JP2008161751A - 液滴吐出装置、及びデバイスの製造方法、メンテナンス方法、 - Google Patents

液滴吐出装置、及びデバイスの製造方法、メンテナンス方法、 Download PDF

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Abstract

【課題】異物に起因する吐出ヘッドの性能の劣化を抑制できる液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】液滴吐出装置は、機能液の液滴を吐出する吐出口が形成された吐出面を有する吐出ヘッドと、吐出面と対向した状態で吐出面に対して相対的に移動可能なワイピング面を有するワイピング部材を含み、ワイピング面で吐出面に付着している異物を払うワイピング装置と備える。ワイピング装置は、吐出面とワイピング面とを離した状態で、吐出面の異物とワイピング面とを接触させることによって、異物を払う。
【選択図】図１

Description

本発明は、液滴吐出装置、及びデバイスの製造方法、メンテナンス方法に関する。
デバイスパターンを形成するための手法の一つとして、機能液の液滴で基板にパターンを形成する液滴吐出法（インクジェット法）が知られている。下記特許文献には、液滴を吐出可能な吐出口が形成された吐出面を有する吐出ヘッドより液滴を吐出することによって、基板にパターンを形成する液滴吐出装置（インクジェット装置）に関する技術の一例が開示されている。
特開平１１−２４８９２６号公報
吐出ヘッドの吐出面に異物が付着している状態で、ワイピング装置によって吐出ヘッドの吐出面を拭う場合、そのワイピング装置によるワイピング処理によって、吐出面に付着している異物が、吐出口の近傍に移動したり、吐出口の内側に入り込む可能性がある。その場合、その吐出口から吐出される機能液の液滴が所望の位置に供給されない等、吐出ヘッドの性能が劣化する可能性がある。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、異物に起因する吐出ヘッドの性能の劣化を抑制できる液滴吐出装置を提供することを目的とする。また、その液滴吐出装置を用いるデバイスの製造方法を提供することを目的とする。また、吐出ヘッドの性能の劣化を招くことなく、その吐出ヘッドをメンテナンスできるメンテナンス方法を提供することを目的とする。
上記の課題を解決するため、本発明は以下の構成を採用する。
本発明の第１の観点によると、機能液の液滴を吐出する吐出口が形成された吐出面を有する吐出ヘッドと、前記吐出面と対向した状態で前記吐出面に対して相対的に移動可能なワイピング面を有するワイピング部材を含み、前記ワイピング面で前記吐出面に付着している異物を払うワイピング装置と備え、前記ワイピング装置は、前記吐出面と前記ワイピング面とを離した状態で、前記吐出面の異物と前記ワイピング面とを接触させることによって、前記異物を払う液滴吐出装置が提供される。
本発明の第１の観点によれば、吐出面とワイピング面とを離した状態で、吐出面の異物とワイピング面とを接触させることによって異物を払うようにしたので、吐出面に付着している異物が、吐出口の近傍に移動したり、吐出口の内側に入り込むことを抑制しつつ、その異物を払う（除去する）ことができる。したがって、吐出ヘッドの性能の劣化を抑制し、機能液の液滴を所望の位置に供給できる。
本発明の液滴吐出装置において、前記異物は、液滴を含む構成を採用できる。これによれば、例えば吐出口から吐出された機能液の液滴が付着した場合でも、その機能液の液滴をワイピング装置で払う（除去する）ことができる。これにより、吐出ヘッドの性能を維持できる。また、ワイピング装置で除去可能な液滴としては機能液の液滴に限られず、機能液以外の液体の液滴であっても、ワイピング装置は、吐出面に付着した液滴を除去可能である。
本発明の液滴吐出装置において、前記ワイピング部材は、液体を吸収可能な材料で形成されている構成を採用できる。これによれば、異物が液体である場合に、その異物（液滴）を良好に除去できる。
本発明の液滴吐出装置において、前記吐出面は、撥液性を有する構成を採用できる。これによれば、液体は吐出面で拡がらず、玉のような形状で、吐出面に残留する。したがって、ワイピング装置は、吐出面とワイピング面とを離した状態で、吐出面の液滴とワイピング面とを円滑に接触させることができる。
本発明の液滴吐出装置において、前記機能液は、金属微粒子と、水を主成分とする分散媒と、前記金属微粒子を前記分散媒に分散させる分散助剤と、アルコールの価数が３価〜６価であって標準状態の下で固体であり、かつ、機能液の全質量を基準として５重量％〜２０重量％の水溶性の多価アルコールと、を含み、前記異物は、前記吐出面に残留した前記機能液の液滴を含む構成を採用できる。これにより、例えば配線パターン等、導電性のパターンを形成できる。そして、水系の分散液を機能液として用いることにより、何らかの理由で吐出面に機能液の液滴が付着しても、その液滴は吐出面で十分にはじかれるので、ワイピング装置により、吐出面に残留した機能液の液滴を除去することによって、吐出ヘッドの性能を良好に維持できる。
本発明の液滴吐出装置において、前記多価アルコールは、糖アルコールで構成してもよい。前記糖アルコールは、キシリトールで構成してもよい。前記分散助剤は、メルカプト酸で構成してもよい。前記分散助剤は、ヒドロキシ酸で構成してもよい。前記金属微粒子は、金微粒子、銀微粒子、銅微粒子、及びニッケル微粒子の少なくとも一つで構成してもよい。
本発明の液滴吐出装置において、前記吐出面は、前記機能液に対して撥液性を有する構成を採用できる。これによれば、機能液は吐出面で拡がらず、玉のような形状で、吐出面に残留する。したがって、ワイピング装置は、吐出面とワイピング面とを離した状態で、吐出面の液滴とワイピング面とを円滑に接触させることができる。
本発明の液滴吐出装置において、前記吐出面には、ポリマー重合シリコン膜及びシランカップリング剤の膜が形成されている構成を採用できる。これによれば、水系の分散液を十分にはじくことができる。
本発明の液滴吐出装置において、前記吐出ヘッドの少なくとも一部を前記機能液以外の液体に浸ける浸漬装置を備え、前記異物は、前記吐出面に残留した前記浸漬装置の液体の液滴を含む構成を採用できる。これによれば、ワイピング装置により、吐出面に残留した浸漬装置の液体の液滴を除去することによって、吐出ヘッドの性能を良好に維持できる。
本発明の液滴吐出装置において、前記吐出面は、前記浸漬装置の液体に対して撥液性を有する構成を採用できる。これによれば、液体は吐出面で拡がらず、玉のような形状で、吐出面に残留する。したがって、ワイピング装置は、吐出面とワイピング面とを離した状態で、吐出面の液滴とワイピング面とを円滑に接触させることができる。
本発明の液滴吐出装置において、前記浸漬装置の液体は、前記吐出ヘッドの少なくとも一部をクリーニングするためのクリーニング用液体、及び前記吐出ヘッドの少なくとも一部を冷却するための冷却用液体の少なくとも一方を含む構成を採用できる。これによれば、浸漬装置の液体によって、吐出ヘッドをクリーニングしたり、吐出ヘッドの温度を調整したりすることができる。その後、ワイピング装置により、吐出面に残留した浸漬装置の液体の液滴を除去することによって、吐出ヘッドの性能を良好に維持できる。
本発明の液滴吐出装置において、前記ワイピング部材はシート状であり、前記ワイピング部材の前記ワイピング面と反対側の面を支持する支持部材と、前記吐出ヘッド及び前記支持部材の少なくとも一方を移動することによって、前記吐出ヘッドの吐出面と前記支持部材に支持された前記ワイピング部材のワイピング面との間の距離を調整する駆動装置と、を備えた構成を採用できる。これによれば、吐出面とワイピング面とを離した状態で、吐出面の液滴とワイピング面とを円滑に接触させることができる。
本発明の第２の観点によると、上述の液滴吐出装置を用いて基板に液滴を吐出して前記基板にパターンを形成する動作と、前記基板の液滴を乾燥する動作と、を含むデバイスの製造方法が提供される。
本発明の第２の観点によれば、性能の劣化が抑制された液滴吐出装置を用いて、所望の性能を有するデバイスを製造できる。
本発明の第３の観点によると、機能液の液滴を吐出する吐出口が形成された吐出面を有する吐出ヘッドを備えた液滴吐出装置のメンテナンス方法であって、前記吐出ヘッドの少なくとも一部を前記機能液以外の液体に浸ける動作と、前記吐出面に残留した前記液体の液滴を、前記吐出面と対向した状態で前記吐出面に対して相対的に移動可能なワイピング面を有するワイピング部材で払う動作とを含み、前記吐出面と前記ワイピング面とを離した状態で、前記吐出面の液滴と前記ワイピング面とを接触させることによって、前記液滴を払うメンテナンス方法が提供される。
本発明の第３の観点によれば、吐出面とワイピング面とを離した状態で、吐出面に残留した液滴とワイピング面とを接触させることによって液滴を払うようにしたので、吐出面に残留している液滴が、吐出口の近傍に移動したり、吐出口の内側に入り込むことを抑制しつつ、その液滴を払う（除去する）ことができる。したがって、吐出ヘッドの性能の劣化を抑制できる。
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。そして、水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
図１は、本実施形態に係る液滴吐出装置ＩＪを示す概略構成図、図２は、第１実施形態に係る液滴吐出装置ＩＪの一部を示す斜視図である。
