JP2008155411A - マスク及び樹脂層の形成方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、厚みが不均一にならないように樹脂層42を形成することを目的とする。
【解決手段】マスク1は、樹脂40を充填するための複数の貫通穴20が形成されているプレート10を含む。複数の貫通穴20の開口形状は、それぞれ、円形又は正多角形である。複数の貫通穴20は、第1のグループの貫通穴22と、第1のグループの貫通穴22の周囲を囲む第2のグループの貫通穴24と、を含む。第1のグループの貫通穴22の開口面積は、それぞれ、第2のグループの貫通穴24の開口面積よりも大きい。
【選択図】図1
【解決手段】マスク1は、樹脂40を充填するための複数の貫通穴20が形成されているプレート10を含む。複数の貫通穴20の開口形状は、それぞれ、円形又は正多角形である。複数の貫通穴20は、第1のグループの貫通穴22と、第1のグループの貫通穴22の周囲を囲む第2のグループの貫通穴24と、を含む。第1のグループの貫通穴22の開口面積は、それぞれ、第2のグループの貫通穴24の開口面積よりも大きい。
【選択図】図1
Description
本発明は、マスク及び樹脂層の形成方法に関する。
近年、半導体装置の小型化の要求に伴い、半導体ウエハが薄型化されており、半導体ウエハの裏面に樹脂層を設けることによって補強・保護している。樹脂層は、その内部応力を均一にするためには厚みも均一にすることが必要なため、スクリーン印刷と同様にマスクを使用した印刷が適用されている(特許文献1参照)。従来のマスクは、開口が形成されたプレートと、開口を覆うようにプレートと重なったメッシュ材とを含む。メッシュ材を上にして、スキージによって樹脂を開口に充填しながら余剰の樹脂をかきとる。メッシュ材がないと、スキージのたわみによって開口の中央において樹脂層が薄くなってしまう。メッシュ材は開口が形成されて剛性が低くなったプレートの補強の役目も果たす。
従来の印刷方法では、プレートの開口内への樹脂の供給後にマスクが樹脂から離れる版離れ時に、開口の中央部でメッシュ材がたわみその張力で樹脂との版離れ速度が速くなっていた。版離れ速度が速くなると版離れが悪くなる。その結果、版離れの悪い樹脂がメッシュ材に残ってしまい、これに対応する部分において樹脂層が薄くなってしまうという問題があった。
特開2000−299336号公報
本発明は、厚みが不均一にならないように樹脂層を形成することを目的とする。
(1)本発明に係るマスクは、
樹脂を充填するための複数の貫通穴が形成されているプレートを含み、
前記複数の貫通穴の開口形状は、それぞれ、円形又は正多角形であり、
前記複数の貫通穴は、第1のグループの貫通穴と、前記第1のグループの貫通穴の周囲を囲む第2のグループの貫通穴と、を含み、
前記第1のグループの前記貫通穴の開口面積は、それぞれ、前記第2のグループの前記貫通穴の開口面積よりも大きい。本発明において、貫通穴に樹脂を充填してマスクを離すと、樹脂が貫通穴から抜けることで樹脂層を形成することができる。このとき、樹脂には、貫通穴の内面に対してずり応力が生じる一方、樹脂の供給対象面には粘着力が生じている。ずり応力が粘着力よりも大きければ、樹脂が貫通穴内に残されてしまうので、ずり応力が小さいことが好ましい。ここで、貫通穴が円形又は正多角形である場合、その開口面積が大きくなると、ずり応力及び粘着力の両方が大きくなるが、その増加率は、粘着力の方がずり応力よりも大きい。本発明では、中央に位置する第1のグループの貫通穴の方がその周囲の第2のグループの貫通穴よりも開口面積が大きいため、第1のグループの貫通穴内の樹脂の供給対象面との粘着力が大きくなっており、樹脂の貫通穴からの抜けがよくなっている。これにより、厚みが不均一にならないように樹脂層を形成することができる。
(2)本発明に係る樹脂層の形成方法は、
半導体基板の面に、複数の貫通穴を有するマスクを配置する工程と、
