JP2008144244A - 成膜制御装置および成膜装置 - Google Patents

Abstract

【課題】特に凹曲面状の被成膜面を有する被成膜体に対して、異なる形状や寸法のものが混載されていても均一な膜厚の薄膜が形成されるように制御することが可能な成膜制御装置を提供する。
【解決手段】被成膜体Ｗの凹曲面状をなす被成膜面Ｗａへの成膜を制御する成膜制御装置１６であって、被成膜面Ｗａがなす凹曲面の底部と開口部の中央部とを結ぶ中心線Ｃに沿って延びるように配設される軸部材１７と、この軸部材１７の外周に突出するように設けられて、被成膜体Ｗに対して着脱自在かつ中心線Ｃ方向の位置が調整可能とされる制御部材１９とを備える。
【選択図】図４

Description

本発明は、例えば真空容器内に収容された被成膜体に蒸着等によって薄膜を形成する際に、この被成膜体の被成膜面への成膜を制御する成膜制御装置、およびかかる成膜制御装置を配設した成膜装置に関するものである。

このような成膜装置においては、薄膜を均一に形成するために被成膜体を成膜物質の発生機構に対して回転させながら成膜を行うようにしているが、より高い成膜精度が要求される場合には、単に被成膜体を回転させるだけでは不十分である。そこで、例えば特許文献１には、回転する被成膜体（基板）と成膜物質の発生機構との間に被成膜体の一部を覆うように補正板を設けた成膜装置が提案され、また特許文献２には、真空容器に収容された被成膜体（基材）と成膜物質の発生機構との間を横切って移動するように補正部材と駆動部とを設けたものが提案されている。
特開２００２−９７５７０号公報 特開２００４−１３１７４９号公報

しかしながら、このような成膜装置でも、被成膜体が例えばリフレクタ用ガラス基板のように凹曲面状をなす被成膜面を有するものであって、特にこの凹曲面の開口部から底部までの深さが開口部の内半径以上に深い場合などには、被成膜体を成膜物質の発生機構に対して回転させながら成膜を行うと、発生した成膜物質に多く晒される部分とそうでない部分とが、凹曲面の底部と開口部の中央部とを結ぶ被成膜面の中心線方向に生じるため、特許文献１のように補正板が回転する被成膜体の上に間隔をあけて配置されているだけでは、膜厚を均一にして成膜することは難しい。また、特許文献２のように回転する被成膜体と成膜物質の発生機構との間を補正部材が横切るように移動するものでは、この補正部材の移動を被成膜体の回転に応じて制御しなければならず、この制御のために駆動部に複雑な機構が必要となる。さらに、上記被成膜面が上記中心線に対して著しく非対称な形状であると、この中心線回り方向にも膜厚の不均一が生じてしまう。

しかも、特許文献１の補正板は、自転する被成膜体が載置されて公転する公転テーブルにその基部が固定されており、また特許文献２の補正部材は、複数の被成膜体を保持して回転する基材ホルダと成膜物質の発生機構との間を横切るように移動させられるので、異なる形状、寸法の複数の被成膜体を同一の補正板が固定された公転テーブルに載置したり、あるいは１つの基材ホルダに混載して保持したりして成膜しようとすると、膜厚の不均一は一層顕著なものとなる。このため、大型の成膜装置であっても１回のバッチでは同一の形状、寸法の被成膜体しか処理することができず、さらに異なる形状、寸法の被成膜体を別のバッチで処理しようとしても、この形状や寸法の相違があまり大きすぎると、成膜物質の発生機構に対する被成膜体の取付角度などを調整しなければならず、そのような調整機構を備えない成膜装置では大掛かりな改造を余儀なくされるため、極めて非効率的かつ非経済的であった。

本発明は、このような背景の下になされたもので、特に凹曲面状の被成膜面を有する被成膜体に対して、異なる形状や寸法のものが混載されていても均一な膜厚の薄膜が形成されるように制御することが可能な成膜制御装置を提供し、またこのような成膜制御装置を備えて効率的かつ経済的な薄膜の形成を行うことが可能な成膜装置を提供することを目的としている。