液滴吐出装置ＩＪは、機能液の液滴Ｄを基板Ｐに吐出することによって、基板Ｐにデバイスパターンを形成する。液滴吐出装置ＩＪは、機能液の液滴Ｄを吐出する吐出口１が形成された吐出面２を有する吐出ヘッド３と、吐出面２と対向する第１位置Ａ１を含む所定領域で吐出ヘッド３に対して移動可能であり、Ｙ軸に沿って配置された複数の移動体４、５、６、７と、複数の移動体４、５、６、７をＹ軸に沿って移動させる駆動装置８と、吐出ヘッド３に流路を介して接続され、吐出ヘッド３に供給するための機能液を収容する機能液収容装置９と、液滴吐出装置ＩＪ全体の動作を制御する制御装置１０とを備えている。
本実施形態の液滴吐出装置ＩＪは、複数の吐出ヘッド３を備えたマルチヘッドタイプの液滴吐出装置であり、複数の吐出ヘッド３を支持するキャリッジ部材１１を有する。また、液滴吐出装置ＩＪは、吐出ヘッド３の駆動を制御する駆動回路を含む制御器１２を有する。制御器１２は、制御装置１０の指令に基づいて、吐出ヘッド３を駆動する。
本実施形態において、基板Ｐは、例えば特開２００６−１１４５９３号公報、特開２００６−２６１１４６号公報等に開示されているような、低温同時焼成セラミックス（ＬＴＣＣ：Low Temperature Co-fired Ceramics）多層回路基板を形成するための基板であって、焼成前のＬＴＣＣ基板（グリーンシート）を含む。
本実施形態においては、機能液として、金属微粒子（導電性微粒子）を所定の分散媒に分散したものを用いる。本実施形態においては、液滴吐出装置ＩＪが、焼成前のＬＴＣＣ基板（グリーンシート）に、金属微粒子を含む機能液の液滴Ｄを吐出して、その液滴Ｄで基板（グリーンシート）に配線パターンを形成する場合を例にして説明する。
本実施形態において、機能液は、金属微粒子と、水を主成分とする分散媒と、金属微粒子を分散媒に分散させる分散助剤と、アルコールの価数が３価〜６価であって標準状態の下で固体であり、かつ、機能液の全質量を基準として５重量％〜２０重量％の水溶性の多価アルコールとを含む。
金属微粒子には、例えば、金、銀、銅、白金、パラジウム、ロジウム、オスミウム、ルテニウム、イリジウム、鉄、錫、コバルト、ニッケル、クロム、チタン、タンタル、タングステン、インジウムなどの金属、あるいはこれらの合金を用いることができ、特に、銀、銅を用いることが好ましい。金属微粒子は、サイズや形状を限定されるものではないが、粒径が数［ｎｍ］〜数十［ｎｍ］の微粒子を用いることが好ましい。これによれば、機能液の焼成温度を低下させることができる。また、金属微粒子の分散性や機能液の流動性を向上させることができ、より安定した吐出動作を図ることができる。
分散媒は、水、あるいは水を主成分とする水溶液を用いることができる。分散媒は、機能液の粘度を調整するため、必要に応じて水溶性の有機溶媒を含んでもよい。水溶性有機溶媒には、例えば、エタノール、メタノール、ブタノール、プロパノール、イソプロパノールなどのアルキルアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールなどのグリコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、などのグリコールエーテル類を挙げることができ、これらを混合して用いてもよい。
分散助剤は、水に容易に溶解し、かつ、金属微粒子に配位して金属微粒子のコロイド状態を安定化させるものである。分散助剤には、例えば、カルボキシル基と水酸基とを官能基として有するヒドロキシ酸又はヒドロキシ酸塩を用いることができる。ヒドロキシ酸には、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸などを挙げることができ、これらを混合して用いてもよい。ヒドロキシ酸塩には、クエン酸ナトリウム、クエン酸カリウム、クエン酸リチウム、リンゴ酸ナトリウム、酒石酸ナトリウムなどを挙げることができ、これらを混合して用いてもよい。
また、分散助剤は、カルボキシル基とメルカプト基とを官能基として有するメルカプト酸又はメルカプト酸塩を用いることができる。メルカプト酸には、メルカプト酢酸、メルカプトプロピオン酸、メルカプトブタン酸、メルカプトコハク酸などを挙げることができ、これらを混合して用いてもよい。メルカプト酢酸塩には、メルカプト酢酸ナトリウム、メルカプトプロピオン酸ナトリウム、メルカプトコハク酸ナトリウムなどを挙げることができ、これらを混合して用いてもよい。
多価アルコールは、アルコールの価数が３〜６であり、標準状態（２５℃、１気圧の状態）の下で固体のものを用いることができる。多価アルコールには、単糖類、二糖類、オリゴ糖及び多糖類のカルボニル基を還元した糖アルコール、２−（ヒドロキシメチル）−１，３−プロパンジオール、１，２，３−ヘキサントリオール、１，２，３−ヘプタントリオールなどを用いることができる。糖アルコールには、例えば、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、ソルビトール、エリスリトール、スレイトール、リビトール、アラビニトール、キシリトール、アリトール、マニトール、ドルシトール、イディトール、グリコール、イノシトール、マルチトール、ラクチトールなどを挙げることができ、これらの混合物を用いてもよい。
多価アルコールの濃度は、機能液の全質量に対して５重量％〜２０重量％であり、好ましくは１０重量％以上である。多価アルコールの濃度が５重量％よりも低くなると、多価アルコールによる保温効果が低下し、吐出ヘッド内での乾燥抑制が不十分になる。一方、多価アルコールの濃度が２０重量％よりも高くなると、金属微粒子の分散が不安定となる。
これによって、吐出ヘッド内では、多価アルコールと水との間の相互作用（例えば、水素結合やファンデルワールス結合など）が、分散媒の乾燥を抑制させる。また、吐出ヘッド内では、多価アルコールと金属微粒子との間の相互作用（例えば、配位結合など）が、一旦析出した金属微粒子を再び機能液に分散させる（再分散させる）。この結果、吐出口目詰まりを、より確実に解消させることができる。
しかも、基板Ｐ上では、分散媒が揮発（蒸発）するとき、多価アルコールが順次析出する。この結果、多価アルコールを固体にする分だけ、機能液の流れ出しを回避させることができる。また、金属微粒子の再分散により、機能液の乾燥状態を、より均一にさせることができる。そのため、乾燥状態の差異によって生じるパターンのクラック（割れ）を抑制させることができる。
本実施形態においては、機能液の金属微粒子として、銀微粒子（有機銀化合物、酸化銀ナノ粒子を含む）を用い、分散媒として、水（純水）を用い、多価アルコール（糖アルコール）として、キシリトールを用い、分散助剤として、クエン酸ナトリウムを用いる。本実施形態においては、液滴吐出装置ＩＪが、焼成前のＬＴＣＣ基板（グリーンシート）に、銀微粒子及びキシリトールを含む機能液の液滴Ｄを吐出して、その液滴Ｄで基板（グリーンシート）に配線パターンを形成する場合を例にして説明する。
液滴吐出装置ＩＪは、少なくとも３つの移動体を有する。本実施形態においては、液滴吐出装置ＩＪは、４つの移動体４、５、６、７を有する。第１移動体４は、Ｙ軸に沿って配置された４つの移動体のうち、最も−Ｙ側に配置されており、第４移動体７は、最も＋Ｙ側に配置されている。すなわち、第１移動体４と第２移動体７とは、Ｙ軸に沿って配置された４つの移動体４、５、６、７のうち、Ｙ軸方向に関して両端に配置されている。第２移動体５及び第３移動体６は、第１移動体４と第４移動体７との間に配置されている。第２移動体５は、第３移動体６の−Ｙ側に配置されている。
第１移動体４は、液滴Ｄでパターンが形成される基板Ｐを保持しながら移動可能である。第２、第３、第４移動体５、６、７は、吐出ヘッド３をメンテナンスするメンテナンス装置を含む。本実施形態においては、第２移動体５は、吐出ヘッド３の吐出面２を覆うキャッピング装置１３を含む。第３移動体６は、吐出ヘッド３の吐出面２の異物を払うワイピング装置１４を含む。第４移動体７は、吐出ヘッド３の少なくとも一部を機能液以外の液体に浸ける浸漬装置１５を含む。
液滴吐出装置ＩＪは、各移動体４、５、６、７を移動可能に支持する支持面１６を有するベース部材１７を備えている。各移動体４、５、６、７のそれぞれは、支持面１６に沿って移動可能である。本実施形態においては、支持面１６は、ＸＹ平面とほぼ平行である。また、本実施形態においては、ベース部材１７の支持面１６と、その支持面１６と対向する各移動体４、５、６、７の対向面との間にエアベアリングが形成されている。各移動体４、５、６、７は、エアベアリングにより、支持面１６に対して非接触で支持される。
また、液滴吐出装置ＩＪは、複数の移動体４、５、６、７のＹ軸方向への移動を案内するガイド部材１８を備えている。ガイド部材１８は、Ｙ軸方向に長い棒状の部材であり、支持面１６の上に配置されている。本実施形態においては、ガイド部材１８の両端は、ガイド部材１８の外側に配置された支持部材１９で支持されている。支持部材１９は、床面２０に支持されている。また、ベース部材１７は、床面２０に支持されている支持部材２１で支持されている。
本実施形態においては、駆動装置８は、リニアモータを含み、複数の移動体４、５、６、７のそれぞれを独立して移動可能である。駆動装置８は、ガイド部材１８に配置されたリニアモータの固定子２２と、ガイド部材１８と対向する各移動体４、５、６、７の対向面のそれぞれに配置されたリニアモータの可動子２３、２４、２５、２６とを有する。制御装置１０は、リニアモータを含む駆動装置８を用いて、各移動体４、５、６、７のそれぞれをベース部材１７上で独立して移動可能である。
