JP2007042887A - Light-transmitting electromagnetic-wave shielding window material and its manufacturing method - Google Patents

Light-transmitting electromagnetic-wave shielding window material and its manufacturing method Download PDF

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Tatsuya Funaki
竜也 船木
Hideshi Kotsubo
秀史 小坪
Kiyomi Sasaki
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light-transmitting electromagnetic-wave shielding window material making compatible with a light transmitting property and an electromagnetic-wave shielding property, easily ensuring a conduction with a box body and having an excellent productivity. <P>SOLUTION: The light-transmitting electromagnetic-wave shielding window material 10 contains a rectangular transparent base material, a meshy metallic conductive layer 12 formed in a rectangular shape at least at a central section on the transparent base material, and a peripheral electrode 11 formed on the transparent base material adjacent to at least one side of the meshy metallic conductive layer 12 and connected to the meshy metallic conductive layer 12. The line width of meshes in the vicinity of the peripheral electrode of the meshy metallic conductive layer 12 is made larger than those of other regions. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、メッシュ状の金属導電層を備えた、光透過性電磁波シールド性窓材の製造方法、該方法により製造された光透過性電磁波シールド性窓材、及び該窓材を含むディスプレイ用フィルタに関する。   The present invention relates to a method for producing a light transmissive electromagnetic wave shielding window material provided with a mesh-like metal conductive layer, a light transmissive electromagnetic wave shielding window material produced by the method, and a display filter including the window material. About.

プラズマディスプレイパネル(PDP)には通常必ず前面フィルタが使用される。この前面フィルタは、近赤外線カット、色再現性向上(発光色純度向上)、電磁波シールド、明所コントラスト向上(反射防止)、発光パネルの保護、発光パネルからの熱遮断等を目的としている。   In general, a front filter is always used for a plasma display panel (PDP). This front filter is intended for cutting near infrared rays, improving color reproducibility (emission color purity improvement), electromagnetic wave shielding, improving contrast in a bright place (antireflection), protecting a light emitting panel, blocking heat from the light emitting panel, and the like.

PDPの発光パネルの発する近赤外線は、家庭用テレビやビデオ等に使用されるリモコンに誤作動を与えることを避けるために、これを低減することが必要である。またPDPの発光パネルの発する電磁波は、人体や精密機器への悪影響を避けるためにこれを低減することも必要である。さらにPDPの発光パネルからの発光を、人間の視覚にとって自然な色に感じられるように、フィルタでの補正によって色再現性向上(発光色純度向上)の工夫も求められている。またディスプレイの表示は、明るい室内等の明所においても外部からの光の反射等によって妨げられることなく、十分なコントラストで視認されることが望ましい。さらにはディスプレイ製品に直接に手で触れたような場合でも、使用者がその高温に驚かされるような事態を避けるために、PDPの発光パネルの発する熱が遮断されることが求められている。また製品が容易に破損することを避けるために、発光パネルは保護され、万一破損したような場合であってもその破片が飛散しないことが望ましい。   It is necessary to reduce the near infrared rays emitted from the light emitting panel of the PDP in order to avoid malfunctioning the remote control used for home television and video. In addition, it is necessary to reduce the electromagnetic waves emitted by the light emitting panel of the PDP in order to avoid adverse effects on the human body and precision equipment. Furthermore, in order to make the light emitted from the light emitting panel of the PDP feel a natural color for human vision, a device for improving color reproducibility (light emission color purity improvement) is also required by correction with a filter. Further, it is desirable that the display on the display is visually recognized with sufficient contrast without being hindered by reflection of light from the outside even in a bright place such as a bright room. Furthermore, even when the display product is directly touched by hand, the heat generated by the light emitting panel of the PDP is required to be cut off in order to avoid a situation where the user is surprised by the high temperature. In order to prevent the product from being easily damaged, it is desirable that the light-emitting panel be protected so that the fragments do not scatter even if it is damaged.

上記の目的に沿った典型的なPDP用前面フィルタの構造としては、例えば、透明基板に、反射防止層、電磁波シールド層、色調補正フィルター層、近赤外線カット層が積層されたものがあり、これが発光パネルの前面にフィルターとして設置される。この積層の順序は目的に応じて変更される。   As a typical PDP front filter structure that meets the above-mentioned purpose, for example, there is a transparent substrate in which an antireflection layer, an electromagnetic wave shielding layer, a color correction filter layer, and a near infrared cut layer are laminated. Installed as a filter on the front of the light-emitting panel. The order of lamination is changed according to the purpose.

このPDP用前面フィルタでは、光透過性電磁波シールド層は、光透過性と電磁波シールド性を両立することが必要である。そのために、例えば、微細なメッシュ構造を有する導電性の層が使用される。この導電性のメッシュの部分によって電磁波がシールドされ、同時に光の透過は前記の開口部分によって確保されることになる。   In this PDP front filter, the light-transmitting electromagnetic wave shielding layer needs to satisfy both the light transmitting property and the electromagnetic wave shielding property. For this purpose, for example, a conductive layer having a fine mesh structure is used. The electromagnetic wave is shielded by the conductive mesh portion, and at the same time, light transmission is ensured by the opening portion.

この光透過性電磁波シールド層として使用可能な窓材は、種々の方法により製造される。   The window material that can be used as the light-transmitting electromagnetic wave shielding layer is manufactured by various methods.

例えば、導電性繊維を織って金網のような導電性メッシュを作成し、これを透明基板の間に介在させて一体化した構成とする方法がある。一般に、メッシュを構成する導電性繊維の線径が太いものは目が粗くなるため、目が細かいメッシュを得るには線径を細くすることになる。このため、良好な光透過性と視認性を得るためには、導電性繊維の細線化が必要となるが、これには非常に困難を伴う。   For example, there is a method in which a conductive mesh such as a wire mesh is formed by weaving conductive fibers and is integrated by interposing it between transparent substrates. In general, when the conductive fiber constituting the mesh has a large wire diameter, the eye becomes rough, and thus the wire diameter is reduced to obtain a fine mesh. For this reason, in order to obtain good light transmittance and visibility, it is necessary to make the conductive fibers thin, but this is very difficult.

また、透明な金属膜を透明基板の全面に形成して透明導電性フィルムを形成する方法がある。このようにして光透過性と電磁波シールド性とを両立したものは電磁波シールド性をあまり高めることができず、また電磁波シールド層と筐体との導通を確保することが容易ではないという不都合がある。   There is also a method of forming a transparent conductive film by forming a transparent metal film on the entire surface of a transparent substrate. In this way, those having both light transmittance and electromagnetic wave shielding properties cannot improve the electromagnetic wave shielding properties so much, and it is not easy to ensure the conduction between the electromagnetic wave shielding layer and the housing. .

このような方法に対して、特許文献1(特開2001−332889号公報)は、フィルム面に、溶剤に対して可溶な物質によってドットを形成し、該フィルム面に該溶剤に対して不溶な導電材料よりなる導電材料層を形成し、該フィルム面を該溶剤と接触させて該ドット及び該ドット上の導電材料層を除去することにより、メッシュ状の導電性パターンを有する電磁波シールド性光透過窓材を製造する方法を開示している。この方法によれば、上述の方法に比較して細線化が可能であり、比較的高い電磁波シールド性を得ることができる。   In contrast to such a method, Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-332889) forms dots on a film surface with a substance soluble in a solvent, and insoluble in the solvent on the film surface. An electromagnetic wave shielding light having a mesh-like conductive pattern is formed by forming a conductive material layer made of a conductive material and contacting the film surface with the solvent to remove the dots and the conductive material layer on the dots. A method of manufacturing a transmissive window material is disclosed. According to this method, thinning is possible compared with the above-mentioned method, and relatively high electromagnetic shielding properties can be obtained.

特開2001−332889号公報JP 2001-332889 A

本発明者等は、上述の特許文献1(特開2001−332889号公報)に記載の方法(可溶性ドット形成法)を使用した場合、フィルム面の端に、メッシュ状の導電性パターンと接続した帯状の金属導電層の面を、導通確保用の周囲電極として設けることにより、光透過性電磁波シールド層と筐体との導通の確保も容易になることを着想して、これについて鋭意開発研究を行ってきた。   When using the method (soluble dot forming method) described in Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-332889) described above, the present inventors connected a mesh-like conductive pattern to the end of the film surface. Inspired by the fact that the surface of the band-shaped metal conductive layer is provided as a peripheral electrode for ensuring conduction, it is easy to ensure conduction between the light-transmitting electromagnetic wave shielding layer and the housing, and research and development has been conducted on this. I went.

このように本発明者等が開発してきた従来の光透過性電磁波シールド性窓材を、図6を使用して説明する。図6は、そのような光透過性電磁波シールド性窓材の典型的な一例を、上方から示した説明図である。図6の光透過性電磁波シールド性窓材は、透明フィルム上にメッシュ状金属導電層及びこれと隣接して周囲電極が設けられている。   A conventional light-transmitting electromagnetic wave shielding window material developed by the present inventors will be described with reference to FIG. FIG. 6 is an explanatory view showing a typical example of such a light transmissive electromagnetic wave shielding window material from above. The light-transmitting electromagnetic wave shielding window material of FIG. 6 is provided with a mesh-like metal conductive layer and a peripheral electrode adjacent thereto on a transparent film.

光透過性電磁波シールド性窓材60は、面の上方から概観すると、矩形状に設けられたメッシュ状金属導電層領域62と、その4辺に隣接して囲む周辺電極61からなっている。メッシュ状金属導電層領域62と周辺電極61とが隣接した領域の部分拡大図が、円内に示されている。メッシュ状金属導電層62aは、メッシュ状金属導電層領域全体にわたって同じ線幅の網目の網を形成し、その線幅のままで隣接する周辺電極61へと融合して接続している。この網目の目として、メッシュの空隙62bが存在しており、この部分は金属導電層で覆われていないために、金属導電層の下の層である透明フィルムの上面が露出している。メッシュの空隙(メッシュの目)は、メッシュ状金属導電層領域62のほぼ全体にわたって、空隙62bと同一の略正方形の形状の繰り返しとして存在しているが、周辺電極61と隣接する領域においては、正方形の形状が途中で切断されて欠損したような形の欠損空隙62cとして存在している。   The light-transmitting electromagnetic wave shielding window material 60 is composed of a mesh-shaped metal conductive layer region 62 provided in a rectangular shape when viewed from above the surface, and a peripheral electrode 61 surrounding the four sides. A partially enlarged view of a region where the mesh-shaped metal conductive layer region 62 and the peripheral electrode 61 are adjacent is shown in a circle. The mesh-shaped metal conductive layer 62a forms a mesh having the same line width over the entire mesh-shaped metal conductive layer region, and is fused and connected to the adjacent peripheral electrode 61 while maintaining the line width. As the mesh, a mesh void 62b exists, and this portion is not covered with the metal conductive layer, so that the upper surface of the transparent film, which is a layer below the metal conductive layer, is exposed. The mesh voids (mesh eyes) are present as repetitions of substantially the same square shape as the voids 62b over almost the entire mesh-like metal conductive layer region 62, but in the region adjacent to the peripheral electrode 61, A square gap exists as a deficient void 62c having a shape that is cut and cut off in the middle.

このような構造を有する光透過性電磁波シールド性窓材は、非常に精細なメッシュ状金属導電層が形成されているために、光透過性と電磁波シールド性が同時に確保されているものの、メッシュ状金属導電層と周辺電極との接続部分は、印刷法を用いた製造工程において、断線や破断が発生しやすいという不都合があるものであった。このような断線の発生は、製品の歩留まりを低下させ、あるいは外見からは識別し難い微少な破断であっても、周辺電極とメッシュ状金属層との接続の抵抗値を増大させて筐体との導通確保に悪影響を与え、ディスプレイフィルタ等の最終製品の電磁波シールド性を低下させる。また、後工程として電気メッキ処理を行う場合、微少な破断が発生した部分に電圧が集中してしまうことから、導電層が溶出したり、その熱で基材がダメージを受けることもある。   The light-transmitting electromagnetic wave shielding window material having such a structure has a very fine mesh-shaped metal conductive layer, so that both light transmission and electromagnetic wave shielding properties are ensured at the same time. The connection portion between the metal conductive layer and the peripheral electrode has a disadvantage that disconnection or breakage is likely to occur in the manufacturing process using the printing method. The occurrence of such disconnection reduces the yield of the product or increases the resistance value of the connection between the peripheral electrode and the mesh-like metal layer even if it is a minute fracture that is difficult to distinguish from the appearance. Adversely affects the ensuring of electrical conduction, and reduces the electromagnetic shielding properties of final products such as display filters. Further, when electroplating is performed as a subsequent process, the voltage concentrates on a portion where a minute fracture has occurred, so that the conductive layer may be eluted or the base material may be damaged by the heat.

したがって、本発明の目的は、メッシュ状金属導電層と周辺電極との接続部分に上述した断線や破断が生じることなく、生産性に優れ、光透過性と電磁波シールド性とを両立しつつ、筐体との導通の確保が容易である光透過性電磁波シールド性窓材を得ることにある。   Therefore, the object of the present invention is to prevent the above-described disconnection or breakage at the connection portion between the mesh-shaped metal conductive layer and the peripheral electrode, and to achieve excellent productivity, while satisfying both light transmittance and electromagnetic wave shielding properties. An object of the present invention is to obtain a light-transmitting electromagnetic wave shielding window material that can easily ensure conduction with a body.

また、本発明の目的は、上記光透過性電磁波シールド性窓材を使用して得られるディスプレイ用フィルタを提供することにもある。   Another object of the present invention is to provide a display filter obtained by using the above-mentioned light transmissive electromagnetic wave shielding window material.

また、本発明の目的は、従来の製造工程を大幅に変える必要がない、上記光透過性電磁波シールド性窓材に適した製造方法を見いだすことにもある。   Another object of the present invention is to find a manufacturing method suitable for the light-transmitting electromagnetic wave shielding window material, which does not require a significant change in the conventional manufacturing process.

また、本発明の目的は、上記製造方法により得られる光透過性電磁波シールド性窓材、及び該光透過性電磁波シールド性窓材を使用して得られるディスプレイ用フィルタを提供することにもある。   Another object of the present invention is to provide a light transmissive electromagnetic wave shielding window material obtained by the above production method and a display filter obtained by using the light transmissive electromagnetic wave shielding window material.

本発明者等は、上述の目的が、矩形の透明基材と、該透明基材上の少なくとも中央部に矩形状に設けられたメッシュ状金属導電層、及び該メッシュ状金属導電層の少なくとも1辺に隣接して該透明基材上に設けられ且つ該メッシュ状金属導電層に接続した周辺電極、とを含む光透過性電磁波シールド性窓材であって、
メッシュ状金属導電層の周辺電極近傍のメッシュの線幅が、他の領域の線幅よりも大きいことを特徴とする、光透過性電磁波シールド性窓材によって達成されることを見いだした。
The inventors of the present invention have the above-described object in that a rectangular transparent base material, a mesh-like metal conductive layer provided in a rectangular shape at least on the transparent base material, and at least one of the mesh-like metal conductive layer A light-transmitting electromagnetic wave shielding window material comprising a peripheral electrode provided on the transparent substrate adjacent to a side and connected to the mesh-like metal conductive layer,
It has been found that this is achieved by a light-transmitting electromagnetic wave shielding window material characterized in that the line width of the mesh in the vicinity of the peripheral electrode of the mesh-like metal conductive layer is larger than the line width of other areas.

