflection treatment is applied. Forming these treatments on a plastic film is shown below as a typical example. The same can be applied to a plastic plate or the like. Anti-reflection treatment,
It means increasing the transmittance of visible light by preventing the reflection of visible light. In this antireflection treatment, the minimum reflection wavelength is defined by the coating thickness of the antireflection layer and the refractive index.
d = (m + 1/2) λ / 2 (n: refractive index, d: coating thickness, λ: wavelength, m = 0, 1, 2, 3, ...) That is, since n is determined by the substance, the wavelength with the minimum reflectance (maximum transmittance) can be selected by adjusting the film thickness. Further, the antireflection layer has a single-layer structure or a two-layer structure having a refractive index different from that of the plastic film.
Some have a multi-layer structure of more than one layer. For a single layer structure, a material having a smaller refractive index than a plastic film is selected. On the other hand, in the case of forming an excellent multilayer structure by antireflection treatment, a material layer having a larger refractive index than that of the plastic film is provided, and a material layer having a smaller refractive index is provided on the material layer. Although the materials have different refractive indices, it is more preferable to use a multilayer structure having three or more layers so that the refractive index of the outermost layer is smaller than the virtual refractive index adjacent to the outermost layer. As a material for forming such an antireflection layer, any known material may be used, for example, CaF 2 , MgF 2 , NaAlF 6 , Al 2 O 3 , SiOx (x = 1.
2), ThF 4 , ZrO 2 , Sh 2 O 3 , Nd 2 O 3 , SnO 2 , TiO 2 , and other dielectric materials, and their refractive index and film thickness are appropriately selected so as to satisfy the above relationship. It

【0031】防眩処理は、ディスプレイのちらつき感や
目の疲れを防止するものであり、このような防眩処理層
を構成させるための材料としては公知のいかなる材料を
使用してもよいが、好ましくは無機のシリカを含む層で
ある。かかる無機シリカ層が、ビスフェノールA型エポ
キシ樹脂やビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラッ
ク型エポキシ樹脂などのエポキシ系樹脂、ポリイソプレ
ン、ポリ−1,2−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリ
ブテンなどのジエン系樹脂、エチルアクリレート、ブチ
ルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、t
−ブチルアクリレートなどからなるポリアクリル酸エス
テル共重合体、ポリビニルアセテート、ポリビニルプロ
ピオネートなどのポリエステル系樹脂、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリスチレン、EVAなどのポリオレ
フィン系樹脂及びシリコン系樹脂などの硬化型樹脂中に
分散結着された硬化皮膜が防眩処理層として好ましく用
いられる。
The antiglare treatment is for preventing the display from flickering and tired eyes, and any known material may be used as a material for forming such an antiglare layer. It is preferably a layer containing inorganic silica. Such an inorganic silica layer includes an epoxy resin such as a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin or a novolac type epoxy resin, a polyene isoprene, a polyene-1,2-butadiene, a polyene butene or a diene resin such as polybutene, an ethyl acrylate. , Butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, t
-Polyacrylic ester copolymers such as butyl acrylate, polyester resins such as polyvinyl acetate and polyvinyl propionate, polyethylene,
A cured film dispersed and bound in a curable resin such as a polyolefin resin such as polypropylene, polystyrene, EVA or a silicone resin is preferably used as the antiglare layer.

【0032】この防眩処理層の皮膜の形成に際しては、
まず樹脂中にシリカ粒子を配合し必要に応じて帯電防止
剤、重合開始剤などの各種の添加剤を加えた組成物を、
通常溶剤で希釈して固形分が約20〜80重量%となる
防眩処理剤を調製する。ここで用いるシリカ粒子は、非
晶質で多孔性のものであり、代表例としてシリカゲルを
挙げることができる。平均粒子径としては、通常30μ
m以下、好ましくは2〜15μm程度であるのがよい。
また、配合割合は樹脂100重量部に対してシリカ粒子
が0.1〜10重量部となるようにするのが好ましい。
少なすぎると防眩効果に乏しくなりまた、多くなりすぎ
ると可視光線透過率や皮膜強度を低下させることにな
る。この防眩処理剤をプラスチックフイルムの一面に適
当な手段例えば一般的な溶液塗工手段であるグラビアコ
ータ、リバースコータ、スプレーコータなどの手段によ
り乾燥後の膜厚が通常5〜30μm程度となるように塗
布し、加熱乾燥後、紫外線照射、電子線照射あるいは加
熱により硬化させると好ましい。このようにして得られ
るシリカ粒子含有の皮膜からなる防眩処理層は、この処
理層を有するプラスチックフイルムをプラスチック基板
に貼り合わせたとき、この基板に対して良好な防眩性を
付与し、かつ皮膜の硬度が高くて耐スクラッチ性に優れ
るため、プラスチックの耐摩傷性の向上に大きく寄与す
ることになる。なお、このような防眩処理層の形成に先
立って、被着面、すなわちプラスチックフイルムの表面
に対し前処理としてコロナ放電処理、プラズマ処理、ス
パッタエッチング処理、易接着処理を施してもよく、こ
れにより上記プラスチックフイルムと防眩処理層との密
着性を高めることができる。
When forming the film of the antiglare layer,
First, a composition in which silica particles are blended in a resin and various additives such as an antistatic agent and a polymerization initiator are added as necessary,
Usually, it is diluted with a solvent to prepare an antiglare treatment agent having a solid content of about 20 to 80% by weight. The silica particles used here are amorphous and porous, and a typical example thereof is silica gel. The average particle size is usually 30μ
m or less, preferably about 2 to 15 μm.
Further, the mixing ratio is preferably such that the silica particles are 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin.
If it is too small, the antiglare effect is poor, and if it is too large, the visible light transmittance and the film strength are lowered. The antiglare agent is applied to one surface of the plastic film by a suitable means such as a gravure coater, a reverse coater, or a spray coater which is a general solution coating means so that the film thickness after drying is usually about 5 to 30 μm. It is preferable that the composition is applied to, and dried by heating, and then cured by ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, or heating. The antiglare treatment layer comprising the silica particle-containing coating thus obtained imparts good antiglare property to the substrate when the plastic film having the treatment layer is bonded to the plastic substrate, and Since the hardness of the film is high and the scratch resistance is excellent, it greatly contributes to the improvement of the scratch resistance of the plastic. Prior to the formation of such an antiglare layer, the adherend surface, that is, the surface of the plastic film may be subjected to corona discharge treatment, plasma treatment, sputter etching treatment, or easy adhesion treatment as pretreatment. Thereby, the adhesiveness between the plastic film and the antiglare layer can be enhanced.

【0033】本発明では、電磁波シールド性接着フィル
ムやプラスチック板に設けた電磁波シールド性接着フィ
ルム、プラスチックフィルム、接着剤層等の電磁波遮蔽
構成体中に赤外線吸収剤を含有することが好ましい。赤
外線吸収剤は、900〜1、100nmの領域における
赤外線吸収率が高いことが好ましく、酸化鉄、酸化セリ
ウム、酸化スズ、酸化アンチモンなどの金属酸化物、ま
たはインジウム−スズ酸化物(以下ITO)、六塩化タ
ングステン、塩化スズ、硫化第二銅、クロム−コバルト
錯塩、チオール−ニッケル錯体またはアミニウム化合
物、ジイモニウム化合物(日本化薬株式会社製)などの
有機系赤外線吸収剤などを上記した接着剤層、プラスチ
ックフィルム、プラスチック板中に含有させたり、バイ
ンダー樹脂中に分散させた組成物をプラスチックの一面
に塗布して使用することができる。これらの赤外線吸収
性化合物のうち、最も効果的に赤外線を吸収する効果が
あるのは、硫化第二銅、ITO、アミニウム化合物、ジ
イモニウム化合物などの有機系赤外線吸収剤である。こ
こで注意すべきことはこれらの化合物の一次粒子の粒径
である。粒径が赤外線の波長より大きすぎると遮蔽効率
は向上するが、粒子表面で乱反射が起き、ヘイズが増大
するため透明性が低下する。一方、粒径が赤外線の波長
に比べて小さすぎると遮蔽効果が低下する。好ましい粒
径は0.01〜5μmで0.1〜3μmがさらに好まし
い。赤外線吸収剤は、接着剤層の接着剤やバインダー樹
脂中に均一に分散される。その配合の最適量は、接着剤
やバインダー樹脂100重量部に対して赤外線吸収剤が
0.01〜10重量部であるが、0.1〜5重量部がさ
らに好ましい。0.01重量部未満では赤外線遮蔽効果
が少なく、10重量部を超えると透明性が損なわれる。
バインダー樹脂組成物の場合は、プラスチックフィルム
の少なくともいずれかの面に0.1〜10μmの厚さで
塗布される。塗布された、赤外線吸収剤を含む組成物は
熱やUVを使用し硬化させてもよい。バインダー樹脂の
上に接着剤層を形成することもできる。赤外線吸収剤
は、接着剤層となる接着剤組成物に直接混合して使用す
ることが製造上簡易であり好ましい。
In the present invention, it is preferable that the electromagnetic wave shielding composition such as the electromagnetic wave shielding adhesive film or the electromagnetic wave shielding adhesive film provided on the plastic plate, the plastic film, or the adhesive layer contains an infrared absorber. The infrared absorber preferably has a high infrared absorptivity in the region of 900 to 1 and 100 nm, and metal oxides such as iron oxide, cerium oxide, tin oxide and antimony oxide, or indium-tin oxide (hereinafter ITO), Tungsten hexachloride, tin chloride, cupric sulfide, chromium-cobalt complex salt, thiol-nickel complex or aminium compound, adhesive layer described above such as an organic infrared absorber such as diimonium compound (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), The composition, which is contained in a plastic film or a plastic plate or dispersed in a binder resin, can be applied to one surface of the plastic for use. Among these infrared absorbing compounds, organic infrared absorbing agents such as cupric sulfide, ITO, aminium compounds and diimonium compounds have the most effective infrared absorbing effect. What should be noted here is the particle size of primary particles of these compounds. If the particle size is too large than the wavelength of infrared rays, the shielding efficiency is improved, but diffuse reflection occurs on the particle surface, haze increases, and transparency decreases. On the other hand, if the particle size is too small compared to the wavelength of infrared rays, the shielding effect will be reduced. The preferred particle size is 0.01 to 5 μm, more preferably 0.1 to 3 μm. The infrared absorber is uniformly dispersed in the adhesive or binder resin of the adhesive layer. The optimum amount of the compound is 0.01 to 10 parts by weight of the infrared absorbing agent with respect to 100 parts by weight of the adhesive or binder resin, and more preferably 0.1 to 5 parts by weight. If it is less than 0.01 parts by weight, the infrared ray shielding effect is small, and if it exceeds 10 parts by weight, the transparency is impaired.
In the case of the binder resin composition, it is applied to at least one surface of the plastic film in a thickness of 0.1 to 10 μm. The applied composition containing an infrared absorber may be cured using heat or UV. The adhesive layer can be formed on the binder resin. It is preferable in terms of production that the infrared absorbing agent is directly mixed with the adhesive composition to be the adhesive layer and used, which is preferable.