上記課題を解決して、このような目的を達成するために、本発明の成膜制御装置は、凹曲面状をなす被成膜面を有する被成膜体の上記被成膜面への成膜を制御する成膜制御装置であって、上記被成膜面がなす凹曲面の底部と開口部の中央部とを結ぶ中心線に沿って延びるように配設される軸部材と、この軸部材の外周に突出するように設けられて、上記被成膜体に対して着脱自在かつ上記中心線方向の位置が調整可能とされる制御部材とを備えていることを特徴とするものである。また、本発明の成膜装置は、複数の上記被成膜体を回転機構によって回転させながら、成膜物質の発生機構により上記被成膜面に薄膜を形成する成膜装置であって、複数の上記被成膜体ごとに、このような成膜制御装置が配設されていることを特徴とするものである。

このような成膜制御装置においては、被成膜面がなす凹曲面の上記中心線に沿って延びる軸部材に設けられた制御部材が、この被成膜面に向けて入射してくる成膜物質を遮ることにより、被成膜面に形成される薄膜の膜厚が制御される。そして、この制御部材の位置が上記中心線方向に調整可能とされているので、この被成膜面がなす凹曲面の底部から開口部までの深さが深くて、この中心線方向に向けて膜厚の不均一な部分が生じるような場合でも、成膜物質が多く入射してくる位置に合わせて制御部材を配置することにより、被成膜面に形成される薄膜が部分的に厚くなるのを防ぐことができて膜厚の均一化を図ることができる。

さらに、この制御部材は、被成膜体に対して着脱可能とされているので、異なる形状や寸法の被成膜体に対しては、これに合わせて被成膜面に入射する成膜物質を遮ることが可能な制御部材に交換することができる。また、被成膜面の形状が上記中心軸に対して非対称な場合にも、これに合わせた制御部材を装着すればよい。従って、このような成膜制御装置を複数の被成膜体ごとに配設した上記成膜装置によれば、異なる形状、寸法の被成膜体が混載されていても、１回のバッチでそれぞれの被成膜面に均一な膜厚の薄膜を形成することができ、また異なるバッチでこのような被成膜体を処理する場合でも、装置の改造を要したりすることがない。

ここで、このように制御部材を被成膜体に対して着脱可能かつ上記中心線方向に位置調整可能に軸部材に設けるには、軸部材に雄ネジ部を形成するとともに、制御部材にはこの雄ネジ部が挿入される孔を形成して、この孔に雄ネジ部が挿入された制御部材を、上記中心線方向両側から該雄ネジ部に螺着されたナットによって挟持するように構成するのが構造上簡略であり、操作も容易である。これらのナットの螺着位置を変更することで制御部材の中心線方向の位置が調整可能となり、またナットを取り外すことで制御部材も軸部材から取り外すことができて、被成膜体に対して着脱自在となる。

このように、本発明の成膜制御装置によれば、形状や寸法が異なる凹曲面状の被成膜面を有する被成膜体に対して、形成される薄膜の膜厚を中心線方向にも周方向にも確実に均一化することができ、高精度の成膜を促すことが可能となる。従って、本発明の成膜装置によれば、このような複数の被成膜体を混載して同一バッチで成膜処理を行うことができ、多品種小ロットの被成膜体に対しても効率的かつ経済的な薄膜の形成を促すことが可能となる。

図１および図２は本発明の成膜装置の一実施形態を示すものであり、図３および図４はこの成膜装置に配設される本発明の成膜制御装置の一実施形態を示すものである。本実施形態の成膜装置は、図１に示すように直方体状の箱形をなす真空容器１を有し、その底部には、蒸着材料Ａを収容したハース２がハース駆動機構３によって回転可能に設けられるとともに、このハース２内の蒸着材料Ａに電子ビームを照射して材料蒸気（成膜物質）を生成する図示されない電子ビームガンが配設されており、さらにハース２の上方には材料蒸気を制御するシャッター４が備えられていて、これらにより成膜物質の発生機構５が構成されている。なお、本実施形態では図１において左右対称に一対のこのような発生機構５が真空容器１の底部に備えられている。

