JP2008159123A - 半導体レーザ制御回路 - Google Patents

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耕寿 金野
Masayasu Katada
真三康 片田
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Abstract

【課題】高精度且つ多ビットを有するDAコンバータ器を1つ備えるだけで済む半導体レーザ制御回路を提供する。
【解決手段】回路A、B、Cにより生成される第1ないし第3の信号に基づき、演算プロセッサ24aが、演算により、3つのデータIp、Ib、Ieを時系列で生成する。サンプルホールド回路付きDAコンバータ部25aは、1つのDAコンバータ器と3つのサンプルホールド回路を備える。前記DAコンバータ器は、前記3つのデータIp、Ib、Ieをアナログ電圧信号に時系列で変換する。前記各サンプルホールド回路は、前記DAコンバータ器により変換された各アナログ電圧信号をそれぞれホールドする。サンプルホールド回路付きDAコンバータ部25aは、前記各サンプルホールド回路にホールドされた各アナログ電圧信号をそれぞれアナログ電流信号Pp、Pb、Peに変換して出力する。
【選択図】図2

Description

本発明は、レーザ光の光強度の変調が予め設定された多値レベル間で行われる場合において、各レベルにおけるレーザ光強度を目標値に調節するための半導体レーザ制御回路に関する。
情報を光学的に書き換えることが可能な記録媒体として、相変化型記録媒体が知られている。相変化型記録媒体に情報を書き込む場合、絞られたレーザ光を記録媒体の記録膜に照射し、記録膜を加熱融解させる。レーザ光強度に応じて記録膜の到達温度および冷却過程が異なるため、レーザ光強度を変調することによって記録膜の光学特性(屈折率など)を局所的に変化させることが可能である。より具体的には、レーザ光強度が所定のレベルを超えている場合、記録膜の照射部分は高温状態から急速に冷却するのでアモルファス化する。一方、レーザ光強度が比較的弱い場合、記録膜の照射部分は中高温状態から徐々に冷却するので結晶化する。記録膜においてアモルファス化した部分は「マーク」と呼ばれ、結晶化した部分は「スペース」と呼ばれる。マークとスペースとでは、屈折率などの光学特性が異なっている。マークおよびスペースの配列によって2値情報を記憶することが可能である。
相変化型記録媒体から記録情報を再生する場合、記録膜が相変化を起こさない程度に弱い光強度のレーザ光(再生光)を記録膜に照射し、その反射光を検出する。アモルファス化したマーク部分は相対的に反射率が低く、結晶化したスペース部分は相対的に反射率が高い。よって、マークからの反射光とスペースからの反射光とについて反射光量の違いを検出すれば、再生信号を得ることができる。
情報記録方式としてはパルス位置変調方式(PPM:Pulse Position Modulation)とパルス幅変調方式(PWM:Pulse Width Modulation)がある。パルス幅変調方式による記録はマークエッジ記録とも呼ばれる。
PPMでは、パルス幅が一定の比較的短いマークを様々な長さのスペースをあけて記録し、マークの位置に記録情報を割り当てる。一方、PWMでは、様々な長さのマークを様々な長さのスペースをあけて記録し、マーク長およびスペース長の両方に記録情報を割り当てる。通常、PPMよりもPWMを採用する方が情報記録密度を高くすることができる。
また、PWMでは、PPMと比較して長いマークを記録する。相変化型記録媒体に長いマークを記録すると、記録膜の蓄熱/放熱効果や光感度の多様性のために、マークの幅が不均一になることがある。また、1つの長いマークを形成するために連続して光強度の強いレーザ光を記録膜に照射し続けると、長いマークの後半部に熱が過剰に蓄積し、マーク幅が広がることが知られている。このため、1つのマークを形成する場合でも、記録光を短い複数のレーザパルス(マルチパルス)から構成する方式(ライト・ストラテジ)が採用されている(例えば、特許文献1、2参照。)。
記録媒体に対してデータを誤りなく書き込むためには、記録媒体に照射するレーザ光の光強度を適正な値に維持する必要がある。そこで、一般に記録再生装置では、記録媒体が記録再生装置に挿入されると、レーザ光強度の最適値を求めて、レーザ光強度の最適化を自動的に行っている。また、その求めた最適値(目標値)にレーザ光強度を維持するため、常に、または定期的にレーザ光の光強度をモニタし、光強度が目標値からシフトしないようにレーザ光源(半導体レーザ装置)の制御を行う。以下、レーザ光強度が目標値からシフトしないように半導体レーザ装置の制御を行う従来の半導体レーザ制御回路について、図14を参照しながら説明する。
この従来の半導体レーザ制御回路は、半導体レーザ装置(LD)13の駆動電流を制御し、半導体レーザ装置13から放射されるレーザ光の光強度を、第1レベル(ピーク値レベル)、第2レベル(ボトム値レベル)、および第3レベル(バイアス値レベル)からなる3つの設定レベル間で変調する。具体的には、マークの書き込み期間においては、ピーク値レベルとボトム値レベルとの間でレーザ光強度を変調してレーザ光をマルチパルス化する。また、データの消去期間においては、バイアス値レベルにレーザ光強度を保持する。なお、ボトム値レベルはピーク値レベルよりも低く、バイアス値レベルはピーク値レベルよりも低く、且つボトム値レベルよりも高く設定されている。
従来の半導体レーザ制御回路は、マーク書き込み期間(第2の期間)とデータ消去期間(第3の期間)を含む充分に長い期間(第1の期間)に光検出器によって実際に検知されるレーザ光強度に基づいて第1の信号を生成する回路Aと、第2の期間に光検出器によって実際に検知されるレーザ光強度に基づいて第2の信号を生成する回路Bと、第3の期間に光検出器によって実際に検知されるレーザ光強度に基づいて第3の信号を生成する回路Cとを備えている。
また、上記の第1から第3の信号に基づき、レーザ光強度の実際のピーク値レベル、ボトム値レベル、およびバイアス値レベルを各目標値に近づけるための駆動電流値を求める演算プロセッサ(DSP)24を備えている。以下、この従来の半導体レーザ制御回路の構成をより詳細に説明する。
フォトダイオード(PD)などから構成されるモニタ用光検出器14は、半導体レーザ装置13から放射されたレーザ光の一部を受け取り、その光強度に応じて信号レベルが変化する電流信号を生成する。具体的には、半導体レーザ装置13の一つの端面から出射された強いレーザ光が記録媒体に照射され、反対の端面から出射された弱いレーザ光(モニタ光)がモニタ用光検出器14の受光面を照射するように配置される。
モニタ用電流−電圧変換器(IV)15は、モニタ用光検出器14から出力された電流信号を電圧信号に変換する。電圧信号は、モニタ用光検出器14から出力された電流信号の波形と同様の波形を有しており、その形状は、モニタ用光検出器14の応答特性に従い、レーザ光出力波形を幾分ならした形状を有している。モニタ用電流−電圧変換器15から出力された電圧信号は、図14に示されるように、回路AないしCに並列的に入力される。
回路Aは、第1のローパスフィルタ(LPF1)16と、第1のサンプルホールド回路(S/H1)17と、第1のADコンバータ(AD1)18とを備えている。第1のローパスフィルタ16は、モニタ用電流−電圧変換器15の出力を受け取り、予め設定された周波数(遮断周波数)以下の周波数成分を透過させ、遮断周波数を超える高周波成分を減衰させる。その結果、第1のローパスフィルタ16は、入力信号の高周波成分が抑制された信号を出力する。