この構成とすることにより、メッシュ状金属導電層と周辺電極との接続部分での作業時の断線や破断の発生が極小となり、その一方で精細なメッシュ構造によって達成された光透過性や視認性は低減されることはない。すなわち、メッシュ状金属導電層と周辺電極との接続部分に上述した断線や破断が生じることなく、生産性に優れ、光透過性と電磁波シールド性とを両立しつつ、筐体との導通の確保が容易である光透過性電磁波シールド性窓材を得ることができる。   This configuration minimizes the occurrence of breaks and breaks during work at the connection between the mesh-like metal conductive layer and the peripheral electrode, while achieving light transmission and visibility achieved by a fine mesh structure. Is not reduced. That is, the above-described disconnection or breakage does not occur at the connection portion between the mesh-shaped metal conductive layer and the peripheral electrode, and it is excellent in productivity, ensuring both light transmission and electromagnetic shielding properties, and ensuring conduction with the housing. Can be obtained.

また、前記メッシュ状金属導電層の周辺電極近傍のメッシュの線幅が、接続する周辺電極から3〜50mm以内の幅の帯状領域において、他の領域の線幅よりも大きいことが好ましい。また、前記メッシュ状金属導電層の周辺電極近傍のメッシュの線幅が、接続する周辺電極に近づくほど大きいこと、さらに連続的に大きくなっていることが好ましい。これによって、メッシュ状金属導電層と周辺電極との接続部分での断線や破断を十分に防止しつつ、光透過性や視認性への影響を最小限に抑えることができる。   In addition, it is preferable that the line width of the mesh in the vicinity of the peripheral electrode of the mesh-shaped metal conductive layer is larger than the line width of other areas in the band-shaped area having a width within 3 to 50 mm from the connected peripheral electrode. Moreover, it is preferable that the line width of the mesh in the vicinity of the peripheral electrode of the mesh-shaped metal conductive layer is larger as it is closer to the peripheral electrode to be connected, and is continuously increased. Thereby, it is possible to minimize the influence on the light transmission and visibility while sufficiently preventing disconnection and breakage at the connection portion between the mesh-shaped metal conductive layer and the peripheral electrode.

また、前記周辺電極が、矩形状に設けられたメッシュ状金属導電層の4辺のうち、対向する2辺又は4辺に隣接して設けられていることが好ましい。周辺電極は少なくとも1辺に隣接して設けることができるものであるが、電気的接続の観点から十分な効果を得るためには少なくとも2辺に隣接して設けることが好ましく、矩形の4辺全てに隣接して設けることがさらに好ましい。ただし、光透過性電磁波シールド性窓材を長尺状フィルムにおいて連続的に製造する場合には、長尺フィルムの進行方向側部に相当する2辺に隣接して周辺電極を設けることが有利である。   Moreover, it is preferable that the said peripheral electrode is provided adjacent to 2 sides or 4 sides which oppose among 4 sides of the mesh-shaped metal conductive layer provided in the rectangular shape. The peripheral electrode can be provided adjacent to at least one side. However, in order to obtain a sufficient effect from the viewpoint of electrical connection, the peripheral electrode is preferably provided adjacent to at least two sides, and all four sides of the rectangle are provided. More preferably, it is provided adjacent to. However, when the light-transmitting electromagnetic wave shielding window material is continuously produced in the long film, it is advantageous to provide a peripheral electrode adjacent to two sides corresponding to the side in the traveling direction of the long film. is there.

また、前記メッシュ状金属導電層の周辺電極近傍のメッシュの線幅が、他の領域の線幅と比較して2〜10倍の範囲にある線幅で周辺電極に接続していることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the mesh line width in the vicinity of the peripheral electrode of the mesh-shaped metal conductive layer is connected to the peripheral electrode with a line width in the range of 2 to 10 times that of the other area. .

さらに、本発明の好適な実施の一態様において、前記周辺電極との接続部分において、メッシュの空隙(メッシュの目)が、接続部分以外でのメッシュの空隙と異なった、一部欠損した平面図形(特に多角形)の形状の空隙となることなく、金属導電層として形成されていることが、後述の理由から好ましい。   Furthermore, in a preferred embodiment of the present invention, a partially missing planar figure in which a mesh gap (mesh eye) is different from a mesh gap in a portion other than the connection portion in a connection portion with the peripheral electrode. It is preferable that it is formed as a metal conductive layer without forming a void having a (particularly polygonal) shape for the reasons described later.

すなわち、従来のメッシュ状金属層では、メッシュ状パターンの繰り返しがフィルム面の端や周辺電極との境界に至る位置で、繰り返しの単位となっているメッシュの空隙(メッシュの目)にあたる平面図形(特に多角形)が途中で切断されて繰り返しパターンが終了していた。しかし、このように端部に空隙があっても製品の光透過性や視認性の改善にはさほど寄与しないばかりか、この部分の印刷にはムラやかすれ、特ににじみが発生しやすく、その部分がメッシュ状金属導電層の周辺電極との接続部分周辺での断線や破断となる。そこで、この途中で切断されたかたちで残る空隙(メッシュの目)、一部欠損した平面図形(特に多角形)のかたちとなる空隙を、空隙として設けることなく金属導電層の一部として形成することで、断線や破断が容易に生じやすい状態となることを防止し、さらに空隙とせずに金属導電層として形成することで、結果としてメッシュ状の線幅を大きくするという本発明の構成を実現して、印刷時のムラ、かすれ、にじみの発生を抑制し、メッシュ状金属導電層の周辺電極との接続部分周辺での断線や破断の発生を極めて低減したものである。また、上記の理由から、欠損した平面図形(特に多角形)は、全く無いことが好ましいが、実質的に無いと言える程度にまで低減されれば、それに応じた効果がもたらされる。欠損した平面図形の数は、好ましくは周辺電極との接続部分の長さ1cmあたり5個以下、特に好ましくは3個以下である。   In other words, in a conventional mesh metal layer, a planar figure corresponding to a mesh gap (mesh eye) that is a unit of repetition at a position where the repetition of the mesh pattern reaches the boundary with the edge of the film surface or the peripheral electrode ( In particular, the polygon) was cut in the middle and the repeated pattern was finished. However, even if there is a gap at the end in this way, not only does it not greatly contribute to the improvement of the light transmission and visibility of the product, but the printing of this part is also uneven and faint, especially blurring is likely to occur. However, disconnection or breakage occurs in the vicinity of the connection portion between the mesh-shaped metal conductive layer and the peripheral electrode. Therefore, voids (mesh eyes) that remain in the form of being cut in the middle, and voids that are part of the missing flat figure (particularly polygons) are formed as part of the metal conductive layer without providing voids. Therefore, it is possible to prevent the breakage and breakage from being easily generated, and to form the metal conductive layer without forming a void, thereby realizing the configuration of the present invention that increases the mesh-like line width as a result. Thus, the occurrence of unevenness, blurring and blurring during printing is suppressed, and the occurrence of disconnection and breakage around the connection portion between the mesh-like metal conductive layer and the peripheral electrode is extremely reduced. Further, for the reasons described above, it is preferable that there is no missing plane figure (particularly polygon), but if it is reduced to a level where it can be said that it is substantially absent, an effect corresponding thereto is brought about. The number of plane figures that are missing is preferably 5 or less, particularly preferably 3 or less, per 1 cm length of the connection portion with the peripheral electrode.

また、前記メッシュの空隙(メッシュの目)の平面図形は、多角形であることが好ましく、特に略菱形又は略正方形であることが、メッシュ状パターンの形成に好ましい。また、この平面図形の形状は、本発明に従ってメッシュの線幅を変化させた場合には、その結果として変形した形状となることは当然である。   In addition, the plane figure of the mesh voids (mesh eyes) is preferably a polygon, and particularly preferably approximately rhombus or approximately square for forming a mesh pattern. In addition, when the line width of the mesh is changed according to the present invention, the shape of the plane figure naturally becomes a deformed shape as a result.

また、前記金属導電層が、導電性の金属及び/又は金属酸化物を含んでいることが好ましく、特に、銅及び/又は銀を含んでいることが、導電性等の点から好ましい。   The metal conductive layer preferably contains a conductive metal and / or metal oxide, and particularly preferably contains copper and / or silver from the viewpoint of conductivity.

また、前記透明基材が、樹脂フィルムであることが可とう性等の観点から好ましく、特に、PETフィルムであることが、光透過性等の観点から好ましい。さらに、前記透明基材が、板ガラスであることが、自立性及び硬度等の観点からは好ましい。   The transparent substrate is preferably a resin film from the viewpoint of flexibility and the like, and particularly preferably a PET film from the viewpoint of light transmittance and the like. Furthermore, it is preferable that the transparent substrate is a plate glass from the standpoint of self-supporting property and hardness.

さらに、本発明は、前記光透過性電磁波シールド性窓材を含むディスプレイ用フィルタにもある。   Furthermore, the present invention also resides in a display filter including the light transmissive electromagnetic wave shielding window material.

さらに、本発明は、前記光透過性電磁波シールド性窓材の製造に適した以下の製造方法にもある。   Furthermore, this invention exists also in the following manufacturing methods suitable for manufacture of the said light-transmitting electromagnetic wave shielding window material.

すなわち、本発明者等は、矩形の透明基材と、該透明基材上の少なくとも中央部に矩形状に設けられたメッシュ状金属導電層、及び該メッシュ状金属導電層の少なくとも1辺に隣接して該透明基材上に設けられ且つ該メッシュ状金属導電層に接続した周辺電極、とを含む光透過性電磁波シールド性窓材を、以下の工程:
前記透明基材上の少なくとも中央部に矩形状にメッシュ状パターンのネガ像を、
該ネガ像の矩形状領域の少なくとも1辺に隣接して、周辺電極の形成用の非印刷領域を残し、
前記ネガ像の矩形状の領域内の非印刷領域に隣接する近傍領域において、前記各メッシュに対応する多角形が、ネガ像の領域内の他の領域よりも面積が小さな面積の多角形となるように、
溶媒可溶性のインクを用いて印刷することにより、前記ネガパターン印刷層を形成する工程、
前記ネガパターン印刷層が形成された透明基材の面上に、該溶媒に対して不溶な金属導電層を形成する工程、
前記金属導電層が形成された透明基材の表面を、ネガパターン印刷層の溶解が可能な溶媒を用いて洗浄することにより、ネガパターン印刷層及び該ネガパターン印刷層上の金属導電層を除去してメッシュ状金属導電層を形成する工程、
を含むことを特徴とする方法により製造する方法(可溶性ドット形成法)により、上述した本発明の目的が、達成されることを見いだした。
That is, the present inventors have a rectangular transparent substrate, a mesh-shaped metal conductive layer provided in a rectangular shape at least on the transparent substrate, and adjacent to at least one side of the mesh-shaped metal conductive layer A light-transmitting electromagnetic wave shielding window material comprising a peripheral electrode provided on the transparent substrate and connected to the mesh-like metal conductive layer, and the following steps:
A negative image of a mesh pattern in a rectangular shape at least in the center on the transparent substrate,
Adjacent to at least one side of the rectangular area of the negative image, leaving a non-printing area for forming the peripheral electrode,
In the neighboring region adjacent to the non-printing region in the rectangular region of the negative image, the polygon corresponding to each mesh is a polygon having an area smaller than the other regions in the negative image region. like,
Forming the negative pattern printing layer by printing using a solvent-soluble ink;
Forming a metal conductive layer insoluble in the solvent on the surface of the transparent substrate on which the negative pattern printing layer is formed;
The surface of the transparent substrate on which the metal conductive layer is formed is washed with a solvent capable of dissolving the negative pattern print layer, thereby removing the negative pattern print layer and the metal conductive layer on the negative pattern print layer. And forming a mesh-like metal conductive layer,
It has been found that the object of the present invention described above can be achieved by a method (soluble dot forming method) produced by a method characterized in that

この製造方法により、メッシュ状金属導電層の周辺電極近傍のメッシュの線幅を、他の領域の線幅よりも大きくすることが容易に可能となり、精細なメッシュ構造を有する光透過性電磁波シールド性窓材を、メッシュ状金属導電層の周辺電極との接続部分での印刷時の不良とそれを原因とする断線や破断の発生を極小としつつ、製造することができる。   This manufacturing method makes it easy to make the mesh line width in the vicinity of the peripheral electrode of the mesh-like metal conductive layer larger than the line width of other regions, and has a light-transmitting electromagnetic wave shielding property having a fine mesh structure. The window material can be manufactured while minimizing the occurrence of defects at the time of printing at the connection portion between the mesh-like metal conductive layer and the peripheral electrode, and the occurrence of disconnection or breakage caused by the defect.

また、各メッシュに対応する多角形が、前記非印刷領域に接触する位置では印刷されないことが好ましい。これにより、メッシュ状金属導電層と周辺電極との接続部分で、途中で切断されたかたちで残る空隙、一部欠損した多角形の形となる空隙を、空隙として設けることなく金属導電層の一部として形成することができ、それによってメッシュ状金属導電層の周辺電極との接続部分周辺で印刷時の不良とそれを原因とする断線や破断が容易に生じやすい状態となることを防止できる。   Moreover, it is preferable that the polygon corresponding to each mesh is not printed in the position which contacts the said non-printing area | region. As a result, at the connecting portion between the mesh-shaped metal conductive layer and the peripheral electrode, a gap left in the middle of cutting or a void having a partially missing polygonal shape is provided without providing a gap as a gap. As a result, it is possible to prevent a failure during printing and a disconnection or breakage from being easily caused near the connection portion between the mesh-like metal conductive layer and the peripheral electrode.

また、前記ネガパターン印刷層が形成された透明基材の面上に、溶媒に対して不溶な金属導電層を形成する工程が、金属及び/又は金属化合物の気相成膜法により行われることが、層厚の制御や層形成速度等の観点から好ましい。   Further, the step of forming a metal conductive layer insoluble in the solvent on the surface of the transparent substrate on which the negative pattern printing layer is formed is performed by a vapor deposition method of metal and / or metal compound. Is preferable from the viewpoints of control of layer thickness, layer formation speed, and the like.