また、液滴吐出装置ＩＪは、吐出ヘッド３と別の位置に配置され、第１移動体４に基板Ｐを搬入する動作、及び第１移動体４から基板Ｐを搬出する動作の少なくとも一方を実行する基板搬送装置２７を備えている。基板搬送装置２７の近傍には、基板Ｐを収容可能な基板収容装置２８が配置されている。
基板搬送装置２７は、Ｙ軸方向に関して第１位置Ａ１と異なる第２位置Ａ２に配置された第１移動体４に基板Ｐを搬入する動作、及び第１移動体４から基板Ｐを搬出する動作の少なくとも一方を実行する。第１位置Ａ１と第２位置Ａ２とは、Ｙ軸方向に関して離れている。本実施形態においては、第１位置Ａ１は、第２位置Ａ２の＋Ｙ側の位置である。第１移動体４は、吐出ヘッド３の吐出面２と対向する第１位置Ａ１と、基板搬送装置２７の近傍の第２位置Ａ２との間を、ベース部材１７の支持面１６に沿って移動可能である。
基板搬送装置２７は、例えば基板収容装置２８に収容されている基板Ｐを、第２位置Ａ２に配置された第１移動体４に搬入可能である。また、基板搬送装置２７は、第２位置Ａ２に配置された第１移動体４より基板Ｐを搬出し、基板収容装置２８に収容可能である。
また、本実施形態においては、液滴吐出装置ＩＪは、第１移動体４の移動経路の少なくとも一部に配置され、第１移動体４の熱の周囲への放散を遮る断熱部材２９を備えている。断熱部材２９は、第１移動体４を含む各移動体５、６、７の移動を妨げないように、ベース部材１７の所定位置に取り付けられている。
また、液滴吐出装置ＩＪは、上述の吐出ヘッド３、キャリッジ部材１１、移動体４、５、６、７、ベース部材１７、ガイド部材１８、基板搬送装置２７、基板収容装置２８、断熱部材２９、機能液収容装置９、制御器１２、及び制御装置１０等の各機器、部材等を収容するチャンバ本体３０と、チャンバ本体３０の内側の空間の環境（温度、湿度、クリーン度等）を調整可能な空調装置３１とを有するチャンバ装置３２を備えている。
図３及び図４を参照しながら、吐出ヘッド３について説明する。図３は、キャリッジ部材１１に支持された複数の吐出ヘッド３を下側から見た図、図４は、吐出ヘッド３の構造の一例を説明するための断面図である。
本実施形態の吐出ヘッド３は、ピエゾ素子（圧電素子）３３に所定の駆動信号を供給して、そのピエゾ素子３３を変形させることによって、機能液を収容した空間３４の圧力を可撓性の振動板（膜）３５を介して変動させ、その圧力の変動を利用して、吐出口１より機能液の液滴Ｄを吐出する、いわゆる電気機械変換方式の吐出ヘッドである。制御器１２は、制御装置１０の指令に基づいて、吐出ヘッド３を駆動する。制御器１２は、吐出ヘッド３のピエゾ素子３３に所定の駆動信号を供給して、その駆動信号に応じた大きさの液滴Ｄを吐出口１のそれぞれより吐出可能である。
図３に示すように、本実施形態の液滴吐出装置ＩＪは、複数の吐出ヘッド３を有する。複数の吐出ヘッド３は、キャリッジ部材１１に支持されている。吐出ヘッド３は、機能液の液滴Ｄを吐出する吐出口（吐出ノズル）１が形成された吐出面（ノズル形成面）２を有する。吐出面２は、所定方向に長い形状（本実施形態においてはほぼ長方形状）を有する。吐出口１は、吐出面２において、所定方向（吐出面２の長手方向）に沿って複数形成されている。本実施形態においては、複数の吐出口１が並ぶ所定方向は、ＸＹ平面内においてＸ軸方向に対して傾斜する方向である。
図４に示すように、吐出ヘッド３は、ヘッド本体３６と、ヘッド本体３６の下端に配置されたプレート部材（ノズルプレート）３７とを有する。吐出口１は、プレート部材３７に形成されている。プレート部材３７は、上下方向に貫通する孔を複数有する。吐出口１は、その孔の下端に配置されている。吐出面２は、プレート部材３７に配置されている。
本実施形態においては、吐出ヘッド３（プレート部材３７）の吐出面２は、下側（−Ｚ側）に向いている。吐出ヘッド３からの液滴Ｄが吐出（供給）される基板Ｐの表面は、吐出ヘッド３の吐出面２と対向するように、上側（＋Ｚ側）に向いている。第１移動体４は、基板Ｐの表面が上側（＋Ｚ側）を向くように、基板Ｐを保持する。また、吐出ヘッド３の吐出面２は、ＸＹ平面とほぼ平行である。第１移動体４は、基板Ｐの表面とＸＹ平面とがほぼ平行となるように、基板Ｐを保持する。制御装置１０は、吐出ヘッド３の吐出面２と第１移動体４に保持された基板Ｐの表面との間の距離（プラテンギャップ）を所定の値（例えば６００μｍ）に維持した状態で、吐出口１より基板Ｐに液滴Ｄを吐出する。
また、吐出ヘッド３は、プレート部材３７（吐出口１）の上方に形成されたキャビティ（空間）３４と、キャビティ３４の上方に配置された可撓性の板（振動板）３５と、振動板３５の上方に配置されたピエゾ素子３３とを有する。キャビティ３４は、複数の吐出口１のそれぞれに対応するように複数形成されている。キャビティ３４は、流路を介して機能液収容装置９と接続される。キャビティ３４は、機能液収容装置９からの機能液を収容し、吐出口１に供給する。
振動板３５は、上下方向に振動することによって、キャビティ３４の圧力（容積）を変動可能である。ピエゾ素子３３は、振動板３５を上下方向に振動可能である。ピエゾ素子３３は、複数の吐出口１のそれぞれに対応するように複数配置されている。ピエゾ素子３３は、制御器１２からの駆動信号に基づいて振動板３５を振動させ、キャビティ３４の圧力を変動させることによって、吐出口１より機能液の液滴Ｄを吐出させる。
また、制御器１２は、例えば特開２００１−５８４３３号公報に開示されているように、ピエゾ素子３３に供給する駆動信号（駆動波形）を調整して、吐出口１のそれぞれから吐出される液滴Ｄの量（大きさ、体積）を調整可能である。
図１に示すように、本実施形態の液滴吐出装置ＩＪは、複数の吐出ヘッド３を、それら複数の吐出ヘッド３の位置がほぼ動かないように保持する保持装置３８を備えている。保持装置３８は、キャリッジ部材１１と、そのキャリッジ部材１１を支持する支持機構３９とを含む。本実施形態においては、支持機構３９は、チャンバ本体３０の天井面（内面）に固定されている。すなわち、本実施形態においては、複数の吐出ヘッド３は、キャリッジ部材１１及び支持機構３９を含む保持装置３８を介して、チャンバ本体３０の天井面（内面）に対してほぼ動かないように保持されている。
本実施形態においては、支持機構３９は、キャリッジ部材１１を微動可能なアクチュエータを含む。支持機構３９は、キャリッジ部材１１を、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６自由度の方向に微動可能である。
次に、図５を参照しながら、第１移動体４について説明する。図５（Ａ）は、第１移動体４を示す斜視図、図５（Ｂ）は、第１移動体４を−Ｙ側から見た図である。
第１移動体４は、液滴Ｄでパターンが形成される基板Ｐを保持しながら移動可能である。第１移動体４は、リニアモータの可動子２３を有する第１可動部材４０と、第１可動部材４０に搭載され、基板Ｐを保持する保持機構４１を有するホルダ部材４２とを備える。ベース部材１７の支持面１６と対向する第１可動部材４０の下面には、エアベアリング４３が形成されている。第１可動部材４０は、エアベアリング４３により、支持面１６に対して非接触で支持される。第１移動体４のホルダ部材４２は、基板Ｐの表面と吐出ヘッド３の吐出面２とが対向するように、且つ、基板Ｐの表面とＸＹ平面とがほぼ平行となるように、基板Ｐを保持する。
上述のように、本実施形態の基板Ｐはグリーンシートを含み、そのグリーンシートには厚み方向に貫通する孔（ビア）が形成されている。基板Ｐ（グリーンシート）の裏面には、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）で形成されたフィルムＦが貼り付けられており、第１移動体４のホルダ部材４２は、フィルムＦに支持された状態の基板Ｐを保持する。すなわち、本実施形態においては、第１移動体４のホルダ部材４２は、フィルムＦを介して基板Ｐ（グリーンシート）を保持する。
第１可動部材４０の下面には、ガイド部材１８を配置可能な凹部４４が形成されている。第１可動部材４０の凹部４４の内面は、ガイド部材１８と対向する。上述のように、ガイド部材１８には、リニアモータの固定子２２が配置されている。ガイド部材１８と対向する第１可動部材４０の凹部４４の内面には、リニアモータの可動子２３が配置される。固定子２２及び可動子２３を含む駆動装置８は、第１可動部材４０をＹ軸方向に移動可能である。また、第１可動部材４０のＹ軸方向への移動に伴って、その第１可動部材４０に搭載されているホルダ部材４２（基板Ｐ）も、第１可動部材４０と一緒にＹ軸方向に移動する。
本実施形態においては、第１可動部材４０とホルダ部材４２との間には、複数のアクチュエータ４５が配置されている。アクチュエータ４５は、例えばピエゾ素子を含む。制御装置１０は、これらアクチュエータ４５を制御することによって、第１可動部材４０上で、基板Ｐを保持したホルダ部材４２を移動（微動）可能である。本実施形態においては、基板Ｐを保持したホルダ部材４２は、アクチュエータ４５によって、第１可動部材４０上で、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６自由度の方向に移動（微動）可能である。