第1のサンプルホールド回路17は、第1のローパスフィルタ16から出力された信号を相対的に短い期間にサンプリングし、その後、その信号をサンプルされた値に相対的に長い期間ホールドする機能を有している。ここで、サンプリングを実行するタイミングは、第1のローパスフィルタ16の出力が安定し、特定の値(入力信号を平均化した値)に収束したタイミング(平均値検出タイミング)とする。
第1のサンプルホールド回路17の出力は、モニタ用光検出器14の出力の第1の期間における加重平均値M1を表しており、第1のADコンバータ18に入力され、デジタル信号M1に変換される。デジタル信号M1は演算プロセッサ24に入力される。
第1のローパスフィルタ16の遮断周波数は、入力電圧信号のピーク値、ボトム値、およびバイアス値を平滑化し、それらの加重平均値M1に対応する大きさの信号を出力するように選択される。具体的には、マルチパルスに含まれる一つのパルスの幅をT秒とすると、第1のローパスフィルタ16の遮断周波数fc1は、例えば1/(100T)〜1/(50T)の範囲内に含まれるように選択される。例えば、T=40ナノ秒程度の場合、第1のローパスフィルタ16の遮断周波数fc1は250〜500kHz程度になる。
第1のサンプルホールド回路17によるサンプリングは、不図示のS/Hタイミング発生回路が生成したタイミング信号が第1のサンプルホールド回路17に入力されたときに実行される。S/Hタイミング発生回路は、不図示の記録パルス発生器から送出される信号に基づいて動作する。記録パルス発生器は、第1のローパスフィルタ16の出力が収束安定したときに、その出力をサンプルホールドするためのタイミング信号をS/Hタイミング発生回路に生成させる。また、記録パルス発生器は、記録されるべきデータを符号化する変調器の出力に基づいて、後述するピーク値変調信号29、ボトム値変調信号30、およびバイアス値変調信号31を生成する機能を有している。
回路Bは、第2のローパスフィルタ(LPF2)19と、第2のサンプルホールド回路(S/H2)20と、第2のADコンバータ(AD2)21とを備えている。第2のローパスフィルタ19は、モニタ用電流−電圧変換器15の出力を受け取り、予め設定された周波数以上の周波数成分を抑制した信号を出力する。
第2のサンプルホールド回路20は、第2のローパスフィルタ19から出力された信号を相対的に短い期間にサンプリングし、その後、その信号をサンプルされた値に相対的に長い期間ホールドする機能を有している。ここで、サンプリングを実行するタイミングは、第2のローパスフィルタ19の出力が安定し、特定の値に収束したタイミング(平均値検出タイミング)とする。
第2のサンプルホールド回路20の出力は、モニタ用光検出器14の出力の第2の期間における加重平均値M2を表しており、第2のADコンバータ21に入力され、デジタル信号M2に変換される。このデジタル信号M2も演算プロセッサ24に入力される。
第2のローパスフィルタ19の遮断周波数は、その出力がマルチパルスの加重平均値M2を示すように選択される。より具体的には、第2のローパスフィルタ19の遮断周波数fc2は、例えば1/3T程度に設定される。
第2のサンプルホールド回路20によるサンプリングは、上記のS/Hタイミング発生回路が生成したタイミング信号が第2のサンプルホールド回路20に入力されたときに実行される。上記の記録パルス発生器は、第2のローパスフィルタ19の出力が収束安定したときに、その出力をサンプルホールドするためのタイミング信号をS/Hタイミング発生回路に生成させる。
回路Cは、第3のサンプルホールド回路(S/H3)22と、第3のADコンバータ(AD3)23とを備えている。第3のサンプルホールド回路22は、モニタ用電流−電圧変換器15から出力された電圧信号を相対的に短い期間にサンプリングし、その後、その信号をサンプルされた値に相対的に長い期間ホールドする機能を有している。ここで、サンプリングを実行するタイミングは、レーザ光強度のバイアス値レベルが安定し、特定の値(バイアス値)に収束したタイミング(バイアス値検出タイミング)とする。
第3のサンプルホールド回路22の出力は、モニタ用光検出器14の出力の第3の期間におけるバイアス値レベルの測定値Eを表しており、第3のADコンバータ23に入力され、デジタル信号Eに変換される。このデジタル信号Eも演算プロセッサ24に入力される。
第3のサンプルホールド回路22によるサンプリングは、上記のS/Hタイミング発生回路が生成したタイミング信号が第3のサンプルホールド回路22に入力されたときに実行される。上記の記録パルス発生器は、モニタ用電流−電圧変換器15の出力がバイアス値レベルに収束安定したときに、その出力をサンプルホールドするためのタイミング信号をS/Hタイミング発生回路に生成させる。
演算プロセッサ24は、予め記録されたプログラムにしたがってデジタルデータに対する演算処理を行うデジタル・シグナル・プロセッサ(DSP)から構成されており、上記3種類の入力データから、半導体レーザ装置13に流すべきピーク電流値、ボトム電流値、およびバイアス電流値を決定し、各々の電流値データを出力する。
具体的には、演算プロセッサ24は、加重平均値M1、加重平均値M2、およびバイアス値レベルの測定値Eを示すデータを入力する。また、第1の期間におけるピーク値レベル、ボトム値レベル、およびバイアス値レベルの生起確率a、b、cと、マーク書き込み期間におけるピーク値レベルおよびボトム値レベルの生起確率d、eを入力する。これらの生起確率は、符号規則により求まる。
実際のピーク値レベルxとボトム値レベルyを未知数とした場合、
ax+by+cE=M1
dx+ey=M2
の関係が成り立つことから、演算プロセッサ24は、上記連立1次方程式を解くことにより、値x、yを求める。
演算プロセッサ24は、このようにして求めた値x、y、並びに値Eを、所定の設定基準値と比較して、差分値Δx、Δy、ΔEを算出する。すなわち、ピーク値レベルの目標値(設定基準パワー値)をTp、ボトム値レベルの目標値(設定基準パワー値)をTb、バイアス値レベルの目標値(設定基準パワー値)をTeとすると、以下の式が成立する。
Δx=Tp−x
Δy=Tb−y
Δz=Te−E
次に、演算プロセッサ24は、上記の演算により求めた差分値Δx、Δy、ΔEから、下式を用いて半導体レーザ装置13に流すべき電流値データを決定する。但し、下式においてKは電流変換係数、Ipはピーク電流値データ、Ibはボトム電流値データ、Ieはバイアス電流値データである。
Ip=K(x+Δx)
Ib=K(y+Δy)
Ie=K(E+ΔE)
演算プロセッサ24は、以上のようにして求めたピーク電流値データIp、ボトム電流値データIb、バイアス電流値データIeを、それぞれ、第1のDAコンバータ部(DA1)50、第2のDAコンバータ部(DA2)51、第3のDAコンバータ部(DA3)52へ出力する。
演算プロセッサ24から出力されたピーク電流値データIpは、第1のDAコンバータ部50に入力され、アナログの電流値Ppに変換される。ピーク電流値Ppは、ピーク値変調信号29に応じて開閉する第1のスイッチ26を介して半導体レーザ装置13に供給される。
演算プロセッサ24から出力されたボトム電流値データIbは、第2のDAコンバータ部51に入力され、アナログの電流値Pbに変換される。ボトム電流値Pbは、ボトム値変調信号30に応じて開閉する第2のスイッチ27を介して半導体レーザ装置13に供給される。