さらに、本発明者等は、矩形の透明基材と、該透明基材上の中央部に矩形状に設けられたメッシュ状金属導電層、及び該メッシュ状金属導電層の少なくとも1辺に隣接して該透明基材上に設けられ且つ該メッシュ状金属導電層に接続した周辺電極、とを含む光透過性電磁波シールド性窓材を、以下の工程:
前記透明基材上の少なくとも中央部に矩形状の領域にメッシュ状パターンのポジ像を設けるように、
該メッシュ状パターンのポジ像の領域の少なくとも1辺に隣接して、メッシュの線と接続し、前記の辺に沿った帯状の周辺電極用パターンを設けるように、
前記メッシュ状パターンの像の領域内の周辺電極用パターン近傍のメッシュの線が、メッシュ状パターンの像の領域内の他の部分よりも、大きな線幅の線となるように、
導電性インクを用いて印刷することにより、導電性インク層を形成する工程、
該導電性インク層を乾燥処理及び/又は焼結処理することにより、メッシュ状パターンの像の導電性インク層からはメッシュ状金属導電層を、周辺電極用パターン上の導電性インク層からは周辺電極を、形成する工程、
を含むことを特徴とする方法により製造する方法(ポジパターン印刷法)によって、上述した本発明の目的が、達成されることを見いだした。
Furthermore, the present inventors are adjacent to at least one side of a rectangular transparent base material, a mesh-shaped metal conductive layer provided in a rectangular shape at the center of the transparent base material, and the mesh-shaped metal conductive layer. And a peripheral electrode provided on the transparent base material and connected to the mesh-like metal conductive layer, a light-transmitting electromagnetic wave shielding window material comprising the following steps:
In order to provide a positive image of a mesh pattern in a rectangular region at least in the central part on the transparent substrate,
Adjacent to at least one side of the positive image region of the mesh-like pattern, connected to a mesh line, and provided with a band-like peripheral electrode pattern along the side,
The mesh line in the vicinity of the peripheral electrode pattern in the mesh pattern image region is a line having a larger line width than other portions in the mesh pattern image region.
Forming a conductive ink layer by printing using a conductive ink;
By drying and / or sintering the conductive ink layer, the mesh-like metal conductive layer is removed from the conductive ink layer of the mesh pattern image, and the conductive ink layer on the peripheral electrode pattern is peripheral. Forming an electrode;
It has been found that the object of the present invention described above can be achieved by a method (positive pattern printing method) produced by a method characterized by comprising

この製造方法により、メッシュ状金属導電層の周辺電極近傍のメッシュの線幅を、他の領域の線幅よりも大きくすることが容易に可能となり、精細なメッシュ構造を有する光透過性電磁波シールド性窓材を、メッシュ状金属導電層と周辺電極との接続部分での断線や破断の発生を極小としつつ、製造することができる。   This manufacturing method makes it easy to make the mesh line width in the vicinity of the peripheral electrode of the mesh-like metal conductive layer larger than the line width of other regions, and has a light-transmitting electromagnetic wave shielding property having a fine mesh structure. The window material can be manufactured while minimizing the occurrence of disconnection or breakage at the connecting portion between the mesh-like metal conductive layer and the peripheral electrode.

また、前記導電性インク層を形成する工程において、
前記周辺電極用パターン近傍において、周辺電極用パターンと接触するメッシュの空隙を設けることなく導電性インクを形成することにより、メッシュ状金属導電層と周辺電極との接続部分で、途中で切断されたかたちで残る空隙(メッシュの目)、一部欠損した平面図形(特に多角形)のかたちとなる空隙を、空隙として設けることなく金属導電層の一部として形成することができ、それによってメッシュ状金属導電層と周辺電極との接続部分で断線や破断が容易に生じやすい状態となることを防止できる。
In the step of forming the conductive ink layer,
In the vicinity of the peripheral electrode pattern, the conductive ink was formed without providing a mesh gap in contact with the peripheral electrode pattern, so that the connection was made between the mesh-shaped metal conductive layer and the peripheral electrode. Voids that remain in the form (mesh eyes) and voids that are partly missing planar figures (especially polygons) can be formed as part of the metal conductive layer without providing voids. It is possible to prevent disconnection or breakage from being easily generated at the connection portion between the metal conductive layer and the peripheral electrode.

さらに、本発明は、上述の製造方法により得られる光透過性電磁波シールド性窓材にもある。また、本発明は、該光透過性電磁波シールド性窓材を含むディスプレイ用フィルタにもある。   Furthermore, this invention exists also in the light transmissive electromagnetic wave shielding window material obtained by the above-mentioned manufacturing method. Moreover, this invention exists also in the filter for a display containing this light transmissive electromagnetic wave shielding window material.

本発明の光透過性電磁波シールド性窓材は、非常に精細なメッシュ状金属導電層を確保し、且つ、メッシュ状金属導電層と周囲電極との接続部分で、印刷時のムラ、かすれ、にじみ等が極めて生じにくくなっているために、それによる断線や破断の発生が最小限に抑制されている。そのために断線の発生による製品の歩留まりの低下が回避され、生産性に優れている。また、生産工程におけるその後の電気メッキ処理等において、断線や微少な破断の発生箇所付近に局所的に高電圧がかかることによりさらに不具合を生じるということもない。また、外見からは識別し難い微少な破断も極めて低減されるために、周辺電極とメッシュ状金属層との接続の抵抗値を増大させることなく、筐体との導通確保ができる。そのため本発明の光透過性電磁波シールド性窓材を使用すれば、ディスプレイフィルタ等の最終製品の電磁波シールド性を、光透過性と両立しつつ、高い水準に維持することができる。   The light-transmitting electromagnetic wave shielding window material of the present invention secures a very fine mesh-shaped metal conductive layer, and at the connecting portion between the mesh-shaped metal conductive layer and the surrounding electrode, printing unevenness, blurring, blurring. Therefore, the occurrence of disconnection or breakage is minimized. For this reason, a decrease in product yield due to the occurrence of disconnection is avoided, and productivity is excellent. Further, in the subsequent electroplating process or the like in the production process, there is no further problem caused by applying a high voltage locally in the vicinity of the location where disconnection or slight breakage occurs. In addition, since minute breaks that are difficult to identify from the outside are extremely reduced, it is possible to ensure conduction with the casing without increasing the resistance value of the connection between the peripheral electrode and the mesh metal layer. Therefore, if the light-transmitting electromagnetic wave shielding window material of the present invention is used, the electromagnetic wave shielding property of the final product such as a display filter can be maintained at a high level while being compatible with the light transmitting property.

本発明の光透過性電磁波シールド性窓材は、光透過性と電磁波シールド性を両立し、且つ、生産性に優れたものであり、プラズマディスプレイパネル(PDP)前面フィルタ用として特に好適な光透過性電磁波シールド性窓材であり、さらに、光透過性と電磁波シールド性を良好な生産性のもとに達成していることから、他のディスプレイ用のフィルタ用としても好適な光透過性電磁波シールド性窓材である。   The light transmissive electromagnetic wave shielding window material of the present invention has both light transmissive properties and electromagnetic wave shielding properties, and is excellent in productivity, and is particularly suitable for a plasma display panel (PDP) front filter. A light-transmitting electromagnetic wave shield that is suitable for filters for other displays because it is a transparent electromagnetic wave-shielding window material and has achieved light transmission and electromagnetic wave shielding properties with good productivity. Window material.

そして、上記光透過性電磁波シールド性窓材を使用して得られる本発明のディスプレイ用フィルタは、光透過性と電磁波シールド性を両立し、且つ、生産性に優れたものとなっている。   The display filter of the present invention obtained by using the above-described light transmissive electromagnetic wave shielding window material has both light transmittance and electromagnetic wave shielding properties and is excellent in productivity.

さらに、電磁波の影響を避けることが求められる用途において広く使用可能な光透過性電磁波シールド性窓材であり、例えば精密機器等に設けられた表示窓や病院や研究室等の窓材等の用途においても、好適に使用可能で同様の優位性を有する新規な光透過性電磁波シールド性窓材である。   Furthermore, it is a light-transmitting electromagnetic wave shielding window material that can be widely used in applications that are required to avoid the influence of electromagnetic waves, such as display windows provided in precision equipment, etc., and window materials in hospitals and laboratories, etc. Is a novel light-transmitting electromagnetic wave shielding window material that can be suitably used and has similar advantages.

また、本発明の製造方法を使用すれば、従来の製造工程を大幅に変える必要なく、上記光透過性電磁波シールド性窓材を容易に製造することができる。   Moreover, if the manufacturing method of this invention is used, the said light-transmitting electromagnetic wave shielding window material can be easily manufactured, without having to change the conventional manufacturing process significantly.

本発明の光透過性電磁波シールド性窓材、及び製造方法について、以下に詳細に説明する。   The light-transmitting electromagnetic wave shielding window material and the manufacturing method of the present invention will be described in detail below.

本発明の光透過性電磁波シールド性窓材の典型的な一例を、図1を使用して説明する。図1は、本発明の光透過性電磁波シールド性窓材の典型的な一例を、上方から示した説明図である。図1の光透過性電磁波シールド性窓材もまた、図6と同様に、透明フィルム上にメッシュ状金属導電層及びこれと隣接して周囲電極が設けられている。図1において、光透過性電磁波シールド性窓材10は、矩形状に設けられたメッシュ状金属導電層領域12と、その4辺に隣接して囲む周辺電極11からなっている。メッシュ状金属導電層領域12と周辺電極11とが隣接した領域の部分拡大図が、円内に示されている。メッシュ状金属導電層12aは、周辺電極の近傍では、他のメッシュ状金属導電層領域での線幅よりも大きな線幅となり、隣接する周辺電極11へと融合して接続している。メッシュの空隙(メッシュの目)12bは、線幅が大きくなったことに対応して、より小さな空隙となっている。周辺電極と接続する部分では、周辺電極によってあたかも各メッシュの多角形が途中で切断されたような形状に欠損した多角形の空隙(欠損空隙)12cが存在している。   A typical example of the light-transmitting electromagnetic wave shielding window material of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is an explanatory view showing a typical example of the light-transmitting electromagnetic wave shielding window material of the present invention from above. The light-transmitting electromagnetic wave shielding window material of FIG. 1 is also provided with a mesh-like metal conductive layer and a peripheral electrode adjacent thereto on a transparent film, as in FIG. In FIG. 1, a light-transmitting electromagnetic wave shielding window material 10 is composed of a mesh-shaped metal conductive layer region 12 provided in a rectangular shape and a peripheral electrode 11 surrounding adjacent four sides thereof. A partial enlarged view of a region where the mesh-shaped metal conductive layer region 12 and the peripheral electrode 11 are adjacent to each other is shown in a circle. The mesh-shaped metal conductive layer 12a has a line width larger than that in other mesh-shaped metal conductive layer regions in the vicinity of the peripheral electrode, and is fused and connected to the adjacent peripheral electrode 11. The mesh gap (mesh eye) 12b is a smaller gap corresponding to the increase in the line width. In the portion connected to the peripheral electrode, there is a polygonal gap (defect gap) 12c that is missing as if the polygon of each mesh was cut in the middle by the peripheral electrode.

このような構造を有する本発明の光透過性電磁波シールド性窓材は、メッシュ状金属導電層の周辺電極との接続部分周辺の線幅が増大し、また、印刷不良の原因となりやすい欠損空隙もなくなるため、印刷時にかすれやにじみといった不良の発生が最小限に抑制され、それを原因とした断線や破断を生じることが極小になっている。一方で、線幅の増大は窓材の周辺部分に止まるために、光透過性と電磁波シールド性に悪影響を及ぼすことがない。特に、最終製品としてディスプレイ用フィルタを製造した場合には、この周辺部はディスプレイ表示に影響のない領域に設けることが可能である。   The light-transmitting electromagnetic wave shielding window material of the present invention having such a structure increases the line width around the connection portion of the mesh-shaped metal conductive layer with the peripheral electrode, and also has a void gap that is likely to cause printing defects. Therefore, the occurrence of defects such as blurring and blurring during printing is minimized, and the occurrence of disconnection or breakage due to the occurrence is minimized. On the other hand, since the increase in the line width stops at the peripheral portion of the window material, it does not adversely affect the light transmission property and the electromagnetic wave shielding property. In particular, when a display filter is manufactured as a final product, the peripheral portion can be provided in a region that does not affect display display.

メッシュ状金属導電層の周辺電極近傍のメッシュの線幅は、接続する周辺電極から3〜50mm、特に5〜20mm以内の幅の帯状領域において、他の領域の線幅よりも大きいことが好ましい。さらに、メッシュ状金属導電層の周辺電極近傍のメッシュの線幅が、他の領域の線幅と比較して2〜10倍、特に2〜4倍の範囲にある線幅で周辺電極に接続していることが好ましい。矩形状の領域の中央部でのメッシュ状金属導電層の平均線幅としては、一般に5.0〜50.0μm、好ましくは5.0〜40.0μmであり、特に好ましくは、10.0〜30.0μmである。好適なメッシュ状金属導電層の周辺電極近傍のメッシュの線幅の値は、中央部での平均線幅の値によって異なるが、これより大きい線幅であって、一般に10〜500μm、好ましくは20〜300μm、特に好ましくは30〜100μmの範囲にある。また、メッシュ状金属導電層の周辺電極近傍のメッシュの線幅が、接続する周辺電極に近づくほど大きいこと、さらに連続的に大きくなっていることが好ましい。これによって、メッシュ状金属導電層と周辺電極との接続部分での断線や破断を十分に防止しつつ、光透過性や視認性への影響を最小限に抑えることができる。   It is preferable that the line width of the mesh in the vicinity of the peripheral electrode of the mesh-shaped metal conductive layer is larger than the line width of other regions in the band-like region having a width of 3 to 50 mm, particularly 5 to 20 mm from the peripheral electrode to be connected. Further, the mesh line width in the vicinity of the peripheral electrode of the mesh-like metal conductive layer is connected to the peripheral electrode with a line width in the range of 2 to 10 times, particularly 2 to 4 times that of other regions. It is preferable. The average line width of the mesh-like metal conductive layer at the center of the rectangular region is generally 5.0 to 50.0 μm, preferably 5.0 to 40.0 μm, and particularly preferably 10.0 to 30.0 μm. The value of the line width of the mesh in the vicinity of the peripheral electrode of a suitable mesh-like metal conductive layer varies depending on the value of the average line width at the center, but is larger than this, generally 10 to 500 μm, preferably 20 ˜300 μm, particularly preferably in the range of 30 to 100 μm. Moreover, it is preferable that the line width of the mesh in the vicinity of the peripheral electrode of the mesh-shaped metal conductive layer is larger as it is closer to the peripheral electrode to be connected, and is continuously increased. Thereby, it is possible to minimize the influence on the light transmission and visibility while sufficiently preventing disconnection and breakage at the connection portion between the mesh-shaped metal conductive layer and the peripheral electrode.

また、周辺電極は、矩形状に設けられたメッシュ状金属導電層の4辺全てに隣接して設けられていることが好ましいが、対向する2辺に設けることにより、一定の効果を得ることができる。少なくとも1辺に隣接して設けることによっても、一応の効果を得ることができる。このように、周辺電極を、矩形状に設けられたメッシュ状金属導電層の対向する2辺に隣接して設けた一例を、図2に例示する。図2において、光透過性電磁波シールド性窓材20は、矩形状に設けられたメッシュ状金属導電層領域22と、その対向する2辺に隣接する周辺電極21からなっている。この周辺電極は、連続搬送される長尺フィルムにおいては長尺方向に設けられている。メッシュ状金属導電層領域22と周辺電極21とが隣接した領域の部分拡大図が、円内に示されている。メッシュ状金属導電層22aは、周辺電極の近傍では、他のメッシュ状金属導電層領域での線幅よりも大きな線幅となり、隣接する周辺電極21へと融合して接続している。メッシュの空隙22bは、線幅が大きくなったことに対応して、より小さな空隙となっている。周辺電極と接続する部分では、図1と同様に、周辺電極によってあたかも各メッシュの多角形が途中で切断されたような形状に欠損した多角形の空隙(欠損空隙)22cが存在している。   In addition, the peripheral electrode is preferably provided adjacent to all four sides of the mesh-shaped metal conductive layer provided in a rectangular shape, but a certain effect can be obtained by providing the peripheral electrode on two opposite sides. it can. A temporary effect can be obtained also by providing it adjacent to at least one side. FIG. 2 illustrates an example in which the peripheral electrode is provided adjacent to two opposing sides of the mesh-shaped metal conductive layer provided in a rectangular shape as described above. In FIG. 2, a light-transmitting electromagnetic wave shielding window material 20 includes a mesh-shaped metal conductive layer region 22 provided in a rectangular shape and peripheral electrodes 21 adjacent to the two opposing sides. This peripheral electrode is provided in the longitudinal direction in a continuous film that is continuously conveyed. A partial enlarged view of a region where the mesh-shaped metal conductive layer region 22 and the peripheral electrode 21 are adjacent is shown in a circle. The mesh-shaped metal conductive layer 22a has a line width larger than that in other mesh-shaped metal conductive layer regions in the vicinity of the peripheral electrode, and is fused and connected to the adjacent peripheral electrode 21. The mesh gap 22b is a smaller gap corresponding to the increased line width. In the portion connected to the peripheral electrode, as in FIG. 1, there is a polygonal gap (deletion gap) 22c that is missing as if the polygon of each mesh was cut in the middle by the peripheral electrode.