これらの発生機構５に対向する真空容器１の天井部下面には、鉛直方向に延びる公転軸線Ｏ回りを中心としてこの公転軸線Ｏ回りに回転される公転ドーム６が設けられるとともに、この公転ドーム６には、公転軸線Ｏに対して傾斜した自転軸線Ｐ回りに回転可能に自転ドーム７が、本実施形態では複数（４つ）周方向に間隔をあけて取り付けられていて、図２に詳しく示すような回転機構を構成している。ここで、公転ドーム６は、本実施形態では下方に向かうに従い広がる転軸線Ｏを中心とした概略多角錐台状をなしていて、その下部は上記発生機構５に向けて開放される一方で上部は閉塞されており、上記天井部下面に設けられたドーム吊下げ部８に、公転軸線Ｏを中心とした円板状の支持部材９を介して、この支持部材９と一体に上記公転軸線Ｏ回りに回転自在に吊り下げられている。

また、真空容器１外の上記天井部の上面には、駆動モーターおよび減速機からなるドーム駆動減速機１０が設けられており、このドーム駆動減速機１０の駆動軸１０ａは真空容器１内に気密に突出させられていて、その下端には駆動歯車１０ｂが取り付けられているとともに、上記支持部材９には公転軸線Ｏを中心とする公転歯車９ａが取り付けられて上記駆動歯車１０ｂと噛合させられており、これにより公転ドーム６および支持部材９は、上記ドーム駆動減速機１０からの回転力によって公転軸線Ｏ回りに所定の回転速度で回転させられる。なお、真空容器１内において公転ドーム６の周囲には、加熱ヒーター１１が真空容器１の内壁に取り付けられて配設されている。

一方、上記自転ドーム７は、本実施形態では上記自転軸線Ｐを中心とした円板状に形成されていて、公転ドーム６がなす多角錐台の錐面に形成された丸孔６ａに遊嵌されて、その一方の円形面が公転ドーム６内に面するように収容されており、図２に示すように自転軸線Ｐに沿って延びる回転軸７ａが、上記支持部材９から延びる図１に示すようなブラケット９ｂに支持されることにより、自転軸線Ｐ回りに回転自在に公転ドーム６に取り付けられている。

なお、本実施形態では、これら複数の自転ドーム７は、公転軸線Ｏに対するその自転軸線Ｐの傾斜角度と、該自転ドーム７の公転ドーム６に対する取付位置とが調整可能に取り付けられている。より具体的に、本実施形態では、図１および図２の公転ドーム６の右側に示したように円板状の自転ドーム７が公転ドーム６の錐面に沿った状態から、これに対して同図の公転ドーム６の左側に示したように上方に向けて自転ドーム７が上記錐面から公転ドーム６の外側に離間するように上記傾斜角度および取付位置が調整可能とされており、これにより被成膜体Ｗの上記発生機構５に対する傾斜角（蒸着入射角）や発生機構５との距離も調整可能とされている。

ここで、このように自転ドーム７の自転軸線Ｐの傾斜角度や公転ドーム６における取付位置を調整可能とするには、上記回転軸７ａを傾動可能にブラケット９ｂに取り付けるようにしたり、ブラケット９ｂを傾動可能に支持部材９に取り付けるようにしたり、これらを併用したりすればよく、さらにはブラケット９ｂを回転軸７ａの取付角度や取付位置の異なるものに交換したりしてもよい。また、こうして自転ドーム７の傾斜角度を調整することにより、自転ドーム７と上記丸孔６ａとの間に隙間が空くときには、図１および図２左側に示したように公転ドーム６の丸孔６ａの周縁に、自転ドーム７の外周に向けて延びる円筒状のカバー６ｂを取り付ければよい。