演算プロセッサ24から出力されたバイアス電流値データIeは、第3のDAコンバータ部52に入力され、アナログの電流値Peに変換される。バイアス電流値Peは、バイアス値変調信号31に応じて開閉する第3のスイッチ28を介して半導体レーザ装置13に供給される。
第1のDAコンバータ部50の内部構成を図15に示す。図15に示すように、DAコンバータ部50は、デジタル信号Ipをアナログ電圧信号Vpに変換するDAコンバータ器(DAC)53と、そのアナログ電圧信号Vpをアナログ電流信号Ppに変換する電圧−電流変換器(VI)54からなる。このDAコンバータ器53には、高精度且つ多ビットを有したものを使用する。第2、3のDAコンバータ部51、52もこれと同様の構成である。
続いて、この従来の半導体レーザ制御回路の動作について説明する。
回路Aは、レーザ光強度がピーク値レベル、ボトム値レベル、バイアス値レベルの3つのレベル間で変調され、第1のローパスフィルタ16の出力が安定する充分に長い期間(第1の期間)において、第1のローパスフィルタ16の出力が収束安定したときに、その出力をサンプルホールドする。この出力は第1の期間における加重平均値M1を示す。回路Bは、レーザ光強度がピーク値レベル、ボトム値レベル間で変調するマルチパルスの期間(第2の期間)において、第2のローパスフィルタ19の出力が収束安定したときに、その出力をサンプルホールドする。この出力は第2の期間における加重平均値M2を示す。回路Cは、レーザ光強度がバイアス値レベルに収束安定したときに、その出力をサンプルホールドする。この出力はバイアス値レベルの実測値を示す。
演算プロセッサ24は、回路AないしCからの3種類の入力データを基に、ピーク電流値データ、ボトム電流値データ、およびバイアス電流値データを生成して、第1ないし第3のDAコンバータ部50、51、52に入力する。これにより、第1ないし第3のDAコンバータ部50、51、52の出力は、調節されたピーク電流値、ボトム電流値、およびバイアス電流値に設定される。
以上のように、従来の半導体レーザ制御回路では、ピーク値レベル、ボトム値レベル、バイアス値レベルを目標値に調節するのに、高精度且つ多ビットを有するDAコンバータ器を各レベルごとに備えていた(例えば、特許文献3参照。)。
米国特許5、490、126号明細書 米国特許5、636、194号明細書 特開2001−196687号公報
本発明は、上記従来の問題点に鑑み、低コストで実現可能なサンプルホールド回路を使用することにより、高精度且つ多ビットを有するDAコンバータ器を1つ備えるだけで済む半導体レーザ制御回路を提供することを目的とする。
本発明の請求項1記載の半導体レーザ制御回路は、第1レベル、前記第1レベルよりも低い第2レベル、および、前記第1レベルより低く前記第2レベルよりも高い第3レベルを含む複数の設定レベル間で光強度を変調することができる半導体レーザ制御回路であって、前記第1レベル、第2レベル、および第3レベルの間で光強度が変調されるべき第1の期間に光検出器により実際に検知される光強度に基づいて第1の信号を生成する回路と、記録媒体にマークを書き込む変調光パルスを形成するために前記第1レベルと第2レベルとの間でレーザ光の光強度が変調される期間に前記光検出器により実際に検知される光強度に基づいて第2の信号を生成する回路と、前記レーザ光の光強度が前記第3レベルに保持される第3の期間に前記光検出器により実際に検知される光強度に基づいて第3の信号を生成する回路と、前記第1から第3の信号に基づき、演算により、前記第1レベルの光強度、前記第2レベルの光強度、および前記第3レベルの光強度のデータを求めて、これらのデータを時系列で生成する演算回路と、前記演算回路により生成された3つのデータそれぞれをアナログ信号に時系列で変換する1つのコンバータ器と、前記コンバータ器により変換された各アナログ信号を時系列でホールドする3つのサンプルホールド回路と、を備え、前記第1の期間は、前記第2の期間および前記第3期間を含む長さに設定され、前記第1レベル、前記第2レベル、前記第3レベルを、前記各サンプルホールド回路にホールドされた各アナログ信号に応じたレベルに調節することを特徴とする。
また、本発明の請求項2記載の半導体レーザ制御回路は、請求項1記載の半導体レーザ制御回路であって、前記各サンプルホールド回路は、ホールドした各アナログ信号を外部からの信号に同期して同時に出力する機構をさらに備えることを特徴とする。
また、本発明の請求項3記載の半導体レーザ制御回路は、請求項1もしくは2のいずれかに記載の半導体レーザ制御回路であって、前記演算回路に前記3つのデータを生成させる信号を所定期間ごとに生成する回路をさらに備えることを特徴とする。
本発明によれば、高精度且つ多ビットを有するDAコンバータ器を1つ備えるだけで済むので、レーザ光の光強度の変調が予め設定された多値レベル間で行われる記録再生装置において、各レベルにおけるレーザ光強度を目標値に調節するために使用される半導体レーザ制御回路を、性能を変化させること無く、低コストで実現できる。
(実施の形態1)
以下、本発明の実施の形態1について、図面を参照して説明する。図1は、本発明の実施の形態1における半導体レーザ制御回路を具備する記録再生装置のブロック図である。
当該記録再生装置には、情報を光学的に書き換えることが可能な相変化型の記録媒体1が載置されている。また、当該記録再生装置において、スピンドルモータ2は、サーボ回路3から出力される駆動信号SSSに基づいて記録媒体1を回転させる。
また、当該記録再生装置には、インターフェース4が設けられている。インターフェース4は、記録媒体1に記録するためにホストコンピュータ5から転送された情報データSRRを受け取り、CPU6からの指示に基づいてエンコーダ7へ出力する。エンコーダ7は、情報データSRRを符号化して、符号化された情報データを表す信号SREをレーザ駆動回路8へ出力する。
また、当該記録再生装置において、光ピックアップ9は、サーボ回路3から出力される駆動信号SSPに基づいて、エンコーダ7によって符号化された情報データを表す信号SREを記録媒体1へ記録するための所定の位置に記録媒体1のラジアル方向に沿って位置決めされる。光ピックアップ9はまた、不図示の半導体レーザ装置(LD)を備える。半導体レーザ装置は、レーザ駆動回路8から出力される駆動信号に基づいて、情報データを記録するためのレーザ光あるいは情報データを再生するためのレーザ光を記録媒体1へ照射する。光ピックアップ9にはまた、不図示のフォトディテクタが設けられている。フォトディテクタは、記録媒体1において反射されたレーザ光を検出する。光ピックアップ9にはまた、不図示の電流−電圧変換回路が設けられている。電流−電圧変換回路は、フォトディテクタによって検出されたレーザ光を信号SDMおよび信号SDSに変換して、再生増幅器10へ出力する。
再生増幅器10は、光ピックアップ9から出力された信号SDMおよび信号SDSに基づいて、半導体レーザ装置によって記録媒体1へ照射されるレーザ光をトラッキング制御するための信号SSをサーボ回路3へ出力する。再生増幅器10はまた、光ピックアップ9から出力された信号SDMおよび信号SDSに基づいて、半導体レーザ装置によってレーザ光が照射される記録媒体1上の欠陥を検出するための信号SDをディフェクト検出器11へ出力する。ディフェクト検出器11は、再生増幅器10から出力された信号SDに基づいて記録媒体1上の欠陥を検出し、その検出結果を示す信号SDDをサーボ回路3およびCPU6へ出力する。再生増幅器10は、光ピックアップ9から出力された信号SDMおよび信号SDSに基づいて再生信号SPを生成し、デコーダ12へ出力する。デコーダ12は再生信号SPをデコードし、デコードした再生信号をCPU6へ出力する。