本発明の光透過性電磁波シールド性窓材は、シート状フィルムの枚葉式処理によっても、長尺状フィルムの連続式処理を介しても製造することができる。シート状フィルムの枚葉式処理においては、周辺電極を、矩形状に設けられたメッシュ状金属導電層の4辺全てに隣接して設けることが、周辺電極設置の効果の観点から好ましい。長尺状フィルムの連続式処理を介する場合には、周辺電極を、矩形状に設けられたメッシュ状金属導電層の対向する2辺に隣接して設けること、且つ該2辺は連続搬送される長尺フィルムの進行方向に対して両側部に帯状に連続する領域に対応するように設けることが、生産性向上と周辺電極設置の効果のバランスの観点から好ましい。   The light-transmitting electromagnetic wave shielding window material of the present invention can be produced either by single-sheet processing of a sheet-like film or through continuous processing of a long film. In the single wafer processing of the sheet-like film, it is preferable from the viewpoint of the effect of installing the peripheral electrode that the peripheral electrode is provided adjacent to all four sides of the mesh-shaped metal conductive layer provided in a rectangular shape. When the continuous processing of the long film is performed, the peripheral electrode is provided adjacent to two opposing sides of the mesh-like metal conductive layer provided in a rectangular shape, and the two sides are continuously conveyed. It is preferable to provide it so that it may correspond to the belt | band | zone continuous area | region on both sides with respect to the advancing direction of a long film from a viewpoint of the balance of the productivity improvement and the effect of peripheral electrode installation.

次に、本発明の光透過性電磁波シールド性窓材の別な典型的な一例を、図3を使用して説明する。図3は、図1及び図2と同様に、上方から示した説明図である。図3の光透過性電磁波シールド性窓材もまた、透明フィルム上にメッシュ状金属導電層及びこれと隣接して周囲電極が設けられている。   Next, another typical example of the light transmissive electromagnetic wave shielding window material of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 3 is an explanatory view shown from above, similarly to FIGS. 1 and 2. The light-transmitting electromagnetic wave shielding window material shown in FIG. 3 is also provided with a mesh-like metal conductive layer and a peripheral electrode adjacent thereto on a transparent film.

光透過性電磁波シールド性窓材30は、矩形状に設けられたメッシュ状金属導電層領域32と、その4辺に隣接して囲む周辺電極31からなっている。メッシュ状金属導電層領域32と周辺電極31とが隣接した領域の部分拡大図が、円内に示されている。メッシュ状金属導電層32aは、隣接する周辺電極31へと融合して接続している。メッシュの空隙32bは略正方形の形状であり、メッシュの空隙(メッシュの目)としては、この略正方形の形状の空隙のみが存在している。周辺電極61と隣接する領域において従来形状のメッシュでは存在していた、略正方形の形状が途中で切断されたような形の欠損した空隙(欠損空隙)は存在せず、相当する部分は金属導電層として形成されている。   The light-transmitting electromagnetic wave shielding window material 30 includes a mesh-shaped metal conductive layer region 32 provided in a rectangular shape, and a peripheral electrode 31 surrounding and adjoining four sides thereof. A partial enlarged view of a region where the mesh-shaped metal conductive layer region 32 and the peripheral electrode 31 are adjacent to each other is shown in a circle. The mesh-shaped metal conductive layer 32 a is fused and connected to the adjacent peripheral electrode 31. The mesh gap 32b has a substantially square shape, and only the substantially square-shaped gap exists as the mesh gap (mesh eyes). In the region adjacent to the peripheral electrode 61, there is no void (defect void) in the shape of a substantially square shape that was cut in the middle, which was present in the mesh of the conventional shape, and the corresponding portion is a metal conductive It is formed as a layer.

このような構造を有する本発明の光透過性電磁波シールド性窓材では、メッシュ状金属導電層と周辺電極との接続部分は、欠損空隙を金属導電層として形成することによって、印刷時に破断や断線を生じることが最小限となっている。一方で、空隙の消失は窓材の周辺部分に止まるために、光透過性と電磁波シールド性に悪影響を及ぼすことがない。図3の光透過性電磁波シールド性窓材もまた、最終製品としてディスプレイ用フィルタを製造した場合には、この周辺部はディスプレイ表示に影響のない領域に設けることが可能である。   In the light-transmitting electromagnetic wave shielding window material of the present invention having such a structure, the connecting portion between the mesh-like metal conductive layer and the peripheral electrode is formed as a metal conductive layer with a void, thereby breaking or breaking during printing. Is minimal. On the other hand, since the disappearance of the voids stops at the peripheral portion of the window material, it does not adversely affect the light transmission property and the electromagnetic wave shielding property. The light-transmitting electromagnetic wave shielding window material shown in FIG. 3 can also be provided in a region that does not affect display display when a display filter is manufactured as a final product.

このように欠損空隙が除去されたメッシュの形状は、周辺電極との接続部分においてメッシュ状金属導電層の線幅を極端に大きくすることで、接続部分での断線や破断を十分に防止したものとも見ることもできる。しかし、図3を用いて説明した欠損空隙を除去した態様と、図1を用いて説明した一定範囲の中で線幅を大きくした態様とは、組み合わせて同時に実現することができ、これによって本発明のさらに好適な実施が可能である。   The shape of the mesh from which the voids are removed in this way is the one in which the wire width of the mesh-like metal conductive layer is extremely increased at the connection portion with the peripheral electrode, thereby sufficiently preventing the disconnection and breakage at the connection portion. Can also be seen. However, the aspect in which the voids described with reference to FIG. 3 are removed and the aspect in which the line width is increased within the certain range described with reference to FIG. 1 can be realized simultaneously by combining them. Further preferred implementations of the invention are possible.

次に、上述の光透過性電磁波シールド性窓材の製造に適した本発明の製造方法を説明する。本発明の製造方法は、精緻な線幅の制御が求められる光透過性電磁波シールド性窓材の製造に適した製造方法である。本発明の製造方法は、例えば以下のように行うことができる。以下に本発明の製造方法の例を図を用いて説明する。   Next, the manufacturing method of the present invention suitable for manufacturing the above-described light-transmitting electromagnetic wave shielding window material will be described. The manufacturing method of the present invention is a manufacturing method suitable for manufacturing a light-transmitting electromagnetic wave shielding window material that requires precise line width control. The production method of the present invention can be performed, for example, as follows. Hereinafter, an example of the production method of the present invention will be described with reference to the drawings.

図4は、可溶性ドット形成法による本発明の製造方法の流れの一例を光透過性電磁波シールド性窓材の断面を示しつつ説明した説明図である。透明基材41上に、溶媒可溶性のインクで印刷してメッシュのネガ像であるネガパターン印刷層42を形成する(図4中の矢印で示された工程4a)。ネガパターン印刷層42を形成する場合には、図1の上面図から把握されるように、透明基材上に矩形状のネガパターン印刷領域を、略正方形の形状の繰り返しの印刷により設け、透明基材上にネガパターン印刷領域の4辺に隣接して非印刷領域を周辺電極用パターンとして設け、周辺電極用パターンの近傍の略正方形の形状の印刷を、ネガパターン印刷領域の他の部分よりも小さく印刷して設ける。このようにネガパターン印刷層42が形成された透明基材上に、溶媒に対して不溶な金属導電層43を形成する(工程4b)。さらに溶媒可溶性のインクによるネガパターン印刷層42を洗浄除去することで、同時にその上の金属導電層を除去してメッシュのポジ像の金属導電層(メッシュ状金属導電層)44を得る(工程4c)。   FIG. 4 is an explanatory view showing an example of the flow of the manufacturing method of the present invention by the soluble dot forming method while showing a cross section of the light transmissive electromagnetic wave shielding window material. On the transparent substrate 41, printing is performed with a solvent-soluble ink to form a negative pattern printing layer 42 which is a negative image of the mesh (step 4a indicated by the arrow in FIG. 4). When forming the negative pattern printing layer 42, as can be seen from the top view of FIG. 1, a rectangular negative pattern printing region is provided on the transparent substrate by repeated printing in a substantially square shape, and transparent A non-printing area is provided as a peripheral electrode pattern adjacent to the four sides of the negative pattern printing area on the substrate, and printing in a substantially square shape in the vicinity of the peripheral electrode pattern is performed from other parts of the negative pattern printing area. Is also provided with a small print. A metal conductive layer 43 that is insoluble in the solvent is formed on the transparent substrate on which the negative pattern printing layer 42 is thus formed (step 4b). Further, the negative pattern printing layer 42 with solvent-soluble ink is washed and removed, and at the same time, the metal conductive layer thereon is removed to obtain a metal conductive layer (mesh-like metal conductive layer) 44 of a positive image of the mesh (step 4c). ).

この製造方法により、メッシュ状金属導電層の周辺電極近傍のメッシュの線幅を、他の領域の線幅よりも大きくすることが容易に可能となる。そして、上述した本発明におけるメッシュの線幅の大きさや分布等についての特徴を容易に実現することができる。   With this manufacturing method, the line width of the mesh in the vicinity of the peripheral electrode of the mesh-like metal conductive layer can be easily made larger than the line width of other regions. And the characteristic about the magnitude | size, distribution, etc. of the mesh line width in this invention mentioned above can be implement | achieved easily.

さらに、この製造方法において、図3から把握されるように、メッシュ状金属導電層と周辺電極との接続部分で、略正方形の形状が途中で切断されたような形状を印刷しないことによって、上述の欠損空隙が除去されたメッシュの形状をも容易に製造することができる。この組み合わせにより、周辺電極との接続部分で断線や破断をより効果的に防止できる。   Furthermore, in this manufacturing method, as can be understood from FIG. 3, the above-described method is achieved by not printing a shape in which a substantially square shape is cut in the middle at the connection portion between the mesh-like metal conductive layer and the peripheral electrode. It is also possible to easily manufacture a mesh shape from which the voids are removed. This combination can more effectively prevent disconnection and breakage at the connection portion with the peripheral electrode.

上記の透明基材の材質としては、透明(「可視光に対して透明」を意味する)であって、工程中の処理に耐えるものあれば特に制限はないが、例えば、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、アクリル樹脂、ポリカーボネート(PC)、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等が挙げられる。これらの中でも、加工時の負荷(熱、溶剤、折り曲げ等)に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等が好ましい。また、自己支持性の基材としては、板ガラスを好適に使用できる。   The material of the transparent substrate is not particularly limited as long as it is transparent (meaning “transparent to visible light”) and can withstand the processing in the process. For example, polyester, polyethylene terephthalate ( PET), polybutylene terephthalate, polymethyl methacrylate (PMMA), acrylic resin, polycarbonate (PC), polystyrene, triacetate resin, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral , Metal ion crosslinked ethylene-methacrylic acid copolymer, polyurethane, cellophane and the like. Among these, polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), etc. are highly resistant to loads during processing (heat, solvent, bending, etc.) and particularly highly transparent. preferable. Moreover, as a self-supporting base material, plate glass can be used suitably.

透明基材の厚みとしては、電磁波シールド性光透過窓材の用途等によっても異なるが、一般的には1μm〜5mm程度が好ましい。   The thickness of the transparent substrate is preferably about 1 μm to 5 mm, although it varies depending on the use of the electromagnetic shielding light transmitting window material.

上記のネガパターン印刷用インクには、溶媒に可溶なネガパターン印刷層(印刷ドット)を形成するように、溶剤に可溶な物質を選択して使用する。従って、ネガパターン印刷用インクは、一般に、後の除去に用いる溶媒との関係で相対的に選択する。例えば、溶媒として水系溶媒を用いる場合には水溶性のインクが用いられ、溶媒として油系溶媒を用いる場合には油溶性のインクが用いられる。溶媒としては、公知の有機溶媒等も挙げられるが、安価で、環境への影響を考慮し、また本発明における防眩用インクとの組み合わせを考慮すると、水が特に好ましい。水としては、通常の水(水道水、蒸留水、イオン交換水等)のほか、酸、アルカリ、界面活性剤等を含んだ水溶液であってもよい。   In the negative pattern printing ink, a solvent-soluble substance is selected and used so as to form a negative pattern printing layer (printing dots) soluble in the solvent. Accordingly, the negative pattern printing ink is generally selected in relation to the solvent used for the subsequent removal. For example, when an aqueous solvent is used as the solvent, a water-soluble ink is used, and when an oil-based solvent is used as the solvent, an oil-soluble ink is used. Examples of the solvent include known organic solvents, but water is particularly preferable in consideration of the low cost, the influence on the environment, and the combination with the anti-glare ink in the present invention. As water, in addition to normal water (tap water, distilled water, ion-exchanged water, etc.), an aqueous solution containing acid, alkali, surfactant and the like may be used.

上記の溶媒が水である場合、水溶性のインクに使う物質としては、水溶性樹脂等が好ましく、特に、良好な水溶性を有する点で、ポリビニルアルコールが好ましい。ポリビニルアルコールは、ネガパターン印刷用インクの溶液全体に対して10〜30質量%の範囲、好ましくは5〜15質量%の範囲にある濃度で含まれることが好ましい。ネガパターン印刷用インクには、所望により、仕上がり状況を確認し易くするために顔料や染料等を混合してもよい。   When the solvent is water, the substance used for the water-soluble ink is preferably a water-soluble resin, and polyvinyl alcohol is particularly preferable in terms of having good water solubility. The polyvinyl alcohol is preferably contained at a concentration in the range of 10 to 30% by mass, preferably in the range of 5 to 15% by mass with respect to the entire negative pattern printing ink solution. If desired, the negative pattern printing ink may be mixed with a pigment, a dye, or the like in order to make it easy to check the finished state.

ネガパターン印刷用インクによるメッシュのネガ像(ドット)の形成法としては、印刷以外の方法によっても、ネガパターン印刷層と同様の層を形成することができる方法であれば、使用することができるが、線幅が小さくかつ開口率の高い導電層等を形成可能な点で、印刷が好ましい。該印刷手法としては、グラビア印刷、スクリーン印刷、インクジェット印刷、静電印刷等が挙げられ、これらの中でも、より導電層等の細線化が可能な点で、グラビア印刷が特に好ましい。尚、「開口率」とは、格子状の防眩層及び導電層における格子の線幅、及び、1インチ幅に存在する格子(線)の数から、計算により求めた値である。   As a method for forming a mesh negative image (dot) using negative pattern printing ink, any method other than printing can be used as long as it can form a layer similar to the negative pattern printing layer. However, printing is preferable because a conductive layer having a small line width and a high aperture ratio can be formed. Examples of the printing method include gravure printing, screen printing, ink jet printing, electrostatic printing, and the like. Among these, gravure printing is particularly preferable in that a thin line such as a conductive layer can be formed. The “aperture ratio” is a value obtained by calculation from the line width of the lattice in the lattice-shaped antiglare layer and the conductive layer and the number of lattices (lines) existing in 1 inch width.