さらにまた、真空容器１の天井部下面に設けられた上記ドーム吊下げ部８には、回転する公転ドーム６および支持部材９やドーム駆動減速機１０の駆動軸１０ａおよび駆動歯車１０ｂと干渉しないように、公転軸線Ｏを中心とした円環状の固定歯車１２が固定されており、本実施形態ではこの固定歯車１２は外周に歯面が形成された外歯車とされている。一方、支持部材９には、この固定歯車１２に噛合する自転歯車１３が、１つの自転ドーム７に対して１つずつ、公転軸線Ｏと平行な回転軸線Ｑ回りに回転自在に支持された回転軸１３ａに取り付けられている。

この自転歯車１３が取り付けられた回転軸１３ａと自転ドーム７の回転軸７ａとは、本実施形態では可撓性を有する伝達部材１４によって連結されており、特に本実施形態におけるこの伝達部材１４はフレキシブルシャフトとされている。すなわち、かかるフレキシブルシャフトは、鋼線やピアノ線を内側から外側に向けて順に線径が太くなるように、かつ巻きの向きが交互に逆方向になるように密着して巻回したものであり、十分な強度と撓みに追従しうる弾性を備えた外側チューブによって被覆されている。

なお、こうして伝達部材１４を回転軸７ａ，１３ａに連結するには、図２右側に示すように伝達部材１４の撓み軸線Ｒが回転軸７ａ，１３ａの軸線Ｐ，Ｑに同軸的に連なるように真っ直ぐに直接連結してもよく、またこうして直接連結すると伝達部材１４の撓みが大きくなりすぎるような場合には、伝達部材１４と回転軸７ａや回転軸１３ａとを、図２左側の回転軸７ａとの連結部分に示すように互いに噛合するかさ歯車１４ａ，７ｂを介したりして、伝達部材１４の撓み軸線Ｒと回転軸７ａの自転軸線Ｐや回転軸１３ａの回転軸線Ｑとが角度をもって交差するように連結してもよい。

さらに、本実施形態では、上記固定歯車１２と自転歯車１３との噛合部の下方に、図２に示すように受け皿部材１５が配設されている。この受け皿部材１５は、本実施形態ではやはり回転する公転ドーム６、支持部材９やドーム駆動減速機１０の駆動軸１０ａ、駆動歯車１０ｂなどと干渉しないように、上記ドーム吊下げ部８から固定歯車１２の内側を通して吊り下げられて固定された公転軸線Ｏを中心とする円環平板状のトレイ型のものであって、その内外径は、自転歯車１３が噛合する固定歯車１２外周の歯径を含むように設定されている。

そして、各自転ドーム７には、図３および図４に示すような凹曲面状の被成膜面Ｗａを有する複数の被成膜体Ｗが、それぞれこの被成膜面Ｗａを自転ドーム７の上記一方の円形面側に露出させるようにして、各自転ドーム７ごとに本実施形態では図１に示すようにこの一方の円形面の略全面に亙って取り付けられており、さらにこれらの被成膜体Ｗには、各被成膜体Ｗごとに本実施形態の成膜制御装置１６が配設されている。

被成膜体Ｗは、例えばリフレクタ用ガラス基板であって、本実施形態ではその内面が上記被成膜面Ｗａとされる半球状の本体Ｗｂと、この被成膜面Ｗａの底部から上記半球の径方向外側に延びる円管状部Ｗｃとが一体に形成された椀形をなしている。従って、上記被成膜面Ｗａがなす凹曲面の底部から開口部までの該被成膜面Ｗａの深さはこの開口部がなす円の半径と等しくされるとともに、上記円管状部Ｗｃはこの凹曲面の底部と開口部の中央部とを結ぶ中心線Ｃ方向に沿って延びることになり、この中心線Ｃに直交する断面において上記被成膜面Ｗａは該中心線Ｃを中心とした円形をなすことになる。