【0034】[0034]

【実施例】次に実施例に於いて本発明を具体的に述べる
が、本発明はこれに限定されるものではない。 <電磁波シールド性接着フィルム作製例1>プラスチッ
クフィルムとして厚さ50μmの防眩処理を施したポリ
エチレンテレフタレートフィルム(ダイアハードEX-
205;麗光株式会社製商品名)を用い、その上に接着
層となる厚み20μmの後述する接着剤組成物を介して
導電性金属である厚さ18μmの電解銅箔を、その粗化
面が接着剤側になるようにして、180℃、30kgf
/cmの条件で加熱ラミネートして接着させ銅箔付きP
ETフィルムを得た。幾何学図形と幾何学図形の外周に
幅10mmの額縁部となるようにしたネガフィルムを用
いて、得られた銅箔付きPETフィルムにフォトリソ工
程(レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエ
ッチング−レジストフィルム剥離)を経て、ライン幅2
5μm、ライン間隔250μmの額縁部を有する銅格子
パターンをPETフィルム上に形成し、その後、亜塩素
酸ナトリウム31g/l、リン酸三ナトリウム12g/
l、水酸化ナトリウム15g/lの水溶液中、95℃2
分間処理することにより銅の表面を黒化処理して電磁波
シールド性接着フィルム1を得た(図1(b)の構
成)。
EXAMPLES The present invention will now be specifically described with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto. <Preparation Example 1 of Electromagnetic Wave Shielding Adhesive Film> As a plastic film, a polyethylene terephthalate film (Diahard EX-
205; trade name manufactured by Reiko Co., Ltd., and an electrolytic copper foil having a thickness of 18 μm, which is a conductive metal, is formed on the roughened surface thereof via an adhesive composition having a thickness of 20 μm, which will be described later. The adhesive side, 180 ° C, 30kgf
Pile with copper foil by heating and laminating under conditions of / cm
An ET film was obtained. A photolithography process (resist film application-exposure-development-chemical etching-resist) was applied to the obtained PET film with copper foil using a geometric film and a negative film having a frame portion with a width of 10 mm around the periphery of the geometric pattern. After film peeling), line width 2
A copper grid pattern having a frame portion of 5 μm and a line interval of 250 μm was formed on a PET film, and thereafter sodium chlorite 31 g / l and trisodium phosphate 12 g /
1, in an aqueous solution of 15 g / l of sodium hydroxide, 95 ° C 2
The surface of the copper was blackened by treating for minutes to obtain an electromagnetic wave shielding adhesive film 1 (configuration of FIG. 1 (b)).

【0035】<電磁波シールド性接着フィルム作製例2
>電磁波シールド性接着フィルム1の額縁部を、PET
フィルム側から、IMPACT L500(住友重機械
工業株式会社製商品名)を用いて、電圧20kV、周波
数150Hz、スキャンスピード200mm/minの
条件でレーザ加工を行い、額縁部のPETフィルム及び
接着剤層を除去し、電磁波シールド性接着フィルム2を
得た(図1(c)の構成)。
<Preparation Example 2 of Electromagnetic Wave Shielding Adhesive Film>
> PET the frame part of the electromagnetic wave shielding adhesive film 1
From the film side, using IMPACT L500 (trade name, manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd.), laser processing was performed under conditions of voltage 20 kV, frequency 150 Hz, scan speed 200 mm / min, and the PET film and adhesive layer on the frame part After removal, an electromagnetic wave shielding adhesive film 2 was obtained (configuration of FIG. 1 (c)).

【0036】<電磁波シールド性接着フィルム作製例3
>反射防止処理を施したPETフィルム(リアルック1
300;日本油脂株式会社製商品名、厚み50μm)の
反射防止処理を施していない面に、電磁波シールド性接
着フィルム作製例1で使用した接着剤組成物を用いて乾
燥塗布厚が20μmになるように塗布して作製した接着
フィルムを、電磁波シールド性接着フィルム1の幾何学
図形の上に、額縁部を全て覆わないように、180℃、
30kgf/cmの条件で加熱ラミネートして接着さ
せ、電磁波シールド性接着フィルム3を得た(図1
(d)の構成)。
<Preparation Example 3 of Electromagnetic Wave Shielding Adhesive Film 3
> PET film with anti-reflection treatment (Rialck 1
300; Nippon Oil & Fats Co., Ltd. product name, thickness 50 μm) on the surface which is not subjected to antireflection treatment, using the adhesive composition used in Preparation Example 1 of electromagnetic wave shielding adhesive film so that the dry coating thickness is 20 μm The adhesive film produced by applying to 180 ° C. on the geometrical figure of the electromagnetic wave shielding adhesive film 1 so as not to cover the entire frame,
The laminate was heated and laminated under the condition of 30 kgf / cm and adhered to obtain an electromagnetic wave shielding adhesive film 3 (Fig. 1).
(D) configuration).

【0037】<電磁波シールド性接着フィルム作製例4
>厚さ25μmの透明PETフィルム上に後述する厚み
30μmの接着剤層となる接着剤組成物を介して厚さ2
5μmのアルミ箔を接着させた。このアルミ箔付きPE
Tフィルムの外周に幅30mmの額縁部となるようにし
たネガフィルムを用いて電磁波シールド性接着フィルム
作製例1と同様のフォトリソ工程を経て、ライン幅25
μm、ライン間隔250μm、額縁部30mmを有するア
ルミ格子パターンをPETフィルム上に形成し、額縁部
をPETフィルム側に折り畳んで電磁波シールド性接着
フィルム4を得た(図1(e)の構成)。
<Preparation Example 4 of Electromagnetic Wave Shielding Adhesive Film>
> A thickness of 2 μm on a transparent PET film having a thickness of 25 μm via an adhesive composition which will be described later and becomes an adhesive layer having a thickness of 30 μm.
A 5 μm aluminum foil was adhered. PE with this aluminum foil
Using a negative film having a frame portion with a width of 30 mm on the outer periphery of the T film, the photolithography process similar to the electromagnetic wave shielding adhesive film preparation example 1 was performed to obtain a line width of 25
An aluminum grid pattern having a width of 250 μm, a line interval of 250 μm, and a frame portion of 30 mm was formed on a PET film, and the frame portion was folded toward the PET film to obtain an electromagnetic wave shielding adhesive film 4 (configuration of FIG. 1E).

【0038】<電磁波シールド性接着フィルム作製例5
>厚さ50μmのPETフィルム上に、マスク層を用い
て無電解ニッケルめっきを格子状に形成することにより
ライン幅12μm、ライン間隔500μm、厚み2μm
のニッケル格子パターンをPETフィルム上に作製し
て、幾何学図形を有する面の外周に導電性テープ(CH
O-FOIL CCH;太陽金網株式会社製商品名)を
幅15mmで貼り付け額縁部を形成し、電磁波シールド
性接着フィルム5を得た(図1(f)の構成)。
<Electromagnetic Wave Shielding Adhesive Film Production Example 5
> A line width of 12 μm, a line interval of 500 μm, and a thickness of 2 μm by forming electroless nickel plating in a grid pattern on a PET film having a thickness of 50 μm using a mask layer.
The nickel grid pattern of the above is prepared on the PET film, and the conductive tape (CH
O-FOIL CCH; product name of Taiyo Wire Mesh Co., Ltd.) was attached with a width of 15 mm to form a frame portion, and an electromagnetic wave shielding adhesive film 5 was obtained (configuration of FIG. 1 (f)).