各メッシュのネガ像の形状としては、上述したメッシュの線幅及び空隙(メッシュの目)の形状と大きさ等の条件を満足することができれば、特に制限はなく、上記例示した略正方形のほか、略正三角形、略四角形、略正六角形その他の多角形状や円、楕円等の平面図形によるドット等を挙げることができる。このうち、格子状の導電層が好適に形成され、開口率がより高く格子の線幅がより均一となる点で、略四角形のドット状ものが好ましく、略菱形又は略正方形のドット状が特に好ましい。該メッシュの空隙(印刷ドット)が略四角形の場合、その一辺の長さとしては、100〜500μmの範囲、特に150〜400μmの範囲にあるものが好ましく、ドット間の間隙としては、5〜40μmの範囲、特に10〜30μmの範囲のものが好ましい。より線幅の小さい格子状の導電層等を形成し得る点では、ドット間の間隙は狭いほうが好ましい。そして、メッシュの線幅が周辺電極近傍において、接続する周辺電極から一定の範囲、好ましくは3〜50mm、特に好ましくは5〜20mmの範囲以内の幅の帯状領域において、他の領域の線幅よりも大きいものとなるように、上述の印刷ドット間の間隙を設置することが好適である。さらに、メッシュ状金属導電層の周辺電極近傍のメッシュの線幅が、他の領域の線幅と比較して2〜10倍、特に2〜4倍の範囲にある線幅で周辺電極に接続するように、上述の各メッシュのネガ像(印刷ドット)の大きさ(面積)を小さくして、その間隙を大きくすることが好適である。好適なメッシュ状金属導電層の周辺電極近傍のメッシュの線幅の値は、中央部での平均線幅の値によって異なるが、これより大きい線幅であって、一般に10〜500μm、好ましくは20〜300μm、特に好ましくは30〜100μmの範囲にある。また、メッシュ状金属導電層の周辺電極近傍のメッシュの線幅が、接続する周辺電極に近づくほど大きくなるように、好ましくはさらに連続的に大きくなるように、上述の各メッシュのネガ像(印刷ドット)の大きさ(面積)を小さくして、その間隙を大きくすることが好適である。形成されるネガパターン印刷層(ドット)の厚みとしては、透明基材を金属薄膜の形成から保護し、且つ後に洗浄除去可能な厚みであれば特に制限はないが、0.1〜5μmの範囲にある厚みが好ましい。   The shape of the negative image of each mesh is not particularly limited as long as the conditions such as the line width of the mesh and the shape and size of the gap (mesh eyes) described above can be satisfied. , Substantially regular triangles, substantially squares, substantially regular hexagons, other polygonal shapes, and dots formed by plane figures such as circles and ellipses. Of these, a substantially rectangular dot shape is preferable in that a grid-like conductive layer is suitably formed, and the aperture ratio is higher and the line width of the lattice is more uniform. preferable. When the gap (printing dot) of the mesh is substantially square, the length of one side is preferably in the range of 100 to 500 μm, particularly in the range of 150 to 400 μm, and the gap between dots is 5 to 40 μm. In the range of 10 to 30 μm. In terms of being able to form a grid-like conductive layer or the like having a smaller line width, the gap between dots is preferably narrow. Then, in the vicinity of the peripheral electrode, the mesh line width is within a certain range from the peripheral electrode to be connected, preferably 3 to 50 mm, particularly preferably 5 to 20 mm. It is preferable to set the gap between the above-described printing dots so that the size of the dot is large. Furthermore, the mesh line width in the vicinity of the peripheral electrode of the mesh-like metal conductive layer is connected to the peripheral electrode with a line width in the range of 2 to 10 times, particularly 2 to 4 times the line width of other regions. As described above, it is preferable to reduce the size (area) of the negative image (printing dot) of each mesh and increase the gap. The value of the line width of the mesh in the vicinity of the peripheral electrode of a suitable mesh-like metal conductive layer varies depending on the value of the average line width at the center, but is larger than this, generally 10 to 500 μm, preferably 20 ˜300 μm, particularly preferably in the range of 30 to 100 μm. In addition, the negative image (printing) of each mesh described above so that the line width of the mesh in the vicinity of the peripheral electrode of the mesh-like metal conductive layer increases as it approaches the peripheral electrode to be connected, and preferably increases continuously. It is preferable to reduce the size (area) of the dots and increase the gap. The thickness of the negative pattern printing layer (dot) to be formed is not particularly limited as long as it is a thickness that protects the transparent substrate from the formation of the metal thin film and can be washed and removed later, but is in the range of 0.1 to 5 μm. A thickness in the range is preferable.

上記金属導電層としては、ネガパターン印刷層(印刷ドット)の洗浄除去用溶剤に不溶であれば特に制限はないが、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金、或いはITO等の導電性酸化物等を含んでいるものが好ましい。   The metal conductive layer is not particularly limited as long as it is insoluble in the solvent for removing and removing the negative pattern printing layer (printing dots). For example, aluminum, nickel, indium, chromium, gold, vanadium, tin, cadmium, silver It preferably contains a metal such as platinum, copper, titanium, cobalt, lead, an alloy, or a conductive oxide such as ITO.

金属導電層の厚みとしては、0.01〜10μm程度が好ましい。前記厚みが、0.01μm未満であると、電磁波シールド性能が充分でないことがある一方、10μmを超えると、得られる電磁波シールド性光透過窓材の厚みに影響を及ぼすと共に、視野角を狭くしてしまうことがある。   The thickness of the metal conductive layer is preferably about 0.01 to 10 μm. When the thickness is less than 0.01 μm, the electromagnetic shielding performance may not be sufficient. On the other hand, when the thickness exceeds 10 μm, the thickness of the obtained electromagnetic shielding light-transmitting window material is affected and the viewing angle is narrowed. May end up.

金属導電層の形成方法としては、特に制限はないが、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、化学蒸着等の気相メッキ法(気相成膜法)や、液相メッキ(液相成膜法)(例えば、電解メッキ、無電解メッキ等)、印刷、塗布等が挙げられるが、気相メッキ(例えば、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、化学蒸着等)が好ましい。特に、真空蒸着法は、膜厚の均一性や金属層作成速度の点から好適に使用可能である。金属導電層の形成の後、所望により、金属導電層上に防眩層を更に形成することにより、導電層の両側に防眩層が形成された電磁波シールド性光透過窓材を製造してもよい。   The method for forming the metal conductive layer is not particularly limited, but gas phase plating methods (vapor phase film formation methods) such as sputtering, ion plating, vacuum vapor deposition and chemical vapor deposition, and liquid phase plating (liquid phase film formation methods). ) (For example, electrolytic plating, electroless plating, etc.), printing, coating, and the like, and vapor phase plating (for example, sputtering, ion plating, vacuum deposition, chemical vapor deposition, etc.) is preferable. In particular, the vacuum vapor deposition method can be suitably used from the viewpoint of film thickness uniformity and metal layer creation speed. After the formation of the metal conductive layer, an electromagnetic wave shielding light transmitting window material in which the antiglare layer is formed on both sides of the conductive layer can be manufactured by further forming an antiglare layer on the metal conductive layer as desired. Good.

ネガパターン印刷用インク(印刷ドット)の洗浄除去においては、ネガパターン印刷層を溶解可能な溶媒を用いて、ネガパターン印刷層と、ネガパターン印刷層上に形成された金属導電層を好適に取り除くことができる方法を使用すれば特に制限はない。該洗浄の際には、所望により、超音波照射ブラシ、スポンジ等の溶解促進手段等を併用してもよい。特に、水流の高圧噴射を基材前面に均一にあてることにより、基材全面のネガパターン印刷層とその上に形成されている金属導電層をムラなく除去することができる。前記除去により、溶媒に可溶な物質で形成されたドットパターンが溶解し、更に、該ドットパターン上に形成された金属導電層がパターンの溶解に伴い剥離し、パターン間の領域に形成された金属導電層及び防眩層のみが剥離せずに残存し、所望により仕上げ洗浄(リンス)し、乾燥させることにより、メッシュ状金属導電層が透明基材上に形成された電磁波シールド性光透過窓材が得られる。   In washing and removing the negative pattern printing ink (printing dots), the negative pattern printing layer and the metal conductive layer formed on the negative pattern printing layer are preferably removed using a solvent capable of dissolving the negative pattern printing layer. There is no particular limitation as long as it can be used. In the cleaning, if desired, dissolution promoting means such as an ultrasonic irradiation brush or sponge may be used in combination. In particular, by uniformly applying a high-pressure jet of water to the front surface of the substrate, the negative pattern printing layer on the entire surface of the substrate and the metal conductive layer formed thereon can be removed evenly. By the removal, the dot pattern formed of a substance soluble in the solvent was dissolved, and further, the metal conductive layer formed on the dot pattern was peeled off as the pattern was dissolved and formed in the region between the patterns. Only the metal conductive layer and the antiglare layer remain without peeling off, and if necessary, finish-cleaned (rinse) and dried to form an electromagnetic wave shielding light-transmitting window in which a mesh-like metal conductive layer is formed on a transparent substrate A material is obtained.

上記のメッシュ状の金属導電層は、所望によりさらに増厚することもできる。増厚により、さらに優れた電磁波シールド性を得ることができる。金属導電層を増厚する処理は、メッキ処理、特に電気メッキ処理で行うことが好ましい。電気メッキされる金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。増厚は、金属導電層全体として適切な電磁波シールド性を達成する厚みを形成するためになされるので、メッシュ状の金属導電層の厚みによって、適切な増厚の厚みは変化するが、一般に1〜10μmの範囲であり、2〜8μmの範囲が好ましい。特に銅による処理の場合には、3〜6μmの範囲とすることが好ましい。金属導電層の厚さが1μm未満では高レベルの電磁波シールド性は確保できず、メッキ厚が10μmを超えるとメッキ層が幅方向に広がりやすくなり、線幅が太くなるために開口率を低下させる傾向にある。   The mesh-shaped metal conductive layer can be further thickened as desired. By increasing the thickness, a further excellent electromagnetic shielding property can be obtained. The treatment for increasing the thickness of the metal conductive layer is preferably performed by plating, particularly electroplating. As the metal to be electroplated, it is generally possible to use copper, copper alloy, nickel, aluminum, silver, gold, zinc or tin, preferably copper, copper alloy, silver or nickel, especially From the viewpoint of economy and conductivity, it is preferable to use copper or a copper alloy. Thickening is performed in order to form a thickness that achieves appropriate electromagnetic wave shielding properties for the entire metal conductive layer. Therefore, the appropriate thickness varies depending on the thickness of the mesh-shaped metal conductive layer. It is the range of 10-10 micrometers, and the range of 2-8 micrometers is preferable. Particularly in the case of treatment with copper, it is preferably in the range of 3 to 6 μm. If the thickness of the metal conductive layer is less than 1 μm, a high level of electromagnetic shielding properties cannot be ensured. If the plating thickness exceeds 10 μm, the plating layer tends to spread in the width direction, and the line width increases, resulting in a decrease in aperture ratio. There is a tendency.

図5は、ポジパターン印刷法による本発明の製造方法の流れの一例を光透過性電磁波シールド性窓材の断面を示しつつ説明した説明図である。図5の工程(c)では、透明基材51に対して、図示しないブランケットからメッシュ状パターンの導電性インク塗布層が印刷されて、メッシュ状のポジ像の導電性インク層55が形成される。メッシュ状のポジ像の導電性インク層55を形成する場合には、図1の上面図から把握されるように、透明基材上の矩形状に設けられたメッシュ状金属導電層領域(メッシュ状のポジパターン印刷領域)は導電性インクをメッシュ状パターンに印刷して設け、この矩形状に設けられたメッシュ状金属導電層領域の4辺に隣接する周辺電極領域は導電性インクを無模様に印刷して設け、周辺電極領域の近傍のメッシュ状パターンの印刷は、他の部分よりも大きな線幅で印刷して設け、これを隣接する周辺電極領域へと融合して接続するように印刷して設ける。メッシュの空隙は、線幅が大きくなったことに対応して、より小さな空隙となっている。このように印刷された透明基材に対して、図5の工程(d)では、乾燥処理又は焼結処理が行われて、導電性インク層55からメッシュ状の金属導電層56が形成される。さらに任意に図5の工程(e)が行われる。図5の工程(e)では、図示しないメッキ装置で電気メッキ等を行うことにより、メッシュ状の金属導電層56上に金属メッキ層57が形成され、結果として金属層が増厚されている。   FIG. 5 is an explanatory view showing an example of the flow of the manufacturing method of the present invention by the positive pattern printing method while showing a cross section of the light-transmitting electromagnetic wave shielding window material. In the step (c) of FIG. 5, a conductive ink coating layer having a mesh pattern is printed from a blanket (not shown) on the transparent substrate 51 to form a positive conductive ink layer 55 having a mesh shape. . When forming the mesh-like positive image conductive ink layer 55, as understood from the top view of FIG. 1, the mesh-like metal conductive layer region (mesh-like) provided in a rectangular shape on the transparent substrate is used. (Positive pattern printing area) is formed by printing conductive ink in a mesh pattern, and the peripheral electrode area adjacent to the four sides of the mesh-shaped metal conductive layer area provided in the rectangular shape is formed with no conductive ink. Printing is provided, and the mesh pattern in the vicinity of the peripheral electrode area is printed with a line width larger than that of other parts, and is printed so as to be fused and connected to the adjacent peripheral electrode area. Provide. The mesh gap is a smaller gap corresponding to the increased line width. In the step (d) of FIG. 5, the transparent substrate thus printed is subjected to a drying process or a sintering process to form a mesh-like metal conductive layer 56 from the conductive ink layer 55. . Further, step (e) in FIG. 5 is optionally performed. In step (e) of FIG. 5, a metal plating layer 57 is formed on the mesh-like metal conductive layer 56 by performing electroplating or the like with a plating apparatus (not shown), and as a result, the metal layer is thickened.

この製造方法により、メッシュ状金属導電層の周辺電極近傍のメッシュの線幅を、他の領域の線幅よりも大きくすることが容易に可能となる。そして、上述した本発明におけるメッシュの線幅の大きさや分布等についての特徴を容易に実現することができる。   With this manufacturing method, the line width of the mesh in the vicinity of the peripheral electrode of the mesh-like metal conductive layer can be easily made larger than the line width of other regions. And the characteristic about the magnitude | size, distribution, etc. of the mesh line width in this invention mentioned above can be implement | achieved easily.

さらに、この製造方法において、図3から把握されるように、メッシュ状金属導電層と周辺電極との接続部分で、略正方形のメッシュの空隙が途中で切断されたような形状を印刷しないことによって、上述の欠損空隙が除去されたメッシュの形状をも容易に製造することができる。この組み合わせにより、周辺電極との接続部分で印刷時に発生しやすい断線や破断をより効果的に防止できる。   Furthermore, in this manufacturing method, as understood from FIG. 3, by not printing a shape in which a substantially square mesh gap is cut in the middle at the connection portion between the mesh-shaped metal conductive layer and the peripheral electrode. The shape of the mesh from which the above-mentioned defect voids are removed can also be easily manufactured. By this combination, it is possible to more effectively prevent disconnection and breakage that are likely to occur during printing at the connection portion with the peripheral electrode.