この被成膜体Ｗに配設される本実施形態の成膜制御装置１６は、外周にネジが切られた雄ネジ部１７ａとその一端にこれより大径の頭部１７ｂとを有する六角ボルト状の軸部材１７と、上記雄ネジ部１７ａに螺着される一対のナット１８と、そしてこれらのナット１８の間に挟持される制御部材１９とから構成されている。ここで、制御部材１９は、雄ネジ部１７ａが挿入される図示されない孔を有するとともに、その外形が上記被成膜面Ｗａの中心線Ｃに直交する断面と相似な形状となるように本実施形態では円環板状とされており、その外径は雄ネジ部１７ａの外径より大きいのは勿論、ナット１８の外径よりも大きくされていて、これにより制御部材１９は軸部材１７の外周に突出するように設けられることになる。

このような成膜制御装置１６は、軸部材１７の雄ネジ部１７ａが被成膜体Ｗの上記円管状部Ｗｃにおける本体Ｗｂとは反対側の一端部から該円管状部Ｗｃ内に挿入されて、上記中心線Ｃに沿って延びるように被成膜面Ｗａ内に突出させられ、こうして突出した雄ネジ部１７ａにナット１８と制御部材１９とが取り付けられるとともに、軸部材１７の頭部１７ｂは円管状部Ｗｃの上記一端部に当接させられて被成膜体Ｗに配設される。

さらに、このようにして成膜制御装置１６が配設された被成膜体Ｗは、図３および図４に示すようなホルダ２０を介して各自転ドーム７に取り付けられる。このホルダ２０は、自転ドーム７にボルト止め等により着脱可能に取り付けられる平板状のホルダ本体２０ａと、このホルダ本体２０ａとの間で被成膜体Ｗを保持する取付部材２０ｂとから構成されており、ホルダ本体２０ａには被成膜体Ｗの取付孔２０ｃが貫通させられていて、この取付孔２０ｃは、自転ドーム７の上記一方の円形面側に向けられる側（図３においては図面の手前側、図４においては左側）が上記被成膜面Ｗａの開口部がなす上記円と同径の円形とされるとともに、これとは反対側は一段拡径した段付き孔とされており、図４に示すように被成膜体Ｗはこの取付孔２０ｃの拡径する段部にその上記開口部側の端縁部を嵌入させて取り付けられる。

また、取付部材２０ｂは、バネ鋼等の弾性を有する条材を図４に示すように略Ｖ字状に折り曲げて形成されており、このＶ字の二等分線を、上述のようにして取付孔２０ｃに取り付けられた被成膜体Ｗの上記中心線Ｃと一致させるようにして、その両端部がホルダ本体２０ａの取付孔２０ｃにおける上記段部側の開口部周縁にネジ止めされて取り付けられることにより、このホルダ本体２０ａに着脱可能に固定される。そして、こうして固定された取付部材２０ｂの両端部から上記Ｖ字の突端部に向かう部分は、被成膜体Ｗの本体Ｗｂの外周面に接するように延びるとともに、この突端部は上記Ｖ字の二等分線すなわち上記中心線Ｃに垂直な平面板状とされて、被成膜体Ｗの円管状部Ｗｃの上記一端部に当接した成膜制御装置１６の軸部材１７における頭部１７ｂにさらに当接して、この成膜制御装置１６ごと被成膜体Ｗを保持するように配置される。