【0039】<電磁波シールド性接着フィルム作製例6
>電磁波シールド性接着フィルム作製例1で得た銅箔付
きPETフィルムに幾何学図形だけを有するネガフィル
ムを用いて、電磁波シールド接着フィルム作製例1と同
様のフォトリソ工程を経て、ライン幅25μm、ライン
間隔250μmの銅格子パターンをPETフィルム上に
形成し、幾何学図形を有する面の外周に、ポリウレタン
フォームを基体骨格とした発泡金属銅(日立化成工業工
業株式会社製、厚み5mm)を室温、5kgf/cm2
の圧力で、幅15mmに貼り付けて額縁部を形成し、電
磁波シールド性接着フィルム6を得た(図1(g)の構
成)。
<Preparation Example 6 of Electromagnetic Wave Shielding Adhesive Film 6
> Using the negative film having only geometrical figures to the PET film with copper foil obtained in the electromagnetic wave shielding adhesive film preparation example 1, the photolithography process similar to the electromagnetic wave shielding adhesive film preparation example 1 was used to obtain a line width of 25 μm and a line. Formed on the PET film are copper grid patterns with a spacing of 250 μm, and foamed metallic copper (thickness 5 mm, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) with polyurethane foam as a base skeleton on the outer periphery of the surface having a geometric figure at room temperature, 5 kgf. / Cm 2
With a pressure of, a frame portion was formed by adhering to a width of 15 mm to obtain an electromagnetic wave shielding adhesive film 6 (configuration of FIG. 1 (g)).

【0040】<接着剤組成物>500cm3の三つ口フ
ラスコにトルエン200cm3、メタクリル酸メチル
(MMA)50g、メタクリル酸エチル(EA)5g、ア
クリルアミド(AM)2g、AIBN250mgを入れ、
窒素でバブリングさせながら100℃で3時間、還流中
で攪拌を行った。メタノールで再沈殿させて得られたポ
リマーをろ過後、減圧乾燥して得られたポリアクリル酸
エステルの収率は75%であった。これを接着剤組成物
の主成分とした。 ポリアクリル酸エステル(MMA/EA/AM=88/9/3、Mw=70万) 100重量部 トルエン 450重量部 酢酸エチル 10重量部
<Adhesive Composition> 200 cm 3 of toluene, 50 g of methyl methacrylate (MMA), 5 g of ethyl methacrylate (EA), 2 g of acrylamide (AM) and 250 mg of AIBN were put in a 500 cm 3 three-necked flask,
The mixture was stirred at 100 ° C. for 3 hours under reflux while bubbling with nitrogen. The polymer obtained by reprecipitation with methanol was filtered and dried under reduced pressure to obtain a polyacrylic acid ester in a yield of 75%. This was the main component of the adhesive composition. Polyacrylic acid ester (MMA / EA / AM = 88/9/3, Mw = 700,000) 100 parts by weight Toluene 450 parts by weight Ethyl acetate 10 parts by weight

【0041】 <赤外線遮蔽層をなす組成物> バイロンUR―1400(東洋紡績株式会社製商品名;飽和ポリエステル樹脂、 Mn=4万) 100重量部 IRG―022(赤外線吸収剤:日本化薬株式会社製商品名;アミニウム化合物 ) 1.2重量部 MEK 285重量部 シクロヘキサノン 5重量部[0041] <Composition forming the infrared shielding layer> Byron UR-1400 (trade name of Toyobo Co., Ltd .; saturated polyester resin, Mn = 40,000) 100 parts by weight IRG-022 (infrared absorber: trade name by Nippon Kayaku Co., Ltd .; aminium compound ) 1.2 parts by weight MEK 285 parts by weight Cyclohexanone 5 parts by weight

【0042】(実施例1)反射防止処理を施したPET
フィルム(リアルック1300;日本油脂株式会社製商
品名)の反射防止処理が施されていない面に上述の赤外
線遮蔽層をなす組成物を乾燥塗布厚が10μmとなるよ
うに塗布して得た赤外線遮蔽性を有する接着フィルムの
接着剤面と、電磁波シールド性接着フィルム2の幾何学
図形の描かれている面を、市販のアクリル板(コモグラ
ス;株式会社クラレ製、厚み3mm)に、110℃、3
0kgf/cm2、30分の条件で熱プレス機を使って
加熱圧着して得られた電磁波遮蔽構成体を実施例1とし
た(図2(b)の構成)。
(Example 1) PET subjected to antireflection treatment
Infrared shielding obtained by applying the above-mentioned composition forming the infrared shielding layer to the surface of the film (Rialck 1300; trade name of NOF CORPORATION) that has not been subjected to antireflection treatment so that the dry coating thickness is 10 μm. The adhesive surface of the adhesive film having the property and the surface on which the geometrical figure of the electromagnetic wave shielding adhesive film 2 is drawn are put on a commercially available acrylic plate (COMO glass; manufactured by Kuraray Co., Ltd., thickness 3 mm) at 110 ° C. for 3 days.
The electromagnetic wave shielding structure obtained by thermocompression bonding using a hot press machine under the conditions of 0 kgf / cm 2 and 30 minutes was set as Example 1 (structure of FIG. 2 (b)).

【0043】(実施例2)電磁波シールド性接着フィル
ム1の幾何学図形の描かれていないPETフィルム側に
上記の接着剤組成物を乾燥塗布厚が10μmとなるよう
に塗布した面と、反射防止処理を施したPETフィルム
(リアルック1300;日本油脂株式会社製商品名)の
反射防止処理が施されていない面に上述の赤外線遮蔽層
をなす組成物を乾燥塗布厚が10μmとなるように塗布
して得た赤外線遮蔽性を有する接着フィルムの接着剤面
とをロールラミネータを使用し、市販のアクリル板(コ
モグラス;株式会社クラレ製商品名、厚み3mm)に、
110℃、20Kgf/cm2の条件で加熱圧着して得
られた電磁波遮蔽構成体を実施例2とした(図2(c)
の構成)。
Example 2 The surface of the electromagnetic wave shielding adhesive film 1 coated with the above adhesive composition on the PET film side on which no geometrical figure is drawn so that the dry coating thickness is 10 μm, and antireflection. On the surface of the treated PET film (Rialc 1300; trade name of NOF CORPORATION) that has not been subjected to antireflection treatment, the composition forming the above-mentioned infrared ray shielding layer is applied so that the dry coating thickness is 10 μm. Using a roll laminator, the adhesive surface of the adhesive film having infrared shielding properties obtained by using a commercially available acrylic plate (COMO glass; Kuraray Co., Ltd. product name, thickness 3 mm),
An electromagnetic wave shielding structure obtained by thermocompression bonding under the conditions of 110 ° C. and 20 Kgf / cm 2 was used as Example 2 (FIG. 2 (c)).
Configuration).

【0044】(実施例3)電磁波シールド性接着フィル
ム5を用いた以外は全て実施例2と同様にして得た電磁
波遮蔽構成体を実施例3とした(図2(d)の構成)。
(Example 3) An electromagnetic wave shielding structure obtained in the same manner as in Example 2 was used as Example 3 except that the electromagnetic wave shielding adhesive film 5 was used (structure of Fig. 2 (d)).

【0045】(実施例4)電磁波シールド性接着フィル
ム6を用いた以外は全て実施例2と同様にして得た電磁
波遮蔽構成体を実施例4とした(図2(e)の構成)。
Example 4 An electromagnetic wave shielding structure obtained in the same manner as in Example 2 except that the electromagnetic wave shielding adhesive film 6 was used was set as Example 4 (structure of FIG. 2 (e)).

【0046】(実施例5)実施例1で得た電磁波遮蔽構
成体の額縁部及びアクリル板の側部及び赤外線遮蔽層を
形成したフィルムを幅23mmの導電性テープ(CHO
-FOIL CCH;太陽金網株式会社製商品名)で枠状
に覆って得られた電磁波遮蔽構成体を実施例5とした
(図3(b))。
(Example 5) A film having a frame portion of the electromagnetic wave shielding structure obtained in Example 1 and side portions of an acrylic plate and an infrared ray shielding layer was formed into a conductive tape (CHO) having a width of 23 mm.
-FOIL CCH; a product name manufactured by Taiyo Wire Mesh Co., Ltd.) was used to form an electromagnetic wave shielding structure, which was taken as Example 5 (Fig. 3 (b)).