吐出ヘッド３から吐出された液滴Ｄを基板Ｐに供給するために、制御装置１０は、駆動装置８を用いて第１移動体４を移動して、吐出ヘッド３の吐出面２と対向する第１位置Ａ１に、第１移動体４（ホルダ部材４２）に保持されている基板Ｐを配置する。また、制御装置１０は、第１可動部材４０とホルダ部材４２との間に配置されているアクチュエータ４５を用いて、吐出面２の吐出口１から吐出された液滴Ｄが基板Ｐの所定位置に供給されるように、吐出ヘッド３の吐出面２と第１移動体４に保持されている基板Ｐの表面との間の距離（プラテンギャップ）、吐出ヘッド３の吐出面２と第１移動体４に保持されている基板Ｐの表面との傾斜方向（θＸ、θＹ方向）の位置関係、及び回転方向（θＺ方向）の位置関係を調整する。制御装置１０は、アクチュエータ４５を用いて、吐出ヘッド３の吐出面２と基板Ｐの表面とがほぼ平行となるように、且つ、プラテンギャップが所定の値になるように、吐出ヘッド３の吐出面２と第１移動体４に保持されている基板Ｐの表面との位置関係を調整する。
また、本実施形態においては、吐出ヘッド３の吐出面２と対向可能なホルダ部材４２の上面のうち、基板Ｐを保持する保持機構４１のＹ軸方向両側には、フラッシング領域４６が設けられている。フラッシング領域４６は、吐出ヘッド３の吐出口２から吐出された液滴Ｄを吸収可能な多孔部材の上面で形成されている。多孔部材は、例えばスポンジ状の部材を含む。制御装置１０は、吐出ヘッド３より基板Ｐに液滴Ｄを供給する前に、吐出ヘッド３の吐出口１とホルダ部材４２のフラッシング領域４６とを対向させた状態で、吐出口１より液滴Ｄを予め吐出する動作、いわゆるフラッシング動作を実行する。
また、第１移動体４は、基板Ｐを加熱する加熱装置４７を有する。加熱装置４７は、ホルダ部材４２に設けられている。制御装置１０は、ホルダ部材４２の加熱装置４７を用いて、そのホルダ部材４２に保持されている基板Ｐを加熱可能である。
加熱装置４７は、吐出ヘッド３の吐出口１より吐出され、基板Ｐに供給された（接触した）液滴Ｄに含まれる液体成分を瞬時に気化可能である。液滴吐出装置ＩＪは、加熱装置４７を用いて基板Ｐを加熱しつつ、その加熱された基板Ｐに吐出ヘッド３の吐出口１より液滴Ｄを供給することによって、基板Ｐに接触した液滴Ｄを瞬時に乾燥可能である。
また、基板Ｐを加熱しつつ、その基板Ｐに液滴Ｄを供給することにより、ピニング現象を生じさせることができる。基板Ｐに供給された後の液滴Ｄの乾燥過程においては、液滴Ｄの周縁部における固形分濃度が飽和濃度に達すると、その周縁部において固形分が局所的に析出する。すると、その析出した固形分によって液滴Ｄの周縁部がピン止めされたような状態となり、それ以降の乾燥に伴う液滴Ｄの収縮（外径の収縮）が抑制される。このような、周縁部に析出した固形分によって乾燥に伴う液滴Ｄの収縮が抑制される現象（ピニング現象）を生じさせることによって、基板Ｐに形成されるパターン（本実施形態においては配線パターン）のエッジ（外形）を良好に規定することができる。
なお、例えば特開２００５−２８２７６号公報、特開２００５−１４４３２４号公報等に開示されているように、基板Ｐの表面に配置された液滴Ｄの乾燥条件、対流条件等を調整して、基板Ｐに吐出（供給）された液滴Ｄに、ピニング現象を生じさせるようにしてもよい。
以下の説明において、第１移動体４の基板Ｐを第１位置Ａ１に配置して、その基板Ｐにパターンを形成するための液滴Ｄを吐出口１より吐出する処理を適宜、パターン形成処理、と称する。
次に、図６及び図７を参照しながら、第２移動体５について説明する。図６は、第２移動体５を−Ｘ側から見た図、図７は、第２移動体５の動作の一例を説明するための図である。第２移動体５は、吐出ヘッド３の吐出面２を覆うキャッピング装置１３を含む。
キャッピング装置１３は、吐出ヘッド３の吐出面２を覆うキャップ部材４８を備える。キャップ部材４８は、吐出ヘッド３と対向可能な上面と、その上面に形成され、吐出ヘッド３の吐出面２との間で密閉された空間４９を形成可能なキャップ部５０とを有する。キャップ部５０は、キャップ部材４８の上面に形成された凹部（溝）を含み、その凹部によって、吐出ヘッド３の吐出面２との間で空間４９を形成可能である。キャップ部５０は、複数の吐出ヘッド３に対応するように、複数設けられている。
図７に示すように、キャッピング装置１３は、吐出ヘッド３の吐出面２の全てをキャップ部（凹部）５０の内側に配置可能である。キャッピング装置１３は、例えばキャップ部（凹部）５０の内側面の上端と、吐出面２の外側の吐出ヘッド３（プレート部材３７）の側面とを接触させることによって、空間４９を形成する。
また、キャッピング装置１３は、キャップ部（凹部）５０の底面に形成され、空間４９の流体を吸引可能な吸引口５３と、吸引口５３と流路５４を介して接続された真空システム５５とを有する。
第２移動体５は、リニアモータの可動子２４を有する第２可動部材５１を有し、キャッピング装置１３のキャップ部材４８は、第２可動部材５１上に搭載されている。上述の第１可動部材４０と同様、ベース部材１７の支持面１６と対向する第２可動部材５１の下面にはエアベアリングが形成されており、第２可動部材５１は、支持面１６に対して非接触で支持される。また、上述の第１可動部材４０と同様、第２可動部材５１の下面には、ガイド部材１８を配置可能な凹部が形成されており、可動子２４は、ガイド部材１８と対向する第２可動部材５１の凹部の内面に配置されている。固定子２２及び可動子２４を含む駆動装置８は、第２可動部材５１をＹ軸方向に移動可能である。また、第２可動部材５１のＹ軸方向への移動に伴って、その第２可動部材５１に搭載されているキャッピング装置１３のキャップ部材４８も、第２可動部材５１と一緒にＹ軸方向に移動する。
また、上述の第１移動体４と同様、第２可動部材５１とキャップ部材４８との間には複数のアクチュエータ５２が配置されている。制御装置１０は、これらアクチュエータ５２を制御することによって、第２可動部材５１上で、キャップ部材４８を移動（微動）可能である。本実施形態においては、キャップ部材４８は、アクチュエータ５２によって、第２可動部材５１上で、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６自由度の方向に移動（微動）可能である。
キャップ部材４８で吐出ヘッド３の吐出面２を覆うために、制御装置１０は、駆動装置８を用いて第２移動体５を移動して、吐出ヘッド３の吐出面２と対向する第１位置Ａ１に、第２移動体５のキャッピング装置１３を配置する。そして、制御装置１０は、第２可動部材５１とキャップ部材４８との間に配置されているアクチュエータ５２を用いて、吐出ヘッド３の吐出面２とキャップ部材４８のキャップ部５０との間に空間４９が形成されるように、吐出ヘッド３の吐出面２とキャップ部材４８のキャップ部５０との位置関係を調整する。例えば、制御装置１０は、アクチュエータ５２を用いて、キャップ部材５１を＋Ｚ方向に移動する。これにより、吐出面２がキャップ部５０の内側に配置され、キャップ部５０の内側面の上端と、吐出面２の外側の吐出ヘッド３（プレート部材３７）の側面とが接触し、空間４９が形成される。
キャッピング装置１３は、吐出ヘッド３の吐出面２とキャップ部５０との間で空間４９を形成した状態で、真空システム５５を駆動することによって、空間４９の流体を吸引口５３を介して吸引可能である。キャッピング装置１３は、吸引口５３より空間４９の流体（主に気体）を吸引して、空間４９を負圧にすることができる。キャッピング装置１３は、空間４９を負圧にすることによって、キャビティ３４等、吐出ヘッド３の内部の機能液を、吐出口１を介して吸引可能である。キャッピング装置１３は、空間４９の流体を吸引することによって、吐出ヘッド３の内部において、吐出口１に向かう機能液の流れを生成できる。
なお、図６及び図７を参照して説明したキャッピング装置１３は、主に吐出ヘッド３の機能液を吸引する吸引機能を有するが、吐出面２（吐出口１）の乾燥を抑制する機能（保湿機能）を有していてもよい。例えば、キャップ部５０の内側に湿った多孔部材（メッシュ部材）を配置し、その湿った多孔部材を含むキャップ部５０と吐出ヘッド３の吐出面２とを対向させることによって、吐出面２の乾燥を抑制できる。すなわち、吐出面２とキャップ部５０とで形成される空間４９の内側に、湿った多孔部材を配置することによって、吐出面２の乾燥を抑制できる。
以下の説明において、第２移動体５を第１位置Ａ１に配置して、吐出面２とキャップ部５０とを対向させて、吐出面２をキャップ部材４８で覆う処理を適宜、キャッピング処理、と称する。
次に、図８及び図９を参照しながら、第３移動体６について説明する。図８は、第３移動体６を−Ｘ側から見た図、図９は、第３移動体６の動作の一例を説明するための図である。第３移動体６は、吐出ヘッド３の吐出面２の異物を払うワイピング装置１４を含む。吐出ヘッド３の吐出面２の異物は、液滴を含む。液滴は、機能液の液滴Ｄ、及び浸漬装置１５の液体の液滴の少なくとも一方を含む。
ワイピング装置１４は、吐出ヘッド３の吐出面２と対向した状態で、吐出面２に対して相対的に移動可能なワイピング面５６を有するワイピング部材５７と、ワイピング部材５７のワイピング面５６を移動するための駆動機構５８と、ワイピング部材５７及び駆動機構５８を収容するハウジング部材５９とを有する。
ワイピング部材５７の少なくとも一部は、吐出ヘッド３と対向可能なハウジング部材５９の上面に形成された開口６０より露出（突出）しており、吐出ヘッド３の吐出面２と対向可能である。ワイピング装置１４は、吐出ヘッド３の吐出面２とワイピング部材５７のワイピング面５６とを対向させた状態で、吐出面２に対してワイピング部材５７のワイピング面５６を移動することによって、そのワイピング面５６で吐出ヘッド３の吐出面２に付着している異物を払う（除去する）ことができる。