メッシュ状のポジ像の形状としては、上述したメッシュの線幅及び空隙の形状と大きさ等の条件を満足することができれば、特に制限はなく、一般にはメッシュ状、特に格子状のパターンが適している。その空隙の形状は、略正三角形、略四角形、略正六角形その他の多角形状や円、楕円等の平面図形となっていてもよい。格子状の導電層が好適に形成され、開口率がより高く格子の線幅がより均一となる点で、略四角形の空隙の形成が好ましく、略菱形又は略正方形の空隙が特に好ましい。メッシュの空隙が略四角形の場合、メッシュ状金属導電層の中央部分では、その一辺の長さとしては、100〜500μmの範囲、特に150〜400μmの範囲にあるものが好ましく、メッシュの平均線幅としては、一般に5.0〜50.0μm、好ましくは5.0〜40.0μmであり、特に好ましくは、10.0〜30.0μmである。電磁波シールド性の観点からは線幅が太いほど好ましいが、光透過性の観点からは線幅は細いほど好ましい。そして、メッシュの線幅が周辺電極近傍において、接続する周辺電極から一定の範囲、好ましくは3〜50mm、特に好ましくは5〜20mmの範囲以内の幅の帯状領域において、他の領域の線幅よりも大きいものとすることが好適である。さらに、メッシュ状金属導電層の周辺電極近傍のメッシュの線幅が、他の領域の線幅と比較して2〜10倍、特に2〜4倍の範囲にある線幅で周辺電極に接続することが好適である。好適なメッシュ状金属導電層の周辺電極近傍のメッシュの線幅の値は、中央部での平均線幅の値によって異なるが、これより大きい線幅であって、一般に10〜500μm、好ましくは20〜300μm、特に好ましくは30〜100μmの範囲にある。また、メッシュ状金属導電層の周辺電極近傍のメッシュの線幅が、接続する周辺電極に近づくほど大きくなるように、好ましくはさらに連続的に大きくすることが好適である。   The shape of the mesh-shaped positive image is not particularly limited as long as the above-described conditions such as the mesh line width and the shape and size of the voids can be satisfied. In general, a mesh-shaped pattern, particularly a lattice-shaped pattern is suitable. ing. The shape of the gap may be a plane figure such as a substantially regular triangle, a substantially square, a substantially regular hexagon, other polygonal shapes, a circle, or an ellipse. From the viewpoint that a grid-like conductive layer is suitably formed and the aperture ratio is higher and the line width of the grid is more uniform, the formation of a substantially square void is preferable, and the approximately rhombus or substantially square void is particularly preferable. In the case where the mesh gap is substantially square, the length of one side is preferably in the range of 100 to 500 μm, particularly in the range of 150 to 400 μm, in the central portion of the mesh metal conductive layer, and the average line width of the mesh Is generally 5.0 to 50.0 μm, preferably 5.0 to 40.0 μm, and particularly preferably 10.0 to 30.0 μm. From the viewpoint of electromagnetic shielding properties, the thicker the line width, the better, but from the viewpoint of light transmission, the thinner the line width, the better. Then, in the vicinity of the peripheral electrode, the mesh line width is within a certain range from the peripheral electrode to be connected, preferably 3 to 50 mm, particularly preferably 5 to 20 mm. It is preferable to make it larger. Furthermore, the mesh line width in the vicinity of the peripheral electrode of the mesh-like metal conductive layer is connected to the peripheral electrode with a line width in the range of 2 to 10 times, particularly 2 to 4 times the line width of other regions. Is preferred. The value of the line width of the mesh in the vicinity of the peripheral electrode of a suitable mesh-like metal conductive layer varies depending on the value of the average line width at the center, but is larger than this, generally 10 to 500 μm, preferably 20 ˜300 μm, particularly preferably in the range of 30 to 100 μm. Further, it is preferable that the line width of the mesh in the vicinity of the peripheral electrode of the mesh-like metal conductive layer is increased continuously, preferably so as to be closer to the peripheral electrode to be connected.

透明基材としては、透明であって上記焼結等に耐える材料であれば使用することができ、既に上述した透明基材を使用することができるが、特にPETが好ましい。   As the transparent substrate, any material can be used as long as it is transparent and can withstand the above-mentioned sintering. The transparent substrate already described above can be used, and PET is particularly preferable.

上記の導電性インクとしては、種々の導電性インクを使用することができ、例えば塗布乾燥型あるいは高温焼結型の導電性インクを使用することができる。このような導電性インクとしては、カーボンブラック粒子、或いは金属及び/又は金属化合物の微粒子を分散させて含むペーストを挙げることができる。塗布乾燥型のペーストとしては、導電性の微粒子、例えばカーボンブラック、銀、銅、アルミニウム、及び/又はニッケル等の微粒子を含むペーストを好適に使用可能であり、導電性とコストの点から銀又は銅の微粒子を含むペーストが好ましい。高温焼結型のペーストとしては、導電性の微粒子又は高温焼結により導電性となる微粒子、例えば銀、銅、アルミニウム、ニッケル、酸化銀、有機銀化合物、又は金等の微粒子を含むペーストを好適に使用可能であり、導電性とコストの点から、銀、銅、酸化銀、及び/又は有機銀の微粒子を含むペーストが好ましい。上記微粒子は、メッシュ状パターンの細線化のために、粒径が一般に1μm以下、好ましくは0.8μm以下、特に0.6μm以下とすることが好ましい。上記微粒子のペーストには分散媒が使用される。塗布乾燥型のペースト用の分散媒としては、プロピレングリコールモノエチルエーテル等の高級アルコールや、キシレン等の芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素等の一般的な溶剤を使用することが可能であるが、揮発性・溶解性の観点から、100〜120℃付近に沸点を持つ高級アルコールや芳香族炭化水素等を選択するのが好ましい。また分散媒に加えて、バインダ樹脂を使用することができる。塗布乾燥型のペースト用のバインダ樹脂としては、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、エチルセルロース、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂等を使用することができ、密着性及び耐性等の観点から、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂が好ましい。高温焼結型のペースト用の分散媒としては、例えばトルエン、MEK、酢酸エチル等の有機溶剤を使用することができる。また、高温焼結型のペーストにおいても分散媒に加えて、バインダ樹脂を使用することができる。高温焼結型のペースト用のバインダ樹脂としては、ウレタン樹脂、アクリル樹脂等を使用できる。また、添加剤としてガラスフリットを使用できる。   As the conductive ink, various conductive inks can be used. For example, a coating / drying type or high-temperature sintering type conductive ink can be used. Examples of such conductive ink include a paste containing carbon black particles or metal and / or metal compound fine particles dispersed therein. As the coating and drying paste, a paste containing conductive fine particles, for example, fine particles such as carbon black, silver, copper, aluminum, and / or nickel, can be suitably used. From the viewpoint of conductivity and cost, silver or A paste containing copper fine particles is preferred. As the high-temperature sintering type paste, a conductive fine particle or a fine particle that becomes conductive by high-temperature sintering, for example, a paste containing fine particles of silver, copper, aluminum, nickel, silver oxide, organic silver compound, or gold is suitable. In view of conductivity and cost, a paste containing fine particles of silver, copper, silver oxide, and / or organic silver is preferable. The fine particles generally have a particle size of 1 μm or less, preferably 0.8 μm or less, and particularly preferably 0.6 μm or less for thinning the mesh pattern. A dispersion medium is used for the fine particle paste. As a dispersion medium for the coating and drying type paste, it is possible to use a higher solvent such as propylene glycol monoethyl ether, a general solvent such as an aromatic hydrocarbon such as xylene, and an aliphatic hydrocarbon. From the viewpoints of volatility and solubility, it is preferable to select a higher alcohol or aromatic hydrocarbon having a boiling point near 100 to 120 ° C. In addition to the dispersion medium, a binder resin can be used. Epoxy resin, urethane resin, ethyl cellulose, acrylic resin, polyester resin and the like can be used as the binder resin for the coating and drying type paste, and epoxy resin and urethane resin are preferable from the viewpoint of adhesion and resistance. As the dispersion medium for the high-temperature sintering type paste, for example, an organic solvent such as toluene, MEK, ethyl acetate or the like can be used. In addition, a binder resin can also be used in addition to the dispersion medium in the high-temperature sintered paste. As the binder resin for the high-temperature sintered paste, urethane resin, acrylic resin, or the like can be used. Moreover, a glass frit can be used as an additive.

導電性インクとして高温焼結型のペーストを使用する場合には、透明基材の耐久温度以下で焼結する必要がある。透明基材として、PETフィルム又はPENフィルムを使用する場合には、酸化銀及び/又は有機銀の還元を利用するペーストを使用し、導電性インク層を焼結する工程が、80〜160℃の範囲、特に100〜155℃の範囲にある温度での焼結であることが好ましい。この範囲の温度で焼結することによってフィルムの特性を保持しつつ金属導電層を形成することができる。透明基材として、板ガラスを使用し、30μm以下の細線パターンを作成する場合には、酸化銀及び/又は有機銀の還元を利用するペーストを使用し、導電性インク層を焼結する工程が、80〜240℃の範囲、特に100〜220℃の範囲にある温度での焼結であることが好ましい。この範囲の温度で焼結することによって板ガラスの特性を保持しつつ、板ガラス上に30μm以下の細線パターンの金属導電層を形成することができる。   When using a high-temperature sintered paste as the conductive ink, it is necessary to sinter at a temperature lower than the durable temperature of the transparent substrate. When using a PET film or a PEN film as the transparent substrate, the step of sintering the conductive ink layer using a paste utilizing reduction of silver oxide and / or organic silver is performed at 80 to 160 ° C. Preference is given to sintering at a temperature in the range, in particular in the range from 100 to 155 ° C. By sintering at a temperature in this range, the metal conductive layer can be formed while maintaining the properties of the film. When using plate glass as a transparent substrate and creating a fine line pattern of 30 μm or less, using a paste utilizing reduction of silver oxide and / or organic silver, the step of sintering the conductive ink layer, Sintering at a temperature in the range of 80 to 240 ° C., particularly in the range of 100 to 220 ° C. is preferred. By sintering at a temperature in this range, a metal conductive layer having a fine line pattern of 30 μm or less can be formed on the plate glass while maintaining the properties of the plate glass.

導電性インク層の乾燥又は高温焼結処理により形成したメッシュ状の金属導電層は、所望によりさらに増厚することもできる。増厚により、さらに優れた電磁波シールド性を得ることができる。金属導電層を増厚する処理は、メッキ処理、特に電気メッキ処理で行うことが好ましい。電気メッキされる金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。増厚は、金属導電層全体として適切な電磁波シールド性を達成する厚みを形成するためになされるので、導電性インク層の乾燥又は高温焼結処理により形成したメッシュ状の金属導電層の厚みによって、適切な増厚の厚みは変化するが、一般に1〜10μmの範囲であり、2〜8μmの範囲が好ましい。特に銅による処理の場合には、3〜6μmの範囲とすることが好ましい。金属導電層の厚さが1μm未満では電磁波シールド性が不十分であり、メッキ厚が10μmを超えるとメッキ層が幅方向に広がりやすくなり、線幅が太くなるために開口率を低下させる傾向にある。   The mesh-like metal conductive layer formed by drying or high-temperature sintering treatment of the conductive ink layer can be further thickened as desired. By increasing the thickness, a further excellent electromagnetic shielding property can be obtained. The treatment for increasing the thickness of the metal conductive layer is preferably performed by plating, particularly electroplating. As the metal to be electroplated, it is generally possible to use copper, copper alloy, nickel, aluminum, silver, gold, zinc or tin, preferably copper, copper alloy, silver or nickel, especially From the viewpoint of economy and conductivity, it is preferable to use copper or a copper alloy. Thickening is performed to form a thickness that achieves appropriate electromagnetic wave shielding properties for the entire metal conductive layer, so depending on the thickness of the mesh-like metal conductive layer formed by drying or high-temperature sintering treatment of the conductive ink layer. The thickness of the appropriate thickness varies, but is generally in the range of 1-10 μm, preferably in the range of 2-8 μm. Particularly in the case of treatment with copper, it is preferably in the range of 3 to 6 μm. If the thickness of the metal conductive layer is less than 1 μm, the electromagnetic wave shielding property is insufficient, and if the plating thickness exceeds 10 μm, the plating layer tends to spread in the width direction, and the line width becomes thick, so the aperture ratio tends to decrease. is there.

本発明の光透過性電磁波シールド性窓材、及び本発明の製造方法により得られた光透過性電磁波シールド性窓材を、電磁波シールド層として使用することにより、光透過性、電磁波シールド性及び視認性、さらに生産性に優れたディスプレイ用フィルタを製造することができる。例えば、PDP用フィルタは、通常の製造方法により、透明基材(透明基板)上に、反射防止層、本発明により得られる光透過性電磁波シールド性窓材(電磁波シールド層)、色調補正フィルター層、近赤外線カット層を積層して得ることができる。   By using the light transmissive electromagnetic wave shielding window material of the present invention and the light transmissive electromagnetic wave shielding window material obtained by the production method of the present invention as an electromagnetic wave shielding layer, the light transmissive property, the electromagnetic wave shielding property and the visual recognition. And a display filter excellent in productivity can be manufactured. For example, a filter for PDP is prepared by an ordinary manufacturing method on a transparent substrate (transparent substrate), an antireflection layer, a light-transmitting electromagnetic wave shielding window material (electromagnetic wave shielding layer) obtained by the present invention, and a color correction filter layer. It can be obtained by laminating a near-infrared cut layer.

以下、本発明を実施例により説明する。本発明は以下の実施例により制限されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples. The present invention is not limited by the following examples.

[実施例1]
ポリビニルアルコール樹脂(分子量3000)と顔料である硫酸バリウムを質量比1対
2で、水とメタノールの混合溶液(質量比 水:メタノール=1:4)に溶解して、固形分量35wt%のポリビニルアルコール溶液を調整した。この溶液をインクとして用いて、シート状のPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム(長さ1000mm、幅780mm、厚さ250μm)に、グラビア印刷により正方形のドットを印刷した。これを乾燥後に銅を真空蒸着して、厚さ1000Åの銅層を得た。次いで、常温の水でドット部分を溶解除去し、水洗の後に乾燥して、メッシュ状の銅層が形成された透明フィルムを得た。メッシュの形状の詳細は以下の通りである。
[Example 1]
A polyvinyl alcohol resin (molecular weight 3000) and barium sulfate, which is a pigment, are dissolved in a mixed solution of water and methanol (mass ratio water: methanol = 1: 4) at a mass ratio of 1: 2, and a polyvinyl alcohol having a solid content of 35 wt% The solution was adjusted. Square dots were printed by gravure printing on a sheet-like PET (polyethylene terephthalate) film (length 1000 mm, width 780 mm, thickness 250 μm) using this solution as an ink. After drying this, copper was vacuum-deposited to obtain a copper layer having a thickness of 1000 mm. Subsequently, the dot part was dissolved and removed with water at room temperature, dried after washing with water, and a transparent film on which a mesh-like copper layer was formed was obtained. Details of the shape of the mesh are as follows.

上記ドットは、フィルム中央部において、1個の大きさが1辺234μmの正方形状で、ドット同士の間隔が20μmであり、ドットの配列は正方格子状であり、ドットの印刷厚みは乾燥後に約2μmであった。これを正確に反映して、メッシュ状の銅層はドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅は20μmであった。   The dots are square in the middle of the film, each having a size of 234 μm per side, the distance between the dots is 20 μm, the dot arrangement is a square lattice, and the printed thickness of the dots is approximately after drying. It was 2 μm. Reflecting this accurately, the mesh-like copper layer had a square lattice shape corresponding to the negative pattern of dots, and the line width was 20 μm.