このようにして被成膜体Ｗが成膜制御装置１６とともに自転ドーム７に取り付けられた真空成膜装置において成膜を行うには、まずハース２に蒸着材料Ａを収容して真空容器１を封止し、内部を真空引きした上で加熱ヒーター１１により被成膜体Ｗを加熱しながら電子ビームガンにより蒸着材料Ａを蒸発させる。そして、ドーム駆動減速機１０によりその駆動軸１０ａを回転させると、駆動歯車１０ｂと噛合した公転歯車９ａにより支持部材９と公転ドーム６とが公転軸線Ｏ回りに回転するとともに、固定歯車１２と噛合した自転歯車１３も支持部材９と一体に公転軸線Ｏ回りに回転しながらその回転軸線Ｑ回りに回転し、さらに、この自転歯車１３の回転力は回転軸１３ａから伝達部材１４を介して自転ドーム７の回転軸７ａに伝達され、これにより自転ドーム７が自転軸線Ｐ回りに回転させられるので、被成膜体Ｗはこれら公転軸線Ｏ回りと自転軸線Ｐ回りとに自公転させられながら、上記発生機構５から発生した成膜物質が被成膜体Ｗの被成膜面Ｗａに入射して薄膜が形成される。

しかして、このように薄膜が形成される際に、上記成膜制御装置１６においては、被成膜体Ｗの被成膜面Ｗａがなす凹曲面の中心線Ｃに沿って延びる軸部材１７に、その外周に突出する制御部材１９が設けられているので、被成膜面Ｗａに向けて入射してくる成膜物質がこの制御部材１９によって遮られることにより、上記薄膜の膜厚が制御される。そして、本実施形態ではこの制御部材１９を挟持する一対のナット１８の螺着位置を移動させることにより、制御部材１９の中心線Ｃ方向の位置を調整することができるので、この中心線Ｃ方向において部分的に膜厚が不均一となるような部分が生じる場合でも、かかる部分への成膜物質の入射を最適に抑制する位置に制御部材１９を配設することができ、たとえ被成膜面Ｗａが凹曲面であって、しかもその深さが深くても、均一な膜厚の薄膜を形成することが可能となる。

また、この制御部材１９は、本実施形態では軸部材１７の雄ネジ部１７ａに挿入されたものが一対のナット１８によって挟持されていて、被成膜面Ｗａの開口部側のナット１８を緩めて雄ネジ部１７ａから取り外すことにより、該軸部材１７に対して着脱自在とされ、従って被成膜体Ｗに対しても着脱自在とされる。そこで、例えば１種の制御部材１９では中心線Ｃ方向の位置を調整しても十分に膜厚が均一化されない場合などには、異なる形状、寸法の他の制御部材１９に交換することができ、従って被成膜体Ｗの被成膜面Ｗａに応じて最適な形状の制御部材１９を最適な位置に配設することができるので、一層確実に均一な薄膜を形成することが可能となる。

そして、上記成膜制御装置１６では、このように被成膜体Ｗに応じた制御部材１９を位置調整して配設することができるので、複数の被成膜体Ｗごとにこのような成膜制御装置１６を設けた上記構成の成膜装置においては、これらの被成膜体Ｗ同士が異なる形状や寸法のものであっても、それぞれに適した制御部材１９を選択して最適な位置に取り付けることにより、複数種の被成膜体Ｗを１つの成膜装置に混載して１回のバッチで成膜処理することが可能となる。従って、多品種小ロットの被成膜体Ｗに薄膜を形成する場合でも、より少ない成膜装置とバッチ数とで処理を行うことが可能であり、効率的で、しかも経済的な薄膜の形成を行うことが可能となる。

また、本実施形態の成膜制御装置１６では、上述のように軸部材１７の雄ネジ部１７ａに挿入された制御部材１９を一対のナット１８によって挟持することにより、この制御部材１９を該成膜制御装置１６が配設される被成膜体Ｗに対して着脱自在かつ中心線Ｃ方向に位置調整可能としており、構造が簡略であるとともに、位置の調整も容易であるという利点を有している。また、バッチごとに被成膜体Ｗを交換するときにも、本実施形態では被成膜体Ｗがホルダ２０を介して成膜装置の自転ドーム７に取り付けられているので、上記とは逆に取付部材２０ｂを外して、成膜制御装置１６ごと被成膜体Ｗをホルダ本体２０ａから取り出した上で、ナット１８および制御部材１９を軸部材１７から取り外せばよく、さらに異なる形状、寸法の被成膜体Ｗを取り付けるときでも、これに応じたホルダ２０を用意しておけばよい。