本実施形態においては、ワイピング部材５７はシート状の部材である。ワイピング部材５７は、液体を吸収可能な材料で形成されている。ワイピング部材５７は、例えば不織布を含む。なお、ワイピング部材５７は、例えばポリエステル等の織布であってもよい。液体を吸収可能な材料でワイピング部材５７を形成することによって、吐出ヘッド３の吐出面２に付着している異物が液滴である場合、その液滴（異物）を良好に除去できる。
ワイピング部材５７のワイピング面５６を移動するための駆動機構５８は、ワイピング部材５７を支持しながら回転する複数のローラを有する。駆動機構５８は、ハウジング部材５９の内側に配置され、シート状のワイピング部材５７を繰り出す繰り出しローラ６１と、ワイピング部材５７を巻き取る巻き取りローラ６２と、吐出ヘッド３の吐出面２に最も近い位置に配置され、吐出ヘッド３の吐出面２と対向するワイピング部材５７のワイピング面５６と反対側の面を支持する支持ローラ６３とを有する。繰り出しローラ６１、及び巻き取りローラ６２のそれぞれは、回転モータ等のアクチュエータ６４、６５によって回転する。ワイピング装置１４は、アクチュエータ６４、６５を制御して、ワイピング部材５７のワイピング面５６を所定速度で移動（走行）させる。また、駆動機構５８は、ワイピング部材５７の移動（走行）を案内するガイドローラ、及びワイピング部材５７の張力を調整可能なテンションローラを備える。
第３移動体６は、リニアモータの可動子２５を有する第３可動部材６６を有し、ワイピング装置１４のハウジング部材５９は、第３可動部材６６上に搭載されている。上述の第１可動部材４０と同様、ベース部材１７の支持面１６と対向する第３可動部材６６の下面にはエアベアリングが形成されており、第３可動部材６６は、支持面１６に対して非接触で支持される。また、上述の第１可動部材４０と同様、第３可動部材６６の下面には、ガイド部材１８を配置可能な凹部が形成されており、可動子２５は、ガイド部材１８と対向する第３可動部材６６の凹部の内面に配置されている。固定子２２及び可動子２５を含む駆動装置８は、第３可動部材６６をＹ軸方向に移動可能である。また、第３可動部材６６のＹ軸方向への移動に伴って、その第３可動部材６６に搭載されているワイピング装置１４のハウジング部材５９も、第３可動部材６６と一緒にＹ軸方向に移動する。
また、上述の第１移動体４と同様、第３可動部材６６とハウジング部材５９との間には複数のアクチュエータ６７が配置されている。制御装置１０は、これらアクチュエータ６７を制御することによって、第３可動部材６６上で、ハウジング部材５９を移動（微動）可能である。本実施形態においては、ハウジング部材５９は、アクチュエータ６７によって、第３可動部材６６上で、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６自由度の方向に移動（微動）可能である。また、ワイピング装置１４のワイピング部材５７及びローラを含む駆動機構５８は、ハウジング部材５９の移動に伴って、第３可動部材６６上で、ハウジング部材５９と一緒に移動する。
ワイピング部材５７で吐出ヘッド３の吐出面２の異物を払うために、制御装置１０は、駆動装置８を用いて第３移動体６を移動して、吐出ヘッド３の吐出面２と対向する第１位置Ａ１に、第３移動体６のワイピング装置１４を配置する。そして、制御装置１０は、第３可動部材６６とハウジング部材５９との間に配置されているアクチュエータ６７を用いて、ワイピング面５６で吐出面２の異物を払うことができるように、吐出ヘッド３の吐出面２と支持ローラ６３に支持されている部分のワイピング部材５７のワイピング面５６との位置関係を調整する。例えば、制御装置１０は、アクチュエータ６７を用いて、ハウジング部材５９をＺ軸方向に移動する。ハウジング部材５９のＺ軸方向の移動に伴って、ワイピング部材５７を支持する支持ローラ６３もＺ軸方向に移動する。制御装置１０は、アクチュエータ６７を用いて、吐出ヘッド３の吐出面２と支持ローラ６３に支持されている部分のワイピング部材５７のワイピング面５６との間のＺ軸方向の距離（ギャップ）を調整する。そして、制御装置１０は、繰り出しローラ６１、及び巻き取りローラ６２を駆動して、吐出ヘッド３の吐出面２に対してワイピング部材５７のワイピング面５６を移動（走行）させる。これにより、ワイピング装置１４は、吐出ヘッド３の吐出面２に付着している異物を払う（除去する）ことができる。
以下の説明において、第３移動体６を第１位置Ａ１に配置して、吐出面２とワイピング面５６とを対向させて、吐出面２の異物を払う処理を適宜、ワイピング処理、と称する。
次に、図１０及び図１１を参照しながら、第４移動体７について説明する。図１０は、第４移動体７を−Ｘ側から見た図、図１１は、第４移動体７の動作の一例を説明するための図である。第４移動体７は、吐出ヘッド３の少なくとも一部を機能液以外の液体に浸ける浸漬装置１５を含む。
浸漬装置１５は、液体を収容する容器６８を備える。浸漬装置１５の液体は、吐出ヘッド３の少なくとも一部をクリーニングするためのクリーニング用液体、及び吐出ヘッド３の少なくとも一部を冷却するための冷却用液体の少なくとも一方を含む。浸漬装置１５の容器６８の上部には開口６９が形成されており、吐出ヘッド３は、その開口６９を介して、容器６８の内側の空間に移動可能（進入可能）である。制御装置１０は、吐出ヘッド３を浸漬装置１５の容器６８の内側の空間に配置して液体に浸けることによって、吐出面２、吐出口１等、吐出ヘッド３の少なくとも一部をクリーニングしたり、冷却したりすることができる。
浸漬装置１５の液体として、例えば機能液の分際媒を用いることができる。本実施形態の分散媒は、水を主成分とした液体であるため、浸漬装置１５の液体として、水、もしくは水を主成分とした液体を用いることができる。これにより、吐出面２、吐出口１等、吐出ヘッド３の少なくとも一部をクリーニングしたり、冷却したりすることができる。
第４移動体７は、リニアモータの可動子２６を有する第４可動部材７０を有し、浸漬装置１５の容器６８は、第４可動部材７０上に搭載されている。上述の第１可動部材４０と同様、ベース部材１７の支持面１６と対向する第４可動部材７０の下面にはエアベアリングが形成されており、第４可動部材７０は、支持面１６に対して非接触で支持される。また、上述の第１可動部材４０と同様、第４可動部材７０の下面には、ガイド部材１８を配置可能な凹部が形成されており、可動子２６は、ガイド部材１８と対向する第４可動部材７０の凹部の内面に配置されている。固定子２２及び可動子２６を含む駆動装置８は、第４可動部材７０をＹ軸方向に移動可能である。また、第４可動部材７０のＹ軸方向への移動に伴って、その第４可動部材７０に搭載されている浸漬装置１５の容器６８も、第４可動部材７０と一緒にＹ軸方向に移動する。
また、上述の第１移動体４と同様、第４可動部材７０と容器６８との間には複数のアクチュエータ７１が配置されている。制御装置１０は、これらアクチュエータ７１を制御することによって、第４可動部材７０上で、容器６８を移動（微動）可能である。本実施形態においては、容器６８は、アクチュエータ７１によって、第４可動部材７０上で、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６自由度の方向に移動（微動）可能である。また、浸漬装置１５の容器６８に収容されている液体の表面は、容器６８の移動に伴って、第４可動部材７０上で、容器６８と一緒に移動する。
浸漬装置１５の液体に吐出ヘッド３の少なくとも一部を浸けるために、制御装置１０は、駆動装置８を用いて第４移動体７を移動して、吐出ヘッド３の吐出面２と対向する第１位置Ａ１に、第４移動体７の浸漬装置１５を配置する。そして、制御装置１０は、第４可動部材７０と容器６８との間に配置されているアクチュエータ７１を用いて、少なくとも吐出ヘッド３の吐出面２が容器６８の液体に浸かるように、吐出ヘッド３の吐出面２と容器６８（液体の表面）との位置関係を調整する。例えば、制御装置１０は、アクチュエータ７１を用いて、容器６８を＋Ｚ方向に移動する。容器６８の＋Ｚ方向への移動に伴って、容器６８に収容されている液体の表面は、吐出ヘッド３に近づくように移動する。これにより、浸漬装置１５は、吐出ヘッド３の少なくとも一部を液体に浸けることができる。また、制御装置１０は、アクチュエータ７１を用いて容器６８を−Ｚ方向に移動することによって、容器６８に収容されている液体と吐出ヘッド３とを離すことができる。
以下の説明において、第４移動体７を第１位置Ａ１に配置して、吐出面２と容器６８の液体の表面とを対向させて、吐出ヘッド３の少なくとも一部を容器６８の液体に浸ける処理を適宜、浸漬処理、と称する。
また、以下の説明において、吐出ヘッド３をメンテナンスする処理を適宜、メンテナンス処理、と称する。メンテナンス処理は、上述のキャッピング処理、ワイピング処理、及び浸漬処理の少なくとも一つを含む。
次に、図１２及び図１３を参照しながら、断熱部材２９について説明する。図１２は、断熱部材２９を示す斜視図、図１３は、断熱部材２９を−Ｙ側から見た図である。
断熱部材２９は、第１移動体４を含む各移動体５、６、７の移動経路の少なくとも一部に配置されている。断熱部材２９は、第１移動体４の熱の周囲への放散を遮る。上述のように、第１移動体４（ホルダ部材４２）は、基板Ｐを加熱する加熱装置４７を含む。断熱部材２９は、加熱装置４７を含む第１移動体４から発する熱の周囲への放散を遮る。