また、上記ドットは、フィルム面上で4つの辺から中央部方向にそれぞれ15mmの幅の範囲においては、ドット1個の大きさが204μmの正方形状であり、ドット同士の間隔が50μmであり、ドットの配列は正方格子状でありドットの印刷厚みは乾燥後に約2μmであった。これを正確に反映して、メッシュ状の銅層は上記フィルム面上で4つの辺から15mmの幅の範囲においては、線幅が50μmであった。   In addition, the dot is a square shape with a size of one dot of 204 μm in the range of a width of 15 mm from the four sides to the center direction on the film surface, and the interval between the dots is 50 μm, The arrangement of the dots was a square lattice, and the printed thickness of the dots was about 2 μm after drying. Reflecting this accurately, the mesh-like copper layer had a line width of 50 μm in the range of 15 mm from the four sides on the film surface.

[実施例2]
シート状のPETフィルムに対して、実施例1と同様に処理を行って、厚さ500Åのメッシュ状の銅層が形成された透明フィルムを得た。ただし、メッシュの形状の詳細は、以下のように異なる。
[Example 2]
The sheet-like PET film was treated in the same manner as in Example 1 to obtain a transparent film on which a 500-mm-thick mesh copper layer was formed. However, details of the shape of the mesh differ as follows.

フィルム中央部においては実施例1と同様に、ドット1個の大きさが1辺234μmの正方形状で、ドット同士の間隔が20μmであり、ドットの配列は正方格子状であり、ドットの印刷厚みは乾燥後に約2μmであった。これを正確に反映して、メッシュ状の銅層はドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅は20μmであった。   At the center of the film, as in Example 1, the size of one dot is a square shape with a side of 234 μm, the distance between the dots is 20 μm, the dot arrangement is a square lattice, and the printing thickness of the dots Was about 2 μm after drying. Reflecting this accurately, the mesh-like copper layer had a square lattice shape corresponding to the negative pattern of dots, and the line width was 20 μm.

また、フィルム面上で対向する2つの辺から中央部方向に40mmの幅の範囲においては、実施例1と異なり、ドット1個の大きさは各辺から中央部方向に40mmの位置では234μm、ドット同士の間隔が20μmであり、これらが各辺に近づくにつれて連続的に小さくなり、フィルムの端では204μm、ドット同士の間隔が50μmであった。ドットの印刷厚みは乾燥後に約2μmであった。これを正確に反映して、メッシュ状の銅層はドットのネガパターンに対応して、線幅は、各辺から中央部方向に40mmの位置では20μm、辺に近づくにつれて連続的に大きくなり、フィルムの端では50μmであった。   In addition, in the range of the width of 40 mm from the two opposite sides on the film surface to the central part direction, unlike Example 1, the size of one dot is 234 μm at a position of 40 mm from each side to the central part direction, The distance between the dots was 20 μm, and these continuously decreased as they approached each side. The distance between the dots was 204 μm at the end of the film, and the distance between the dots was 50 μm. The printed thickness of the dots was about 2 μm after drying. Reflecting this accurately, the mesh-like copper layer corresponds to the negative pattern of the dots, and the line width is 20 μm at a position of 40 mm from each side toward the center, and continuously increases as it approaches the side, It was 50 μm at the edge of the film.

さらに、上記得られたフィルムに対して、連続メッキ装置でメッキ処理を行って銅層を増厚した。これにより得られた透明フィルムは厚さ4μmのメッシュ状の銅層を備えていた。   Furthermore, the obtained film was subjected to a plating treatment with a continuous plating apparatus to increase the thickness of the copper layer. The transparent film thus obtained was provided with a mesh-like copper layer having a thickness of 4 μm.

[実施例3]
シート状のPETフィルムに対して、実施例1と同様に処理を行って、厚さ4000Åのメッシュ状の銅層が形成された透明フィルムを得た。ただし、印刷にはロールスクリーン印刷を使用し、メッシュの形状の詳細は、以下のように異なる。
[Example 3]
The sheet-like PET film was treated in the same manner as in Example 1 to obtain a transparent film in which a mesh copper layer having a thickness of 4000 mm was formed. However, roll screen printing is used for printing, and details of the mesh shape are different as follows.

フィルム中央部においては実施例1と同様に、ドット1個の大きさが1辺234μmの正方形状で、ドット同士の間隔が20μmであり、ドットの配列は正方格子状であり、ドットの印刷厚みは乾燥後に約2μmであった。これを正確に反映して、メッシュ状の銅層はドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅は20μmであった。 また、フィルム面上の4つの辺から中央部方向にそれぞれ15mmの幅の範囲においては、ドット1個の大きさが204μmの正方形状であり、ドット同士の間隔が50μmであり、ドットの配列は正方格子状でありドットの印刷厚みは乾燥後に約2μmであった。これを正確に反映して、メッシュ状の銅層は上記フィルム面上で対向する2つの辺から15mmの幅の範囲においては、線幅が50μmであった。   At the center of the film, as in Example 1, the size of one dot is a square shape with a side of 234 μm, the distance between the dots is 20 μm, the dot arrangement is a square lattice, and the printing thickness of the dots Was about 2 μm after drying. Reflecting this accurately, the mesh-like copper layer had a square lattice shape corresponding to the negative pattern of dots, and the line width was 20 μm. Further, in the range of the width of 15 mm from the four sides on the film surface to the center part direction, the size of one dot is a square shape of 204 μm, the interval between the dots is 50 μm, and the dot arrangement is It was a square lattice and the printed thickness of the dots was about 2 μm after drying. Reflecting this accurately, the mesh-like copper layer had a line width of 50 μm within a range of 15 mm from two opposing sides on the film surface.

[実施例4]
シート状のPETフィルム(長さ1000mm、幅780mm、厚さ250μm)上に、銀含有の導電性ペースト(XA−9024、藤倉化成製)をスクリーン印刷して、メッシュ状導電性インク層を形成した。このフィルムを150℃で60分間焼成して、メッシュ状の金属導電層(焼成後膜厚 3μm)が形成された透明フィルムを得た。印刷したメッシュの形状の詳細は以下の通りである。
[Example 4]
On a sheet-like PET film (length 1000 mm, width 780 mm, thickness 250 μm), a silver-containing conductive paste (XA-9024, manufactured by Fujikura Kasei) was screen-printed to form a mesh-like conductive ink layer. . This film was baked at 150 ° C. for 60 minutes to obtain a transparent film on which a mesh-like metal conductive layer (film thickness after baking: 3 μm) was formed. The details of the shape of the printed mesh are as follows.

フィルム中央部においては、メッシュの線幅は25μmであり、格子状のメッシュの間隙は229μmであった。   At the center of the film, the mesh line width was 25 μm, and the lattice-shaped mesh gap was 229 μm.

また、フィルム面上の4つの辺から中央部方向にそれぞれ50mmの幅の範囲においては、各辺から中央部方向に50mmの位置ではメッシュの線幅が25μm、この線幅が各辺に近づくにつれて連続的に大きくなり、フィルムの端では60μmであった。格子状のメッシュの間隙はこれに対応して小さくなっていた。   Further, in the range of the width of 50 mm from the four sides on the film surface to the center part direction, the mesh line width is 25 μm at the position of 50 mm from each side to the center part direction, and as the line width approaches each side. It increased continuously and was 60 μm at the edge of the film. The gap between the grid-like meshes was correspondingly small.

[比較例1]
実施例1と同様にして、メッシュ状の銅層が形成された透明フィルムを得た。
[Comparative Example 1]
In the same manner as in Example 1, a transparent film on which a mesh-like copper layer was formed was obtained.

ただし、印刷したドットは、フィルム面の中央部においてもフィルム面の辺縁部においても同じ大きさと間隔であり、1個の大きさが1辺234μmの正方形状で、ドット同士の間隔が20μmであり、ドットの配列は正方格子状であり、ドットの印刷厚みは乾燥後に約2μmであった。これを反映して、フィルム面の中央部においてもフィルム面の辺縁部においても、メッシュ状の銅層はドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅は20μmであった。   However, the printed dots have the same size and interval both at the center of the film surface and at the edge of the film surface, one size is a square with a side of 234 μm, and the interval between dots is 20 μm. The dot arrangement was a square lattice, and the printed thickness of the dots was about 2 μm after drying. Reflecting this, the mesh-like copper layer was a square lattice corresponding to the negative pattern of the dots at the center of the film surface and at the edge of the film surface, and the line width was 20 μm. .

[比較例2]
実施例4と同様にして、メッシュ状の金属導電層が形成された透明フィルムを得た。
[Comparative Example 2]
In the same manner as in Example 4, a transparent film having a mesh-like metal conductive layer was obtained.

ただし、印刷したメッシュ状パターンは、フィルム面の中央部においてもフィルム面の辺縁部においても同じ線幅と間隙であり、メッシュの線幅は25μmであり、格子状のメッシュの間隙は229μmであった。   However, the printed mesh pattern has the same line width and gap both at the center of the film surface and at the edge of the film surface, the mesh line width is 25 μm, and the lattice mesh gap is 229 μm. there were.

[評価と結果]
光透過性電磁波シールド性窓材の電界シールド効果を、シールド特性評価装置(アンリツ社製)を用いて周波数100MHzの条件でKEC法により測定し、同様に磁界シールド効果測定して、得られた結果を総合評価して次の表1にまとめた。
[Evaluation and results]
The electric field shielding effect of the light-transmitting electromagnetic wave shielding window material was measured by the KEC method using a shielding characteristic evaluation apparatus (manufactured by Anritsu) under the condition of a frequency of 100 MHz, and the magnetic field shielding effect was measured in the same manner. Were evaluated and summarized in the following Table 1.

Figure 2007042887
Figure 2007042887

実施例1〜4の光透過性電磁波シールド性窓材は、比較例1〜2の光透過性電磁波シールド性窓材と比較して優れた電磁波シールド性を備えていた。   The light transmissive electromagnetic wave shielding window materials of Examples 1 to 4 had excellent electromagnetic wave shielding properties as compared with the light transmissive electromagnetic wave shielding window materials of Comparative Examples 1 and 2.

また、実施例1〜4の光透過性電磁波シールド性窓材と同様のメッシュ状金属導電層を備え且つこれに隣接してメッシュ状金属導電層に接続した周辺電極を備えた光透過性電磁波シールド性窓材と、比較例1〜2の光透過性電磁波シールド性窓材と同様のメッシュ状金属導電層を備え且つこれに隣接してメッシュ状金属導電層に接続した周辺電極を備えた光透過性電磁波シールド性窓材とを製作して、これらを比較した。この比較によると、実施例1〜4と同様のメッシュ状金属導電層を備え且つ周辺電極を備えた光透過性電磁波シールド性窓材は、印刷時に周辺電極との境界付近でメッシュに断線・破断が生じることなく、良好な形状が形成されていた。また、金属メッシュは周辺電極を介して十分に低い抵抗で接続することができた。一方、比較例1〜2と同様のメッシュ状金属導電層を備え且つ周辺電極を備えた光透過性電磁波シールド性窓材は、メッシュと周辺電極との境目付近でメッシュに断線が生じている部位があり、十分なシールド性を発揮できない窓材も多かった。   Further, a light-transmitting electromagnetic wave shield comprising a mesh-like metal conductive layer similar to the light-transmitting electromagnetic wave-shielding window material of Examples 1 to 4 and a peripheral electrode connected to the mesh-like metal conductive layer adjacent thereto. Light transmission comprising a conductive window material and a peripheral electrode connected to the mesh metal conductive layer adjacent to the mesh metal conductive layer similar to the light transmissive electromagnetic wave shielding window materials of Comparative Examples 1 and 2 The electromagnetic wave shielding window material was manufactured and compared. According to this comparison, the light-transmitting electromagnetic wave shielding window material provided with the same mesh-like metal conductive layer as in Examples 1 to 4 and provided with the peripheral electrode is broken or broken in the mesh near the boundary with the peripheral electrode during printing. The good shape was formed without generating. The metal mesh could be connected with a sufficiently low resistance via the peripheral electrode. On the other hand, the light-transmitting electromagnetic wave shielding window material provided with the mesh-like metal conductive layer similar to Comparative Examples 1 and 2 and provided with the peripheral electrode is a portion where the mesh is broken near the boundary between the mesh and the peripheral electrode. There were many window materials that could not exhibit sufficient shielding properties.

図1は、本発明の光透過性電磁波シールド性窓材の典型的な一例を、上方から示した説明図である。FIG. 1 is an explanatory view showing a typical example of the light-transmitting electromagnetic wave shielding window material of the present invention from above. 図2は、周辺電極が2辺に設けられた本発明の光透過性電磁波シールド性窓材の典型的な一例を、上方から示した説明図である。FIG. 2 is an explanatory view showing a typical example of the light-transmitting electromagnetic wave shielding window material of the present invention in which peripheral electrodes are provided on two sides from above. 図3は、欠損空隙のない本発明の光透過性電磁波シールド性窓材の別な典型的な一例を、上方から示した説明図である。FIG. 3 is an explanatory view showing another typical example of the light-transmitting electromagnetic wave shielding window material of the present invention having no voids from above. 図4は、可溶性ドット形成法による本発明の製造方法の流れの一例を光透過性電磁波シールド性窓材の断面を示して説明した説明図である。FIG. 4 is an explanatory view showing an example of the flow of the manufacturing method of the present invention by the soluble dot forming method, showing a cross section of a light-transmitting electromagnetic wave shielding window material. 図5は、ポジタパーン印刷法による本発明の製造方法の流れの一例を光透過性電磁波シールド性窓材の断面を示して説明した説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram showing an example of the flow of the manufacturing method of the present invention by the positive tape printing method, showing a cross section of a light-transmitting electromagnetic wave shielding window material. 図6は、本発明によらない光透過性電磁波シールド性窓材の典型的な一例を、上方から示した説明図である。FIG. 6 is an explanatory view showing a typical example of a light-transmitting electromagnetic wave shielding window material not according to the present invention from above.