【0047】(実施例6)導電性テープの代りに三次元
網目構造体である幅23mm、厚み5mmのポリウレタ
ンフォームを基体骨格とした発泡金属銅(日立化成工業
株式会社製)を、実施例1で得た電磁波遮蔽構成体の額
縁部及びアクリル板の側部及び赤外線遮蔽層を形成した
フィルムを枠状に覆い、常温、5kgf/cm2で、圧
着して得た電磁波遮蔽構成体を実施例6とした。
Example 6 Instead of the conductive tape, a foamed metal copper (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) having a three-dimensional mesh structure of polyurethane foam having a width of 23 mm and a thickness of 5 mm as a substrate skeleton was used. An example of an electromagnetic wave shielding structure obtained by covering the frame portion of the electromagnetic wave shielding structure obtained in 1 above, a side of an acrylic plate, and a film on which an infrared shielding layer is formed in a frame shape and press-bonding at room temperature and 5 kgf / cm 2 It was set to 6.

【0048】(実施例7)実施例5の導電性テープを、
額縁部の金属を5mm露出させるように覆った以外は全
て実施例5と同様にして得た電磁波遮蔽構成体を実施例
7とした(図3(c))。
Example 7 The conductive tape of Example 5 was
Example 7 was an electromagnetic wave shielding structure obtained in the same manner as in Example 5 except that the metal of the frame portion was covered so as to be exposed by 5 mm (FIG. 3C).

【0049】(実施例8)実施例5の導電性テープを、
額縁部とアクリル板の側部だけを覆うように貼り付けて
得た電磁波遮蔽構成体を実施例8とした(図3
(d))。
(Embodiment 8) The conductive tape of Embodiment 5 is
Example 8 was an electromagnetic wave shielding structure obtained by adhering so as to cover only the frame portion and the side portion of the acrylic plate (FIG. 3).
(D)).

【0050】(実施例9)実施例2で得た電磁波遮蔽構
成体を用い、電磁波遮蔽構成体の額縁部及びアクリル板
の側部及び赤外線遮蔽層を形成したフィルムを幅23m
mの導電性テープ(CHO-FOIL CCH;太陽金網
株式会社製商品名)で枠状に覆って得られた電磁波遮蔽
構成体を実施例9とした(図3(e))。
(Example 9) Using the electromagnetic wave shielding structure obtained in Example 2, a film having a frame portion of the electromagnetic wave shielding structure, a side of an acrylic plate and an infrared shielding layer formed thereon has a width of 23 m.
An electromagnetic wave shielding structure obtained by covering with a conductive tape of m (CHO-FOIL CCH; product name of Taiyo Wire Mesh Co., Ltd.) in a frame shape was used as Example 9 (FIG. 3 (e)).

【0051】(実施例10)電磁波シールド性接着フィ
ルム3を用いた以外は全て実施例9と同様にして得た電
磁波遮蔽構成体を実施例10とした(図3(f))。
Example 10 An electromagnetic wave shielding structure obtained in the same manner as in Example 9 except that the electromagnetic wave shielding adhesive film 3 was used was set as Example 10 (FIG. 3 (f)).

【0052】(実施例11)電磁波シールド性接着フィ
ルム4を用いた以外は全て実施例5と同様にして得た電
磁波遮蔽構成体を実施例11とした(図3(g))。
(Example 11) An electromagnetic wave shielding structure obtained in the same manner as in Example 5 except that the electromagnetic wave shielding adhesive film 4 was used was set as Example 11 (Fig. 3 (g)).

【0053】(実施例12)ライン幅を25μmから3
5μmにした以外は全て実施例5と同様にして得た電磁
波遮蔽構成体を実施例12とした。
(Embodiment 12) Line width from 25 μm to 3
Example 12 was an electromagnetic wave shielding structure obtained in the same manner as in Example 5 except that the thickness was 5 μm.

【0054】(実施例13)ライン幅を25μmから1
2μmにし全て実施例5と同様にして得た電磁波遮蔽構
成体を実施例13とした。
(Example 13) Line width from 25 μm to 1
An electromagnetic wave shielding structure obtained in the same manner as in Example 5 with a thickness of 2 μm was used as Example 13.

【0055】(実施例14)ライン間隔を250μmか
ら500μmにした以外は全て実施例5と同様にして得
た電磁波遮蔽構成体を実施例14とした。
Example 14 An electromagnetic wave shielding structure obtained in the same manner as in Example 5 except that the line interval was changed from 250 μm to 500 μm was used as Example 14.

【0056】(実施例15)ライン間隔を250μmか
ら150μmにした以外は全て実施例5と同様にして得
た電磁波遮蔽構成体を実施例15とした。
(Example 15) An electromagnetic wave shielding structure obtained in the same manner as in Example 5 was used as Example 15 except that the line spacing was changed from 250 µm to 150 µm.

【0057】(実施例16)電磁波シールド性接着フィ
ルム作製例2で形成した格子パターンの代わりに正三角
形の繰り返しパターンを作製した以外は全て実施例5と
同様にして得た電磁波遮蔽構成体を実施例16とした。
なお、正三角形は、図4(a)に示すものとした。
(Example 16) An electromagnetic wave shielding composition obtained in the same manner as in Example 5 was carried out except that a repetitive pattern of regular triangles was prepared instead of the lattice pattern formed in Preparation example 2 of the electromagnetic wave shielding adhesive film. It was set as Example 16.
The equilateral triangle is shown in FIG.

【0058】(実施例17)電磁波シールド性接着フィ
ルム作製例2で形成した格子パターンの代わりに正八角
形と正方形よりなる繰り返しパターンを作製した以外は
全て実施例5と同様にして得た電磁波遮蔽構成体を実施
例17とした。なお、正八角形と正方形の繰り返しパタ
ーンは、図4(b)に示すものとした。
(Example 17) An electromagnetic wave shielding structure obtained in the same manner as in Example 5 except that a repeating pattern of regular octagons and squares was prepared instead of the lattice pattern formed in Preparation example 2 of the electromagnetic wave shielding adhesive film. The body was designated as Example 17. The repeating pattern of regular octagons and squares is as shown in FIG. 4 (b).

【0059】(比較例1)銅箔の代わりにITO膜を
2、000Å全面蒸着させたITO蒸着PETを使い、
パターンを形成しないで、蒸着面と反対面のフィルムに
厚み5μmの接着剤組成物を塗布して、市販のアクリル
板(コモグラス;株式会社クラレ製、厚み3mm)に、
110℃、30kgf/cm2、30分の条件で熱プレ
ス機を使って加熱圧着して得られた電磁波遮蔽構成体の
額縁部及びアクリル板の側部と周辺部を幅23mmの導
電性テープ(CHO-FOIL CCH;太陽金網株式会
社製商品名)で枠状に覆って得られた電磁波遮蔽構成体
を比較例1とした。
(Comparative Example 1) Instead of the copper foil, an ITO film deposited on the entire surface of an ITO film of 2,000Å was used.
Without forming a pattern, an adhesive composition having a thickness of 5 μm was applied to the film on the surface opposite to the vapor deposition surface, and a commercially available acrylic plate (COMOGRAS; manufactured by Kuraray Co., Ltd., thickness 3 mm) was used.
A conductive tape having a width of 23 mm is formed on the frame part of the electromagnetic wave shielding structure and the side part and the peripheral part of the acrylic plate obtained by heating and pressure bonding using a heat press machine under the conditions of 110 ° C., 30 kgf / cm 2 , and 30 minutes ( A comparative example 1 was an electromagnetic wave shielding structure obtained by covering in a frame shape with CHO-FOIL CCH (trade name of Taiyo Wire Mesh Co., Ltd.).

【0060】(比較例2)比較例1と同様にITOに代
えて全面アルミ蒸着(200Å)したままパターンを形
成しないで、蒸着面と反対面のフィルムに厚み5μmの
接着剤組成物を塗布して、比較例1と同様にして得た電
磁波遮蔽構成体を比較例2とした。
(Comparative Example 2) Similar to Comparative Example 1, instead of ITO, the entire surface was vapor-deposited with aluminum (200 Å) and the pattern was not formed, and the film on the surface opposite to the vapor-deposited surface was coated with an adhesive composition having a thickness of 5 μm. An electromagnetic wave shielding structure obtained in the same manner as Comparative Example 1 was used as Comparative Example 2.

【0061】[0061]

【0062】以上のようにして得られた電磁波遮蔽構成
体のメッシュの開口率、電磁波シールド性、可視光透過
率、非視認性、赤外線遮蔽率、接着力を測定した。その
結果を表1、表2に示した。
The aperture ratio, electromagnetic wave shielding property, visible light transmittance, non-visibility, infrared shielding ratio, and adhesive force of the mesh of the electromagnetic wave shielding structure obtained as described above were measured. The results are shown in Tables 1 and 2.