断熱部材２９は、第１位置Ａ１以外の移動体４、５、６、７の移動経路に配置される。すなわち、断熱部材２９は、吐出ヘッド３を用いた処理が実行される第１位置Ａ１には配置されない。これにより、吐出ヘッド３と各移動体４、５、６、７との協働による各種処理（パターン形成処理、メンテナンス処理等）の実行は妨げられない。
また、断熱部材２９は、基板搬送装置２７による処理が実行される第２位置Ａ２にも配置されない。すなわち、本実施形態においては、断熱部材２９は、第１位置Ａ１及び第２位置Ａ２以外の移動体４、５、６、７の移動経路に配置される。これにより、第２位置Ａ２に配置された第１移動体４に対する基板搬送装置２７による基板Ｐの搬入動作、及び第１移動体４からの基板Ｐの搬出動作は妨げられない。
本実施形態においては、断熱部材２９は、ベース部材１７上の各移動体４、５、６、７と離れた位置で、移動体４、５、６、７を囲むように配置される。断熱部材２９は、各移動体４、５、６、７が移動可能な内部空間７２を形成する。具体的には、断熱部材２９は、ベース部材１７の支持面１６との間で、各移動体４、５、６、７が移動可能（配置可能）な内部空間７２を形成する。断熱部材２９は、内部空間７２に配置されている第１移動体４の熱の外部空間７３への放散を遮る。外部空間７３は、内部空間７２に対して断熱部材２９の外側の空間である。本実施形態においては、外部空間７３は、チャンバ本体３０（チャンバ本体３０の内面）と断熱部材２９（断熱部材２９の外面）との間の空間を含む。
チャンバ装置３２の空調装置３１は、少なくとも外部空間７３の温度を調整する。これにより、チャンバ本体３０内の各機器、部材は、所望の環境（温度）に配置される。
断熱部材２９は、断熱性を有し、内部空間７２に配置されている第１移動体４の熱の外部空間７３への放散を遮ることができる材料で形成されている。本実施形態においては、断熱部材２９は、例えば発泡スチロール、発泡ウレタン等、断熱性を有する合成樹脂製である。
本実施形態の断熱部材２９は、トンネル状であり、断熱部材２９のＹ軸方向の両側には、各移動体４、５、６、７が通過可能な開口（出入口）７４が形成されている。開口７４は、断熱部材２９によって形成される内部空間７２と外部空間７３とを連通するように形成されている。
次に、上述の構成を有する液滴吐出装置ＩＪを用いてデバイスを製造する手順の一例について説明する。
制御装置１０は、駆動装置８を制御して、第２位置Ａ２に第１移動体４を配置する。制御装置１０は、基板搬送装置２７を用いて、第２位置Ａ２に配置された第１移動体４に基板Ｐを搬入する。制御装置１０は、駆動装置８を制御して、基板Ｐを保持した第１移動体４を、第１位置Ａ１に移動する。
図１４は、基板Ｐを保持した第１移動体４が第１位置Ａ１に配置されている状態を示す模式図である。制御装置１０は、吐出ヘッド３の吐出面２と対向する第１位置Ａ１に、基板Ｐを保持した第１移動体４を配置する。そして、制御装置１０は、制御器１２及び駆動装置８を制御して、第１移動体４の基板Ｐを吐出ヘッド３の吐出口１に対してＹ軸方向に移動しつつ、吐出ヘッド３の吐出口１より、基板Ｐに液滴Ｄを吐出（供給）する。これにより、基板Ｐには、液滴Ｄによりパターンが形成される。制御装置１０は、加熱装置４７で基板Ｐを加熱しつつ、その基板Ｐに液滴Ｄを吐出する。
本実施形態においては、複数の吐出ヘッド３の吐出口１のうち、最も＋Ｘ側の吐出口１と最も−Ｘ側の吐出口１との距離と、基板ＰのＸ軸方向の大きさとはほぼ等しい。したがって、液滴吐出装置ＩＪは、第１移動体４の基板Ｐを吐出ヘッド３の吐出口１に対してＹ軸方向に移動しつつ吐出ヘッド３の吐出口１より基板Ｐに液滴Ｄを吐出（供給）する際、基板ＰのＹ軸方向への１回のみの移動によって、基板Ｐの表面のほぼ全域に液滴Ｄを供給できる。
なお、液滴吐出装置ＩＪは、第１移動体４の基板Ｐを吐出ヘッド３の吐出口１に対してＹ軸方向に移動しつつ吐出ヘッド３の吐出口１より基板Ｐに液滴Ｄを吐出（供給）する動作を複数回繰り返してもよい。例えば、基板Ｐを＋Ｙ方向に移動しつつ液滴Ｄを吐出する動作と、基板Ｐを−Ｙ方向に移動しつつ液滴Ｄを吐出する動作とを複数回繰り返してもよい。また、例えば特開２００４−１４６７９６号公報等に開示されているように、基板ＰのＹ軸方向への移動毎に、基板ＰのＸ軸方向に関する位置を僅かな距離（例えば１つのピクセル分）だけ変化させてもよい。
なお、上述のように、本実施形態の基板Ｐは、焼結前のＬＴＣＣ基板（グリーンシート）であって、フィルムＦに支持されている。液滴吐出装置ＩＪは、フィルムＦに支持された状態の基板Ｐ（グリーンシート）に液滴Ｄを吐出する。
基板Ｐに対する液滴Ｄの吐出動作が終了した後、制御装置１０は、第１移動体４から基板Ｐを搬出するために、駆動装置８を制御して、第１移動体４を第２位置Ａ２に移動する。本実施形態においては、駆動装置８は、複数の移動体４、５、６、７を−Ｙ方向（第１位置Ａ１から第２位置Ａ２へ向かう方向）に一緒に移動する。
第１位置Ａ１と第２位置Ａ２との間の第１移動体４の移動経路には断熱部材２９が配置されているので、第１位置Ａ１と第２位置Ａ２との間を移動する第１移動体４の熱が外部空間７３へ放散されることを抑制できる。
図１５は、基板Ｐを保持した第１移動体４が第２位置Ａ２に配置されている状態を示す模式図である。本実施形態においては、基板Ｐを保持可能な第１移動体４は、複数（４つ）の移動体４、５、６、７のうち、最も−Ｙ側（第２位置Ａ２側）に配置されている移動体である。図１５に示すように、第１移動体４が第２位置Ａ２に配置されているときに、複数（４つ）の移動体４、５、６、７のうち、最も＋Ｙ側（第１位置Ａ１側）に配置されている第４移動体７が第１位置Ａ１に配置されるように、各移動体４、５、６、７の大きさ、数、及び第１位置Ａ１と第２位置Ａ２との距離等が設定されている。したがって、図１５に示すように、第１移動体４が第２位置Ａ２に配置されているとき、第１位置Ａ１には第４移動体７が配置される。
制御装置１０は、基板搬送装置２７を用いて、第２位置Ａ２に配置された第１移動体４から基板Ｐを搬出するとともに、その第１移動体４に新たな基板Ｐを搬入する。
一方、制御装置１０は、第１位置Ａ１に配置された第４移動体７を用いて、吐出ヘッド３のメンテナンス処理を実行する。第４移動体７の浸漬装置１５は、吐出ヘッド３と協働して、メンテナンス処理（浸漬処理）を実行する。制御装置１０は、図１１等を参照して説明したように、浸漬装置１５の液体に吐出ヘッド３を浸けて、吐出ヘッド３をクリーニングする。また、上述のように、第１移動体４の基板Ｐと対向した状態で液滴Ｄを吐出することによって、吐出ヘッド３（プレート部材３７）は、加熱装置４７を含む第１移動体４の熱によって加熱される可能性がある。吐出ヘッド３のプレート部材３７が加熱され、その状態を放置しておくと、例えばプレート部材３７が熱変形し、プレート部材３７に形成されている吐出口１同士の距離（ノズルピッチ）が変動する可能性がある。ノズルピッチが変動すると、基板Ｐの所望の位置に液滴Ｄを供給できず、製造されるデバイスの性能が劣化する。本実施形態においては、浸漬装置１５の液体に吐出ヘッド３を浸けることによって、加熱された吐出ヘッド３（プレート部材３７）を冷却し、吐出ヘッド３（プレート部材３７）を最適な温度に戻す（調整する）ことができる。したがって、ノズルピッチが変動する等の不具合の発生を抑制できる。
また、本実施形態においては、制御装置１０は、第１位置Ａ１に配置された第４移動体７による吐出ヘッド３に対するメンテナンス処理と、第２位置Ａ２に配置された第１移動体４を用いた処理（基板Ｐの搬出、搬入処理）の少なくとも一部とを並行して実行可能である。これにより、液滴吐出装置ＩＪの処理効率を向上できる。
第４移動体７を用いた処理（浸漬処理）が終了した後、制御装置１０は、駆動装置８を制御して、複数の移動体４、５、６、７を＋Ｙ方向（第２位置Ａ２から第１位置Ａ１へ向かう方向）に一緒に移動し、第１位置Ａ１に第３移動体６を配置する。制御装置１０は、第１位置Ａ１に配置された第３移動体６を用いて、吐出ヘッド３のメンテナンス処理を実行する。第３移動体６のワイピング装置１４は、吐出ヘッド３と協働して、メンテナンス処理（ワイピング処理）を実行する。
制御装置１０は、ワイピング装置１４のワイピング部材５７を用いて、吐出ヘッド３の吐出面２に付着している異物を払う。本実施形態においては、ワイピング装置１４によるワイピング処理の前に、浸漬装置１５による浸漬処理が実行されている。吐出ヘッド３の吐出面２には、浸漬装置１５の液体の液滴が残留している可能性がある。制御装置１０は、ワイピング装置１４を用いて、吐出ヘッド３の吐出面２に残留した浸漬装置１５の液体の液滴を払う（除去する）。
図１６は、本実施形態に係るワイピング装置１４の動作の一例を示す模式図である。図１６に示すように、ワイピング装置１４は、吐出ヘッド３の吐出面２とワイピング部材５７のワイピング面５６とを離した状態で、吐出面２の異物（液滴）とワイピング面５６とを接触させることによって、異物を払う。
上述のように、ワイピング部材５７は、不織布等、液体を吸収可能な材料で形成されている。また、図１６に示す異物は、浸漬装置１５の液体の液滴であり、ワイピング部材５７は、その浸漬装置１５の液体を良好に吸収可能である。したがって、ワイピング装置１４は、吐出ヘッド３の吐出面２とワイピング部材５７のワイピング面５６とを接触させることなく、離した状態で、吐出面２の異物（液滴）とワイピング面５６とを接触させることによって、ワイピング部材５７によって、吐出面２の液体の液滴を吸収し、除去することができる。