ただし、この成膜制御装置１６の構成については、雄ネジ部１７ａとナット１８を用いたものでも種々の変形例が考えられ、例えば制御部材１９は一対のナット１８の一方に接合あるいは一体成形されて一体化されていてもよい。また、軸部材１７の頭部１７ｂを被成膜体Ｗの円管状部Ｗｃの上記一端部に当接させるのに代えて、軸部材１７を頭部１７ｂのない雄ネジ部１７ａだけのものとするとともに、取付部材２０ｂの上記突端部にこの雄ネジ部１７ａが挿入可能な孔を開け、この突端部の両側に一対のナット１８を配置して、被成膜面Ｗａの開口部側から円管状部Ｗｃに挿入した制御部材１９付きの軸部材１７（雄ネジ部１７ａ）にこれらのナット１８を螺着して上記突端部を挟持することにより、該軸部材１７を中心線Ｃに沿って延びるように支持してもよい。

さらに、こうして一対のナット１８で取付部材２０ｂの上記突端部を挟持して軸部材１７を配設する場合には、これらのナット１８の螺着位置によって軸部材１７の中心線Ｃ方向の位置が調整可能となるので、被成膜面Ｗａの開口部側の軸部材１７の端部に制御部材１９を接合や一体成形によって一体化して設けた構成としてもよい。さらにまた、被成膜体Ｗの凹曲面状をなす被成膜面Ｗａの底部に軸部材１７が挿通可能な上記円管状部Ｗｃが備えられていない場合などには、被成膜面Ｗａの開口部側から軸部材１７を中心線Ｃに沿って延びるように支持して制御部材１９を配設してもよい。

本発明の成膜装置の一実施形態を示す縦断面図である。 図１に示す実施形態の回転機構を示す縦断面図である。 本発明の成膜制御装置の一実施形態を配設した被成膜体Ｗを取り付けたホルダ２０を、被成膜面Ｗａの開口部側から中心線Ｃ方向に沿って見た図である。 図３におけるＺＺ断面図である。

符号の説明

１ 真空容器
５ 成膜物質の発生機構
６ 公転ドーム
７ 自転ドーム
１６ 成膜制御装置
１７ 軸部材
１７ａ 雄ネジ部
１７ｂ 頭部
１８ ナット
１９ 制御部材
２０ ホルダ
２０ａ ホルダ本体
２０ｂ 取付部材
Ｏ 公転軸線
Ｐ 自転軸線
Ｗ 被成膜体
Ｗａ 被成膜面
Ｗｂ 被成膜体Ｗの本体
Ｗｃ 円管状部

Claims (3)

1. 凹曲面状をなす被成膜面を有する被成膜体の上記被成膜面への成膜を制御する成膜制御装置であって、上記被成膜面がなす凹曲面の底部と開口部の中央部とを結ぶ中心線に沿って延びるように配設される軸部材と、この軸部材の外周に突出するように設けられて、上記被成膜体に対して着脱自在かつ上記中心線方向の位置が調整可能とされる制御部材とを備えていることを特徴とする成膜制御装置。
2. 上記軸部材には雄ネジ部が形成されるとともに、上記制御部材には上記雄ネジ部が挿入される孔が形成されていて、この孔に上記雄ネジ部が挿入された上記制御部材が、上記中心線方向両側から該雄ネジ部に螺着されたナットによって挟持されることを特徴とする請求項１に記載の成膜制御装置。
3. 複数の上記被成膜体を回転機構によって回転させながら、成膜物質の発生機構により上記被成膜面に薄膜を形成する成膜装置であって、複数の上記被成膜体ごとに請求項１または請求項２に記載の成膜制御装置が配設されていることを特徴とする成膜装置。

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