【0063】なお電磁波シールド性は、スペクトラムア
ナライザー MS2601B、標準信号発生器 MG3
602B、測定用セル MA8602B(以上株式会社
アドバンテスト製商品名)を用いて周波数範囲10MH
z〜1GHzの間の電磁波シールド性を測定し、100
MHzと1GHzの値を代表値として示した。可視光透
過率の測定は、ダブルビーム分光光度計(株式会社日立
製作所、200−10型)を用いて、400〜700n
mの領域の透過率の平均値を用いた。非視認性は、アク
リル板に電磁波シールド性接着フィルムを貼り付けた電
磁波遮蔽構成体を0.5m離れた場所から目視して導電
性金属で形成された幾何学図形を認識できるかどうかで
評価し、認識できないものを良好とし、認識できるもの
をNGとした。赤外線遮蔽率の測定は、ダブルビーム分
光光度計(株式会社日立製作所、U−3410)を用い
て、900〜1、100nmの領域の赤外線遮蔽率の平
均値を用いた。接着力は、引張試験機(東洋ボールドウ
ィン株式会社製商品名、テンシロンUTM-4−10
0)を使用し、幅10mm、90°方向、剥離速度50
mm/分で測定した。
The electromagnetic wave shielding properties are as follows: spectrum analyzer MS2601B, standard signal generator MG3
602B, measuring cell MA8602B (above Advantest product name) frequency range 10MH
The electromagnetic wave shielding property between z and 1 GHz is measured and 100
The values of MHz and 1 GHz are shown as typical values. The visible light transmittance was measured with a double beam spectrophotometer (Hitachi, Ltd., Model 200-10) at 400 to 700 n.
The average value of the transmittance in the region of m was used. The non-visibility is evaluated by observing the electromagnetic wave shielding structure in which the electromagnetic wave shielding adhesive film is adhered to the acrylic plate from a place 0.5 m away and recognizing the geometric figure formed of the conductive metal. Those that could not be recognized were rated as good, and those that could be recognized were rated as NG. For the measurement of the infrared shielding ratio, a double beam spectrophotometer (U-3410, Hitachi, Ltd.) was used, and the average value of the infrared shielding ratio in the region of 900 to 1,100 nm was used. The adhesive strength is measured by a tensile tester (trade name: Tensilon UTM-4-10, manufactured by Toyo Baldwin Co., Ltd.).
0), width 10 mm, 90 ° direction, peeling speed 50
It was measured in mm / min.

【0064】[0064]

【表1】 [Table 1]

【0065】[0065]

【表2】 [Table 2]

【0066】本発明の導電性金属で描かれた幾何学図形
を有し、かつ、導電性金属で描かれた幾何学図形の外周
に幾何学図形と電気的に接続した導電性の額縁部を有す
る実施例は、額縁部を有さない比較例3より電磁波シー
ルド性に優れる。また、実施例中において、図2
(b)、(c)、(d)、(e)の構成にそれぞれ相当
する実施例1、2、3、4は、電磁波シールド性が35
〜42dB程度であるが、枠体を設けた図3に示す構成
の実施例5〜11は、開口率、可視光透過率が同程度で
電磁波シールド性が42〜52dBとシールド効果に優
れる。実施例12の幾何学図形のライン幅を25μm
(実施例5)から35μmにすると開口率が81%から
74%に低下し、可視光透過率も62%から56%に低
下してくるが導電性金属の面積が増える分電磁波シール
ド性が向上する。同様に実施例13は、ライン幅を25
μm(実施例5)から12μmにすると開口率が81%
から91%に増加し、可視光透過率も62%から70%
に増加してくるが導電性金属の面積が減る分電磁波シー
ルド性が低下する。実施例14は、ライン間隔を250
μm(実施例5)から500μmにした場合であるが、
開口率、光線透過率が向上するが、電磁波シールド性
は、低下する。同様に実施例15は、ライン間隔を25
0μm(実施例5)から125μmとした場合であり、
開口率、光線透過率は低下し、電磁波シールド性は向上
する。このように、導電性金属で描かれたライン幅やラ
イン間隔を変化させることにより、その傾向を示した
が、電磁波シールド性接着フィルムの幾何学図形は、ラ
イン幅が40μm以下、ライン間隔が100μm以上、
ライン厚みが40μm以下の導電性金属が好ましい値を
示した。比較例1、2は、ITOやAlを蒸着した場合
であるが、電磁波シールド性に劣る。本発明は、図2に
示すように、導電性金属で描かれた幾何学図形を有し、
かつ、導電性金属で描かれた幾何学図形の外周に幾何学
図形と電気的に接続した導電性の額縁部を有することに
より電磁波シールド性に優れ、また、図3に示すように
額縁部を枠体を覆うことにより、さらに電磁波シールド
性が向上する。
A conductive frame portion having a geometric figure drawn with a conductive metal of the present invention and having a conductive frame portion electrically connected to the geometric figure drawn around the geometric figure drawn with the conductive metal is formed. The example having the above is superior in electromagnetic wave shielding property to the comparative example 3 having no frame portion. In addition, in the embodiment, as shown in FIG.
The electromagnetic wave shielding properties of Examples 1, 2, 3 and 4 corresponding to the configurations of (b), (c), (d) and (e) are 35, respectively.
Although it is about 42 dB, Examples 5 to 11 having the structure shown in FIG. 3 in which the frame body is provided have the same aperture ratio and visible light transmittance and an electromagnetic wave shielding property of 42 to 52 dB, which is excellent in shielding effect. The line width of the geometrical figure of Example 12 is 25 μm.
When the thickness is changed from (Example 5) to 35 μm, the aperture ratio is reduced from 81% to 74% and the visible light transmittance is also reduced from 62% to 56%, but the area of the conductive metal is increased and the electromagnetic wave shielding property is improved. To do. Similarly, in Example 13, the line width is 25
When the thickness is changed from μm (Example 5) to 12 μm, the aperture ratio is 81%.
From 91% to 91%, and visible light transmittance from 62% to 70%
However, since the area of the conductive metal decreases, the electromagnetic wave shielding property decreases. In Example 14, the line interval is 250.
In the case of changing from μm (Example 5) to 500 μm,
Although the aperture ratio and light transmittance are improved, the electromagnetic wave shielding property is deteriorated. Similarly, in Example 15, the line interval is set to 25.
0 μm (Example 5) to 125 μm,
The aperture ratio and light transmittance are reduced, and the electromagnetic wave shielding property is improved. As described above, the tendency was shown by changing the line width and the line interval drawn by the conductive metal. The geometric figure of the electromagnetic wave shielding adhesive film has a line width of 40 μm or less and a line interval of 100 μm. that's all,
A conductive metal having a line thickness of 40 μm or less showed a preferable value. Comparative Examples 1 and 2 are cases where ITO or Al is vapor-deposited, but the electromagnetic wave shielding properties are poor. The present invention has a geometrical figure drawn in a conductive metal, as shown in FIG.
Moreover, by having a conductive frame portion electrically connected to the geometrical figure on the outer periphery of the geometrical figure drawn by the conductive metal, the electromagnetic wave shielding property is excellent, and as shown in FIG. By covering the frame, the electromagnetic wave shielding property is further improved.

【0067】[0067]

【発明の効果】本発明のディスプレイ用電磁波シールド
性接着フィルムは実施例からも明らかなように、接地の
ための外部電極との接触面積を増大させ、接地のための
外部電極との接続を良好にし、被着体に容易に貼付けて
使用でき、しかも密着性が優れているので電磁波漏れが
なく広周波数帯域にわたってシールド機能が特に良好で
ある。また可視光透過率、非視認性などの光学的特性が
良好で、しかも長時間にわたって高温での接着特性に変
化が少なく良好であり、優れたディスプレイ用電磁波シ
ールド性接着フィルムを提供することができる。プラス
チックフィルムの表面に接着剤層を介して導電性金属を
設けた導電性金属付きプラスチックフィルムの導電性材
料の金属箔で形成された幾何学図形をマイクロリソグラ
フ法により形成することにより、加工性に優れたディス
プレイ用電磁波シ−ルド性接着フィルムを提供すること
ができる。導電性材料の金属箔で描かれた幾何学図形の
ライン幅を40μm以下、ライン間隔を100μm以
上、ライン厚さを40μm以下とすることにより、透明
性と非視認性に優れたディスプレイ用電磁波シールド性
接着フィルムを提供することができる。請求項2に記載
の額縁部が導電性材料の金属箔で形成されていることに
より、導電性金属で描かれた幾何学図形と幾何学図形の
外周に位置する導電性の額縁部の接触抵抗を小さくする
ことができ電磁波シールド性に優れる。請求項3に記載
の導電性の額縁部の少なくとも一部を露出させることに
より、プラスチックフィルム面側から接地できるディス
プレイ用電磁波シールド性接着フィルムを提供すること
ができ接続が容易にできる。着剤層とプラスチックフ
ィルムの一部または全部を除去するのにレーザーを用い
て形成させることにより、加工性、量産性に優れ、か
つ、ドライ工程であるので工程が簡略にできる。導電性
の額縁部を支持する接着剤層とプラスチックフィルムを
除去し少なくとも額縁部の一部を露出させるため、接着
剤層とプラスチックフィルムの一部または全部をサンド
ブラストを用いて形成させるため、加工性、量産性に優
れる。請求項4に記載の額縁部の幅を1〜40mmの範
囲とすることにより、接地のための外部電極と良好な接
続をすることができる
As is apparent from the examples, the electromagnetic wave shielding adhesive film for a display of the present invention increases the contact area with the external electrode for grounding, and has a good connection with the external electrode for grounding. In addition, since it can be easily attached to an adherend for use and has excellent adhesion, it has no electromagnetic wave leakage and has a particularly good shielding function over a wide frequency band. Further, it has good optical properties such as visible light transmittance and non-visibility, and has little change in adhesive property at high temperature for a long time, which is good, and it is possible to provide an excellent electromagnetic wave shielding adhesive film for display. . plus
Conductive metal on the surface of the tic film through the adhesive layer
Conductive material of the provided plastic film with conductive metal
Microlithography of geometric figures made of metal foil
It is a disc with excellent workability
To provide an electromagnetic wave shielding adhesive film for play
You can Of geometric figures drawn with metal foil of conductive material
Line width 40μm or less, line spacing 100μm or less
Above, transparent by setting the line thickness to 40 μm or less
Electromagnetic wave shielding for displays with excellent visibility and non-visibility
An adhesive film can be provided. Since the frame portion according to claim 2 is formed of a metal foil of a conductive material, the contact resistance between the geometrical figure drawn with the conductive metal and the conductive frame portion located on the outer periphery of the geometrical figure. Can be made smaller and the electromagnetic wave shielding property is excellent. By exposing at least a part of the conductive frame portion according to the third aspect, it is possible to provide an electromagnetic wave shielding adhesive film for a display that can be grounded from the plastic film surface side and facilitate connection. By forming with a laser to remove part or all of the contact Chakuzaiso and the plastic film, processability, excellent in mass production, and process it can be simplified since a dry process. Since the adhesive layer and the plastic film supporting the conductive frame part are removed to expose at least a part of the frame part, the adhesive layer and the plastic film are partially or entirely formed by sandblasting. Excellent in mass productivity. The width of the frame portion according to claim 4 is in the range of 1 to 40 mm.
By surrounding it, good contact with the external electrode for grounding can be achieved.
You can continue .