本実施形態においては、ワイピング装置１４は、吐出ヘッド３の吐出面２とワイピング部材５７のワイピング面５６とを接触させることなく、離した状態で、吐出面２の異物（液滴）とワイピング面５６とを接触させるので、異物（液滴）が吐出口１の近傍に移動したり、吐出口１の内側に入り込んだりすることを抑制できる。
本実施形態においては、吐出ヘッド３の吐出面２は、撥液性を有する。特に、本実施形態においては、吐出ヘッド３の吐出面２は、浸漬装置１５の液体に対して撥液性を有する。本実施形態においては、吐出面２の表面は、プレート部材３７に被覆された撥液性材料の膜で形成されている。一例として、本実施形態においては、プレート部材３７はステンレスで形成されており、そのステンレス製のプレート部材３７の吐出面２には、ポリマー重合シリコン膜等のシリコン樹脂の膜及びシリコン系シランカップリング剤の膜が形成されている。具体的には、ポリマー重合シリコン膜が吐出面２上に形成され、そのポリマー重合シリコン膜の上に、シランカップリング剤の膜が形成されている。
すなわち、吐出面２を撥液性にする撥液処理の一例として、プラズマ重合を用いた手法を用いることができる。プラズマ重合を用いた撥液処理は、シリコンを含む原料液の蒸気を、プラズマ処理装置においてプラズマ化する工程を有する。原料液の蒸気をプラズマ化することにより活性化され、その活性化されたシリコン材料がプレート部材３７の表面に到達すると、それらシリコンは、プレート部材３７上において互いに重合し、撥液性を有するシリコン重合膜（ポリマー重合シリコン膜）となる。そして、その形成されたシリコン重合膜（ポリマー重合シリコン膜）の上に、シリコン系シランカップリング剤の膜が形成される。
なお、プラズマ重合を用いた撥液処理としては、Ｃ４Ｆ１０、Ｃ８Ｆ１６等の直鎖状ＰＦＣ（ポリフルオロカーボン）からなる原料液の蒸気を、プラズマ処理装置においてプラズマ化するようにしてもよい。直鎖状ＰＦＣの蒸気をプラズマ化することにより、直鎖ＰＦＣの結合が一部切断されて活性化する。このようにして結合の一部が切断され、活性化したＰＦＣがプレート部材３７の表面に到達すると、それらＰＦＣは、プレート部材３７上において互いに重合し、撥液性を有するフッ素樹脂重合膜となる。
なお、この場合の撥液処理の原料液としては、例えばデカトリエンを用いることもできる。その場合、プラズマ処理によって活性化させたＣＦ４または酸素を添加することにより、得られる重合膜に撥液性を付与することができ、これによって撥液の重合膜を形成することができる。また、撥液処理の原料液としてはフルオロカーボンを用いることもできる。その場合、プラズマ化によって活性化したＣＦ４を添加することにより、プラズマ化によって原料液であるフルオロカーボン中のフッ素の一部が離脱したとしても、上述の活性なフッ素が得られる重合膜中に取り込まれるため、形成するフッ素樹脂重合膜の撥液性を高めることができる。
吐出面２を撥液性にすることにより、液体は吐出面２で拡がらず、玉のような形状で、吐出面２に残留する。すなわち、吐出面２を撥液性にすることによって、吐出面２とその吐出面２に残留した液体の液滴の下端との距離を大きくすることができる。したがって、ワイピング装置１４は、吐出面２とワイピング面５６とを離した状態で、吐出面２の液滴とワイピング面５６とを円滑に接触させることができる。
また、吐出面２の撥液性の度合い、すなわち液体に対する吐出面２の接触角情報は、既知であり、制御装置１０は、その既知である接触角情報に基づいて、吐出面２とその吐出面２に残留した液体の液滴の下端との距離を導出可能（推定可能）である。制御装置１０は、導出（推定）した距離に基づいて、吐出ヘッド３の吐出面２とワイピング部材５７のワイピング面５６とが接触せず、且つ、吐出ヘッド３の吐出面２の異物（液滴）とワイピング部材５７のワイピング面５６とが接触する位置関係となるように、第３可動部材６６とワイピング装置１４のハウジング部材５９との間に配置されているアクチュエータ６７を用いて、吐出ヘッド３の吐出面２と、支持ローラ６３に支持されたワイピング部材５７のワイピング面５６との距離（ギャップ）を調整する。本実施形態においては、例えばハウジング部材５９（ひいては支持ローラ６３、ワイピング部材５７）のＺ軸方向の移動量を計測可能なエンコーダ等の計測装置が、第３可動部材６６とハウジング部材５９との間に配置されており、制御装置１０は、その計測装置の計測結果をモニタしつつ、アクチュエータ６７を駆動する。これにより、制御装置１０は、吐出ヘッド３の吐出面２と、支持ローラ６３に支持されたワイピング部材５７のワイピング面５６との距離（ギャップ）を所望の値に調整できる。
また、何らかの理由で、吐出面２に機能液の液滴が付着したり、残留したりする可能性がある。その機能液の液滴は、異物として作用する可能性がある。また、吐出面２に付着した液滴を放置しておくと、その機能液の液滴が固化（析出）し、異物をして作用する可能性がある。固化した機能液が吐出口１の近傍に移動したり、吐出口１に入り込むと、吐出口１の吐出不良が生じる可能性がある。ワイピング装置１４は、その機能液の液滴Ｄを払うこともできる。
上述のように、本実施形態の吐出面２にはポリマー重合シリコン膜等のシリコン樹脂の膜及びシリコン系シランカップリング剤の膜が形成されており、機能液は、キシリトールが含有された水を主成分とする分散媒に銀微粒子を分散したものを含む。そのため、吐出面２は、機能液に対して非常に高い撥液性を有する。また、本実施形態の機能液に含まれる界面活性剤の量は微量であり、機能液は高い表面張力を有する。したがって、機能液は吐出面２で拡がらず、玉のような形状で、吐出面２に残留する。したがって、ワイピング装置１４は、吐出面２とワイピング面５６とを離した状態で、吐出面２の機能液の液滴とワイピング面５６とを円滑に接触させることができる。このように、ワイピング装置１４は、機能液の液滴（液体状の異物）を円滑に除去できる。また、ワイピング装置１４は、機能液の液滴が固化したもの（固体状の異物）であってもその異物を良好に除去でき、その異物が吐出口１に入り込むことを抑制できる。
なお、例えばキャッピング処理によって吐出面２に機能液の液滴が付着する場合には、ワイピング装置１４によるワイピング処理は、キャッピング装置１３によるキャッピング処理の後に実行されることとなる。また、キャッピング処理を実行しなくても、何らかの原因で、機能液の液滴Ｄが吐出面２に付着する可能性もある。ワイピング装置１４は、その機能液の液滴Ｄを払うこともできる。吐出面２が撥液性を有していることによって、ワイピング装置１４は、吐出面２に残留している機能液の液滴を円滑に除去できる。
第３移動体６による吐出ヘッド３に対するワイピング処理が終了した後、制御装置１０は、駆動装置８を制御して、複数の移動体４、５、６、７を＋Ｙ方向（第２位置Ａ２から第１位置Ａ１へ向かう方向）に一緒に移動し、第１位置Ａ１に第２移動体５を配置する。制御装置１０は、第１位置Ａ１に配置された第２移動体５を用いて、吐出ヘッド３のメンテナンス処理を実行する。第２移動体５のキャッピング装置１３は、吐出ヘッド３と協働して、メンテナンス処理（キャッピング処理）を実行する。制御装置１０は、図７等を参照して説明したように、キャッピング装置１３を用いて、吐出ヘッド３の吐出口１を吸引する。
なお、キャッピング処理の終了後、第１位置Ａ１に第２移動体６を配置して、ワイピング処理を実行することができる。キャッピング処理の終了後において、吐出面２に異物（機能液の液滴を含む）が付着している場合でも、ワイピング処理によって、その異物を除去できる。
第２移動体５による吐出ヘッド３に対するキャッピング処理が終了した後、制御装置１０は、駆動装置８を制御して、複数の移動体４、５、６、７を＋Ｙ方向（第２位置Ａ２から第１位置Ａ１へ向かう方向）に一緒に移動し、第１位置Ａ１に第１移動体４を配置する。制御装置１０は、第１位置Ａ１に配置された第１移動体４に保持されている基板Ｐに対して、吐出ヘッド３より液滴Ｄを吐出する処理（パターン形成処理）を開始する。第１移動体４は、吐出ヘッド３と協働して、液滴Ｄで基板Ｐにパターンを形成する処理（パターン形成処理）を実行する。
本実施形態においては、複数（例えば１０〜２０枚程度）の基板Ｐ（グリーンシート）に対して液滴Ｄが吐出され、各基板Ｐに液滴Ｄでパターンが形成される。液滴Ｄでパターンが形成された後の基板Ｐからは、フィルムＦが取り除かれる。そして、液滴Ｄで形成されたパターンを有する複数の基板Ｐが積層され、その基板Ｐの積層体が形成される。その後、基板Ｐの積層体が加熱処理される。これにより、基板Ｐ上の液滴Ｄが乾燥、焼成されるとともに、基板Ｐ（グリーンシート）も焼成される。これにより、所定の配線パターンを有するＬＴＣＣ基板（ＬＴＣＣ多層回路基板）が形成される。
以上説明したように、本実施形態によれば、吐出ヘッド３に付着している異物（漬浸装置１５の液体の液滴、機能液の液滴、機能液の液滴が固化したものを含む）をワイピング装置１４で払う際、吐出面２とワイピング面５６とを接触させることなく、吐出面２の異物とワイピング面５６とを接触させるようにしたので、吐出面２に付着している異物が吐出口１の近傍に移動したり、吐出口１の内側に入り込むことを抑制しつつ、その異物を除去できる。したがって、吐出ヘッド３の性能の劣化を招くことなく、その吐出ヘッド３を良好にメンテナンスできる。これにより、性能の劣化を抑制された吐出ヘッド３を用いて、基板Ｐの所望の位置に機能液の液滴を吐出でき、所望の性能を有するデバイスを製造できる。