本実施の形態1における半導体レーザ制御回路の概略構成図を図2に示す。但し、前述の図14に基づいて説明した部材と同一の部材には同一符号を付して、説明を省略する。当該半導体レーザ制御回路は、半導体レーザ装置(LD)13の駆動電流(駆動信号)を制御し、半導体レーザ装置13から出射されるレーザ光の光強度を、第1レベル(ピーク値レベル)、第2レベル(ボトム値レベル)、および第3レベル(バイアス値レベル)からなる3つの設定レベル間で変調する。具体的には、マークの書き込み期間においては、マークを書き込むための記録光(マルチパルス)を発光するために、ピーク値レベルとボトム値レベルとの間でレーザ光強度を変調してレーザ光を変調光パルス化する。また、データの消去期間においては、マークを消去するためのレーザ光を発光するために、バイアス値レベルにレーザ光強度を保持する。マーク書き込み期間においては、その期間に相当する長さを有するマークが記録媒体に書き込まれる。これに対し、マーク消去期間においては、記録媒体に記録されていたマークが消去される。なお、ボトム値レベルはピーク値レベルよりも低く、バイアス値レベルはピーク値レベルよりも低く、且つボトム値レベルよりも高く設定されている。
図2において、半導体レーザ装置13、モニタ用光検出器(PD)14、モニタ用電流−電圧変換器(IV)15は、図1の光ピックアップ9に搭載されている。なお、モニタ用光検出器14とモニタ用電流−電圧変換器15は、前記したフォトディテクタと、信号SDMおよび信号SDSを生成する電流−電圧変換回路とは別異に設ける。
また、回路A、B、C、演算プロセッサ(DSP)24a、サンプルホールド回路付きDAコンバータ部(DA(SH))25a、および第1、第2、第3のスイッチ26、27、28は、図1のレーザ駆動回路8に搭載されている。
当該半導体レーザ制御回路において、半導体レーザ装置13、モニタ用光検出器14、モニタ用電流−電圧変換器15、回路A、B、C、および第1、第2、第3のスイッチ26、27、28は、前述の図14に基づいて説明した部材と同一である。
また、第1、第2、第3のサンプルホールド回路17、20、22によるサンプリングは、前述の図14に示す半導体レーザ制御回路と同様に、不図示のS/Hタイミング発生回路が生成するタイミング信号に応じて実行され、S/Hタイミング発生回路は、不図示の記録パルス発生器から送出される信号に基づいて動作する。また、記録パルス発生器は、記録されるべきデータを符号化する変調器の出力(図1に示すエンコーダ7の出力SRE)に基づいて、ピーク値変調信号29、ボトム値変調信号30、およびバイアス値変調信号31を生成する機能を有している。
なお、第3のサンプルホールド回路22の出力からノイズ等を除去し、より安定化すれば、より正確なバイアス値レベルを得ることができる。この目的のため、第3のサンプルホールド回路22の前段にローパスフィルタ等の帯域制限フィルタを挿入しても良い。
また、第1、第2、第3のADコンバータ18、21、23からのデータに対して演算プロセッサ24a内で適正な補正を行ってもよい。そのようなデータの補正により、ローパスフィルタやサンプルホールド回路のオフセット電圧を補償したり、それらの周波数特性による悪い影響を減少させたりすることができる。また、出力波形の残留リップルの影響を除去することも可能である。
演算プロセッサ(演算回路)24aは、従来の半導体レーザ制御回路が備える演算プロセッサ(図14の演算プロセッサ24)と同様に、半導体レーザ装置13に流すべき駆動電流値(ピーク電流値Pp、ボトム電流値Pb、およびバイアス電流値Pe)を回路A、B、Cからの信号に基づく演算により決定して、ピーク電流値データIp、ボトム電流値データIb、およびバイアス電流値データIeを生成する。但し、後述するように、本実施の形態1では、高精度且つ多ビットを有するDAコンバータ器は1つであるので、演算プロセッサ24aは、ピーク電流値データIp、ボトム電流値データIb、バイアス電流値データIeを時系列で出力する。
また、演算プロセッサ24aは、サンプルホールド回路付きDAコンバータ部25aが備えるサンプルホールド回路のサンプリングタイミングを制御するためのサンプルホールド制御信号を生成する機能(SH制御)を備える。
演算プロセッサ24aから時系列に出力されたピーク電流値データIp、ボトム電流値データIb、バイアス電流値データIeはサンプルホールド回路付きDAコンバータ部25aに入力され、それぞれアナログの電流値であるピーク電流値Pp、ボトム電流値Pb、バイアス電流値Peに時系列に変換される。
図3に、本発明の実施の形態1における半導体レーザ制御回路が備えるサンプルホールド回路付きDAコンバータ部の概略構成図を示す。図3(a)に示すように、サンプルホールド回路付きDAコンバータ部25aは、ピーク電流値データIp、ボトム電流値データIb、バイアス電流値データIeをピーク電圧値Vp、ボトム電圧値Vb、バイアス電圧値Veに変換するDAコンバータ器(DAC)32を1つ備える。このDAコンバータ器32には、高精度且つ多ビットを有したものを使用する。
また、サンプルホールド回路付きDAコンバータ部25aは、演算プロセッサ24aからのサンプルホールド制御信号であるピークサンプル信号SpによりDAコンバータ器32からのピーク電圧値Vpをサンプリングする第4のサンプルホールド回路(SH)33aと、演算プロセッサ24aからのサンプルホールド制御信号であるボトムサンプル信号SbによりDAコンバータ器32からのボトム電圧値Vbをサンプリングする第5のサンプルホールド回路(SH)34aと、演算プロセッサ24aからのサンプルホールド制御信号であるバイアスサンプル信号SeによりDAコンバータ器32からのバイアス電圧値Veをサンプリングする第6のサンプルホールド回路(SH)35aと、を備える。
演算プロセッサ24aからはピーク電流値データIp、ボトム電流値データIb、バイアス電流値データIeが時系列に出力されるので、DAコンバータ器32は、これらのデータIp、Ib、Ieをアナログ電圧信号Vp、Vb、Veに時系列に変換することになる。ピークサンプル信号Sp、ボトムサンプル信号Sb、バイアスサンプル信号Seは、時系列に出力されるデータIp、Ib、Ieに合わせて出力され、第4、第5、第6のサンプルホールド回路33a、34a、35aにピーク電圧値Vp、ボトム電圧値Vb、バイアス電圧値Veを時系列にサンプリングさせる。
また、サンプルホールド回路付きDAコンバータ部25aは、第4のサンプルホールド回路33aにホールドされたアナログ電圧信号(ピーク電圧値Vp)をアナログ電流信号(ピーク電流値Pp)に変換する第1の電圧−電流変換器(VI)36と、第5のサンプルホールド回路34aにホールドされたアナログ電圧信号(ボトム電圧値Vb)をアナログ電流信号(ボトム電流値Pb)に変換する第2の電圧−電流変換器(VI)37と、第6のサンプルホールド回路35aにホールドされたアナログ電圧信号(バイアス電圧値Ve)をアナログ電流信号(バイアス電流値Pe)に変換する第3の電圧−電流変換器(VI)38と、を備える。