符号の説明Explanation of symbols

10 光透過性電磁波シールド性窓材
11 周辺電極
12 メッシュ状金属導電層領域
12a メッシュ状金属導電層
12b メッシュの空隙(メッシュの目)
12c 欠損した多角形の空隙(欠損空隙)
20 光透過性電磁波シールド性窓材
21 周辺電極
22 メッシュ状金属導電層領域
22a メッシュ状金属導電層
22b メッシュの空隙(メッシュの目)
22c 欠損した多角形の空隙(欠損空隙)
30 光透過性電磁波シールド性窓材
31 周辺電極
32 メッシュ状金属導電層領域
32a メッシュ状金属導電層
32b メッシュの空隙(メッシュの目)
41 透明基材
42 ネガパターン印刷層
43 金属導電層
44 メッシュのポジ像の金属導電層(メッシュ状金属導電層)
51 透明基材
55 メッシュ状のポジ像の導電性インク層
56 メッシュ状の金属導電層
57 金属メッキ層
60 光透過性電磁波シールド性窓材
61 周辺電極
62 メッシュ状金属導電層領域
62a メッシュ状金属導電層
62b メッシュの空隙(メッシュの目)
62c 欠損空隙
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Light transmissive electromagnetic wave shielding window material 11 Peripheral electrode 12 Mesh-like metal conductive layer region 12a Mesh-like metal conductive layer 12b Mesh gap (mesh eyes)
12c Missing polygonal void (missing void)
20 Light-transmitting electromagnetic wave shielding window material 21 Peripheral electrode 22 Mesh-like metal conductive layer region 22a Mesh-like metal conductive layer 22b Mesh gap (mesh eyes)
22c Missing polygonal void (missing void)
30 Light-transmitting electromagnetic wave shielding window material 31 Peripheral electrode 32 Mesh-like metal conductive layer region 32a Mesh-like metal conductive layer 32b Mesh gap (mesh eyes)
41 Transparent substrate 42 Negative pattern printing layer 43 Metal conductive layer 44 Metal conductive layer of mesh positive image (mesh-like metal conductive layer)
51 transparent substrate 55 mesh-like positive conductive ink layer 56 mesh-like metal conductive layer 57 metal-plated layer 60 light-transmitting electromagnetic wave shielding window material 61 peripheral electrode 62 mesh-like metal conductive layer region 62a mesh-like metal conductive Layer 62b Mesh voids (mesh eyes)
62c missing void

Claims (20)

矩形の透明基材と、該透明基材上の少なくとも中央部に矩形状に設けられたメッシュ状金属導電層、及び該メッシュ状金属導電層の少なくとも1辺に隣接して該透明基材上に設けられ且つ該メッシュ状金属導電層に接続した周辺電極、とを含む光透過性電磁波シールド性窓材であって、
メッシュ状金属導電層の周辺電極近傍のメッシュの線幅が、他の領域の線幅よりも大きいことを特徴とする、光透過性電磁波シールド性窓材。
A rectangular transparent base material, a mesh-shaped metal conductive layer provided in a rectangular shape at least in the center on the transparent base material, and on the transparent base material adjacent to at least one side of the mesh-shaped metal conductive layer A light-transmitting electromagnetic wave shielding window material comprising a peripheral electrode provided and connected to the mesh-like metal conductive layer,
A light-transmitting electromagnetic wave shielding window material, characterized in that the mesh line width in the vicinity of the peripheral electrode of the mesh-like metal conductive layer is larger than the line width of other regions.
前記メッシュ状金属導電層の周辺電極近傍のメッシュが、接続する周辺電極の端部から3〜50mm以内の幅の帯状領域であることを特徴とする、請求項1に記載の光透過性電磁波シールド性窓材。   2. The light-transmitting electromagnetic wave shield according to claim 1, wherein the mesh in the vicinity of the peripheral electrode of the mesh-shaped metal conductive layer is a band-shaped region having a width within 3 to 50 mm from an end of the peripheral electrode to be connected. Window material. 前記メッシュ状金属導電層の周辺電極近傍のメッシュの線幅が、接続する周辺電極に近づくほど大きいことを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載の光透過性電磁波シールド性窓材。   3. The light-transmitting electromagnetic wave shielding window material according to claim 1, wherein a line width of a mesh in the vicinity of the peripheral electrode of the mesh-shaped metal conductive layer is larger as it is closer to the peripheral electrode to be connected. 前記周辺電極が、メッシュ状金属導電層の4辺のうち、対向する2辺又は4辺に隣接して設けられていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の光透過性電磁波シールド性窓材。   4. The light transmission according to claim 1, wherein the peripheral electrode is provided adjacent to two opposite sides or four sides of the four sides of the mesh-shaped metal conductive layer. Electromagnetic shielding window material. 前記メッシュ状金属導電層の周辺電極近傍のメッシュの線幅が、他の領域の線幅と比較して2〜10倍の範囲にあることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の光透過性電磁波シールド性窓材。   The line width of the mesh in the vicinity of the peripheral electrode of the mesh-shaped metal conductive layer is in the range of 2 to 10 times as compared with the line width of the other region. The light-transmitting electromagnetic wave shielding window material described. 前記メッシュが、多角形をメッシュの目の形状とした繰り返しであることを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載の光透過性電磁波シールド性窓材。   The light-transmitting electromagnetic wave shielding window material according to any one of claims 1 to 5, wherein the mesh is a repetition of polygonal meshes. 周辺電極近傍においてメッシュの目を構成する多角形は、周辺電極により形状が欠損した多角形が無い又は実質的に無いことを特徴とする、請求項6のいずれかに記載の光透過性電磁波シールド性窓材。   The light-transmitting electromagnetic wave shield according to claim 6, wherein the polygon constituting the mesh eye in the vicinity of the peripheral electrode is free from or substantially free of a polygon whose shape is lost by the peripheral electrode. Window material. 前記金属導電層が、導電性の金属及び/又は金属酸化物を含んでいることを特徴とする、請求項1〜7のいずれかに記載の光透過性電磁波シールド性窓材。   The light-transmitting electromagnetic wave shielding window material according to any one of claims 1 to 7, wherein the metal conductive layer contains a conductive metal and / or metal oxide. 前記金属導電層が、銅及び/又は銀を含んでいることを特徴とする、請求項1〜8のいずれかに記載の光透過性電磁波シールド性窓材   The light-transmitting electromagnetic wave shielding window material according to claim 1, wherein the metal conductive layer contains copper and / or silver. 前記透明基材が、樹脂フィルムであることを特徴とする、請求項1〜9のいずれかに記載の光透過性電磁波シールド性窓材。   The light-transmitting electromagnetic wave shielding window material according to claim 1, wherein the transparent substrate is a resin film. 前記透明基材が、PETフィルムであることを特徴とする、請求項1〜10のいずれかに記載の光透過性電磁波シールド性窓材。   The light-transmitting electromagnetic wave shielding window material according to claim 1, wherein the transparent substrate is a PET film. 前記透明基材が、板ガラスであることを特徴とする、請求項1〜9のいずれかに記載の光透過性電磁波シールド性窓材。   The light-transmitting electromagnetic wave shielding window material according to claim 1, wherein the transparent base material is a plate glass. 請求項1〜12のいずれかに記載の光透過性電磁波シールド性窓材を含むディスプレイ用フィルタ。   A display filter comprising the light-transmitting electromagnetic wave shielding window material according to claim 1. 矩形の透明基材と、該透明基材上の少なくとも中央部に矩形状に設けられたメッシュ状金属導電層、及び該メッシュ状金属導電層の少なくとも1辺に隣接して該透明基材上に設けられ且つ該メッシュ状金属導電層に接続した周辺電極、とを含む光透過性電磁波シールド性窓材を、以下の工程:
前記透明基材上の少なくとも中央部に矩形状にメッシュ状パターンのネガ像を、
該ネガ像の矩形状領域の少なくとも1辺に隣接して、周辺電極の形成用の非印刷領域を残し、
前記ネガ像の矩形状の領域内の非印刷領域に隣接する近傍領域において、前記各メッシュに対応する多角形が、ネガ像の領域内の他の領域よりも面積が小さな面積の多角形となるように、
溶媒可溶性のインクを用いて印刷することにより、前記ネガパターン印刷層を形成する工程、
前記ネガパターン印刷層が形成された透明基材の面上に、該溶媒に対して不溶な金属導電層を形成する工程、
前記金属導電層が形成された透明基材の表面を、ネガパターン印刷層の溶解が可能な溶媒を用いて洗浄することにより、ネガパターン印刷層及び該ネガパターン印刷層上の金属導電層を除去してメッシュ状金属導電層を形成する工程、
を含むことを特徴とする方法により製造する方法。
A rectangular transparent base material, a mesh-shaped metal conductive layer provided in a rectangular shape at least in the center on the transparent base material, and on the transparent base material adjacent to at least one side of the mesh-shaped metal conductive layer A light-transmitting electromagnetic wave shielding window material comprising a peripheral electrode provided and connected to the mesh-like metal conductive layer, the following steps:
A negative image of a mesh pattern in a rectangular shape at least in the center on the transparent substrate,
Adjacent to at least one side of the rectangular area of the negative image, leaving a non-printing area for forming the peripheral electrode,
In the neighboring region adjacent to the non-printing region in the rectangular region of the negative image, the polygon corresponding to each mesh is a polygon having an area smaller than the other regions in the negative image region. like,
Forming the negative pattern printing layer by printing using a solvent-soluble ink;
Forming a metal conductive layer insoluble in the solvent on the surface of the transparent substrate on which the negative pattern printing layer is formed;
The surface of the transparent substrate on which the metal conductive layer is formed is washed with a solvent capable of dissolving the negative pattern print layer, thereby removing the negative pattern print layer and the metal conductive layer on the negative pattern print layer. And forming a mesh-like metal conductive layer,
A method of manufacturing by the method characterized by including.
前記各メッシュに対応する多角形が、前記非印刷領域に接触する位置では印刷されないことを特徴とする、請求項14に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 14, wherein the polygon corresponding to each mesh is not printed at a position in contact with the non-printing area. 前記ネガパターン印刷層が形成された透明基材の面上に、溶媒に対して不溶な金属導電層を形成する工程が、
金属及び/又は金属化合物の気相成膜法により行われることを特徴とする、請求項14又は請求項15に記載の製造方法。
Forming a metal conductive layer insoluble in a solvent on the surface of the transparent substrate on which the negative pattern printing layer is formed,
The manufacturing method according to claim 14 or 15, wherein the method is carried out by a vapor phase film forming method of a metal and / or a metal compound.
矩形の透明基材と、該透明基材上の中央部に矩形状に設けられたメッシュ状金属導電層、及び該メッシュ状金属導電層の少なくとも1辺に隣接して該透明基材上に設けられ且つ該メッシュ状金属導電層に接続した周辺電極、とを含む光透過性電磁波シールド性窓材を、以下の工程:
前記透明基材上の少なくとも中央部に矩形状の領域にメッシュ状パターンのポジ像を設けるように、
該メッシュ状パターンのポジ像の領域の少なくとも1辺に隣接して、メッシュの線と接続し、前記の辺に沿った帯状の周辺電極用パターンを設けるように、
前記メッシュ状パターンの像の領域内の周辺電極用パターン近傍のメッシュの線が、メッシュ状パターンの像の領域内の他の部分よりも、大きな線幅の線となるように、
導電性インクを用いて印刷することにより、導電性インク層を形成する工程、
該導電性インク層を乾燥処理及び/又は焼結処理することにより、メッシュ状パターンの像の導電性インク層からはメッシュ状金属導電層を、周辺電極用パターン上の導電性インク層からは周辺電極を、形成する工程、
を含むことを特徴とする方法により製造する方法。
A rectangular transparent base material, a mesh-shaped metal conductive layer provided in a rectangular shape at the center of the transparent base material, and provided on the transparent base material adjacent to at least one side of the mesh-shaped metal conductive layer And a peripheral electrode connected to the mesh-like metal conductive layer, and a light-transmitting electromagnetic wave shielding window material comprising the following steps:
In order to provide a positive image of a mesh pattern in a rectangular region at least in the central part on the transparent substrate,
Adjacent to at least one side of the positive image region of the mesh-like pattern, connected to a mesh line, and provided with a band-like peripheral electrode pattern along the side,
The mesh line in the vicinity of the peripheral electrode pattern in the mesh pattern image region is a line having a larger line width than other portions in the mesh pattern image region.
Forming a conductive ink layer by printing using a conductive ink;
By drying and / or sintering the conductive ink layer, the mesh-like metal conductive layer is removed from the conductive ink layer of the mesh pattern image, and the conductive ink layer on the peripheral electrode pattern is peripheral. Forming an electrode;
A method of manufacturing by the method characterized by including.
前記導電性インク層を形成する工程において、
前記周辺電極用パターン近傍において、周辺電極用パターンと接触するメッシュの空隙を設けることなく導電性インクを形成することを特徴とする、請求項17に記載の製造方法。
In the step of forming the conductive ink layer,
The manufacturing method according to claim 17, wherein the conductive ink is formed in the vicinity of the peripheral electrode pattern without providing a mesh gap in contact with the peripheral electrode pattern.
請求項14〜18のいずれかに記載の製造方法により得られる光透過性電磁波シールド性窓材。   A light-transmitting electromagnetic wave shielding window material obtained by the production method according to claim 14. 請求項19に記載の光透過性電磁波シールド性窓材を含むディスプレイ用フィルタ。
A display filter comprising the light-transmitting electromagnetic wave shielding window material according to claim 19.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010055095A (en) * 2008-08-29 2010-03-11 Samsung Corning Precision Glass Co Ltd Hybrid optical film, display provided therewith, and manufacturing method therefor
JP2010520142A (en) * 2007-03-01 2010-06-10 コーニング インコーポレイテッド Manufacturing method of mask for sealing glass package
CN103910494A (en) * 2013-01-04 2014-07-09 杭州畅翔玻璃有限公司 Titanium metal moving door glass and processing technology
JP2014131071A (en) * 2008-02-28 2014-07-10 3M Innovative Properties Co Method of patterning conductor on base material
CN114713840A (en) * 2022-03-30 2022-07-08 青岛理工大学 Manufacturing method for manufacturing broadband electromagnetic shielding curved surface optical window based on composite micro-nano additive manufacturing

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11233992A (en) * 1998-02-12 1999-08-27 Hitachi Chem Co Ltd Electromagnetic shielding adhesive film and electromagnetic shielding structural body using the same, and display
JP2001332889A (en) * 2000-05-18 2001-11-30 Bridgestone Corp Method for manufacturing electromagnetic wave shielding light transmitting window material
JP2003304090A (en) * 2002-04-11 2003-10-24 Sumitomo Chem Co Ltd Electromagnetic wave shielding material and its manufacturing method
WO2004016058A1 (en) * 2002-08-08 2004-02-19 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Electromagnetic wave-shielding sheet
JP2004303914A (en) * 2003-03-31 2004-10-28 Dainippon Printing Co Ltd Electromagnetic wave shielding sheet
WO2006011457A1 (en) * 2004-07-27 2006-02-02 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Electromagnetic wave shielding device

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11233992A (en) * 1998-02-12 1999-08-27 Hitachi Chem Co Ltd Electromagnetic shielding adhesive film and electromagnetic shielding structural body using the same, and display
JP2001332889A (en) * 2000-05-18 2001-11-30 Bridgestone Corp Method for manufacturing electromagnetic wave shielding light transmitting window material
JP2003304090A (en) * 2002-04-11 2003-10-24 Sumitomo Chem Co Ltd Electromagnetic wave shielding material and its manufacturing method
WO2004016058A1 (en) * 2002-08-08 2004-02-19 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Electromagnetic wave-shielding sheet
JP2004303914A (en) * 2003-03-31 2004-10-28 Dainippon Printing Co Ltd Electromagnetic wave shielding sheet
WO2006011457A1 (en) * 2004-07-27 2006-02-02 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Electromagnetic wave shielding device

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010520142A (en) * 2007-03-01 2010-06-10 コーニング インコーポレイテッド Manufacturing method of mask for sealing glass package
KR101453585B1 (en) 2007-03-01 2014-10-23 코닝 인코포레이티드 Method of making a mask for sealing a glass package
JP2014131071A (en) * 2008-02-28 2014-07-10 3M Innovative Properties Co Method of patterning conductor on base material
JP2016154256A (en) * 2008-02-28 2016-08-25 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Method of patterning conductor on base material
US9487040B2 (en) 2008-02-28 2016-11-08 3M Innovative Properties Company Methods of patterning a conductor on a substrate
JP2010055095A (en) * 2008-08-29 2010-03-11 Samsung Corning Precision Glass Co Ltd Hybrid optical film, display provided therewith, and manufacturing method therefor
CN103910494A (en) * 2013-01-04 2014-07-09 杭州畅翔玻璃有限公司 Titanium metal moving door glass and processing technology
CN114713840A (en) * 2022-03-30 2022-07-08 青岛理工大学 Manufacturing method for manufacturing broadband electromagnetic shielding curved surface optical window based on composite micro-nano additive manufacturing

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