【0068】[0068]

【0069】 請求項5に記載の導電性材料を銅とし
て、少なくともその表面が黒化処理されていることによ
り、退色性が小さく、コントラストの大きいディスプレ
イ用電磁波シールド性接着フィルムを提供することがで
きる。請求項に記載のプラスチックフィルムをポリエ
チレンテレフタレートフィルムまたはポリカーボネート
フィルムとすることにより、透明性、安価、耐熱性良好
で取り扱い性に優れた電磁波シールド性と赤外線遮蔽性
を有するディスプレイ用電磁波シールド性接着フィルム
を提供することができる。請求項に記載の導電性材料
の金属箔の厚みが0.5〜40μmの銅、アルミニウム
またはニッケルを使用することにより、加工性や密着性
に優れ、安価な電磁波シールド性と非視認性を有するデ
ィスプレイ用電磁波シールド性接着フィルムを提供する
ことができる。請求項に記載の幾何学図形の部分及び
額縁部のすくなくとも一部に接着剤層を介して透明層を
設けることにより、幾何学図形を保護することができ
る。導電性金属付きプラスチックフィルムのプラスチッ
クフィルム側に導電性の額縁部を折り曲げて、プラスチ
ックフィルム側に額縁部の導電性金属を露出させること
により、簡易な方法により接地のための外部電極との接
続を良好にすることができる。幾何学図形の外周に導電
性テープを貼り付けて額縁部を形成することにより、接
地のための外部電極との接触面積を増大させ、接地のた
めの外部電極との接続を良好にすることができる。幾何
学図形の外周に導電性の3次元網目構造体を形成して額
縁部とすることにより、接地のための外部電極との接触
面積を増大させ、接地のための外部電極との接続を良好
にすることができる。請求項10に記載の電磁波シール
ド性接着フィルムを構成するいずれかの層に赤外線吸収
剤を含有させることにより、赤外線遮蔽性を有する電磁
波シールド性接着フィルムを提供することができる。
Since the conductive material according to claim 5 is copper and at least the surface thereof is blackened, it is possible to provide an electromagnetic wave shielding adhesive film for a display which has a small discoloration and a large contrast. . An electromagnetic wave shielding adhesive film for display having an electromagnetic wave shielding property and an infrared ray shielding property, which is transparent, inexpensive, has good heat resistance and is excellent in handleability, by using the polyethylene terephthalate film or the polycarbonate film as the plastic film according to claim 6. Can be provided. By using copper, aluminum or nickel having a thickness of 0.5 to 40 μm of the metal foil of the conductive material according to claim 7 , excellent workability and adhesiveness, and inexpensive electromagnetic wave shielding property and non-visibility are obtained. It is possible to provide an electromagnetic wave shielding adhesive film for a display having the same. By providing a transparent layer through an adhesive layer on at least a part of the geometrical pattern portion and the frame portion according to claim 9 , the geometrical pattern can be protected. By bending the conductive frame part on the plastic film side of the plastic film with conductive metal and exposing the conductive metal of the frame part on the plastic film side, it is possible to connect to the external electrode for grounding by a simple method. Can be good. By attaching a conductive tape to the outer periphery of the geometric figure to form a frame portion, it is possible to increase the contact area with the external electrode for grounding and improve the connection with the external electrode for grounding. it can. By forming a conductive three-dimensional mesh structure on the outer periphery of the geometric figure to form a frame part, the contact area with the external electrode for grounding is increased and the connection with the external electrode for grounding is good. Can be An electromagnetic wave shielding adhesive film having an infrared ray shielding property can be provided by including an infrared absorbing agent in any of the layers constituting the electromagnetic wave shielding adhesive film according to the tenth aspect .

【0070】 請求項11に記載のプラスチック板の少
なくとも片面に前記のディスプレイ用電磁波シールド性
接着フィルムを設けたことにより、透明性と非視認性に
優れ、反りが少ない電磁波遮蔽構成体を提供することが
できる。請求項12に記載のプラスチック板の片面に前
記の電磁波シールド性接着フィルムの導電性幾何学図形
の描かれている面を接着剤層を介してプラスチック板に
設け、他面に接着剤層を介してプラスチックフィルムを
設けたことにより、透明性と非視認性に優れ、反りが少
ない電磁波遮蔽構成体を提供することができる。請求項
13に記載のプラスチック板の片面に前記の電磁波シー
ルド性接着フィルムを設け、その導電性の額縁部を折り
曲げるように変形させ、額縁部がプラスチック板の反対
面に達するようにした電磁波遮蔽構成体とすることによ
り、透明性と非視認性に優れ、反りが少ない電磁波遮蔽
構成体を提供することができる。電磁波遮蔽構成体の電
磁波シールド性接着フィルムの額縁部の一部に導電性テ
ープを貼り付けた電磁波遮蔽構成体とすることにより、
接地のための外部電極との良好な接触による電磁波漏洩
の低減、簡易な取り付け、優れた美観をもつ電磁波遮蔽
構成体を提供することができる。電磁波遮蔽構成体の電
磁波シールド性接着フィルムの少なくとも額縁部に導電
性の3次元網目構造体が接している電磁波遮蔽構成体と
することにより、接地のための外部電極との良好な接触
による電磁波漏洩の低減、簡易な取り付け、優れた美観
をもつ電磁波遮蔽構成体を提供することができる。電磁
波遮蔽構成体を構成する電磁波シールド性接着フィル
ム、プラスチック板、プラスチックフィルムまたは接着
剤層のすくなくともいずれかに赤外線吸収剤を含有する
電磁波遮蔽構成体とすることにより、電磁波シールド性
と赤外線遮蔽性を有する電磁波遮蔽構成体を提供するこ
とができる。プラスチック板に設けた電磁波シールド性
接着フィルムのプラスチックフィルムまたはプラスチッ
ク板若しくはプラスチックフィルム表面に防眩処理また
は反射防止処理が施されている電磁波遮蔽構成体とする
ことにより、電磁波遮蔽構成体に防眩性または反射防止
性を付与させることができる。電磁波遮蔽構成体の周辺
部に額縁部と接するように枠体を設けた電磁波遮蔽構成
体とすることにより、電磁波の漏れを防止し、電磁波シ
ールド性に優れ、美観の向上した電磁波遮蔽構成体を提
供することができる。
By providing the electromagnetic wave shielding adhesive film for a display on at least one surface of the plastic plate according to claim 11 , an electromagnetic wave shielding structure excellent in transparency and invisibility and having less warpage is provided. You can The plastic plate according to claim 12 is provided on one surface thereof with a surface on which a conductive geometrical figure of the electromagnetic wave shielding adhesive film is drawn, via an adhesive layer, and on the other surface via an adhesive layer. By providing the plastic film as described above, it is possible to provide an electromagnetic wave shielding structure which is excellent in transparency and non-visibility and has less warpage. Claim
13. An electromagnetic wave shielding structure in which the electromagnetic wave shielding adhesive film is provided on one surface of the plastic plate according to 13 , and the conductive frame portion is deformed so as to be bent, and the frame portion reaches the opposite surface of the plastic plate. By doing so, it is possible to provide an electromagnetic wave shielding structure that is excellent in transparency and non-visibility and has less warpage. By making an electromagnetic wave shielding structure by attaching a conductive tape to a part of the frame portion of the electromagnetic wave shielding adhesive film of the electromagnetic wave shielding structure,
It is possible to provide an electromagnetic wave shielding structure having reduced electromagnetic wave leakage due to good contact with an external electrode for grounding, simple attachment, and excellent aesthetics. Electromagnetic wave leakage due to good contact with an external electrode for grounding by using an electromagnetic wave shielding structure in which a conductive three-dimensional mesh structure is in contact with at least the frame portion of the electromagnetic wave shielding adhesive film of the electromagnetic wave shielding structure. It is possible to provide an electromagnetic wave shielding structure having reduced noise, simple attachment, and excellent aesthetics. An electromagnetic wave shielding property and an infrared ray shielding property can be obtained by forming an electromagnetic wave shielding structure containing an infrared ray absorbent in at least one of an electromagnetic wave shielding adhesive film, a plastic plate, a plastic film or an adhesive layer constituting the electromagnetic wave shielding structure. It is possible to provide an electromagnetic wave shielding structure having the same. Anti-glare property of the electromagnetic wave shielding structure by using the plastic film of the electromagnetic wave shielding adhesive film provided on the plastic plate or the electromagnetic wave shielding structure having the plastic plate or the plastic film surface subjected to anti-glare treatment or anti-reflection treatment Alternatively, antireflection property can be imparted. By providing an electromagnetic wave shielding structure in which a frame is provided in the peripheral portion of the electromagnetic wave shielding structure so as to be in contact with the frame portion, an electromagnetic wave shielding structure that prevents leakage of electromagnetic waves, has excellent electromagnetic wave shielding properties, and has an improved aesthetic appearance is provided. Can be provided.