前記複数の貫通穴に樹脂を充填し、前記複数の貫通穴内で前記樹脂を前記半導体基板上に接触させて設ける工程と、
前記複数の貫通穴から前記半導体基板上に前記樹脂を残しながら、前記マスクを前記半導体基板から離す工程と、
を含み、
前記複数の貫通穴の開口形状は、それぞれ、円形又は正多角形であり、
前記複数の貫通穴は、第1のグループの貫通穴と、前記第1のグループの貫通穴の周囲を囲む第2のグループの貫通穴と、を含み、
前記第1のグループの前記貫通穴の開口面積は、それぞれ、前記第2のグループの前記貫通穴の開口面積よりも大きい。本発明において、マスクを半導体基板から離すと、樹脂が貫通穴から抜けて半導体基板に残される。このとき、樹脂には、貫通穴の内面に対してずり応力が生じる一方、半導体基板に対して粘着力が生じている。ずり応力が粘着力よりも大きければ、樹脂が貫通穴内に残されてしまうので、ずり応力が小さいことが好ましい。ここで、貫通穴が円形又は正多角形である場合、その開口面積が大きくなると、ずり応力及び粘着力の両方が大きくなるが、その増加率は、粘着力の方がずり応力よりも大きい。本発明では、中央に位置する第1のグループの貫通穴の方がその周囲の第2のグループの貫通穴よりも開口面積が大きいため、第1のグループの貫通穴内の樹脂の半導体基板に対する粘着力が大きくなっており、樹脂の貫通穴からの抜けがよくなっている。これにより、厚みが不均一にならないように樹脂層を形成することができる。
樹脂を充填するための複数の貫通穴が形成されているプレートを含み、
前記複数の貫通穴の開口形状は、それぞれ、円形又は正多角形であり、
前記複数の貫通穴は、第1のグループの貫通穴と、前記第1のグループの貫通穴の周囲を囲む第2のグループの貫通穴と、を含み、
前記第1のグループの前記貫通穴の開口面積は、それぞれ、前記第2のグループの前記貫通穴の開口面積よりも大きい。本発明において、貫通穴に樹脂を充填してマスクを離すと、樹脂が貫通穴から抜けることで樹脂層を形成することができる。このとき、樹脂には、貫通穴の内面に対してずり応力が生じる一方、樹脂の供給対象面には粘着力が生じている。ずり応力が粘着力よりも大きければ、樹脂が貫通穴内に残されてしまうので、ずり応力が小さいことが好ましい。ここで、貫通穴が円形又は正多角形である場合、その開口面積が大きくなると、ずり応力及び粘着力の両方が大きくなるが、その増加率は、粘着力の方がずり応力よりも大きい。本発明では、中央に位置する第1のグループの貫通穴の方がその周囲の第2のグループの貫通穴よりも開口面積が大きいため、第1のグループの貫通穴内の樹脂の供給対象面との粘着力が大きくなっており、樹脂の貫通穴からの抜けがよくなっている。これにより、厚みが不均一にならないように樹脂層を形成することができる。
(2)本発明に係る樹脂層の形成方法は、
半導体基板の面に、複数の貫通穴を有するマスクを配置する工程と、
前記複数の貫通穴に樹脂を充填し、前記複数の貫通穴内で前記樹脂を前記半導体基板上に接触させて設ける工程と、
前記複数の貫通穴から前記半導体基板上に前記樹脂を残しながら、前記マスクを前記半導体基板から離す工程と、
を含み、
前記複数の貫通穴の開口形状は、それぞれ、円形又は正多角形であり、
前記複数の貫通穴は、第1のグループの貫通穴と、前記第1のグループの貫通穴の周囲を囲む第2のグループの貫通穴と、を含み、
前記第1のグループの前記貫通穴の開口面積は、それぞれ、前記第2のグループの前記貫通穴の開口面積よりも大きい。本発明において、マスクを半導体基板から離すと、樹脂が貫通穴から抜けて半導体基板に残される。このとき、樹脂には、貫通穴の内面に対してずり応力が生じる一方、半導体基板に対して粘着力が生じている。ずり応力が粘着力よりも大きければ、樹脂が貫通穴内に残されてしまうので、ずり応力が小さいことが好ましい。ここで、貫通穴が円形又は正多角形である場合、その開口面積が大きくなると、ずり応力及び粘着力の両方が大きくなるが、その増加率は、粘着力の方がずり応力よりも大きい。本発明では、中央に位置する第1のグループの貫通穴の方がその周囲の第2のグループの貫通穴よりも開口面積が大きいため、第1のグループの貫通穴内の樹脂の半導体基板に対する粘着力が大きくなっており、樹脂の貫通穴からの抜けがよくなっている。これにより、厚みが不均一にならないように樹脂層を形成することができる。