例えば、吐出ヘッド３に付着している異物をワイピング装置１４で除去するために、吐出面２とワイピング面５６とを接触させた状態で、その吐出面２に対してワイピング面５６を移動する場合、吐出面２とワイピング面５６とが擦り合うこととなる。その場合、吐出面２に付着している異物（吐出面２において吐出口１から離れた位置に付着している異物を含む）が、吐出面２に対するワイピング面５６の移動に伴って、吐出口１の近傍まで搬送（移動）されてしまう可能性がある。本実施形態によれば、吐出面２とワイピング面５６とを離した状態で、吐出面２に対してワイピング面５６を移動することによって異物（液滴）を除去するようにしたので、吐出面２に付着している異物が吐出口１の近傍まで搬送（移動）されてしまうことを抑制できる。
なお、本実施形態においては、吐出面２に付着している異物をワイピング装置１４で払う際、吐出面２とワイピング面５６とを接触させることなく、吐出面２の異物とワイピング面５６とを接触させているが、図１７の模式図に示すように、ワイピング面５６から出たワイピング部材５７の産毛状の一部分など、ワイピング部材５７の一部と吐出面２とが微かに接触してもよい。ワイピング装置１４によるワイピング処理によって、吐出面２に付着している異物が吐出口１の近傍に移動したり、吐出口１の内側に入り込む可能性が小さいならば、吐出面２とワイピング部材５７とは完全に離れていなくてもよい。
なお、上述の各移動体４、５、６、７を用いた処理の順序は一例である。例えば、キャッピング処理をした後、浸漬処理を実行し、その後、ワイピング処理を実行してもよい。あるいは、浸漬処理を実行した後、キャッピング処理を実行し、その後、ワイピング処理を実行してもよい。また、浸漬処理を実行後、ワイピング処理を実行し、その後キャッピング処理を実行した後、再びワイピング処理を実行するといったように、同一の処理（ここではワイピング処理）を複数回実行してもよい。
また、第２移動体５、第３移動体６、及び第４移動体７を用いたメンテナンス処理において、メンテナンス処理毎に、必ずしも第２移動体５、第３移動体６、及び第４移動体７の全てを使用しなくてもよい。例えば、キャッピング処理を行わずに、浸漬処理及びワイピング処理のみを実行してもよいし、浸漬処理を行わずに、キャッピング処理及びワイピング処理のみを実行してもよいし、浸漬処理及びキャッピング処理を行わずに、ワイピング処理のみを実行するようにしてもよい。
なお、第２移動体５、第３移動体６、及び第４移動体７を用いたメンテナンス処理は、所定のタイミングで実行可能である。本実施形態においては、メンテナンス処理は、第１移動体４から基板Ｐを搬出する動作、及び第１移動体４に基板Ｐを搬入する動作毎に実行されるが、例えば、ロット毎、所定時間間隔毎にメンテナンス処理を実行するようにしてもよい。
なお、本実施形態においては、吐出ヘッド３の吐出面２に付着している異物が、浸漬装置１５の液体の液滴、あるいは機能液の液滴である場合を例にして説明したが、吐出ヘッド３の吐出面２に付着する異物としては、例えば基板Ｐから発生する異物（パーティクル）、あるいはチャンバ本体３１内を浮遊する異物（パーティクル）である可能性もある。ワイピング装置１４は、それら固体状の異物（パーティクル）を払うこともできる。
なお、上述の実施形態においては、基板がＬＴＣＣ基板（グリーンシート）であり、基板に配線パターン（回路パターン）を形成する場合を例にして説明したが、基板としては、グリーンシートのみならず、ガラス基板、半導体ウエハ等、製造するデバイスに応じて、適宜選択可能である。また、使用される機能液の導電性微粒子としても、銀のみならず、例えば特開２００５−３４８３７号公報等に開示されているような、金、銅、パラジウム、及びニッケル等の金属微粒子であってもよいし、導電性ポリマーであってもよい。また、使用される分散媒も、導電性微粒子に応じて適宜選択可能である。また、配線パターンのみならず、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）の少なくとも一部を形成することもできる。
また、液滴吐出装置を用いて製造可能なデバイスとしては、回路基板に限られず、例えばカラーフィルタ、配向膜等、液晶装置の少なくとも一部を形成することができるし、有機ＥＬ装置の少なくとも一部を形成することもできる。
本実施形態に係る液滴吐出装置を示す概略構成図である。 本実施形態に係る液滴吐出装置の一部を示す斜視図である。 キャリッジ部材に支持された複数の吐出ヘッドを下側から見た図である。 吐出ヘッドの構造の一例を説明するための断面図である。 第１移動体の一例を示す図である。 第２移動体の一例を示す図である。 第２移動体の動作の一例を説明するための図である。 第３移動体の一例を示す図である。 第３移動体の動作の一例を説明するための図である。 第４移動体の一例を示す図である。 第４移動体の動作の一例を説明するための図である。 断熱部材を示す斜視図である。 断熱部材を示す側面図である。 本実施形態に係る液滴吐出装置の動作の一例を説明するための図である。 本実施形態に係る液滴吐出装置の動作の一例を説明するための図である。 本実施形態に係るワイピング装置の動作の一例を示す図である。 本実施形態に係るワイピング装置の動作の一例を示す図である。
符号の説明
１…吐出口、２…吐出面、３…吐出ヘッド、４…第１移動体、５…第２移動体、６…第３移動体、７…第４移動体、８…駆動装置、１３…キャッピング装置、１４…ワイピング装置、１５…浸漬装置、１８…ガイド部材、５６…ワイピング面、５７…ワイピング部材、６３…支持ローラ、５８…駆動機構、６７…アクチュエータ、Ａ１…第１位置、Ａ２…第２位置、Ｄ…液滴、Ｐ…基板

Claims (18)

  1. 機能液の液滴を吐出する吐出口が形成された吐出面を有する吐出ヘッドと、
    前記吐出面と対向した状態で前記吐出面に対して相対的に移動可能なワイピング面を有するワイピング部材を含み、前記ワイピング面で前記吐出面に付着している異物を払うワイピング装置と備え、
    前記ワイピング装置は、前記吐出面と前記ワイピング面とを離した状態で、前記吐出面の異物と前記ワイピング面とを接触させることによって、前記異物を払う液滴吐出装置。
  2. 前記異物は、液滴を含む請求項１記載の液滴吐出装置。
  3. 前記ワイピング部材は、液体を吸収可能な材料で形成されている請求項２記載の液滴吐出装置。
  4. 前記吐出面は、撥液性を有する請求項２又は３記載の液滴吐出装置。
  5. 前記機能液は、
    金属微粒子と、
    水を主成分とする分散媒と、
    前記金属微粒子を前記分散媒に分散させる分散助剤と、
    アルコールの価数が３価〜６価であって標準状態の下で固体であり、かつ、機能液の全質量を基準として５重量％〜２０重量％の水溶性の多価アルコールと、を含み、
    前記異物は、前記吐出面に残留した前記機能液の液滴を含む請求項１記載の液滴吐出装置。
  6. 前記多価アルコールは、糖アルコールである請求項５記載の液滴吐出装置。
  7. 前記糖アルコールは、キシリトールである請求項６記載の液滴吐出装置。
  8. 前記分散助剤は、メルカプト酸である請求項５〜７のいずれか一項記載の液滴吐出装置。
  9. 前記分散助剤は、ヒドロキシ酸である請求項５〜８のいずれか一項記載の液滴吐出装置。
  10. 前記金属微粒子は、金微粒子、銀微粒子、銅微粒子、及びニッケル微粒子の少なくとも一つである請求項５〜９のいずれか一項記載の液滴吐出装置。
  11. 前記吐出面は、前記機能液に対して撥液性を有する請求項５〜１０のいずれか一項記載の液滴吐出装置。
  12. 前記吐出面には、ポリマー重合シリコン膜及びシランカップリング剤の膜が形成されている請求項１１記載の液滴吐出装置。
  13. 前記吐出ヘッドの少なくとも一部を前記機能液以外の液体に浸ける浸漬装置を備え、
    前記異物は、前記吐出面に残留した前記浸漬装置の液体の液滴を含む請求項１記載の液滴吐出装置。
  14. 前記吐出面は、前記浸漬装置の液体に対して撥液性を有する請求項１３記載の液滴吐出装置。
  15. 前記浸漬装置の液体は、前記吐出ヘッドの少なくとも一部をクリーニングするためのクリーニング用液体、及び前記吐出ヘッドの少なくとも一部を冷却するための冷却用液体の少なくとも一方を含む請求項１３又は１４記載の液滴吐出装置。
  16. 前記ワイピング部材はシート状であり、
    前記ワイピング部材の前記ワイピング面と反対側の面を支持する支持部材と、
    前記吐出ヘッド及び前記支持部材の少なくとも一方を移動することによって、前記吐出ヘッドの吐出面と前記支持部材に支持された前記ワイピング部材のワイピング面との間の距離を調整する駆動装置と、を備えた請求項１〜１５のいずれか一項記載の液滴吐出装置。
  17. 請求項１〜１６のいずれか一項記載の液滴吐出装置を用いて基板に液滴を吐出して前記基板にパターンを形成する動作と、
    前記基板の液滴を乾燥する動作と、を含むデバイスの製造方法。
  18. 機能液の液滴を吐出する吐出口が形成された吐出面を有する吐出ヘッドを備えた液滴吐出装置のメンテナンス方法であって、
    前記吐出ヘッドの少なくとも一部を前記機能液以外の液体に浸ける動作と、
    前記吐出面に残留した前記液体の液滴を、前記吐出面と対向した状態で前記吐出面に対して相対的に移動可能なワイピング面を有するワイピング部材で払う動作とを含み、
    前記吐出面と前記ワイピング面とを離した状態で、前記吐出面の液滴と前記ワイピング面とを接触させることによって、前記液滴を払うメンテナンス方法。
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