【0071】 請求項14に記載の電磁波シールド性接
着フィルムをディスプレイに用いることにより、電磁波
シールド性と透明性を有し、電磁波の漏洩を低減し、赤
外線遮蔽性に優れ、接地のための外部電極と良好に接続
することができるディスプレイを提供することができ
る。請求項15に記載の電磁波遮蔽構成体をディスプレ
イに用いることにより、電磁波シールド性と透明性を有
し、電磁波の漏洩を低減し、赤外線遮蔽性に優れ、接地
のための外部電極と良好に接続することができるディス
プレイを提供することができる。本発明のディスプレイ
電磁波シールド性接着フィルム及びディスプレイ用
磁波遮蔽構成体は、電磁波シールド性や透明性に優れて
いるため、ディスプレイの他に電磁波を発生したり、あ
るいは電磁波から保護する測定装置、測定機器や製造装
置の内部をのぞく窓や筐体、特に透明性を要求される窓
のような部位に設けて使用することができる。
By using the electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 14 for a display, it has electromagnetic wave shielding properties and transparency, reduces electromagnetic wave leakage, has excellent infrared shielding properties, and is an external electrode for grounding. It is possible to provide a display that can be well connected to. By using the electromagnetic wave shielding structure according to claim 15 for a display, it has electromagnetic wave shielding properties and transparency, reduces electromagnetic wave leakage, has excellent infrared shielding properties, and is well connected to an external electrode for grounding. A display that can be provided. Display of the present invention
The electromagnetic wave shielding adhesive film for a display and the electromagnetic wave shielding structure for a display have excellent electromagnetic wave shielding properties and transparency, and therefore, in addition to the display, a measuring device that generates or protects electromagnetic waves, It can be used by being provided in a window or a casing that looks into the inside of a measuring device or a manufacturing apparatus, and particularly in a site such as a window requiring transparency.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の電磁波シールド性接着フィルムを示
し、(a)は、電磁波シールド性接着フィルムの正面
図、(b)〜(g)は断面図を示す。
1 shows an electromagnetic wave shielding adhesive film of the present invention, (a) is a front view of the electromagnetic wave shielding adhesive film, and (b) to (g) are sectional views.

【図2】 本発明の電磁波遮蔽構成体を示し、(a)は
射視図、(b)〜(e)は断面図を示す。
FIG. 2 shows an electromagnetic wave shielding structure of the present invention, (a) is a perspective view, and (b) to (e) are sectional views.

【図3】 本発明の電磁波遮蔽構成体を示し、(a)は
射視図、(b)〜(g)は断面図を示す。
FIG. 3 shows an electromagnetic wave shielding structure according to the present invention, in which (a) is a perspective view and (b) to (g) are sectional views.

【図4】 (a)、(b)は、本発明の導電性金属で描
かれた幾何学図形の説明図。
4A and 4B are explanatory views of a geometrical figure drawn with a conductive metal of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1.導電性の額縁部 2.導電性金属で描かれた幾何学図形 3.プラスチックフィルム 4.接着剤層 5.透明層 6.導電性材料 7.導電性の3次元網目構造体 8.電磁波シールド性接着フィルム 10.電磁波遮蔽構成体 11.プラスチック板 12.接着剤層 13.プラスチックフィルム 21.枠体 1. Conductive frame 2. Geometric figure drawn with conductive metal 3. Plastic film 4. Adhesive layer 5. Transparent layer 6. Conductive material 7. Conductive three-dimensional mesh structure 8. Electromagnetic wave shielding adhesive film 10. Electromagnetic wave shielding structure 11. Plastic plate 12. Adhesive layer 13. Plastic film 21. Frame

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 萩原 裕之 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化 成工業株式会社 下館研究所内 (72)発明者 橋塲 綾 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化 成工業株式会社 下館研究所内 (56)参考文献 特開 平5−218673(JP,A) 特開 平5−251890(JP,A) 特開 平11−26980(JP,A) 特開 平9−306366(JP,A) 特開 平9−178928(JP,A) 特開 平7−282729(JP,A) 特開 平7−237976(JP,A) 特開 平11−84041(JP,A) 特開 平9−107193(JP,A) 特開 平2−109399(JP,A) 特開 平10−16416(JP,A) 特開 平2−296398(JP,A) 特開 平9−148782(JP,A) 実開 昭62−199999(JP,U) 実開 平1−111277(JP,U) 実開 平5−54790(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05K 9/00 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Hiroyuki Hagiwara 1500 Ogawa, Shimodate-shi, Ibaraki Hitachi Chemical Co., Ltd. Shimodate Research Laboratory (72) Inventor Aya Hashiwa, Ogawa 1500 Shimodate, Ibaraki Hitachi Chemical (56) Reference JP-A-5-218673 (JP, A) JP-A-5-251890 (JP, A) JP-A-11-26980 (JP, A) JP-A-9-306366 (JP, A) JP-A-9-178928 (JP, A) JP-A-7-282729 (JP, A) JP-A-7-237976 (JP, A) JP-A-11-84041 (JP, A) Kaihei 9-107193 (JP, A) JP 2-109399 (JP, A) JP 10-16416 (JP, A) JP 2-296398 (JP, A) JP 9-148782 ( JP, A) Actually open 62-199999 (JP, U) Actually open 1-1 11277 (JP, U) Actual Kaihei 5-54790 (JP, U) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) H05K 9/00