第4のサンプルホールド回路33aの構成を図3(b)に示す。図3(b)に示すように、第4のサンプルホールド回路33aは、ピークサンプル信号Spに従って開閉するスイッチ(SW)39を介してDAコンバータ器32と容量40を接続し、バッファ(BUF)41を介して容量40と第1の電圧−電流変換器36を接続する構成となっている。スイッチ39はピークサンプル信号Spが「High」レベルの間にのみオンする。容量40の電位は、DAコンバータ器32から出力されるピーク電圧値Vpに応じた電位となる。第5、第6のサンプルホールド回路34a、35aの構成もこれと同様である。
以上の構成により、演算プロセッサ24aから出力されたピーク電流値データIpは、高精度のDAコンバータ器32でピーク電圧値Vpに変換され、ピークサンプル信号Spでサンプリングされホールドされる。そして、このホールドされた信号がアナログの電流値(ピーク電流値Pp)に変換されて、ピーク値変調信号29に応じて開閉する第1のスイッチ26を介して半導体レーザ装置13に供給される。
また、演算プロセッサ24aから出力されたボトム電流値データIbは、高精度のDAコンバータ器32でボトム電圧値Vbに変換され、ボトムサンプル信号Sbでサンプリングされホールドされる。そして、このホールドされた信号がアナログの電流値(ボトム電流値Pb)に変換されて、ボトム値変調信号30に応じて開閉する第2のスイッチ27を介して半導体レーザ装置13に供給される。
また、演算プロセッサ24aから出力されたバイアス電流値データIeは、高精度のDAコンバータ器32でバイアス電圧値Veに変換され、バイアスサンプル信号Seでサンプリングされホールドされる。そして、このホールドされた信号がアナログの電流値(バイアス電流値Pe)に変換されて、バイアス値変調信号31に応じて開閉する第3のスイッチ28を介して半導体レーザ装置13に供給される。
このように、当該半導体レーザ制御回路は、DAコンバータ器32で時系列に変換されたピーク電圧値Vp、ボトム電圧値Vb、バイアス電圧値Veを、サンプルホールド回路付きDAコンバータ部25aが有する第4、第5、第6のサンプルホールド回路33a、34a、35aでサンプリングしてホールドし、半導体レーザ装置13へ供給する駆動電流を、そのホールドした電圧値に応じた電流値にする構成となっている。
また、当該半導体レーザ制御回路は、図1のCPU6の制御により、レーザ光強度(ピーク値レベル、ボトム値レベル、およびバイアス値レベル)の調節を行う。レーザ光強度の調節は、記録媒体上のパワーキャリブレーションエリア(PCA)においてオプティマムパワーコントロール(OPC)を実行するとき、および、記録媒体上における追記または書き換えを高速に実行するときに行う。以下、当該半導体レーザ制御回路によるレーザ光強度の調節について、図4を用いて説明する。
図4は本発明の実施の形態1における半導体レーザ制御回路の要部の信号波形の概略を示す図である。当該半導体レーザ制御回路は、テスト発光区間42においてレーザ光強度の調節を行う。テスト発光区間42は、図4(a)に示すように、ボトムDC値期間43とバイアスDC値期間44とマルチパルス期間45からなる。図4(b)はピーク値変調信号29、ボトム値変調信号30、バイアス値変調信号31の組み合わせによって駆動された半導体レーザ装置13の出力光波形を示す。
図4(c)は、「Low」レベルと「High」レベルとの間で変化するボトム値変調信号30の波形を示す。ボトム値変調信号30が「High」レベルにある時、第2のスイッチ27が閉状態になり、ボトム値レベルを規定する電流が第2のスイッチ27を通って半導体レーザ装置13に与えられる。ボトム値変調信号30は、情報の書き込みモードでは「High」レベルにあり、読み出しモードでは「Low」レベルにある。
図4(d)は、「Low」レベルと「High」レベルとの間で変化するバイアス値変調信号31の波形を示す。バイアス値変調信号31が「High」レベルにある時、第3のスイッチ28が閉状態になり、バイアス値レベルを規定する電流が第3のスイッチ28を通って半導体レーザ装置13に与えられる。バイアス値変調信号31は、ピーク値変調信号29が「High」レベルと「Low」レベルの間を遷移して記録光が発光される間、「Low」レベルとなり、ピーク値変調信号29が「Low」レベルに保持される間、「High」レベルとなる。
図4(e)は、「Low」レベルと「High」レベルとの間で変化するピーク値変調信号29の波形を示す。ピーク値変調信号29が「High」レベルにある時、第1のスイッチ26が閉状態になり、ピーク値レベルを規定する電流が第1のスイッチ26を通って半導体レーザ装置13に与えられる。
図4(f)は、演算プロセッサ24aの出力波形を示す。図4(f)に示すように、演算プロセッサ24aからピーク電流値データIp、ボトム電流値データIb、バイアス電流値データIeが時系列で出力される。図4(g)はDAコンバータ器32の出力波形を示す。DAコンバータ器32は、演算プロセッサ24aからのデータIp、Ib、Ieに応じたアナログ電圧信号Vp、Vb、Veを生成する。但し、DAコンバータ器32の出力は、データが入力されてからDAC応答時間遅れて安定する。
図4(h)は、演算プロセッサ24aから出力されるサンプルホールド制御信号を示す。演算プロセッサ24aは、DAコンバータ器32から出力されるアナログ電圧信号Vp、Vb、Veが安定した後、ピークサンプル信号Sp、ボトムサンプル信号Sb、バイアスサンプル信号Seを出力する。
図4(i)〜(k)は、サンプルホールド回路付きDAコンバータ部25aが備える第1、第2、第3の電圧−電流変換器36、37、38の出力であるボトム電流値Pb、バイアス電流値Pe、ピーク電流値Ppを示す。但し、第1、第2、第3の電圧−電流変換器36、37、38の出力は、サンプルホールド制御信号(ピークサンプル信号Sp、ボトムサンプル信号Sb、バイアスサンプル信号Se)が第4、第5、第6のサンプルホールド回路33a、34a、35aに入力されてからSH応答時間遅れて安定する。
当該半導体レーザ制御回路は、まず、図4(f)に示すように、予め設定されたデータ(発光条件)に基づくピーク電流値データIp、ボトム電流値データIb、バイアス電流値データIeを、演算プロセッサ24aからデータIb、Ie、Ipの順に時系列で出力する。したがって、図4(g)に示すように、DAコンバータ器32からボトム電圧値Vb、バイアス電圧値Ve、ピーク電圧値Vpがこの順に時系列で出力される。
また、当該半導体レーザ制御回路は、図4(h)に示すように、DAコンバータ器32から出力されるアナログ電圧信号Vp、Vb、Veが安定した後に、ピークサンプル信号Sp、ボトムサンプル信号Sb、バイアスサンプル信号Seを出力する。これにより、図4(i)、(j)、(k)に示すように、ボトムDC値期間43の前に、第2の電圧−電流変換器37の出力が予め設定されたデータに基づくボトム電流値Pbに設定され、バイアスDC値期間44の前に、第3の電圧−電流変換器38の出力が予め設定されたデータに基づくバイアス電流値Peに設定され、マルチパルス期間45の前に、第1の電圧−電流変換器36の出力が予め設定されたデータに基づくピーク電流値Ppに設定される。
一方、ボトムDC値期間43の開始時にボトム値変調信号30が「High」レベルとなり、ボトムDC値期間43では、予め設定されたデータに基づくボトム値レベルのレーザ光が発光される(図4(a)、(b)、(c)参照)。
また、バイアスDC値期間44の開始時にバイアス値変調信号31が「High」レベルとなり、バイアスDC値期間44では、予め設定されたデータに基づくバイアス値レベルのレーザ光が発光される(図4(a)、(b)、(c)参照)。