図1は、本発明の実施の形態に係るマスクを示す平面図であり、図2は、マスクの、図1に示すII−II線断面図である。マスク1は、プレート10を含み、プレート10は枠体12によって補強されている。プレート10には、樹脂40を充填するための複数の貫通穴20が形成されている。複数の貫通穴20は、第1のグループの貫通穴22と、第1のグループの貫通穴22の周囲を囲む第2のグループの貫通穴24と、を含む。複数の貫通穴20の開口形状は、それぞれ、円形又は正多角形である。第1のグループの貫通穴22の開口面積は、それぞれ、第2のグループの貫通穴24の開口面積よりも大きい。第1のグループの貫通穴22は、プレート10の中央に位置する。プレート10の中心点に最も近い複数の貫通穴20が、第1のグループの貫通穴22である。第1のグループの貫通穴22は、他の全ての貫通穴20よりも大きい開口面積を有していてもよい。第1のグループの貫通穴22は、相互に、同一形状・同一開口面積を有していてもよいが、相互に、異なる形状・同一開口面積を有していてもよい。第1及び第2のグループの貫通穴22,24の形状は、相似形であってもよいし、相似形でなくてもよい。第1のグループの貫通穴22よりも開口面積の小さい第2のグループの貫通穴24が、第1のグループの貫通穴22の周囲を囲んでいれば、第2のグループの貫通穴24の外側にさらに第1のグループの貫通穴22よりも開口面積の大きい貫通穴20があってもよい。プレート10の中心に近づくに従って、開口面積が大きくなるように貫通穴20が形成されていてもよい。
図3(A)〜図3(C)は、本発明の実施の形態に係る樹脂層42の形成方法を説明する図である。本実施の形態では、図3(A)に示すように、半導体基板(例えば半導体ウエハ)30の面(例えば集積回路32が形成された(あるいは形成する予定の)面とは反対の面)に、上述した複数の貫通穴20を有するマスク1を配置する。マスク1は半導体基板30に接触(密着)させてもよい。そして、図3(B)に示すように、複数の貫通穴20に樹脂40を充填し、複数の貫通穴20内で樹脂40を半導体基板30上に接触させて(あるいは密着させて)設ける。このプロセスは、スキージ38を使用したスクリーン印刷の技術を適用してもよい。図3(C)に示すように、複数の貫通穴20から半導体基板30上に樹脂40を残しながら、マスク1を半導体基板30から離す。
本実施の形態において、マスク1を半導体基板30から離すと、樹脂40が貫通穴20から抜けて半導体基板30に残される。このとき、樹脂40には、貫通穴20の内面に対してずり応力が生じる一方、半導体基板30に対して粘着力が生じている。ずり応力が粘着力よりも大きければ、樹脂40が貫通穴20内に残されてしまうので、ずり応力が小さいことが好ましい。ここで、貫通穴20が円形又は正多角形である場合、その開口面積が大きくなると、ずり応力及び粘着力の両方が大きくなるが、その増加率は、粘着力の方がずり応力よりも大きい。本実施の形態では、中央に位置する第1のグループの貫通穴22の方がその周囲の第2のグループの貫通穴24よりも開口面積が大きいため、第1のグループの貫通穴22内の樹脂40の半導体基板30に対する粘着力が大きくなっており、樹脂40の貫通穴20からの抜けがよくなっている。これにより、厚みが不均一にならないように樹脂層42を形成することができる。
図4は、貫通穴20の開口面積を大きくするほど、マスク1の版離れが良くなることを証明するための図である。図4に示すように、貫通穴20が開口形状は円であることで、樹脂40は円柱形状になる。貫通穴20の開口(樹脂40の上面又は底面)の直径をD、プレート10の厚み(=円柱の高さ)をt、貫通穴20の開口面積(=円柱の底面積)をAc、貫通穴20の内面面積(=円柱の側面積)をAcsとすると、以下の式が成立する。