Claims (15)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 プラスチックフィルムと、該プラスチッ
クフィルム上に設けた接着剤層と、該接着剤層の上に接
着した導電性材料の金属箔から描かれた幾何学図形とか
らなるディスプレイ用電磁波シールド性フィルムにおい
前記導電性材料の金属箔は、前記接着剤層への貼合せ面
が粗化されており、 前記幾何学図形は、前記金属箔をケミカルエッチングプ
ロセスで描かれたもので、 ライン幅が40μm以下、ラ
イン間隔が100μm以上、ライン厚みが40μm以下
であり、かつ、前記幾何学図形の外周に幾何学図形と
電気的に接続した導電性の額縁部を設けており、 前記接着剤層は、加熱又は加圧により流動するものであ
り、かつ、前記金属箔との接着により粗化形状が転写さ
れて粗化された面を有しており、さらに、前記幾何学図形及び前記接着剤層の粗化された
面の上に加熱又は加圧により接着した透明層を設けた
とを特徴とするディスプレイ用電磁波シールド性フィル
ム。
1. A plastic film and the plastic film
Adhesive layer provided on the adhesive film and the adhesive layer
Geometric figures drawn from metal foil of conductive material
Electromagnetic shielding film odor for Ranaru display
And the metal foil of the conductive material is a bonding surface to the adhesive layer.
Is roughened, and the geometrical figures are formed by chemically etching the metal foil.
It is drawn by a process, the line width is 40 μm or less, the line interval is 100 μm or more, and the line thickness is 40 μm or less.
, And the and the are provided with a frame portion outer periphery of the geometric shapes and electrically connected to the conductive geometric shapes, the adhesive layer is intended to flow by heating or pressurizing, and A roughened shape is transferred by adhesion with the metal foil and has a roughened surface, and the geometrical figure and the adhesive layer are roughened.
An electromagnetic wave shielding film for a display, comprising a transparent layer adhered to the surface by heating or pressing .
【請求項2】 上記幾何学図形及び上記額縁部が、貼り
合わせた金属箔にケミカルエッチングプロセスによって
幾何学図形をその外周に電気的に接続した額縁部を残し
て形成したものである請求項1記載のディスプレイ用電
磁波シールド性フィルム。
2. The geometric figure and the frame portion are attached together.
By chemical etching process on the combined metal foil
Leave the frame part where the geometric figure is electrically connected to the outer periphery
The electromagnetic wave shielding film for a display according to claim 1, which is formed by the following method .
【請求項3】 上記金属箔に形成された幾何学図形と電
気的に接続した導電性の額縁部の少なくとも一部が露出
している請求項1又は2に記載のディスプレイ用電磁波
シールド性フィルム。
3. The electromagnetic wave shielding film for a display according to claim 1, wherein at least a part of a conductive frame portion electrically connected to the geometrical figure formed on the metal foil is exposed.
【請求項4】 上記導電性材料の金属箔に形成された幾
何学図形と電気的に接続した導電性の額縁部の幅が1〜
40mmである請求項1〜3のいずれか1項に記載のデ
ィスプレイ用電磁波シールド性フィルム。
4. A layer formed on the metal foil of the conductive material.
The width of the conductive frame that is electrically connected to the geometric pattern is 1 to
The electromagnetic wave shielding film for a display according to any one of claims 1 to 3, which has a thickness of 40 mm .
【請求項5】 上記導電性材料が銅であり、少なくとも
金属箔の表面が黒化処理されている請求項1〜4のいず
れか1項に記載のディスプレイ用電磁波シールド性フィ
ルム。
5. The electromagnetic wave shielding film for a display according to claim 1, wherein the conductive material is copper, and at least the surface of the metal foil is blackened.
【請求項6】 上記プラスチックフィルムがポリエチレ
ンテレフタレートフィルムまたはポリカーボネートフィ
ルムである請求項1〜5のいずれか1項に記載のディス
プレイ用電磁波シールド性フィルム。
6. The plastic film is polyethylene
Terephthalate film or polycarbonate film
The electromagnetic wave shielding film for a display according to any one of claims 1 to 5, which is rum .
【請求項7】 上記導電性材料の金属箔が、厚さ0.5
〜40μmの銅、アルミニウムまたはニッケルである
求項1〜6のいずれか1項に記載のディスプレイ用電磁
波シールド性フィルム。
7. A metal foil of the conductive material, a thickness of 0.5
The electromagnetic wave shielding film for a display according to any one of claims 1 to 6, which is copper, aluminum or nickel having a thickness of -40 μm .
【請求項8】 上記幾何学図形の上に透明層を設けると
きに加圧したものである請求項1〜7のいずれか1項に
記載のディスプレイ用電磁波シールド性フィルム。
8. The electromagnetic wave shielding film for a display according to claim 1 , wherein a pressure is applied when a transparent layer is provided on the geometrical figure.
【請求項9】 上記幾何学図形の部分に別の接着剤層を
介して透明層を設けた請求項1〜8のいずれか1項に記
載のディスプレイ用電磁波シールド性フィルム。
9. An adhesive layer is further provided on the geometrical pattern.
The electromagnetic wave shielding film for a display according to any one of claims 1 to 8, which is provided with a transparent layer therebetween .
【請求項10】 上記ディスプレイ用電磁波シールド性
フィルムを構成するいずれかの層に赤外線吸収剤が含有
されている請求項1〜9のいずれか1項に記載のディス
プレイ用電磁波シールド性フィルム。
10. The electromagnetic wave shielding property for the display
Infrared absorber is contained in any of the layers that make up the film
The electromagnetic wave shielding film for a display according to any one of claims 1 to 9.
【請求項11】 請求項1〜10のいずれか1項に記載
のディスプレイ用電磁波シールド性フィルムとプラスチ
ック板、プラスチックフィルム又はガラス板を重ねて加
圧してなるディスプレイ用電磁波遮蔽構成体
11. The method according to any one of claims 1 to 10.
Electromagnetic wave shielding film for display and plastic
Stack a plastic plate or glass plate
An electromagnetic wave shielding structure for a display that is formed by applying pressure .
【請求項12】 プラスチックフィルムと、該プラスチ
ックフィルム上に設けた接着剤層と、該接着剤層の上に
接着した導電性材料の金属箔から描かれた幾何学図形と
からなるディスプレイ用電磁波シールド性フィルムを有
するディスプレイ用電磁波遮蔽構成体において前記導電性材料の金属箔は、前記接着剤層への貼合せ面
が粗化されており、 前記幾何学図形は、前記金属箔をケミカルエッチングプ
ロセスで描かれたもので、 ライン幅が40μm以下、ラ
イン間隔が100μm以上、ライン厚みが40μm以下
であり、かつ、前記幾何学図形の外周に幾何学図形と
電気的に接続した導電性の額縁部を設けており、 前記接着剤層は、加熱又は加圧により流動するものであ
り、かつ、前記金属箔との接着により粗化形状が転写さ
れて粗化された面を有しており、さらに、前記幾何学図形及び前記接着剤層の粗化された
面の上に加熱又は加圧により接着した、プラスチック
板、プラスチックフィルム又はガラス板からなる透明層
を設けたことを特徴とするディスプレイ用電磁波遮蔽構
成体
12. A plastic film and the plastic film
Adhesive layer provided on the adhesive film and on the adhesive layer
Geometrical figures drawn from metal foil of conductive materials that are bonded together
Yes electromagnetic wave shielding film for a display consisting of
In the electromagnetic wave shielding structure for a display, the metal foil of the conductive material has a bonding surface to the adhesive layer.
Is roughened, and the geometrical figures are formed by chemically etching the metal foil.
It is drawn by a process, the line width is 40 μm or less, the line interval is 100 μm or more, and the line thickness is 40 μm or less.
, And the and the are provided with a frame portion outer periphery of the geometric shapes and electrically connected to the conductive geometric shapes, the adhesive layer is intended to flow by heating or pressurizing, and A roughened shape is transferred by adhesion with the metal foil and has a roughened surface, and the geometrical figure and the adhesive layer are roughened.
Plastic adhered to the surface by heat or pressure
Transparent layer consisting of plate, plastic film or glass plate
The electromagnetic wave shielding structure for a display characterized by having
Adult .
【請求項13】 さらに、電磁波遮蔽構成体の周辺部に
額縁部と接するように枠体を設けた請求項11又は12
記載のディスプレイ用電磁波遮蔽構成体
13. Further, in the peripheral portion of the electromagnetic wave shielding structure.
The frame body is provided so as to be in contact with the frame portion.
An electromagnetic wave shielding structure for a display as described .
【請求項14】 請求項1〜10のいずれか1項に記載
のディスプレイ用電磁波シールド性フィルムをディスプ
レイ表面に重ねて加圧してなる電磁波シールド性フィル
ムを有するディスプレイ
14. The method according to any one of claims 1 to 10.
Display electromagnetic wave shielding film for display
Electromagnetic wave shielding fill film that is applied by pressure on the surface of the ray
Display with a camera .
【請求項15】 プラスチックフィルムと、該プラスチ
ックフィルム上に設けた接着剤層と、該接着剤層の上に
接着した導電性材料の金属箔から描かれた幾何学図形と
からなるディスプレイ用電磁波シールド性フィルムを有
するディスプレイにおいて前記導電性材料の金属箔は、前記接着剤層への貼合せ面
が粗化されており、 前記幾何学図形は、前記金属箔をケミカルエッチングプ
ロセスで描かれたもので、 ライン幅が40μm以下、ラ
イン間隔が100μm以上、ライン厚みが40μm以下
であり、かつ、前記幾何学図形の外周に幾何学図形と
電気的に接続した導電性の額縁部を設けており、 前記接着剤層は、加熱又は加圧により流動するものであ
り、かつ、前記金属箔との接着により粗化形状が転写さ
れて粗化された面を有しており、さらに、前記幾何学図形及び前記接着剤層の粗化された
面とディスプレイ表面とが加熱又は加圧により接着され
たことを特徴とするディスプレイ。
15. And a plastic film, the Plasti
Adhesive layer provided on the adhesive film and on the adhesive layer
Geometrical figures drawn from metal foil of conductive materials that are bonded together
In a display having an electromagnetic wave shielding film for a display , the metal foil of the conductive material has a bonding surface to the adhesive layer.
Is roughened, and the geometrical figures are formed by chemically etching the metal foil.
It is drawn by the process, line width is 40μm or less, line interval is 100μm or more, line thickness is 40μm or less.
, And the and the are provided with a frame portion outer periphery of the geometric shapes and electrically connected to the conductive geometric shapes, the adhesive layer is intended to flow by heating or pressurizing, and A roughened shape is transferred by adhesion with the metal foil and has a roughened surface, and the geometrical figure and the adhesive layer are roughened.
Surface and display surface are bonded by heat or pressure
A display characterized by that.
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