そして、マルチパルス期間45の開始時に、バイアス値変調信号31が「Low」レベルとなり、所定期間、ピーク値変調信号29が「High」レベルと「Low」レベルの間を遷移して、予め設定されたデータに基づくピーク値レベルとボトム値レベルとの間でレーザ光強度が変調された記録光(マルチパルス)が発光される。
なお、予め設定されたデータに基づくデータIp、Ib、Ieの出力から1回目の記録光の発光までの動作は、記録媒体が記録再生装置に挿入された後に自動的あるいは手動で、CPU6の制御により行われる。
当該半導体レーザ制御回路は、1回目の記録光の発光後、サンプルホールド回路付きDAコンバータ部25aが備える第4、第5、第6のサンプルホールド回路33a、34a、35aにホールドされている電圧値を更新して、ピーク電流値Pp、ボトム電流値Pb、バイアス電流値Peを設定し直し、ピーク値レベル、ボトム値レベル、バイアス値レベルを目標値(発光条件)に近づける調節を行う。そして、再度、記録光を発光させる。
具体的には、回路Aが、バイアスDC値期間(第3の期間)44と、マルチパルス期間45における1回目の記録光の発光期間(第2の期間)とを含む期間(第1の期間)にモニタ用光検出器14によって実際に検知されたレーザ光強度に基づいて第1の信号を生成する。また回路Bが、マルチパルス期間45における1回目の記録光の発光期間(第2の期間)にモニタ用光検出器14によって実際に検知されたレーザ光強度に基づいて第2の信号を生成する。また回路Cが、バイアスDC値期間(第3の期間)44にモニタ用光検出器14によって実際に検知されたレーザ光強度に基づいて第3の信号を生成する。そして、演算プロセッサ24aが、上記の第1から第3の信号に基づき、レーザ光強度の実際のピーク値レベル、ボトム値レベル、およびバイアス値レベルを各目標値に近づけるための新しいピーク電流値Pp、ボトム電流値Pb、バイアス電流値Peを演算により決定して、新しいピーク電流値データIp、ボトム電流値データIb、バイアス電流値データIeを時系列で出力する。ここでは、図4(f)に示すように、データIp、Ie、Ibの順に出力する。そして、予め設定されたデータに基づいてピーク電流値Pp、ボトム電流値Pb、バイアス電流値Peを設定した動作と同様の動作で、新しいピーク電流値Pp、ボトム電流値Pb、バイアス電流値Peを設定する(図4(g)〜(k)参照。)。
なお、本実施の形態1では、レーザ光強度をピーク値レベル、ボトム値レベル、およびバイアス値レベルの3つのレベル間で変調する場合について説明したが、2つ以上のレベル間で変調する場合に適用可能である。
(実施の形態2)
以下、本発明の実施の形態2について、図面を参照して説明する。図5は本発明の実施の形態2における半導体レーザ制御回路の概略構成図である。但し、前述の図2、14に基づいて説明した部材と同一の部材には同一符号を付して、説明を省略する。また、図6は本発明の実施の形態2における半導体レーザ制御回路が備えるサンプルホールド回路付きDAコンバータ部の概略構成図である。但し、前述の図3に基づいて説明した部材と同一の部材には同一符号を付して、説明を省略する。また、図7は本発明の実施の形態2における半導体レーザ制御回路の要部の信号波形の概略を示す図である。但し、前述の図4に基づいて説明した信号波形(a)〜(k)に対応する信号波形には同一符号(a)〜(k)を付して、図4と異なる点についてのみ説明する。
前述の実施の形態1では、ピーク電流値Pp、ボトム電流値Pb、バイアス電流値Peを同タイミングで設定することができない。本実施の形態2では、これらを同タイミングで設定する構成となっている点に特徴がある。
すなわち、本実施の形態2では、演算プロセッサ24bが有するサンプルホールド制御信号を生成する機能(SH制御)に、サンプルホールド回路付きDAコンバータ部25bが備える3つのサンプルホールド回路の出力タイミングを揃えるためのSET信号を生成する機能をさらに付加する。また、サンプルホールド回路付きDAコンバータ部25bに、ホールドしたピーク電圧値Vp、ボトム電圧値Vb、バイアス電圧値VeをSET信号に従って同時に出力する機構をさらに付加する。
以下、サンプルホールド回路付きDAコンバータ部25bの構成について、図6を用いて説明する。本実施の形態2では、演算プロセッサ24bからのピークサンプル信号Sp、ボトムサンプル信号Sb、バイアスサンプル信号SeによりDAコンバータ器32からのピーク電圧値Vp、ボトム電圧値Vb、バイアス電圧値Veをそれぞれサンプリングする第4、第5、第6のサンプルホールド回路33b、34b、35bが、そのホールドしたピーク電圧値Vp、ボトム電圧値Vb、バイアス電圧値Veを演算プロセッサ24bからのSET信号に従って同時に出力する。SET信号は、第4、第5、第6のサンプルホールド回路33b、34b、35bの全てにピーク電圧値Vp、ボトム電圧値Vb、バイアス電圧値Veがホールドされた後に生成される。
第4のサンプルホールド回路33bの構成を図6(b)に示す。図6(b)に示すように、第4のサンプルホールド回路33bは、SET信号に従って開閉するスイッチ(SW)46をさらに備えており、このスイッチ46を介して容量40とバッファ41を接続する構成となっている。スイッチ46は、SET信号が「High」レベルの間にオン状態となる。第5、第6のサンプルホールド回路34b、35bの構成もこれと同様である。この構成により、各サンプルホールド回路33b、34b、35bの容量40に時系列でホールドされたピーク電圧値Vp、ボトム電圧値Vb、バイアス電圧値Veが、SET信号により揃って第1、第2、第3の電圧−電流変換器36、37、38へ出力されるので、ピーク電流値Pp、ボトム電流値Pb、バイアス電流値Peを同タイミングで設定することができる。
続いて、図7を参照しながら、本実施の形態2における半導体レーザ制御回路の動作を説明する。本実施の形態2におけるテスト発光区間47は、学習期間48とマルチパルス期間49からなる。
当該半導体レーザ制御回路は、まず学習期間48にて、前述した実施の形態1と同様に、予め設定されたデータ(発光条件)に基づくピーク電流値データIp、ボトム電流値データIb、バイアス電流値データIeを演算プロセッサ24bからデータIb、Ie、Ipの順に時系列で出力する(図7(f))。その結果、図7(i)〜(k)に点線で示すように、まず第5のサンプルホールド回路34bが備える容量40の電位Cbがボトム電圧値Vbとなり、続いて第6のサンプルホールド回路35bが備える容量40の電位Ceがバイアス電圧値Veとなり、最後に、第4のサンプルホールド回路33bが備える容量40の電位Cpがピーク電圧値Vpとなる。当該半導体レーザ制御回路は、各容量40の電位がそれぞれボトム電圧値Vb、バイアス電圧値Ve、ピーク電圧値Vpに安定した後、図7(h)に示すように演算プロセッサ24bにおいてSET信号を生成して、図7(i)〜(k)に実線で示すように、第2の電圧−電流変換器37、第3の電圧−電流変換器38、第1の電圧−電流変換器36の出力を、同時に、予め設定されたデータに基づくピーク電流値Pp、ボトム電流値Pb、バイアス電流値Peに設定する。