このとき、単位面積辺りの粘着応力をpとしたとき、樹脂40に生じる粘着応力Pは、
となる。
また、単位面積辺りのずり応力をsとしたとき、樹脂40に生じるずり応力Sは、
となる。
ここで、良好な版離れを実現させるためには、
となっていることが好ましい。
ここで、P、Sともに正の数であるので、
を満たしていれば、(5)の式を満たすことになる。
ここで、(3)より、
(2)、(4)より、
(1)より、
となる。
また、単位面積辺りのずり応力をsとしたとき、樹脂40に生じるずり応力Sは、
ここで、良好な版離れを実現させるためには、
ここで、P、Sともに正の数であるので、
ここで、(3)より、
ここで、p、s、tが一定の値であるとすると、(7),(8)より、P2には、Acつまり面積の二乗に比例して大きくなるのに対して、S2はAcつまり面積の一乗に比例して大きくなっている。このことから、p、s、tが一定の値である場合、Acを大きくしていけば、必ず、(6)の式を満たすAcの値が出てくる。従って、面積を一定以上大きくしていけば、必ず良好な版離れを実現するための(5)の式を満たすことになる。
図5(A)〜図5(C)は、本発明の実施の形態に係る樹脂層の形成方法を説明する図である。図5(A)には、版離れが終わった直後の樹脂40が示されている。本実施の形態によれば、貫通穴20の配列に対応して、複数の柱状の樹脂40が形成されるが、樹脂40の柔軟性によって、あるいは加熱によって樹脂40を軟化・溶融させて、あるいは自重によって、図5(B)に示すように、複数の柱状の樹脂40を連続一体化させる。そして、図5(C)に示すように、樹脂40を硬化させて、半導体基板30に樹脂層42を形成することができる。
図6は、本発明の実施の形態の第1の変形例を説明する図である。図6では、第1及び第2のグループの貫通穴122,124を含む貫通穴120の開口形状が正三角形である点で、上記実施の形態と異なる。その他の構成及び作用効果は上述した実施の形態で説明した内容を、貫通穴の開口形状の違いに応じて修正して適用することができる。
図7は、第1の変形例において、貫通穴120の開口面積を大きくするほど、マスクの版離れが良くなることを証明する図である。図7に示すように、貫通穴120の開口形状は正三角形であり、樹脂140は三角柱形状になる。貫通穴120の開口の一辺の長さをa、プレート110の厚み(=円柱の高さ)をt、貫通穴120の開口面積(=円柱の底面積)をAt、貫通穴120の内面面積(=三角柱の側面積)をAtsとすると、以下の式が成立する。
このとき、単位面積辺りの粘着応力をpとしたとき、樹脂140に生じる粘着応力Pは、
となる。
また、単位面積辺りのずり応力をsとしたとき、樹脂140に生じるずり応力Sは、
となる。
ここで、良好な版離れを実現させるためには、
となっていることが好ましい。
ここで、P、Sともに正の数であるので、
を満たしていれば、(5)の式を満たすことになる。
ここで、(3)より、
(2)、(4)より、
(1)より、
となる。
また、単位面積辺りのずり応力をsとしたとき、樹脂140に生じるずり応力Sは、
ここで、良好な版離れを実現させるためには、
ここで、P、Sともに正の数であるので、
ここで、(3)より、
ここで、p、s、tが一定の値であるとすると、(7),(8)より、P2には、Atつまり面積の二乗に比例して大きくなるのに対して、S2はAtつまり面積の一乗に比例して大きくなっている。このことから、p、s、tが一定の値である場合、Atを大きくしていけば、必ず、(6)の式を満たすAtの値が出てくる。従って、面積を一定以上大きくしていけば、必ず良好な版離れを実現するための(5)の式を満たすことになる。
図4及び図7を参照して、貫通穴20,120が円形又は正三角形であれば、貫通穴20,120の開口面積を大きくするほど、マスクの版離れが良くなることを証明した。正多角形の最も角数の少ないものが正三角形であり、角数を増やすほど円形に近づくので、正多角形の全てにおいて、貫通穴の開口面積を大きくするほど、マスクの版離れが良くなることになる。
