JP2008153409A - 気相成長装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】気相成長装置は、上部中央にガス導入管11を配設した偏平円筒状のチャンバー12内に、円盤状のサセプタ13と、サセプタの外周部分に配置された複数の基板ホルダー14と、サセプタの上方に対向配置されてチャンバー内を上下に区画し、サセプタ側に反応室15を形成する隔壁である天井板16とを備えている。チャンバーは、チャンバー本体17とチャンバー蓋19とで形成され、チャンバー蓋の中央部には、ガス導入管が挿通されるガイド筒27を有し、ガイド筒とガス導入管の上部との間に円筒状のベローズ33が設けられる。チャンバー蓋は、ベローズを伸縮させて上下動可能に形成され、チャンバー蓋を開閉する際にガス導入管やチャンバー本体は移動しない。
【選択図】図1
Description
Claims (5)
- 外周部に複数の基板を保持して回転する円盤状のサセプタと、前記サセプタの表面に対向配置されてサセプタ中心部から外周部に向けて原料ガスを導入するガス導入管とを偏平円筒状のチャンバー内に収容した気相成長装置において、前記チャンバーを、前記サセプタ側に配置されて反サセプタ側が開口したチャンバー本体と、該チャンバー本体の前記開口に気密に装着されるチャンバー蓋とに分割形成し、該チャンバー蓋の中央部に前記ガス導入管を挿通する挿通口を設けるとともに、該挿通口の開口縁と前記ガス導入管の上部との間に円筒状の伸縮部材を気密に取り付け、前記チャンバー蓋を上下動可能に形成したことを特徴とする気相成長装置。
- 前記チャンバー蓋を上下方向に移動させる昇降手段を備えていることを特徴とする請求項1記載の気相成長装置。
- 前記ガス導入管が管軸線方向に移動可能に設けられていることを特徴とする請求項1又は2記載の気相成長装置。
- 前記サセプタと前記チャンバー蓋との間に、前記チャンバー内を上下に区画してサセプタ側に反応室を形成する隔壁を備え、該隔壁は、中央部に前記ガス導入管を挿通する挿通口を有するとともに、周方向に複数に分割形成されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の気相成長装置。
- 前記隔壁は、内周側が前記ガス導入管の外周側に設けられた隔壁支持部に載置され、外周側が前記チャンバー本体の周壁内周側に設けられた隔壁支持部に載置されていることを特徴とする請求項4記載の気相成長装置。
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