本実施の形態2では、初め、SET信号が生成されるまで第4、第5、第6のサンプルホールド回路33b、34b、35bが備えるスイッチ46は開いており、ピーク電流値Pp、ボトム電流値Pb、バイアス電流値Peが安定するまでピーク値変調信号29、ボトム値変調信号30、バイアス値変調信号31は「Low」レベルにある。そして、SET信号が生成され、ピーク電流値Pp、ボトム電流値Pb、およびバイアス電流値Peが安定した後、マルチパルス期間49の開始時に、図7(c)、(d)に示すように、ボトム値変調信号30およびバイアス値変調信号31が同時に「High」レベルとなり、所定期間(マーク発光期間)、予め設定されたデータに基づくバイアス値レベルのレーザ光が発光される(図7(b))。
続いて、当該半導体レーザ制御回路は、バイアス値変調信号31を「Low」レベルとし、所定期間、ピーク値変調信号29を「High」レベルと「Low」レベルの間で遷移させて、予め設定されたデータに基づくピーク値レベルとボトム値レベルとの間でレーザ光強度が変調された記録光(マルチパルス)を発光する。
続いて、当該半導体レーザ制御回路は、前述の実施の形態1と同様に、この1回目の記録光の発光後、第4、第5、第6のサンプルホールド回路33b、34b、35bにホールドされている電圧値を更新する。そして、サンプルホールド回路付きDAコンバータ部25aの出力(ピーク電流値Pp、ボトム電流値Pb、バイアス電流値Pe)を同タイミングで設定して、ピーク値レベル、ボトム値レベル、バイアス値レベルを目標値(発光条件)に近づける。
すなわち、回路Aが、マルチパルス期間49における1回目のマーク発光期間(第3の期間)と、1回目の記録光の発光期間(第2の期間)とを含む期間(第1の期間)にモニタ用光検出器14によって実際に検知されたレーザ光強度に基づいて第1の信号を生成する。また回路Bが、マルチパルス期間49における1回目の記録光の発光期間(第2の期間)にモニタ用光検出器14によって実際に検知されたレーザ光強度に基づいて第2の信号を生成する。また回路Cが、マルチパルス期間49における1回目のマーク発光期間(第3の期間)にモニタ用光検出器14によって実際に検知されたレーザ光強度に基づいて第3の信号を生成する。そして、演算プロセッサ24bが、上記の第1から第3の信号に基づき、レーザ光強度の実際のピーク値レベル、ボトム値レベル、およびバイアス値レベルを各目標値に近づけるための新しいピーク電流値Pp、ボトム電流値Pb、バイアス電流値Peを演算により決定して、新しいピーク電流値データIp、ボトム電流値データIb、バイアス電流値データIeを時系列で出力する。そして、第4、第5、第6のサンプルホールド回路33b、34b、35bの各容量40の電位が安定したところで、SET信号を生成して、再び記録光を発光する。なお、少なくとも演算プロセッサ24bから新しいピーク電流値データIp、ボトム電流値データIb、バイアス電流値データIeが出力されてからSET信号が生成されるまでの間は、第4、第5、第6のサンプルホールド回路33b、34b、35bが備えるスイッチ46はオフ状態にあり、その間、第6のサンプルホールド回路35bが備えるバッファ41の出力により、レーザ光はバイアス値レベルに維持される。
図8は、本発明の実施の形態2における半導体レーザ制御回路を用いてオプティマムパワーコントロール(OPC)を実行する際の半導体レーザ装置13の出力光波形を示す。OPC実行時には、最適な発光条件に切り替えるために、発光条件を変えて、すなわちレーザ光強度の目標値を変えて記録光を発光する。図8では、レーザ光強度が発光条件1、2、3ごとに異なる目標値となっていることを示している。なお、無論、発光条件は3つに限定されるものではない。
(実施の形態3)
前述の実施の形態1、2では、DAコンバータ器32から時系列で出力されるアナログ電圧信号Vp、Vb、Veを第4、第5、第6のサンプルホールド回路にてそれぞれホールドするために、ピークサンプル信号Sp、ボトムサンプル信号Sb、バイアスサンプル信号Seで制御されるスイッチ39を設けたが、数セクタに跨るデータ記録を行う場合に、このスイッチ39にオフリーク電流が流れて容量40の電位が変動するおそれがある。
図9に、実施の形態2における第4のサンプルホールド回路33bのスイッチ39にオフリーク電流が流れる様子を示す。実施の形態2における半導体レーザ制御回路では、SET信号が生成されると、スイッチ46はオン状態となり、ピークサンプル信号Spで制御されるスイッチ39はオフ状態となる。第5、第6のサンプルホールド回路においても同様である。
このスイッチ39をCMOS回路で構成した場合、図10に示すように、オフリーク電流iとして、
i=iLNc−iLPc
の電流が流れる。但し、「iLNc」はNchトランジスタにおけるオフリーク電流、「iLPc」はPchトランジスタにおけるオフリーク電流である。
ここで、ピーク値レベルにかかる第4のサンプルホールド回路のスイッチ39では、
iLNc>iLPc
となるため、数セクタに跨るデータ記録を行う場合、ピーク電圧値Vpをホールドする容量40の電位は下降する。
また、ボトム値レベルにかかる第5のサンプルホールド回路のスイッチ39では、
iLNc<iLPc
となるため、数セクタに跨るデータ記録を行う場合、ボトム電圧値Vbをホールドする容量40の電位は上昇する。
一方、バイアス値レベルにかかる第6のサンプルホールド回路のスイッチ39では、
iLNc=iLPc
となるため、数セクタに跨るデータ記録を行う場合であっても、バイアス電圧値Veをホールドする容量40の電位は変動しない。
図11に、前述の実施の形態2における半導体レーザ制御回路を具備する記録再生装置において数セクタに跨るデータ記録を行った場合の半導体レーザ装置13の出力光波形を示す。図11に示すように、スイッチ39のオフリーク電流により、ピーク値レベルは徐々に下降し、ボトム値レベルは徐々に上昇する。
そこで、本実施の形態3における半導体レーザ制御回路は、演算プロセッサにピーク電流値データIp、ボトム電流値データIb、およびバイアス電流値データIeを生成させる信号を所定期間ごとに生成する回路として、図1のエンコーダ7を用いる。図12は本発明の実施の形態3における半導体レーザ制御回路の概略構成図である。但し、前述の図2、5、14に基づいて説明した部材と同一の部材には同一符号を付して、説明を省略する。
本実施の形態3における半導体レーザ制御回路は、演算プロセッサ24cが、エンコーダ7が生成するセクタ同期学習タイミング信号を受信する度にピーク電流値データIp、ボトム電流値データIb、バイアス電流値データIeを生成して、サンプルホールド回路付きDAコンバータ部25bにホールドされているピーク電圧値Vp、ボトム電圧値Vb、バイアス電圧値Veを更新し、ピーク電流値Pp、ボトム電流値Pb、バイアス電流値Peを最適な値に設定し直す点に特徴がある。なお、エンコーダ7は、情報データSRRのフォーマットを判断してセクタ同期信号を生成し、そのセクタ同期信号から判断してセクタ同期学習タイミング信号を生成することができる。
図13に、本発明の実施の形態3における半導体レーザ制御回路が通常の記録動作時にレーザ光強度を制御している様子を示す。図13(l)に示すように、セクタが切り替わるとき、エンコーダ7にセクタ同期信号が発生する。エンコーダ7は、このセクタ同期信号を判断して、図13(m)に示すように、セクタが切り替わる直前にセクタ同期学習タイミング信号を生成する。