図8は、本発明の実施の形態の第2の変形例を説明する図である。図8の例では、第1及び第2のグループの貫通穴222,224を含む貫通穴220の開口形状が正六角形である点で、上記実施の形態と異なる。その他の構成及び作用効果は上述した実施の形態又は第1の変形例で説明した内容を、貫通穴の開口形状の違いに応じて修正して適用することができる。
本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び結果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
1…マスク、 10…プレート、 12…枠体、 20…貫通穴、 22…貫通穴、 24…貫通穴、 30…半導体基板、 32…集積回路、 38…スキージ、 40…樹脂、 42…樹脂層、 110…プレート、 120…貫通穴、 122…貫通穴、 124…貫通穴、 140…樹脂、 220…貫通穴、 220…貫通穴、 222…貫通穴
Claims (2)
- 樹脂を充填するための複数の貫通穴が形成されているプレートを含み、
前記複数の貫通穴の開口形状は、それぞれ、円形又は正多角形であり、
前記複数の貫通穴は、第1のグループの貫通穴と、前記第1のグループの貫通穴の周囲を囲む第2のグループの貫通穴と、を含み、
前記第1のグループの前記貫通穴の開口面積は、それぞれ、前記第2のグループの前記貫通穴の開口面積よりも大きいマスク。 - 半導体基板の面に、複数の貫通穴を有するマスクを配置する工程と、
前記複数の貫通穴に樹脂を充填し、前記複数の貫通穴内で前記樹脂を前記半導体基板上に接触させて設ける工程と、
前記複数の貫通穴から前記半導体基板上に前記樹脂を残しながら、前記マスクを前記半導体基板から離す工程と、
を含み、
前記複数の貫通穴の開口形状は、それぞれ、円形又は正多角形であり、
前記複数の貫通穴は、第1のグループの貫通穴と、前記第1のグループの貫通穴の周囲を囲む第2のグループの貫通穴と、を含み、
前記第1のグループの前記貫通穴の開口面積は、それぞれ、前記第2のグループの前記貫通穴の開口面積よりも大きい樹脂層の形成方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006344708A JP2008155411A (ja) | 2006-12-21 | 2006-12-21 | マスク及び樹脂層の形成方法 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011212895A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Murata Mfg Co Ltd | スクリーン印刷版および積層セラミック電子部品の製造方法 |
JP2013107344A (ja) * | 2011-11-22 | 2013-06-06 | Murata Mfg Co Ltd | スクリーン印刷版 |
-
2006
- 2006-12-21 JP JP2006344708A patent/JP2008155411A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011212895A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Murata Mfg Co Ltd | スクリーン印刷版および積層セラミック電子部品の製造方法 |
JP2013107344A (ja) * | 2011-11-22 | 2013-06-06 | Murata Mfg Co Ltd | スクリーン印刷版 |
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