セクタ同期学習タイミング信号を受けた当該半導体レーザ制御回路は、演算プロセッサ24cとサンプルホールド回路付きDAコンバータ25cにより、前述の実施の形態2と同様に、サンプルホールド回路付きDAコンバータ25cの出力を設定し直す。すなわち、当該半導体レーザ制御回路では、通常の記録動作時においても、回路Aにより、マーク書き込み期間(第2の期間)とデータ消去期間(第3の期間)を含む充分に長い期間(第1の期間)にモニタ用光検出器14によって実際に検知されるレーザ光強度に基づいて第1の信号を生成し、回路Bにより、第2の期間にモニタ用光検出器14によって実際に検知されるレーザ光強度に基づいて第2の信号を生成し、回路Cにより、第3の期間にモニタ用光検出器14によって実際に検知されるレーザ光強度に基づいて第3の信号を生成し、セクタ同期学習タイミング信号を受けたときに、演算プロセッサ24cにて、上記の第1から第3の信号に基づき、レーザ光強度の実際のピーク値レベル、ボトム値レベル、およびバイアス値レベルを各目標値に近づけるための駆動電流値を求める。なお、図13にはセクタが切り替わる度にレーザ光強度の最適値が上昇する例を示しているが、無論、この例に限るものではない。
本実施の形態3によれば、数セクタに跨るデータ記録を行う場合であっても、ピーク値レベル、ボトム値レベル、バイアス値レベルの目標値への調節を定期的に実行して、目標値からシフトしないようにすることができる。なお、ここではセクタ同期信号とセクタ同期学習タイミング信号をエンコーダ7が生成する場合について説明したが、無論、ECCブロック同期信号を生成し、そのECCブロック同期信号を判断してECCブロック同期学習タイミング信号を生成する構成としてもよい。また、通常の記録動作時にレーザ光強度の制御を行う場合について説明したが、この例に限るものではなく、例えば、通常の記録動作を実行する前に記録媒体の特定あるいは任意の領域でレーザ光強度の制御を行う場合などにも適用できる。
本発明にかかる半導体レーザ制御回路は、高精度且つ多ビットを有するDAコンバータ器を1つ備えるだけで済み、低コストで実現可能であり、レーザ光の光強度の変調が予め設定された多値レベル間で行われる記録再生装置等に有用である。
本発明の実施の形態1における半導体レーザ制御回路を具備する記録再生装置のブロック図 本発明の実施の形態1における半導体レーザ制御回路の概略構成図 本発明の実施の形態1における半導体レーザ制御回路が備えるサンプルホールド回路付きDAコンバータ部の概略構成図 本発明の実施の形態1における半導体レーザ制御回路の要部の信号波形の概略を示す図 本発明の実施の形態2における半導体レーザ制御回路の概略構成図 本発明の実施の形態2における半導体レーザ制御回路が備えるサンプルホールド回路付きDAコンバータ部の概略構成図 本発明の実施の形態2における半導体レーザ制御回路の要部の信号波形の概略を示す図 本発明の実施の形態2における半導体レーザ制御回路により制御される半導体レーザ装置の出力光波形の概要を示す図 本発明の実施の形態2における半導体レーザ制御回路が備える第4のサンプルホールド回路にオフリーク電流が流れる様子を示す概略図 本発明の実施の形態2における半導体レーザ制御回路が備える第4のサンプルホールド回路に流れるオフリーク電流を説明するための概略図 本発明の実施の形態2における半導体レーザ制御回路により制御される半導体レーザ装置の出力光波形の概要を示す図 本発明の実施の形態3における半導体レーザ制御回路の概略構成図 本発明の実施の形態3における半導体レーザ制御回路により制御される半導体レーザ装置の出力光波形の概要を示す図 従来の半導体レーザ制御回路の概略構成図 従来の半導体レーザ制御回路が備えるDAコンバータ部の概略構成図
符号の説明
1 記録媒体
2 スピンドルモータ
3 サーボ回路
4 インターフェース
5 ホストコンピュータ
6 CPU
7 エンコーダ
8 レーザ駆動回路
9 光ピックアップ
10 再生増幅器
11 ディフェクト検出器
12 デコーダ
13 半導体レーザ装置
14 モニタ用光検出器
15 モニタ用電流−電圧変換器
16 第1のローパスフィルタ
17 第1のサンプルホールド回路
18 第1のADコンバータ
19 第2のローパスフィルタ
20 第2のサンプルホールド回路
21 第2のADコンバータ
22 第3のサンプルホールド回路
23 第3のADコンバータ
24、24a、24b、24c 演算プロセッサ
25a、25b、25c サンプルホールド回路付きDAコンバータ部
26 第1のスイッチ
27 第2のスイッチ
28 第3のスイッチ
29 ピーク値変調信号
30 ボトム値変調信号
31 バイアス値変調信号
32、53 DAコンバータ器
33a、33b 第4のサンプルホールド回路
34a、34b 第5のサンプルホールド回路
35a、35b 第6のサンプルホールド回路
36 第1の電圧−電流変換器
37 第2の電圧−電流変換器
38 第3の電圧−電流変換器
39、46 スイッチ
40 容量
41 バッファ
42、47 テスト発光区間
43 ボトムDC値期間
44 バイアスDC値期間
45、49 マルチパルス期間
48 学習期間
50 第1のDAコンバータ部
51 第2のDAコンバータ部
52 第3のDAコンバータ部
54 電圧−電流変換器

Claims (3)

  1. 第1レベル、前記第1レベルよりも低い第2レベル、および、前記第1レベルより低く前記第2レベルよりも高い第3レベルを含む複数の設定レベル間で光強度を変調することができる半導体レーザ制御回路であって、
    前記第1レベル、第2レベル、および第3レベルの間で光強度が変調されるべき第1の期間に光検出器により実際に検知される光強度に基づいて第1の信号を生成する回路と、
    記録媒体にマークを書き込む変調光パルスを形成するために前記第1レベルと第2レベルとの間でレーザ光の光強度が変調される期間に前記光検出器により実際に検知される光強度に基づいて第2の信号を生成する回路と、
    前記レーザ光の光強度が前記第3レベルに保持される第3の期間に前記光検出器により実際に検知される光強度に基づいて第3の信号を生成する回路と、
    前記第1から第3の信号に基づき、演算により、前記第1レベルの光強度、前記第2レベルの光強度、および前記第3レベルの光強度のデータを求めて、これらのデータを時系列で生成する演算回路と、
    前記演算回路により生成された3つのデータそれぞれをアナログ信号に時系列で変換する1つのコンバータ器と、
    前記コンバータ器により変換された各アナログ信号を時系列でホールドする3つのサンプルホールド回路と、
    を備え、
    前記第1の期間は、前記第2の期間および前記第3期間を含む長さに設定され、前記第1レベル、前記第2レベル、前記第3レベルを、前記各サンプルホールド回路にホールドされた各アナログ信号に応じたレベルに調節することを特徴とする半導体レーザ制御回路。
  2. 前記各サンプルホールド回路は、ホールドした各アナログ信号を外部からの信号に同期して同時に出力する機構をさらに備えることを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ制御回路。
  3. 前記演算回路に前記3つのデータを生成させる信号を所定期間ごとに生成する回路をさらに備えることを特徴とする請求項1もしくは2のいずれかに記載の半導体レーザ制御回路。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2018205005A (ja) * 2017-05-31 2018-12-27 株式会社キーエンス 画像検査装置

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